JPS6142917A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
- Publication number
- JPS6142917A JPS6142917A JP16586184A JP16586184A JPS6142917A JP S6142917 A JPS6142917 A JP S6142917A JP 16586184 A JP16586184 A JP 16586184A JP 16586184 A JP16586184 A JP 16586184A JP S6142917 A JPS6142917 A JP S6142917A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- impeller
- pure water
- washing
- water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、洗浄槽の下部から洗浄液を噴出し、内部に
収容した半導体ウェーハなど被洗浄物を洗浄し、上昇し
た洗浄液は上部から流出するようにした洗浄装置に関す
る。
収容した半導体ウェーハなど被洗浄物を洗浄し、上昇し
た洗浄液は上部から流出するようにした洗浄装置に関す
る。
〔従来技術〕・
被洗浄物である半導体ウェーハ（以下「ウェーハ」と称
する）を洗浄装置による洗浄処理としてアル之エッチ後
洗浄処理などがある。
する）を洗浄装置による洗浄処理としてアル之エッチ後
洗浄処理などがある。
従来のウェーハの洗浄装置は、第１図に一部を破断して
示す斜視図のようになっていた。（１）は被洗浄物のウ
ェーハで、収納容器（２）内に多数枚が間隔をあけ並立
して収容されている。（３）は洗浄槽で、内部下方に底
部（３ａ）から間隔をあけ棚（４）が設けられ、この棚
（４）には多数の流通穴（４ａ）があけられである。（
５）は洗浄液である純水を洗浄槽（３）内の下部に送り
込む供給管である０ 上記従来の装置において、ウェーハ（１）を収容した収
納容器（２）を洗浄槽（３）の棚（４）上に置き、純水
を供給管（５）から洗浄槽（３）内の下部に送り込む０
これにより棚（４）の多数の流通穴（４ａ）から純水が
吹出して上昇し、各ウェーハ（１）間を流通して洗浄す
る０上昇した洗浄水は、洗浄槽（３）の上部を越えて外
部に流出する。
示す斜視図のようになっていた。（１）は被洗浄物のウ
ェーハで、収納容器（２）内に多数枚が間隔をあけ並立
して収容されている。（３）は洗浄槽で、内部下方に底
部（３ａ）から間隔をあけ棚（４）が設けられ、この棚
（４）には多数の流通穴（４ａ）があけられである。（
５）は洗浄液である純水を洗浄槽（３）内の下部に送り
込む供給管である０ 上記従来の装置において、ウェーハ（１）を収容した収
納容器（２）を洗浄槽（３）の棚（４）上に置き、純水
を供給管（５）から洗浄槽（３）内の下部に送り込む０
これにより棚（４）の多数の流通穴（４ａ）から純水が
吹出して上昇し、各ウェーハ（１）間を流通して洗浄す
る０上昇した洗浄水は、洗浄槽（３）の上部を越えて外
部に流出する。
上記従来の洗浄装置では、流通穴（４ａ）から吹出しウ
ェーハ（１）間を流通する純水の流れは、強弱のない一
様な流れであり、流れに変化がなく、ウェーハ（１）に
付着した異物が取れにくいことがあった０まだ、洗浄槽
（３）の棚（４）のため２重底の形式になり、棚（４）
の下部に一部の純水及び不純物が停滞して残留し、純水
の比抵抗低下の原因となっていた０〔発明の概要〕 この発明は、洗浄槽内の下部に羽根車を配設し、外部か
ら供給された洗浄水を羽根車の下方に導き、上方に噴出
させて羽根車を回転させ、洗浄水をかくはんし、洗浄水
を複雑な流れとしてウェーハ間を流通上昇させ、洗浄効
果を上げるとともに、洗浄槽内の下方に複数の桟を取付
け、この桟上に被洗浄物を置くようにし、洗浄槽の下部
に一部の洗浄水及び不純物が残留することがなく、純水
の比抵抗の低下をなくした洗浄装置を提供することを目
的としている。
ェーハ（１）間を流通する純水の流れは、強弱のない一
様な流れであり、流れに変化がなく、ウェーハ（１）に
付着した異物が取れにくいことがあった０まだ、洗浄槽
（３）の棚（４）のため２重底の形式になり、棚（４）
の下部に一部の純水及び不純物が停滞して残留し、純水
の比抵抗低下の原因となっていた０〔発明の概要〕 この発明は、洗浄槽内の下部に羽根車を配設し、外部か
ら供給された洗浄水を羽根車の下方に導き、上方に噴出
させて羽根車を回転させ、洗浄水をかくはんし、洗浄水
を複雑な流れとしてウェーハ間を流通上昇させ、洗浄効
果を上げるとともに、洗浄槽内の下方に複数の桟を取付
け、この桟上に被洗浄物を置くようにし、洗浄槽の下部
に一部の洗浄水及び不純物が残留することがなく、純水
の比抵抗の低下をなくした洗浄装置を提供することを目
的としている。
第２図はこの発明の一実施例による洗浄装置の一部を破
断して示す斜視図である０洗浄槽（３）内に底部（３ａ
）から間隔をあけ、複数の桟αηが横方向に取付けられ
ている。（６）は供給管（５）に連通し、洗浄槽（３）
の底部（３ａ）上に配設された導管、α躊は底部（３ａ
）上の中央に配設され導管（イ）からの洗浄水を上方に
噴出させる噴出体で、噴出方向である上方に羽根車（ロ
）を回転自在に支持している０上記−実施例の装置にお
いて、ウェー／−（１）を収容した収納容器（２）を桟
（１１）上に置き、純水を供給管（５）から導管（６）
に送り込む。導管（２）を通った純水は噴出体α］から
上方に噴出する。この噴流により羽根車αめが回転し、
純水をかくはんする。これにより、純水は強弱のある乱
流となり、比較的羽根車←→から近い距離にあるウェー
ハ（１）間を流通上昇して洗浄し、洗浄イ曹（１）の上
部から外方に流出する。
断して示す斜視図である０洗浄槽（３）内に底部（３ａ
）から間隔をあけ、複数の桟αηが横方向に取付けられ
ている。（６）は供給管（５）に連通し、洗浄槽（３）
の底部（３ａ）上に配設された導管、α躊は底部（３ａ
）上の中央に配設され導管（イ）からの洗浄水を上方に
噴出させる噴出体で、噴出方向である上方に羽根車（ロ
）を回転自在に支持している０上記−実施例の装置にお
いて、ウェー／−（１）を収容した収納容器（２）を桟
（１１）上に置き、純水を供給管（５）から導管（６）
に送り込む。導管（２）を通った純水は噴出体α］から
上方に噴出する。この噴流により羽根車αめが回転し、
純水をかくはんする。これにより、純水は強弱のある乱
流となり、比較的羽根車←→から近い距離にあるウェー
ハ（１）間を流通上昇して洗浄し、洗浄イ曹（１）の上
部から外方に流出する。
洗浄（ｉ、！［１）の下部の純水は、羽根車（１４）に
よりかくはんされていることと、流通抵抗の小さい桟α
ｐ間を通り上昇が妨げられないこととで、停滞残留する
ことがなくされる。
よりかくはんされていることと、流通抵抗の小さい桟α
ｐ間を通り上昇が妨げられないこととで、停滞残留する
ことがなくされる。
なお、羽根車（１４）の羽根の大きさを変えることによ
り、純水の流れをさらに変化することができる。
り、純水の流れをさらに変化することができる。
寸だ、上記実施例では、羽根車α→は１個設けたが、２
個以上にすることもでき、純水の多様な流れとすること
ができる。
個以上にすることもでき、純水の多様な流れとすること
ができる。
さらに、上記実施例では、羽根車α→は洗浄槽（３）の
底部（３ａ）上方に配設したが、洗浄槽内の下部側部に
配設してもよく、あるいは、底部（３ａ）上方と下部側
部との両方に配設してもよく、より効果的な洗浄ができ
る。
底部（３ａ）上方に配設したが、洗浄槽内の下部側部に
配設してもよく、あるいは、底部（３ａ）上方と下部側
部との両方に配設してもよく、より効果的な洗浄ができ
る。
なおまた、上記実施例では被洗浄物としてウェーハ（１
）の場合を説明したが、これに限らず他の種の被洗浄物
を洗浄する場合にも適用できるものである。
）の場合を説明したが、これに限らず他の種の被洗浄物
を洗浄する場合にも適用できるものである。
さらにまた、上記実施例では洗浄液として純水を用いた
が、他の液体による洗浄の場合にも適用できる。
が、他の液体による洗浄の場合にも適用できる。
以上のように、この発明によれば、洗浄槽内の下方に複
数の桟を渡して設け、この上に被洗浄物を置くようにし
、洗浄槽内の下部に羽根車を配設し、外部からの洗浄液
を羽根車の下方から噴出させ、羽根車を回転して洗浄液
に乱流を生じさせ、この乱流が生じた洗浄液の上昇流通
により被洗浄物を洗浄するようにしたので、洗浄効果が
向上され、洗浄槽の下部に一部の洗浄液や不純物が停滞
することがなくされる。
数の桟を渡して設け、この上に被洗浄物を置くようにし
、洗浄槽内の下部に羽根車を配設し、外部からの洗浄液
を羽根車の下方から噴出させ、羽根車を回転して洗浄液
に乱流を生じさせ、この乱流が生じた洗浄液の上昇流通
により被洗浄物を洗浄するようにしたので、洗浄効果が
向上され、洗浄槽の下部に一部の洗浄液や不純物が停滞
することがなくされる。
第１図は従来の洗浄装置を一部破断して示す斜視図、第
２図はこの発明の一実施例による洗浄装置を一部破断し
て示す斜視図である。
２図はこの発明の一実施例による洗浄装置を一部破断し
て示す斜視図である。
Claims (6)
- （１）内部下方に底部から間隔をあけて複数の桟が設け
られ、被洗浄物が置かれるようにしてあり、外方から洗
浄液を供給する供給管が下部に設けられた洗浄槽、この
洗浄槽内の下部に配設され、上記供給管からの洗浄液が
導入され上方又は側方に噴出させる噴出体、及びこの噴
出体に回転自在に支持され噴出方向位置に配設されてお
り、洗浄水の噴出により回転され、洗浄水をかくはんし
乱流として上記被洗浄物に流通させる羽根車を備えた洗
浄装置。 - （２）被洗浄物は半導体ウェーハからなる特許請求の範
囲第１項記載の洗浄装置。 - （３）洗浄液は純水からなる特許請求の範囲第１項又は
第２項記載の洗浄装置。 - （４）羽根車を洗浄槽内の底部側に配置した特許請求の
範囲第１項ないし第３項のいづれかに記載の洗浄装置。 - （５）羽根車を洗浄槽内の下部側部に配置した特許請求
の範囲第１項ないし第３項のいづれかに記載の洗浄装置
。 - （６）羽根車を複数個配設した特許請求の範囲第１項な
いし第５項のいづれかに記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16586184A JPS6142917A (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16586184A JPS6142917A (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6142917A true JPS6142917A (ja) | 1986-03-01 |
Family
ID=15820381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16586184A Pending JPS6142917A (ja) | 1984-08-06 | 1984-08-06 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6142917A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5292373A (en) * | 1991-07-10 | 1994-03-08 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus and process for washing wafers |
| JPH09283488A (ja) * | 1996-04-12 | 1997-10-31 | Lg Semicon Co Ltd | 半導体ウェハ洗浄装置 |
| US5743280A (en) * | 1995-12-19 | 1998-04-28 | Lg Semicon Co., Ltd. | Apparatus for cleansing semiconductor wafer |
-
1984
- 1984-08-06 JP JP16586184A patent/JPS6142917A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5292373A (en) * | 1991-07-10 | 1994-03-08 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus and process for washing wafers |
| US5743280A (en) * | 1995-12-19 | 1998-04-28 | Lg Semicon Co., Ltd. | Apparatus for cleansing semiconductor wafer |
| JPH09283488A (ja) * | 1996-04-12 | 1997-10-31 | Lg Semicon Co Ltd | 半導体ウェハ洗浄装置 |
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