JPS6142798U - ウエハ加熱用電磁誘導炉 - Google Patents

ウエハ加熱用電磁誘導炉

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JPS6142798U
JPS6142798U JP12759884U JP12759884U JPS6142798U JP S6142798 U JPS6142798 U JP S6142798U JP 12759884 U JP12759884 U JP 12759884U JP 12759884 U JP12759884 U JP 12759884U JP S6142798 U JPS6142798 U JP S6142798U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electromagnetic induction
induction furnace
spiral
hot plate
wafer heating
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Pending
Application number
JP12759884U
Other languages
English (en)
Inventor
文雄 中山
悟 岩間
Original Assignee
日立電子エンジニアリング株式会社
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Filing date
Publication date
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Priority to JP12759884U priority Critical patent/JPS6142798U/ja
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  • General Induction Heating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図ａは本考案一実施例の側断面図、第１図ｂは其の
ホットプレートの加熱時の温度分布図、第２図ａは従来
のウエハ加熱用電磁誘導炉の側断面図、第２図ｂは其の
ホットプレートの加熱時の温度分布図である。 １・・・半導体ウエハ、２・・・ホットプレート、３・
・・セラミックプレート、４・・・コイルプレート、５
・・・従来の均一捲線密度のスパイラルコイル、５ａ・
・・本考案に係るスパイラルブイル。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 半導体ウエハをホットプレートの上に載置シ、このホッ
    トプレートを其の下方に螺旋面をプレート面に平行に配
    設した螺旋状捲線に交流を流して電磁誘導で加熱するこ
    とにより、ホットプレートを介して半導体ウエハを加熱
    するウエハ加熱用電磁誘導炉において、前記螺旋状捲線
    の半径方向単位長当たりの捲線数を、螺旋の中心近傍で
    は少なく、螺旋の外周近傍では大きくしたことを特徴と
    するウエハ加熱用電磁誘導炉。
JP12759884U 1984-08-24 1984-08-24 ウエハ加熱用電磁誘導炉 Pending JPS6142798U (ja)

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JP12759884U JPS6142798U (ja) 1984-08-24 1984-08-24 ウエハ加熱用電磁誘導炉

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JPS6142798U true JPS6142798U (ja) 1986-03-19

Family

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JP (1) JPS6142798U (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101060759B1 (ko) * 2008-12-18 2011-08-31 삼성엘이디 주식회사 화학 기상 증착 장치
JP2013232662A (ja) * 2013-06-20 2013-11-14 Nikon Corp 支持装置、加熱加圧装置及び加熱加圧方法

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