JPS614139A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
- Publication number
- JPS614139A JPS614139A JP59123863A JP12386384A JPS614139A JP S614139 A JPS614139 A JP S614139A JP 59123863 A JP59123863 A JP 59123863A JP 12386384 A JP12386384 A JP 12386384A JP S614139 A JPS614139 A JP S614139A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rays
- characteristic
- target
- electron beam
- filament
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/24—Tubes wherein the point of impact of the cathode ray on the anode or anticathode is movable relative to the surface thereof
- H01J35/26—Tubes wherein the point of impact of the cathode ray on the anode or anticathode is movable relative to the surface thereof by rotation of the anode or anticathode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/10—Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明はＸ線発生装置、特に対陰極に関するものである
。
。
従来、Ｘ線発生装置においては、１種類の金属または合
金に電子ビームを照射して当該金属または合金から発生
するＸ線を利用していた。その発生するＸ線は、連続し
た波長分布を示す連続Ｘ線と上記金属または合金に特有
な線スペクトルを示す特性Ｘ線とから成っている。した
がって、特性Ｘ線を利用する場合、１つのＸ線発生装置
では１種類の特性Ｘ線しか利用できなかった。Ｘ線リソ
グラフィーでは、レジスト、マスクの基盤材、吸収体の
組合わせによってその露光システムに有効な特性Ｘ線が
限定される。すなわち、１つの露光装置では１種類の特
性Ｘ線しか利用できないので、レジストやマスクの変更
が伴なうような場合には、従来のような１種類の特性Ｘ
線しか利用できないＸ線発生装置では特性Ｘ線の変更が
できず、利用面において甚だ不都合であった。
金に電子ビームを照射して当該金属または合金から発生
するＸ線を利用していた。その発生するＸ線は、連続し
た波長分布を示す連続Ｘ線と上記金属または合金に特有
な線スペクトルを示す特性Ｘ線とから成っている。した
がって、特性Ｘ線を利用する場合、１つのＸ線発生装置
では１種類の特性Ｘ線しか利用できなかった。Ｘ線リソ
グラフィーでは、レジスト、マスクの基盤材、吸収体の
組合わせによってその露光システムに有効な特性Ｘ線が
限定される。すなわち、１つの露光装置では１種類の特
性Ｘ線しか利用できないので、レジストやマスクの変更
が伴なうような場合には、従来のような１種類の特性Ｘ
線しか利用できないＸ線発生装置では特性Ｘ線の変更が
できず、利用面において甚だ不都合であった。
本発明の目的は、上述の欠点を除去すると同時に、１つ
の装置で任意に複数の特性Ｘ線を取り出して利用するこ
とが可能なＸ線発生装置を提供することにある。
の装置で任意に複数の特性Ｘ線を取り出して利用するこ
とが可能なＸ線発生装置を提供することにある。
本発明は、上述の目的を達成するために、対陰極（ター
ゲット）に、各々に特有な特性Ｘ線を発生する金属部を
複数個設け、このうちの任意の金属部に電子ビームを照
射できるように構成されている。
ゲット）に、各々に特有な特性Ｘ線を発生する金属部を
複数個設け、このうちの任意の金属部に電子ビームを照
射できるように構成されている。
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
第１図（ａ）、（ｂ）は本発明の一実施例を示し、それ
ぞれ正面図、側面図である。図において、１は電子ビー
ム２を発生させるための固定されたフィラメント、３は
電子ビーム２が照射される円筒状のクーゲラ）、４Ａ、
４Ｅ、４０は金属部材でそれぞれＡｔ材、 Ｓｉ材、
ｐｄ材であり、ターゲット３の周面に強固に固着嵌合さ
れている。また、５はターゲット３の支持部材、６はＸ
線である。
ぞれ正面図、側面図である。図において、１は電子ビー
ム２を発生させるための固定されたフィラメント、３は
電子ビーム２が照射される円筒状のクーゲラ）、４Ａ、
４Ｅ、４０は金属部材でそれぞれＡｔ材、 Ｓｉ材、
ｐｄ材であり、ターゲット３の周面に強固に固着嵌合さ
れている。また、５はターゲット３の支持部材、６はＸ
線である。
フィラメント１とターゲット３の間には、不図示の電源
により直流高電圧が印加されていて、フィラメント１よ
り発生した電子ビーム２はターゲット３上のＡｔ材４ｋ
に衝突し、Ｘ線６を発生する。そのＸ線６には、Ａｔ材
４Ａに特有の特性Ｘ線が含まれている。また、ターゲッ
ト３は支持部材４ ５、よっ、ヶえオゎ、お９、ヵ
、っ、８いい。１装置により任意に回転移動させること
ができる。
により直流高電圧が印加されていて、フィラメント１よ
り発生した電子ビーム２はターゲット３上のＡｔ材４ｋ
に衝突し、Ｘ線６を発生する。そのＸ線６には、Ａｔ材
４Ａに特有の特性Ｘ線が含まれている。また、ターゲッ
ト３は支持部材４ ５、よっ、ヶえオゎ、お９、ヵ
、っ、８いい。１装置により任意に回転移動させること
ができる。
第１図（ａ）、（ｂ）では、電子ビーム２をＡｔ材４Ａ
に衝突させた例を示しているが、ターゲット３を回転移
動させることにより、Ｓ１材４Ｂ、Ｐｄ材４Ｃにも衝突
させ、各々特有の特性Ｘ線を発生させることが可能であ
る。
に衝突させた例を示しているが、ターゲット３を回転移
動させることにより、Ｓ１材４Ｂ、Ｐｄ材４Ｃにも衝突
させ、各々特有の特性Ｘ線を発生させることが可能であ
る。
したがって、ターゲットを回転移動させることにより任
意の特性Ｘ線を発生させ、それを利用できるようになっ
た。
意の特性Ｘ線を発生させ、それを利用できるようになっ
た。
次に、他の実施例を第２図にしたがって説明する。
本実施例の特徴は、ターゲットは固定されたままで、電
子ビームを発生させるフィラメントを複数個（図では２
個）設けたことにある。すなわち、ターゲット３にはＡ
ｔ材４Ａ、Ｓｉ材４Ｂが固着されていて、各々に衝突す
る電子ビーム８Ａ、８Ｅが、異なるフィラメント７Ａ、
７Ｅによって発生するものである。したがって、Ａｔ材
４Ａの特性Ｘｉ ９Ａを利用したい場合は、フイラメン
）７Ａのみを点火すればよい。もちろん、両フィラメン
）７Ａ。
子ビームを発生させるフィラメントを複数個（図では２
個）設けたことにある。すなわち、ターゲット３にはＡ
ｔ材４Ａ、Ｓｉ材４Ｂが固着されていて、各々に衝突す
る電子ビーム８Ａ、８Ｅが、異なるフィラメント７Ａ、
７Ｅによって発生するものである。したがって、Ａｔ材
４Ａの特性Ｘｉ ９Ａを利用したい場合は、フイラメン
）７Ａのみを点火すればよい。もちろん、両フィラメン
）７Ａ。
７Ｂ共点火し、Ａｔ材４Ａ、Ｓ１材４Ｂによる２種類の
特性ＸＪ１９Ａ、９Ｂを利用してもよい。
特性ＸＪ１９Ａ、９Ｂを利用してもよい。
更に、他の実施例を第３図にしたがって説明する。
本実施例の特徴は、ターゲットおよびフィラメントは固
定されたままで、フィラメントに与える電界強度を変化
させたことにある。すなわち、ターゲット３には前述の
実施例と同様にＡｔ材４Ａ。
定されたままで、フィラメントに与える電界強度を変化
させたことにある。すなわち、ターゲット３には前述の
実施例と同様にＡｔ材４Ａ。
Ｓｉ材４Ｂ 、 ｐａ材４Ｃが固着されていて、フィラ
メント１の引き出し電極１０の電位を制御することによ
り、電子ビームを偏向させ、１１Ａ、 、１’ｌＢ。
メント１の引き出し電極１０の電位を制御することによ
り、電子ビームを偏向させ、１１Ａ、 、１’ｌＢ。
１１０ のような電子ビームを任意に取り出せるように
しである。したがって、例えばＡｔ材４Ａの特性Ｘ線１
２Ａ を利用したい場合には、引き出し電極１０の電位
を強めて電子ビームＩＩＡを発生させればよい。
しである。したがって、例えばＡｔ材４Ａの特性Ｘ線１
２Ａ を利用したい場合には、引き出し電極１０の電位
を強めて電子ビームＩＩＡを発生させればよい。
本発明は以上説明したように、１つのＸｍ発生装置で任
意に複数の特性Ｘｉを利用することができる。更に、同
一の金属上でも電子ビームの衝突位置を変更することが
できるので、金属面上のあれや線量低下を防止し装置の
寿命を伸ばすことができる。
意に複数の特性Ｘｉを利用することができる。更に、同
一の金属上でも電子ビームの衝突位置を変更することが
できるので、金属面上のあれや線量低下を防止し装置の
寿命を伸ばすことができる。
第１図（ａ）、（ｂ）は本発明の一実施例で、それぞれ
正面図、側面図を示し、第２図および第３図は本発明の
他の実施例を示す。 １・・・フィラメント、 ２・・・電子ビーム。 ３ ・・・ ターゲット、 ４Ａ・・・ Ａｔ
（アルミニウム）材。 ４Ｂ・・・ Ｓｉ （シリコン）材、 ４Ｃ・・・ Ｐ
ａ （パラジウム）材。 ６ ・・・ Ｘ線。 ７Ａ、７Ｂ ・・・ フィラメント。 ８Ａ、８Ｂ ・・・ 電子ビーム。 ９Ａ、９Ｂ ・・・ 特性Ｘｍ。 １１Ａ、ＩＩＢ、 １ｉ００・ 電子ビーム。 １２Ａ、 １．２Ｂ、 １２Ｃ・・・ 特性Ｘ線。
正面図、側面図を示し、第２図および第３図は本発明の
他の実施例を示す。 １・・・フィラメント、 ２・・・電子ビーム。 ３ ・・・ ターゲット、 ４Ａ・・・ Ａｔ
（アルミニウム）材。 ４Ｂ・・・ Ｓｉ （シリコン）材、 ４Ｃ・・・ Ｐ
ａ （パラジウム）材。 ６ ・・・ Ｘ線。 ７Ａ、７Ｂ ・・・ フィラメント。 ８Ａ、８Ｂ ・・・ 電子ビーム。 ９Ａ、９Ｂ ・・・ 特性Ｘｍ。 １１Ａ、ＩＩＢ、 １ｉ００・ 電子ビーム。 １２Ａ、 １．２Ｂ、 １２Ｃ・・・ 特性Ｘ線。
Claims (1)
- 対陰極に複数の金属部が備えられていて該複数の金属部
のうちの任意の金属部に電子ビームが照射できるように
構成されたことを特徴とするＸ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59123863A JPS614139A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59123863A JPS614139A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | Ｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS614139A true JPS614139A (ja) | 1986-01-10 |
Family
ID=14871245
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59123863A Pending JPS614139A (ja) | 1984-06-18 | 1984-06-18 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS614139A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03124497U (ja) * | 1990-02-23 | 1991-12-17 | ||
| JPH0589809A (ja) * | 1992-03-04 | 1993-04-09 | Rigaku Corp | 回転対陰極ｘ線発生装置 |
| WO2010074031A1 (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | オムロン株式会社 | Ｘ線検査方法およびｘ線検査装置 |
| JP2010147017A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-01 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | Ｘ線管 |
| EP2819145A1 (en) * | 2013-06-26 | 2014-12-31 | Samsung Electronics Co., Ltd | X-ray generator and X-ray imaging apparatus including the same |
-
1984
- 1984-06-18 JP JP59123863A patent/JPS614139A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03124497U (ja) * | 1990-02-23 | 1991-12-17 | ||
| JPH0589809A (ja) * | 1992-03-04 | 1993-04-09 | Rigaku Corp | 回転対陰極ｘ線発生装置 |
| JP2010147017A (ja) * | 2008-12-19 | 2010-07-01 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | Ｘ線管 |
| WO2010074031A1 (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | オムロン株式会社 | Ｘ線検査方法およびｘ線検査装置 |
| EP2819145A1 (en) * | 2013-06-26 | 2014-12-31 | Samsung Electronics Co., Ltd | X-ray generator and X-ray imaging apparatus including the same |
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