JPS6144864B2 - - Google Patents
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明は新規なプロスタグランジン誘導体の製
造法に関するものである。さらに詳しくは、本発
明は 一般式 〔式中Z1はカルボキシル基または保護されたカル
ボキシル基、Z2は水酸基または保護された水酸
基、Z3はヒドロキシメチル基または水酸基の保護
されたヒドロキシメチル基、Z4は水素原子、アル
キル基または置換アルキル基を示す。５員環から
点線で伸びた結合は、５員環平面から下に伸びた
結合すなわちα配位を示している。〕で表される
化合物をカルボニル還元剤で処理するか、あるい
はグリニヤー試薬と反応させ、続いて必要に応じ
て保護基を除去する反応に付することを特徴とす
る一般式 〔式中Z1〜Z4は前述したものと同意義、Z5は水素
原子またはアルキル基を示す。〕で表されるプロ
スタグランジン誘導体の製造法に関するものであ
る。 また本発明化合物中、特にZ1がカルボキシル
基、Z2が水酸基、Z3がヒドロキシメチル基である
化合物（）は次に示されるように（）の化合
物を保護基を除去する反応に付することによつて
も製造することができる。 ここでZ1〜Z5は前述したものと同意義であり、
Z6は水素原子又は水酸基の保護基を示す。 プロスタグランジン類およびその類縁体は次の
構造をもつたプロスタン酸の誘導体として命名す
ることが出来る。 プロスタン酸の骨格炭素原子の数え方は上式に
示した通りである。なお、プロスタン酸の系統的
な名称は７−〔β−オクチル〕−シクロペント−１
α−イル〕ヘプタン酸である。 本発明によつて得られる前記一般式（）の化
合物はプロスタン酸を基本骨格として命名する
と、（5Z・９α・11α・13E・15Sもしくは15R）
−９・15−ジヒドロキシ−11−ヒドロキシメチル
−12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸の
15・15−ジ置換−ω−ノル誘導体である。プロス
タグランジン類およびプロスタグランジン誘導体
の命名法については例えばN.A.ネルソン、ジヤ
ーナル・オブ・メデイシナル・ケミストリー第17
巻911〜918頁（1974年）を参照されたい。 12−イソプロスタン酸とは次式で表わされるよ
うなプロスタン酸の12位の立体異性体の意味であ
る。 本発明によつて得られる前記一般式（）の化
合物は15S体と15R体を任意に意味し、どちらか
に特に限定されるものではない。本発明によつて
得られる前記一般式（）及び（）を有する化
合物はプロスタン酸の５員環につくすべての置換
基がα配置をとつていることに特徴があり、加え
て11位の置換基がヒドロキシメチル基であること
に特徴を有するものであり、これらの意味から本
発明によつて得られる前記一般式（）及び
（）を有する化合物は構造的に新規な化合物で
あり、また後に述べるように製法的にも全く新規
な特徴を有するものである。本発明によつて得ら
れる前記一般式（）及び（）を有する化合物
のあるものはまた、薬理試験において有意な作用
を示した。 本発明によつて得られる化合物のうちZ1がカル
ボキシル基であるものは、また薬理上許容される
塩の形にすることが出来る。薬理上許容される塩
の形としては、例えばナトリウム、カリウム、マ
グネシウム、カルシウムのようなアルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属の塩、アンモニウム塩、テ
トラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニ
ウム、ベンジルトリメチルルアンモニウム、フエ
ニルトリエチルアンモニウムのような第四級アン
モニウム塩、メチルアミン、エチルアミン、ジメ
チルアミン、ジエチルアミントリメチルアミン、
トリエチルアミン、Ｎ−メチルヘキシルアミン、
シクロベンジルアミン、ジシクロヘキシルアミ
ン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、α−フ
エニルエチルアミン、エチレンジアミンのような
低級脂肪族、低級脂環式および低級芳香脂肪族ア
ミンの塩ピペリジン、モルホリン、ピロリジン、
ピペラジン、ピリジン、１−メチルピペラジン、
４−エチルモルホリンのような複素環式アミンお
よびそれらの低級アルキル誘導体の塩、モノエタ
ノールアミン、エチルジエタノールアミン、２−
アミノ−１−ブタノールのような親水性の基を含
むアミンの塩等をあげることができる。 本発明化合物において一般式中、Z1はカルボキ
シル基またはエステル等の保護されたカルボキシ
ル基を示すが、具体的には遊離のカルボキシル
基：メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、イソプロペニル、シクロヘキシ
ルメチル、ベンジル及び２・２・２−トリクロル
エチル等の置換又は非置換アルキルエステル：２
−テトラヒドロピラニル、２−テトラヒドロチオ
ピラニル、２−テトラヒドロチエニル、４−メト
キシテトラヒドロピラン４−イル等の複素環エス
テル等があげられる。 Z2は水酸基又はアシルオキシ基等の保護された
水酸基であり、具体的には遊離の水酸基；アセチ
ル、クロルアセチル、プロピオニル等のアルカイ
ル基で保護された水酸基；ベンゾイル、ｐ−フエ
ニルベンゾイルのようなアロイル基で保護された
水酸基；２・２・２−トリクロルエトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカル
ボニルのような炭素残基で保護された水酸基；ト
リメチルシリルのようなトリアルキルシリル基で
保護された水酸基；２−テトラヒドロピラニル、
２−テトラヒドロチオピラニル、２−テトラヒド
ロチエニル、４−メトキシテトラヒドロピラン−
４−イルのような複素環基で保護された水酸基；
メトキシメチル、エトキシメチル、１−エトキシ
エチル、１−メトキシシクロヘキサン−１−イル
のようなアルコキシ炭化水素基で保護された水酸
基：メチル、エチル、ベンジルのような炭化水素
基等で保護された水酸基があげられる。 Z3は、ヒドロキシメチル基または水酸基の保護
されたヒドロキシメチル基であり、具体的には遊
離のヒドロキシメチル基又は水酸基が前記Z2と同
様の保護基で保護されたヒドロキシメチル基であ
る。 Z4は、水素原子又はアルキル基であり、アルキ
ル基としては具体的にはメチル、エチル、ペンチ
ル、オワチル等炭素数１〜10のアルキル基あるい
は置換アルキル基が好ましい。 Z5は水素又はアルキル基であり、アルキル基と
しては特に炭素数１〜５のものが好ましい。 本発明において一般式Z1に含まれるカルボキシ
ル基の保護基としては、実質的に後にその保護基
を除去して水素原子に置換する際に化合物の他の
部分に影響を与えないようなものであれば特に限
定はなく、その具体例は前記のとおりである。 Z2に含まれる水酸基の保護基としては、実質的
に後にその保護基を除去して水素原子に置換する
際に、除去反応によつて化合物の他の部分に影響
を与えないようなものであれば特に限定はなく、
そのような保護基としては前記のようなものがあ
げられる。 Z3に含まれる水酸基の保護基としては、後述す
るようにアシル化条件によつてエーテル環結合を
切断してしかるのち数段階の反応を経て一般式）
（）の化合物が導かれてくることから好ましく
はアセチル、プロピオニル、ベンゾイル、クロル
アセチル、ｐ−フエニルベンゾイルのようなアシ
ル基が望まれるが、特に限定されるものではな
い。実質的に後にその保護基を除去して水素原子
に置換する際に化合物の他の部分に影響を与えな
いものであれば特に限定はなく、そのような保護
基としては例えばZ2に含まれる水酸基の保護基と
して前述したものの中から任意に選択される。 Z6で表される水酸基の保護基としては他の反応
中にそれ自身が変化を受けないようなものであつ
て、後にその保護基を除去する際に化合物の他の
部分に影響を与えないようなものであれば特に限
定はなく、そのような保護基としては例えばZ2に
含まれる水酸基の保護基として前述したものの中
から任意に選ぶことが出来る。 本発明の方法を更に詳細に説明すると、化合物
（）は前記一般式（）を有する化合物をカル
ボニル還元剤で還元するか、あるいはグリニヤー
試薬で処理し、続いて必要に応じて水酸基の保護
基あるいはカルボキシル基の保護基を除去する反
応に任意の順序で付することによつて得られる。
本発明の方法を実施するにあたつて反応は溶剤の
存在下または不存在下で環元剤もしくはZ5Mgxと
して表されるグリニヤー試薬（Z5はアルキル基、
好ましくはC1〜C5のアルキル基、ｘはハロゲ
ン）を使用することによつて達成される。使用さ
れる還元剤としてはカルボニル基を水酸基に変換
する還元剤であれば特に限定はなく、例えば水素
化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水
素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化
トリ−tert−プトキシリチウムアルミニウム、水
素化トリメトキシリチウムアルミニウム、水素化
シアノホウ素ナトリウムなどの水素化金属化合物
が好適に用いられる。使用されるグリニヤー試薬
（Z5Mgx）としてはエーテルもしくはテトラヒド
ロフラン中で金属マグネシウムとアルキルハライ
ドの反応によつて調整した炭素数１〜５のアルキ
ルマグネシウムハライドが好適に用いられる。 反応は溶剤の存在下または不存在下で行われる
が、反応を円滑に進行させるためには溶剤を使用
する方が好ましく、使用される溶剤としては、本
反応に関与しなければ特に限定はなく、例えば還
元反応の場合にはメタノール、エタノール、イソ
プロパノールなどのアルコール類、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル類等の不活性有
機溶剤が用いられ、グリニヤー反応の場合には、
エーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル
類等の不活性溶剤が好適に用いられる。反応温度
には特に限定はないが、副反応を抑えるためには
比較的低い温度が望ましく通常は、−20℃乃至室
温で好適に行われる。反応時間は主に反応温度使
用される反応試剤の種類によつて異なるが、通常
１分間乃至１時間である。処理終了後、目的化合
物は常法に従つて反応混合物から採取される。例
えば反応終了後、反応混合物にギ酸、酢酸、シユ
ウ酸、酒石酸のような有機酸を加えて、過剰の還
元剤あるいはグリニヤー試薬を分解し、ついで有
機溶剤を加えて抽出を行い抽出液を水洗、乾燥し
た後抽出液より溶剤を留去することによつて得ら
れる。得られた目的化合物は必要ならば常法、例
えばカラムクロマトグラフイー、薄層クロマトグ
ラフイーなどを用いて更に精製することが出来
る。このようにして得られた前記一般式（）を
有する化合物のうち水酸基あるいはカルボキシル
基の保護基のついているものは必要に応じて、そ
れらの保護基を除去する反応に付することが出来
る。 水酸基の保護基を除去する反応は保護基の種類
により、除去する条件が異なる。水酸基の保護基
が例えばアセチル、クロルアセチル、プロピオニ
ル、ベンゾイル、ｐ−フエニルベンゾイルのよう
なアシル基２・２・２−トリクロルエトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカ
ルボニルのような炭酸残基の場合は塩または塩基
と接触させることによつて容易に達成される。使
用される酸または塩基としては例えば塩酸、息化
水素酸、硫酸などの鉱酸、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ
金属およびアルカリ土類金属の水酸化物：炭酸カ
ルシウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウムなどの
アルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸塩な
どが好適に使用される。通常は塩基性の条件で好
適に行われる。 反応は溶剤の存在下または不存在下に実施され
るが反応を円滑に行うには、溶剤を使用する方が
好ましく、使用される溶剤としては本反応に関与
しなければ特に限定はなく、例えば水； メタノール、エタノールなどのアルコール類；
テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル
類またはこれらの有機溶剤と水との混合物である
水性有機溶剤が好適に使用される。反応温度には
特に限定はなく室温ないし、溶剤の還流温度で行
われる。水酸基の保護基が例えばトリメチルシリ
ルのようなトリアルキルシリル基の場合は、水ま
たは酸を含有する水と接触させることによつて容
易に達成される。 酸を含有する水を使用する場合に含有される酸
としては蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、シユ
ウ酸、マロン酸などの有機酸；塩酸、臭化水素
酸、硫酸などの鉱酸が特に限定なく使用されう
る。 反応は溶剤の存在下または不存在下に行われ
る。 通常は過剰の水を使用すれば他の溶剤は特に必
要ではない。他の溶剤を使用する場合は例えばテ
トラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル
類；メタノール、エタノールなどのアルコール類
等の水と混和し易い有機溶剤が好適に用いられ
る。反応温度に特に限定はないが通常は室温で好
適に行われる。水酸基の保護基が例えば２−テト
ラヒドロピラニル、２−テトラヒドロチオピラニ
ル、２−テトラヒドロチエニル、４−メトキシテ
トラヒドロピラン−４−イルのような複素環基；
メトキシメチル、エトキシメチル、１−エトキシ
エチル、１−メトキシシクロヘキサン−１−イル
のようなアルコキシ炭化水素基の場合は酸と接触
させることによつて容易に達成される。使用され
る酸としては例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、
酪酸、シユウ酸、マロン酸などの有機酸；塩酸、
臭化水素酸、硫酸などの鉱酸が好適に使用され
る。反応は溶剤の存在下またはは不存在下で行わ
れるが、反応を円滑に行うには溶剤を使用する方
が好ましく、使用される溶剤としては本反応に関
与しなければ特に限定はなく例えば水；メタノー
ル、エタノールなどのアルコール類；テトラヒド
ロフラン、ジオキサンなどのエーテル類またはこ
れらの有機溶剤と水との水性有機溶剤が好適に使
用される。反応温度には特に限定はなく室温ない
し溶剤の還流温度で行われ、特に室温で好適に行
われる。水酸基の保護基が例えばメチル、エチ
ル、ベンジルのような炭化水素基の場合は三塩化
ホウ素、三臭化ホウ素のようなハロゲン化ホウ素
化合物と接触させることにより容易に達成され
る。反応は溶剤の存在下または不存在下に実施さ
れるが、反応を円滑に行うには溶剤を使用する方
が好ましく、使用される溶剤としては本反応に関
与しなければ特に限定はなく例えばジクロルメタ
ン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素が好
適に使用される。反応温度には特に限定はない
が、副反応を抑えるためには比較的低温で行うの
が望ましく、−30℃ないし室温で好適に行なわれ
る。反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従
つて反応混合物から採取される。例えば反応終了
後反応混合物に適当な有機溶剤を加えて抽出を行
い、抽出液より溶剤を留去することによつて得ら
れる。得られた目的化合物は必要ならば通常の方
法、例えばカラムクロマトグラフイー、薄層クロ
マトグラフイーなどを用いて更に精製することが
出来る。次にカルボキシル基の保護基を除去する
反応は、保護基の種類によつてその除去条件が異
なる。カルボキシル基の保護基が例えばメチル、
エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチ
ル、イソプロピル、ｎ−オクチル、２−エチルヘ
キシル、２−プロペニル、シクロヘキシルメチ
ル、ベンジルのような炭化水素基、の場合は酸ま
たは塩基と接触させることにより達成される。使
用される酸または塩基は通常のエステルの加水分
解に使用される酸または塩基が特に限定なく使用
され、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱酸
または水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化バリウムなどのアルカリ金属およびアルカリ土
類金属の水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸カルシウムなどのアルカリ金属およびア
ルカリ土類金属の炭酸塩などが好適に使用され
る。通常は塩基性の条件で好適に行われる。反応
は溶剤の存在下または不存在下に行われるが、反
応を円滑に進行させるためには溶剤を使用する方
が好ましく、使用される溶剤としては本反応に関
与しなければ特に限定はなく、例えば水あるいは
メタノール、エタノールなどのアルコール類また
はテトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテ
ル類との混合溶剤が好適に用いられる。反応温度
には特に限定はなく室温ないし、溶剤の還流温度
で行われる。カルボキシル基の保護基が例えば
２・２・２−トリクロルエチルのようなハロゲン
化アルキルの場合は亜鉛、酢酸と接触させること
により達成される。反応は溶剤の存在下または不
存在下で行われるが、反応を円滑に進行させるた
めには溶剤を使用する方が好ましく、使用される
溶剤としては本反応に関与しなければ特に限定は
なく例えば水；テトラヒドロフラン、ジオキサン
などのエーテル類；メタノール、エタノールなど
のアルコール類またはこれらの有機溶剤と水との
混合溶剤が好適に使用される。 反応温度には特に限定はなく通常は室温で好適
に行われる。カルボキシル基の保護基が例えば２
−テトラヒドロピラニル、２−テトラヒドロチオ
ピラニル、２−テトラヒドロチエニル、４−メト
キシテトラヒドロピラン−４−イルのような複素
還基の場合は酸と接触されることにより達成され
る。 使用される酸としては例えば蟻酸、酢酸、プロ
ピオン酸、酪酸、シユウ酸、マロン酸などの有機
酸；塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱酸が好適に
使用される。反応は溶剤の存在下またはは不存在
下で実施されるが、反応を円滑に行うには溶剤を
使用する方が好ましく、使用される溶剤としては
本反応に関与しなければ特に限定はなく、例えば
水；メタノール、エタノールなどのアルコール
類；テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエー
テル類またはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤
が好適に使用される。反応温度には特に限定はな
く室温ないし溶剤の還流温度で行われ、特に室温
で好適に実施される。反応終了後、本反応の目的
化合物は常法に従つて反応混合物から採取され
る。例えば反応終了後、反応混合物に適当な有機
溶剤を加えて、抽出を行い抽出液より溶剤を留去
することによつて得られる。得られた目的化合物
は必要ならば常法、例えばカラムクロマトグラフ
イー、薄層クロマトグラフイーによつて更に精製
することが出来る。 本発明の方法を実施するに当つて原料化合物と
して使用した前記一般式（）を有する化合物は
新規な化合物であり、例えば次のような方法で製
造することが出来るが、もちろんこれらの限定さ
れるものではない。 本発明の方法を実施するに当たつて原料化合物
として使用した一般式（）を有する化合物は、
Z6が水素原子を意味する場合には、一般式（）
を有する化合物を意味するが、Z6が水酸基の保護
基を表わす場合には、新規な化合物である。 化合物（）から化合物（）を導く方法は保
護基を除去する反応であり、その方法は前に化合
物（）から化合物（）を導く方法において説
明した方法と全く同様である。 また、出発物質（）は新規な化合物であり、
例えば前記一般式（）を有する化合物から次の
ように製造することができる。 上記式中、Z1〜Z6の表わす意味は、前述したも
のと同じである。Ａは保護されたカルボニル基を
示す。カルボニル基の保護基としては、第７工程
即ちアルコールをアルデヒドに酸化する工程にお
いて変化を受けないようなものならば特に限定は
なく、そのような保護基で保護されたカルボニル
基としては例えば、メチレンジオキシ、エテレン
ジオキシのようなアルキレンジオキシ基：ジメト
キシ、ジエトキシのようなジアルコキシ基：エチ
レンジチオ、トリメチレンジチオのようなアルキ
シンジチオ基：オキシムなどをあげることが出来
るが、これらの保護基に特に限定されるものでは
ない。 Z7は水酸基の保護基を示す。Z7で表わされる水
酸基の保護基としては、以下に続く第４工程、第
５工程および第12工程において変化を受けないも
ので、かつその保護基を除去する工程において化
合物の他の部分に影響を与えないものであれば特
に限定はないが、望ましくは、Z2およびZ3に含ま
れる水酸基の保護基と区別して優先的に除去され
るような保護基が選ばれる。そのような保護基と
しては例えば、クロロアセチル基、２・２・２−
トリクロロエトキシカルボニル基等があるが、も
ちろんこれらに限定されるものではない。 ここにおいてZ4がアルキル基を示す場合に限り
Ａはまた酸素原子を示す。Ａが酸素原子を示す場
合には、第５工程と第10工程即ちカルボニル基を
保護する工程と、カルボニル基の保護基を除去す
る工程は省略することが出来る。 この場合、第８工程即ち後述するウイテイツヒ
反応においてアルデヒドとケトンが両方存在する
ことになるが、ウイテイツヒ反応はアルデヒドに
優先的に起るので、一般式（）で示される化
合物が主として生成する。 ここで原料化合物として使用した前記一般式
（）を有する化合物は既知化合物であり、その
合成法は例えば、藤瀬、丸山、宇田、小原、黒
沢、日本化学雑誌第82巻367頁〜372頁（1961年）
に記載されている。 以下、第１工程から第16工程まで順を追つて簡
潔に説明する。 第１工程はアルコールを保護する反応であり、
Z2に含まれる保護基としては、以下に続く工程中
で変化しないものが選ばれる。 第２工程はアルドール縮合類似反応であつて、
一般式 を有する化合物と四塩化チタン、四塩化錫、三塩
化アルミニウム、三フツ化ホウ素エーテラートな
どのルイス酸を反応試剤として用いることによつ
て達成される。ここにZ5はアセチル、プロピオニ
ルなどのアシル基：メチル、エチルなどのアルキ
ル基：トリメチルシリルなどのトリアルキルシリ
ル基を示している。四塩化チタンを用いる反応に
ついては、例えば向山、伊沢、西郷、ケミストリ
ー・レタース、（1974年）323〜326頁に記載され
ている。 第３工程は水酸基を保護する反応であり、水酸
基の保護基としては、Z7について前述したような
保護基が選ばれる。 第４工程は化合物（）を酸存在下に
造法に関するものである。さらに詳しくは、本発
明は 一般式 〔式中Z1はカルボキシル基または保護されたカル
ボキシル基、Z2は水酸基または保護された水酸
基、Z3はヒドロキシメチル基または水酸基の保護
されたヒドロキシメチル基、Z4は水素原子、アル
キル基または置換アルキル基を示す。５員環から
点線で伸びた結合は、５員環平面から下に伸びた
結合すなわちα配位を示している。〕で表される
化合物をカルボニル還元剤で処理するか、あるい
はグリニヤー試薬と反応させ、続いて必要に応じ
て保護基を除去する反応に付することを特徴とす
る一般式 〔式中Z1〜Z4は前述したものと同意義、Z5は水素
原子またはアルキル基を示す。〕で表されるプロ
スタグランジン誘導体の製造法に関するものであ
る。 また本発明化合物中、特にZ1がカルボキシル
基、Z2が水酸基、Z3がヒドロキシメチル基である
化合物（）は次に示されるように（）の化合
物を保護基を除去する反応に付することによつて
も製造することができる。 ここでZ1〜Z5は前述したものと同意義であり、
Z6は水素原子又は水酸基の保護基を示す。 プロスタグランジン類およびその類縁体は次の
構造をもつたプロスタン酸の誘導体として命名す
ることが出来る。 プロスタン酸の骨格炭素原子の数え方は上式に
示した通りである。なお、プロスタン酸の系統的
な名称は７−〔β−オクチル〕−シクロペント−１
α−イル〕ヘプタン酸である。 本発明によつて得られる前記一般式（）の化
合物はプロスタン酸を基本骨格として命名する
と、（5Z・９α・11α・13E・15Sもしくは15R）
−９・15−ジヒドロキシ−11−ヒドロキシメチル
−12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸の
15・15−ジ置換−ω−ノル誘導体である。プロス
タグランジン類およびプロスタグランジン誘導体
の命名法については例えばN.A.ネルソン、ジヤ
ーナル・オブ・メデイシナル・ケミストリー第17
巻911〜918頁（1974年）を参照されたい。 12−イソプロスタン酸とは次式で表わされるよ
うなプロスタン酸の12位の立体異性体の意味であ
る。 本発明によつて得られる前記一般式（）の化
合物は15S体と15R体を任意に意味し、どちらか
に特に限定されるものではない。本発明によつて
得られる前記一般式（）及び（）を有する化
合物はプロスタン酸の５員環につくすべての置換
基がα配置をとつていることに特徴があり、加え
て11位の置換基がヒドロキシメチル基であること
に特徴を有するものであり、これらの意味から本
発明によつて得られる前記一般式（）及び
（）を有する化合物は構造的に新規な化合物で
あり、また後に述べるように製法的にも全く新規
な特徴を有するものである。本発明によつて得ら
れる前記一般式（）及び（）を有する化合物
のあるものはまた、薬理試験において有意な作用
を示した。 本発明によつて得られる化合物のうちZ1がカル
ボキシル基であるものは、また薬理上許容される
塩の形にすることが出来る。薬理上許容される塩
の形としては、例えばナトリウム、カリウム、マ
グネシウム、カルシウムのようなアルカリ金属ま
たはアルカリ土類金属の塩、アンモニウム塩、テ
トラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニ
ウム、ベンジルトリメチルルアンモニウム、フエ
ニルトリエチルアンモニウムのような第四級アン
モニウム塩、メチルアミン、エチルアミン、ジメ
チルアミン、ジエチルアミントリメチルアミン、
トリエチルアミン、Ｎ−メチルヘキシルアミン、
シクロベンジルアミン、ジシクロヘキシルアミ
ン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、α−フ
エニルエチルアミン、エチレンジアミンのような
低級脂肪族、低級脂環式および低級芳香脂肪族ア
ミンの塩ピペリジン、モルホリン、ピロリジン、
ピペラジン、ピリジン、１−メチルピペラジン、
４−エチルモルホリンのような複素環式アミンお
よびそれらの低級アルキル誘導体の塩、モノエタ
ノールアミン、エチルジエタノールアミン、２−
アミノ−１−ブタノールのような親水性の基を含
むアミンの塩等をあげることができる。 本発明化合物において一般式中、Z1はカルボキ
シル基またはエステル等の保護されたカルボキシ
ル基を示すが、具体的には遊離のカルボキシル
基：メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、イソプロペニル、シクロヘキシ
ルメチル、ベンジル及び２・２・２−トリクロル
エチル等の置換又は非置換アルキルエステル：２
−テトラヒドロピラニル、２−テトラヒドロチオ
ピラニル、２−テトラヒドロチエニル、４−メト
キシテトラヒドロピラン４−イル等の複素環エス
テル等があげられる。 Z2は水酸基又はアシルオキシ基等の保護された
水酸基であり、具体的には遊離の水酸基；アセチ
ル、クロルアセチル、プロピオニル等のアルカイ
ル基で保護された水酸基；ベンゾイル、ｐ−フエ
ニルベンゾイルのようなアロイル基で保護された
水酸基；２・２・２−トリクロルエトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカル
ボニルのような炭素残基で保護された水酸基；ト
リメチルシリルのようなトリアルキルシリル基で
保護された水酸基；２−テトラヒドロピラニル、
２−テトラヒドロチオピラニル、２−テトラヒド
ロチエニル、４−メトキシテトラヒドロピラン−
４−イルのような複素環基で保護された水酸基；
メトキシメチル、エトキシメチル、１−エトキシ
エチル、１−メトキシシクロヘキサン−１−イル
のようなアルコキシ炭化水素基で保護された水酸
基：メチル、エチル、ベンジルのような炭化水素
基等で保護された水酸基があげられる。 Z3は、ヒドロキシメチル基または水酸基の保護
されたヒドロキシメチル基であり、具体的には遊
離のヒドロキシメチル基又は水酸基が前記Z2と同
様の保護基で保護されたヒドロキシメチル基であ
る。 Z4は、水素原子又はアルキル基であり、アルキ
ル基としては具体的にはメチル、エチル、ペンチ
ル、オワチル等炭素数１〜10のアルキル基あるい
は置換アルキル基が好ましい。 Z5は水素又はアルキル基であり、アルキル基と
しては特に炭素数１〜５のものが好ましい。 本発明において一般式Z1に含まれるカルボキシ
ル基の保護基としては、実質的に後にその保護基
を除去して水素原子に置換する際に化合物の他の
部分に影響を与えないようなものであれば特に限
定はなく、その具体例は前記のとおりである。 Z2に含まれる水酸基の保護基としては、実質的
に後にその保護基を除去して水素原子に置換する
際に、除去反応によつて化合物の他の部分に影響
を与えないようなものであれば特に限定はなく、
そのような保護基としては前記のようなものがあ
げられる。 Z3に含まれる水酸基の保護基としては、後述す
るようにアシル化条件によつてエーテル環結合を
切断してしかるのち数段階の反応を経て一般式）
（）の化合物が導かれてくることから好ましく
はアセチル、プロピオニル、ベンゾイル、クロル
アセチル、ｐ−フエニルベンゾイルのようなアシ
ル基が望まれるが、特に限定されるものではな
い。実質的に後にその保護基を除去して水素原子
に置換する際に化合物の他の部分に影響を与えな
いものであれば特に限定はなく、そのような保護
基としては例えばZ2に含まれる水酸基の保護基と
して前述したものの中から任意に選択される。 Z6で表される水酸基の保護基としては他の反応
中にそれ自身が変化を受けないようなものであつ
て、後にその保護基を除去する際に化合物の他の
部分に影響を与えないようなものであれば特に限
定はなく、そのような保護基としては例えばZ2に
含まれる水酸基の保護基として前述したものの中
から任意に選ぶことが出来る。 本発明の方法を更に詳細に説明すると、化合物
（）は前記一般式（）を有する化合物をカル
ボニル還元剤で還元するか、あるいはグリニヤー
試薬で処理し、続いて必要に応じて水酸基の保護
基あるいはカルボキシル基の保護基を除去する反
応に任意の順序で付することによつて得られる。
本発明の方法を実施するにあたつて反応は溶剤の
存在下または不存在下で環元剤もしくはZ5Mgxと
して表されるグリニヤー試薬（Z5はアルキル基、
好ましくはC1〜C5のアルキル基、ｘはハロゲ
ン）を使用することによつて達成される。使用さ
れる還元剤としてはカルボニル基を水酸基に変換
する還元剤であれば特に限定はなく、例えば水素
化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水
素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化
トリ−tert−プトキシリチウムアルミニウム、水
素化トリメトキシリチウムアルミニウム、水素化
シアノホウ素ナトリウムなどの水素化金属化合物
が好適に用いられる。使用されるグリニヤー試薬
（Z5Mgx）としてはエーテルもしくはテトラヒド
ロフラン中で金属マグネシウムとアルキルハライ
ドの反応によつて調整した炭素数１〜５のアルキ
ルマグネシウムハライドが好適に用いられる。 反応は溶剤の存在下または不存在下で行われる
が、反応を円滑に進行させるためには溶剤を使用
する方が好ましく、使用される溶剤としては、本
反応に関与しなければ特に限定はなく、例えば還
元反応の場合にはメタノール、エタノール、イソ
プロパノールなどのアルコール類、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン等のエーテル類等の不活性有
機溶剤が用いられ、グリニヤー反応の場合には、
エーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル
類等の不活性溶剤が好適に用いられる。反応温度
には特に限定はないが、副反応を抑えるためには
比較的低い温度が望ましく通常は、−20℃乃至室
温で好適に行われる。反応時間は主に反応温度使
用される反応試剤の種類によつて異なるが、通常
１分間乃至１時間である。処理終了後、目的化合
物は常法に従つて反応混合物から採取される。例
えば反応終了後、反応混合物にギ酸、酢酸、シユ
ウ酸、酒石酸のような有機酸を加えて、過剰の還
元剤あるいはグリニヤー試薬を分解し、ついで有
機溶剤を加えて抽出を行い抽出液を水洗、乾燥し
た後抽出液より溶剤を留去することによつて得ら
れる。得られた目的化合物は必要ならば常法、例
えばカラムクロマトグラフイー、薄層クロマトグ
ラフイーなどを用いて更に精製することが出来
る。このようにして得られた前記一般式（）を
有する化合物のうち水酸基あるいはカルボキシル
基の保護基のついているものは必要に応じて、そ
れらの保護基を除去する反応に付することが出来
る。 水酸基の保護基を除去する反応は保護基の種類
により、除去する条件が異なる。水酸基の保護基
が例えばアセチル、クロルアセチル、プロピオニ
ル、ベンゾイル、ｐ−フエニルベンゾイルのよう
なアシル基２・２・２−トリクロルエトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカ
ルボニルのような炭酸残基の場合は塩または塩基
と接触させることによつて容易に達成される。使
用される酸または塩基としては例えば塩酸、息化
水素酸、硫酸などの鉱酸、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ
金属およびアルカリ土類金属の水酸化物：炭酸カ
ルシウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウムなどの
アルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸塩な
どが好適に使用される。通常は塩基性の条件で好
適に行われる。 反応は溶剤の存在下または不存在下に実施され
るが反応を円滑に行うには、溶剤を使用する方が
好ましく、使用される溶剤としては本反応に関与
しなければ特に限定はなく、例えば水； メタノール、エタノールなどのアルコール類；
テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル
類またはこれらの有機溶剤と水との混合物である
水性有機溶剤が好適に使用される。反応温度には
特に限定はなく室温ないし、溶剤の還流温度で行
われる。水酸基の保護基が例えばトリメチルシリ
ルのようなトリアルキルシリル基の場合は、水ま
たは酸を含有する水と接触させることによつて容
易に達成される。 酸を含有する水を使用する場合に含有される酸
としては蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、シユ
ウ酸、マロン酸などの有機酸；塩酸、臭化水素
酸、硫酸などの鉱酸が特に限定なく使用されう
る。 反応は溶剤の存在下または不存在下に行われ
る。 通常は過剰の水を使用すれば他の溶剤は特に必
要ではない。他の溶剤を使用する場合は例えばテ
トラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル
類；メタノール、エタノールなどのアルコール類
等の水と混和し易い有機溶剤が好適に用いられ
る。反応温度に特に限定はないが通常は室温で好
適に行われる。水酸基の保護基が例えば２−テト
ラヒドロピラニル、２−テトラヒドロチオピラニ
ル、２−テトラヒドロチエニル、４−メトキシテ
トラヒドロピラン−４−イルのような複素環基；
メトキシメチル、エトキシメチル、１−エトキシ
エチル、１−メトキシシクロヘキサン−１−イル
のようなアルコキシ炭化水素基の場合は酸と接触
させることによつて容易に達成される。使用され
る酸としては例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、
酪酸、シユウ酸、マロン酸などの有機酸；塩酸、
臭化水素酸、硫酸などの鉱酸が好適に使用され
る。反応は溶剤の存在下またはは不存在下で行わ
れるが、反応を円滑に行うには溶剤を使用する方
が好ましく、使用される溶剤としては本反応に関
与しなければ特に限定はなく例えば水；メタノー
ル、エタノールなどのアルコール類；テトラヒド
ロフラン、ジオキサンなどのエーテル類またはこ
れらの有機溶剤と水との水性有機溶剤が好適に使
用される。反応温度には特に限定はなく室温ない
し溶剤の還流温度で行われ、特に室温で好適に行
われる。水酸基の保護基が例えばメチル、エチ
ル、ベンジルのような炭化水素基の場合は三塩化
ホウ素、三臭化ホウ素のようなハロゲン化ホウ素
化合物と接触させることにより容易に達成され
る。反応は溶剤の存在下または不存在下に実施さ
れるが、反応を円滑に行うには溶剤を使用する方
が好ましく、使用される溶剤としては本反応に関
与しなければ特に限定はなく例えばジクロルメタ
ン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素が好
適に使用される。反応温度には特に限定はない
が、副反応を抑えるためには比較的低温で行うの
が望ましく、−30℃ないし室温で好適に行なわれ
る。反応終了後、本反応の目的化合物は常法に従
つて反応混合物から採取される。例えば反応終了
後反応混合物に適当な有機溶剤を加えて抽出を行
い、抽出液より溶剤を留去することによつて得ら
れる。得られた目的化合物は必要ならば通常の方
法、例えばカラムクロマトグラフイー、薄層クロ
マトグラフイーなどを用いて更に精製することが
出来る。次にカルボキシル基の保護基を除去する
反応は、保護基の種類によつてその除去条件が異
なる。カルボキシル基の保護基が例えばメチル、
エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチ
ル、イソプロピル、ｎ−オクチル、２−エチルヘ
キシル、２−プロペニル、シクロヘキシルメチ
ル、ベンジルのような炭化水素基、の場合は酸ま
たは塩基と接触させることにより達成される。使
用される酸または塩基は通常のエステルの加水分
解に使用される酸または塩基が特に限定なく使用
され、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱酸
または水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化バリウムなどのアルカリ金属およびアルカリ土
類金属の水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸カルシウムなどのアルカリ金属およびア
ルカリ土類金属の炭酸塩などが好適に使用され
る。通常は塩基性の条件で好適に行われる。反応
は溶剤の存在下または不存在下に行われるが、反
応を円滑に進行させるためには溶剤を使用する方
が好ましく、使用される溶剤としては本反応に関
与しなければ特に限定はなく、例えば水あるいは
メタノール、エタノールなどのアルコール類また
はテトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテ
ル類との混合溶剤が好適に用いられる。反応温度
には特に限定はなく室温ないし、溶剤の還流温度
で行われる。カルボキシル基の保護基が例えば
２・２・２−トリクロルエチルのようなハロゲン
化アルキルの場合は亜鉛、酢酸と接触させること
により達成される。反応は溶剤の存在下または不
存在下で行われるが、反応を円滑に進行させるた
めには溶剤を使用する方が好ましく、使用される
溶剤としては本反応に関与しなければ特に限定は
なく例えば水；テトラヒドロフラン、ジオキサン
などのエーテル類；メタノール、エタノールなど
のアルコール類またはこれらの有機溶剤と水との
混合溶剤が好適に使用される。 反応温度には特に限定はなく通常は室温で好適
に行われる。カルボキシル基の保護基が例えば２
−テトラヒドロピラニル、２−テトラヒドロチオ
ピラニル、２−テトラヒドロチエニル、４−メト
キシテトラヒドロピラン−４−イルのような複素
還基の場合は酸と接触されることにより達成され
る。 使用される酸としては例えば蟻酸、酢酸、プロ
ピオン酸、酪酸、シユウ酸、マロン酸などの有機
酸；塩酸、臭化水素酸、硫酸などの鉱酸が好適に
使用される。反応は溶剤の存在下またはは不存在
下で実施されるが、反応を円滑に行うには溶剤を
使用する方が好ましく、使用される溶剤としては
本反応に関与しなければ特に限定はなく、例えば
水；メタノール、エタノールなどのアルコール
類；テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエー
テル類またはこれらの有機溶剤と水との混合溶剤
が好適に使用される。反応温度には特に限定はな
く室温ないし溶剤の還流温度で行われ、特に室温
で好適に実施される。反応終了後、本反応の目的
化合物は常法に従つて反応混合物から採取され
る。例えば反応終了後、反応混合物に適当な有機
溶剤を加えて、抽出を行い抽出液より溶剤を留去
することによつて得られる。得られた目的化合物
は必要ならば常法、例えばカラムクロマトグラフ
イー、薄層クロマトグラフイーによつて更に精製
することが出来る。 本発明の方法を実施するに当つて原料化合物と
して使用した前記一般式（）を有する化合物は
新規な化合物であり、例えば次のような方法で製
造することが出来るが、もちろんこれらの限定さ
れるものではない。 本発明の方法を実施するに当たつて原料化合物
として使用した一般式（）を有する化合物は、
Z6が水素原子を意味する場合には、一般式（）
を有する化合物を意味するが、Z6が水酸基の保護
基を表わす場合には、新規な化合物である。 化合物（）から化合物（）を導く方法は保
護基を除去する反応であり、その方法は前に化合
物（）から化合物（）を導く方法において説
明した方法と全く同様である。 また、出発物質（）は新規な化合物であり、
例えば前記一般式（）を有する化合物から次の
ように製造することができる。 上記式中、Z1〜Z6の表わす意味は、前述したも
のと同じである。Ａは保護されたカルボニル基を
示す。カルボニル基の保護基としては、第７工程
即ちアルコールをアルデヒドに酸化する工程にお
いて変化を受けないようなものならば特に限定は
なく、そのような保護基で保護されたカルボニル
基としては例えば、メチレンジオキシ、エテレン
ジオキシのようなアルキレンジオキシ基：ジメト
キシ、ジエトキシのようなジアルコキシ基：エチ
レンジチオ、トリメチレンジチオのようなアルキ
シンジチオ基：オキシムなどをあげることが出来
るが、これらの保護基に特に限定されるものでは
ない。 Z7は水酸基の保護基を示す。Z7で表わされる水
酸基の保護基としては、以下に続く第４工程、第
５工程および第12工程において変化を受けないも
ので、かつその保護基を除去する工程において化
合物の他の部分に影響を与えないものであれば特
に限定はないが、望ましくは、Z2およびZ3に含ま
れる水酸基の保護基と区別して優先的に除去され
るような保護基が選ばれる。そのような保護基と
しては例えば、クロロアセチル基、２・２・２−
トリクロロエトキシカルボニル基等があるが、も
ちろんこれらに限定されるものではない。 ここにおいてZ4がアルキル基を示す場合に限り
Ａはまた酸素原子を示す。Ａが酸素原子を示す場
合には、第５工程と第10工程即ちカルボニル基を
保護する工程と、カルボニル基の保護基を除去す
る工程は省略することが出来る。 この場合、第８工程即ち後述するウイテイツヒ
反応においてアルデヒドとケトンが両方存在する
ことになるが、ウイテイツヒ反応はアルデヒドに
優先的に起るので、一般式（）で示される化
合物が主として生成する。 ここで原料化合物として使用した前記一般式
（）を有する化合物は既知化合物であり、その
合成法は例えば、藤瀬、丸山、宇田、小原、黒
沢、日本化学雑誌第82巻367頁〜372頁（1961年）
に記載されている。 以下、第１工程から第16工程まで順を追つて簡
潔に説明する。 第１工程はアルコールを保護する反応であり、
Z2に含まれる保護基としては、以下に続く工程中
で変化しないものが選ばれる。 第２工程はアルドール縮合類似反応であつて、
一般式 を有する化合物と四塩化チタン、四塩化錫、三塩
化アルミニウム、三フツ化ホウ素エーテラートな
どのルイス酸を反応試剤として用いることによつ
て達成される。ここにZ5はアセチル、プロピオニ
ルなどのアシル基：メチル、エチルなどのアルキ
ル基：トリメチルシリルなどのトリアルキルシリ
ル基を示している。四塩化チタンを用いる反応に
ついては、例えば向山、伊沢、西郷、ケミストリ
ー・レタース、（1974年）323〜326頁に記載され
ている。 第３工程は水酸基を保護する反応であり、水酸
基の保護基としては、Z7について前述したような
保護基が選ばれる。 第４工程は化合物（）を酸存在下に
【式】で表わされるカルボン酸無水物とと
もに加熱することによつて容易に達成される。
従つて、この場合Z3はRCOOHなるカルボン酸
とエステル形成して保護された形のヒドロキシメ
チル基を表わす。通常の実施においては、Ｐ−ト
ルエンスルホン酸存在下、無水酢酸中で加熱する
ことによつて充分目的が達成される。 第５工程はカルボニル基を保護する反応であつ
て、カルボニル基の保護基としてはＡについて前
述したものの中から選ばれ、一般的に知られた反
応によつて目適が達成される。 第６工程は水酸基の保護基Z7を除去する反応で
ある。Z7がクロロアセチル基を表わす場合には、
チオ尿素もしくは２−アミノ−チオエタノールと
ともにおだやかに加熱することによつて除去する
ことが出来る。Z7が２・２・２−トリクロロエト
キシカルボニル基を表わす場合には、亜鉛粉末と
処理することによつて除去することが出来る。 第７工程は水酸基を酸化してアルデヒドにする
反応であり、酸化剤としては化合物中の他の部分
に関与しなければ特に限定なく、公知の酸化剤が
好適に使用される。 第８工程はウイテイツヒ反応であつて、式
（C6H5）3P−CH−（CH2）3COONaで表わされるホ
スホニウムイリドと前記一般式（XII）を有する化
合物との反応によつて前記一般式（XII）を有する
化合物が得られる。 第９工程はカルボキシル基を保護する反応であ
つてカルボキシル基の保護基としては以下に続く
工程で変化しないようなものであれば特に限定な
く使用される。 第10工程はカルボニル基の保護基を除去する反
応であつて、Ａで表わされる保護基に応じた公知
の除去条件が好適に使用される。 第11工程はα・β不飽和カルボニル基を還元し
てアリルアルコールに変換する工程であつて、還
元剤としては、化合物の他の部分に変化を与えな
いようなものであれば特に限定なく使用され、そ
のような還元剤としては例えば公知の水素化ホウ
素亜鉛のようなものが好適に使用される。 第12工程は水酸基を保護する反応であつて、水
酸基の保護基としては以下に続く反応工程中に変
化を受けないもので、後にその保護基を除去する
反応の際に化合物の他の部分に影響を与えないよ
うなものであれば、任意に好適に使用される。 第13工程は水酸基の保護基Z7を除去して水素原
子に置換する反応であつて、第６工程について前
述したものと同様な反応である。 第14工程は水酸基を酸化してアルデヒドに変換
する工程であつて、前述した第７工程と同様であ
る。 第15工程はウイテイツヒ反応であつて、前述し
た第８工程と同様である。 第16工程はカルボキシル基を保護する工程であ
つて、前述した第９工程と同様であるが、続いて
特許請求の範囲第２項に記載した方法で各保護基
を除去する反応に付する場合には、第16工程を省
略することが出来、その場合自から明らかなよう
に前記一般式（）を有する化合物において、Z1
はカルボキシル基を意味する。 反応終了後、各工程の目的化合物は通常の方法
によつて反応混合物から採取され、得られた目的
化合物は必要ならば常法例えばカラムクロマトグ
ラフイー、薄層クロマトグラフイー、あるいは製
造的高速液体クロマトグラフイーなどの手段によ
つて更に精製することができる。 次に実施例および参考例をあげて、本発明の方
法を更に具体的に説明するが、もちろんこれらに
よつて本発明の範囲が限定されるものではない。 略号として次のものを使用した。 mp：触点（末補正） tlc：薄層クラマトグラフイー （特記なき限り、メルク社製シリカゲル薄層板
アート・5715を使用） ir：赤外吸収スペクトル mass：質量スペクトル nmr：核磁気共鳴吸収スペクトル （プロトン、100MHZで測定）13 C−nmr：炭素−13核磁気共鳴吸収スペクトル 〔α〕D：施光度 irのデータは主要なピークのみ記載した。 massのデータは親ピークもしくはそれに対応
するピークのみ記載した。 実施例 １ （5Z・９α・11α・13E・15S）−９・15−ジヒ
ドロキシ−11−ヒドロキシメチル−12−イソプ
ロスタ−５・13−ジエン−１−酸 および（5Z・９α・11α・13E・15R）−９・15
−ジヒドロキシ−11−ヒドロキシメチル−12−
プロスタ−５・13−ジエン−１−酸 （5Z・９α・11α・13E）−11−アセチル オ
キシメチル−９−ヒドロキシ−15−オキソ−12−
イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸メチルエ
ステル150mgを８mlのメタノールに溶解し、これ
を氷水浴中で冷却、撹拌しながら水素化ホウ素ナ
トリウム40mgを加える。１時間後、1N水酸化カ
リウム水溶液６mlを加え、室温で１時間撹拌す
る。シユウ酸飽和水溶液を滴下して、反応液をPH
−３にして水流ポンプによる減圧下にメタノール
の大部分を留去し、残つた水層を酢酸エチル100
mlを使用して数回に分けて抽出する。 酢酸エチル層を合して、少量の食塩水で洗浄し
たのち、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶剤を留去
することによつて、油状物157mgを得た。これを
メルク社製シリカゲル−60を９ｇ使用したカラム
クロマトグラフイーに供し、メタノール３ないし
15％を含有したクロロホルムで溶出25mlのフラク
シヨンを23本取る。No.8からNo.12のフラクシヨ
ンを濃縮することによつて油状物質として純粋な
（5Z・９α・11α・13E・15R）−９・15−ジヒド
ロキシ−11−ヒドロキシメチル−12−イソプロス
タ−５・13−ジエン−１酸76.6mgが得られた。
No.16からNo.23のフラクシヨンを集めて濃縮す
ることによつて油状物質として純粋な（5Z・９
α・11α・13E・15S）−９・15−ジヒドロキシ−
11−ヒドロキシメチル−12−イソプロスタ−５・
13−ジエン−１−酸38.6mgが得られた。No.13か
らNo.155のフラクシヨンを集めて濃縮すること
により、上記２種の化合物の混合物25.7mgが油状
物質として得られた。次の分析手段により確認し
た。（但し、15Sおよび15Rは、tlcにおいてRf値
の小さい方を15S体と仮定した。） tlc（酢酸エチル ２回展開） 15S体 Rf＝0.20 15R体 Rf＝0.29 tlc（ベンゼン：ジオキサン：酢酸20：10：１） 15S体 Rf＝0.35 15R体 Rf＝0.45 tlc（酢酸エチル：酢酸 100：１） 15S体 Rf＝0.14 15R体 Rf＝0.24 ir（液膜） ν＝cm-1 15S体：3400、2920、2850、1710、970 15R体：3400、2920、2850、1710、970 〔α〕２３ Ｄ； 15S体：＋17.1゜（Ｃ＝1.11 CHCl3） 15R体：＋47.5゜（Ｃ＝1.07 CHCl3） nmr（CDCl3） σPPm（TMSから） 15S体 0.87（ｔ、3H） 1.05〜2.5（Ｃ、20H） 2.6〜2.9（ｍ、1H） 3.59（ｄ、2H） 4.0〜4.3（ｍ、2H） 4.96（Ｓ、4H） 5.2〜6.1（ｍ 4H） 15R体 0.87（ｔ、3H） 1.0〜2.5（Ｃ、20H） 2.5〜2.9（ｍ、1H） 3.56（ｄ、2H） 4.0〜4.3（ｍ、2H） 4.96（Ｓ、4H） 5.2〜6.0（ｍ 4H） 実施例 ２ （5Z・９α・11α・13E）−９−アセチルオキシ
−11−アセチルオキシメチル−15−ヒドロキシ
−12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸
−メチルエステル （5Z・９α・11α・13E）−９−アセチルオキ
シ−11−アセチルオキシメチル−15−オキソ−12
−イソブロスタ−５・13−ジエン−１−酸メチル
エステル210mgを10mlのアルコールに溶解し、室
温で撹拌しながら、水素化ホウ素ナトリウム60mg
を少量ずつ加える。30分撹拌を続けたのち、減圧
下にアルコールを除去し、残りに20ml酒石酸水素
ナトリウム飽和水溶液を加え、酢酸エチル40mlで
５回抽出する。酢酸エチル抽出液を合して、重曹
水少量を食塩水少量で洗い、硫酸ナトリウムで乾
燥してから酢酸エチルを留去すると、205mgの油
状物質が得られた。このものは次の分析データと
次に示す実施例３の結果から表記の（5Z・９
α・11α・13E）−９−アセチルオキシ−11−ア
セチルオキシメチル−15−ヒドロキシ−12−イソ
ブロスタ−５・13−ジエン−１−酸−メチルエス
テルであると推定できる。 tlc（シクロヘキサン：酢酸エチル１：１） Rf＝0.25 0.3 iv（液膜） νcm-1 3450、2930、2850、1735、970 実施例 ３ （5Z・９α・11α・13E・15S）−９・15−ジヒ
ドロキシ−11−ヒドロキシメチル−12−イソプ
ロスタ−５・13−ジエン−１−酸 実施例２で得た油状物質即ち（5Z・９α・11
α・13E）−９−アセチルオキシ−11−アセチル
オキシメチル−15−ヒドロキシ−12−イソプロス
タ−５・13−ジエン−１−酸−メチルエステルの
15S、15R混合物205mgを20mlのメタノールに溶解
し、これに20mlの１規定、水酸化カリウム水溶液
を加えて室温で1.5時間撹拌する。 減圧下にメタノールの大部分を留去したあと、
残つた水溶液にシユウ酸飽和水溶液を加えて、PH
２〜３に調整してから酢酸エチル50mlで５回抽出
する。酢酸エチル抽出液を合して食塩水少量で１
回洗つた後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に濃縮することによつて、油状物170mgを得た。
このものを厚さ２mmで調製されたシリカゲル薄層
板（20cm×20cm）２枚を使用した製造的薄層クロ
マトグラフイーに供し、酢酸１％を含んだ酢酸エ
チルで展開する。Rfが0.15から0.25までの範囲の
シリカゲル層をかき取りメタノールで抽出し、シ
リカゲルをロ過して除いた後、濃縮する。濃縮物
を酢酸エチル60mlに溶かし、酢酸を含んだ水で３
回洗つてシリカゲル由来の不純物を除いて、更に
食塩水で１回洗つた後、硫酸マグネシウムで乾燥
してから酢酸エチルを留去することによつて、目
的の（5Z・９α・11α・13E・15S）−９・15−ジ
ヒドロキシ−11−ヒドロキシメチル−12−イソプ
ロスタ−５・13−ジエン−１−酸が65mg得られ
た。次の分析データにより確認した。 tlc（酢酸１％ 含有酢酸エチル） Rf＝0.14 iv（液膜） νcm-1 3400、2920、2850、1710、970 nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 0.87（ｔ、3H） 1.05〜2.5（Ｃ、20H） 2.6〜2.9（ｍ、1H） 3.59（ｄ、2H） 4.0〜4.3（ｍ、2H） 4.96（Ｓ、4H） 5.2〜6.1（ｍ 4H） 実施例 ４ （5Z・９α・11α・13E・15R）−９・15−ジヒ
ドロキシ−11−ヒドロキシメチル−12−イソプ
ロスタ−５・13−ジエン−１−酸 実施例３の製造的薄層クロマトグラフイーにお
いてRfが0.25から0.3までの範囲のシリカゲル層
をかき取り、メタノールで抽出してシリカゲルを
ロ過して除いた後、濃縮する。濃縮物を酢酸エチ
ル60mlに溶かし、酢酸を含んだ水少量で３回洗
い、更に食塩水少量で１回洗つた後、硫酸マグネ
シウムで乾燥してから、酢酸エチルを留去するこ
とによつて目的の（5Z・９α・11α・13E・
15R）−９・15−ジヒドロキシ−11−ヒドロキシ
メチル−12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１
−酸が35mg得られた。 次の分析データにより、確認した。 tlc（酢酸１％含有酢酸エチル） Rf＝0.24 ir（液膜） νcm-1 3400、2920、2850、1710、970 実施例 ５ （5Z・９α・11α・13E・）−９・15−ジヒドロ
キシ−11−ヒドロキシメチル−15−メチル−12
−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸 （5Z・９α・11α・13E）−９−アセチルオキ
シ−11−アセチルオキシメチル−15−オキソ−12
−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸メチル
エステル164mgを16mlのエーテルに溶解し、これ
をドライアイス−アセトン浴中で撹拌する。これ
にメチルマグネシウムヨーダイドのエーテル溶液
（0.75M）２ml（過剰）を加え撹拌を続けながら
徐々に温度を上げてゆく。室温になつてから更に
１時間撹拌を続けた後、氷水浴中で冷却撹拌しな
がら、少量の酒石酸水素ナトリウム飽和溶液を加
えて過剰のグリニヤー試薬を分解させ、続いてエ
ーテルを減圧下に留去する。残りの反応混合物に
メタノールを10mlを加え、更に１規定水酸化カリ
ウム溶液10mlを加えて、室温で２時間撹拌した
後、おだやかな減圧下にメタノールの大部分を留
去し、残つた水溶液に酒石酸水素ナトリウム飽和
水溶液を加えて注意深く、PH3.5〜4.0にする。こ
の水層を酢酸エチル50mlで５回抽出し、抽出液を
合して、食塩水少量で１回洗つた後、硫酸ナトリ
ウムで乾燥してから、溶剤を留去することによつ
て、油状の粗生成物140mgが得られた。このもの
を厚さ２mmで調製されたシルカゲル薄層板（20cm
×20cm）を使用した製造的薄層クロマトグラフイ
ーに供し、酢酸１％含有した酢酸エチルで２回展
開する。 Rfが0.25から0.32までのシリカゲル層をかき取
つてメタノールで抽出し、実施例３および４で前
述したと同様の処理を行うことによつて15S体を
主に含有した目的化合物（5Z・９α・11α・
13E）−９・15−ジヒドロキシ−11−ヒドロキシ
メチル−15−メチル−12−イソプロスタ−５・13
−ジエン−１−酸54mgが得られた。 Rfが0.32から0.4までのシリカゲル層をかき取
つてメタノールで抽出し、同様の処理を行うこと
によつて、15R体を主に含有した目的化合物
（5Z・９α・11α・13E）−９・15−ジヒドロキシ
−11−ヒドロキシメチル−15−メチル−12−イソ
プロスタ−５・13−ジエン−１−酸36mgが得られ
た。（但し、15S体と15R体の決定は、tlcにおける
Rf値の小さい方をもつて15S体と仮定した。）次
の分析データによつて確認した。 tlc（酢酸エチル：酢酸 99：１ 15S体 Rf＝0.25 15R体 Rf＝2.7 ir（液膜） νcm-1 3450、2930、2850、1710、970 nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 0.88（ｔ 3H） 1.05〜2.8（Ｃ 21H）（1.27S3Hを除く） 1.27（Ｓ 3H） 3.57（ｍ 2H） 4.0〜4.3（ｍ 1H） 4.9（Ｓ 4H） 5.2・6.1（ｍ 4H） （ir、nmrは15S体、15R体について同じ） 実施例 ６ （5Z・９α・11α・13E）−20−エチル−９・15
−ジヒドロキシ−11−ヒドロキシメチル−12−
イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸 （5Z・９α・11α・13E）−９−アセチルオキシ−
11−アセチルオキシメチル−20−エチル−15−オ
キソ−12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−
酸メチルエステル115mgを10mlのアルコールに溶
解し、氷水浴中で撹拌しながら、水素化ホウ素ナ
トリウム50mgを少量ずつ加えて、２時間撹拌を続
ける。減圧下にアルコールを除去した後、残渣に
メタノール10mlと１規定水酸化カリウム水溶液10
mlを加え、室温で1.5時間撹拌する。おだやかな
減圧下にメタノールの大部分を留去した後、残つ
た水溶液にシユウ酸飽和水溶液を注意深く加え
て、PH３にする。酢酸エチル40mlで６回抽出し、
抽出液を合して１回食塩水少量で洗浄してから硫
酸マグネシウムで乾燥し溶剤を留去することによ
つて油状の粗生成物105mgを得た。これをシリカ
ゲル７ｇを用いたカラムクロマトグラフイーに供
し、メタノール５ないし10％を含有したクロロホ
ルムで溶出して、25mlのフラクシヨンを20本取る
No.5からNo.14のフラクシヨンを集めて濃縮する
ことによつて油状の目的化合物（5Z・９α・11
α・13E）−20−エチル−９・15−ジヒドロキシ
−11−ヒドロキシメチル−12−イソブロスタ−
５・13−ジエン−１−酸（15S、15Rの混合物）
72mgが得られた。次の分析データより確認した。 tlc（ベンゼン：ジオキサン：酢酸20：10：１） Rf＝0.4 （15S、15R混合物） Rf＝0.47 ir（液膜） νcm-1 3450、2920、2850、1710、970 nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 0.87（tm 3H） 1.0〜2.9（ｍ 25H） 3.57（ｍ 2H） 4.0〜4.3（ｍ 2H） 5.0（Ｓ 4H） 5.2〜6.1（ｍ 4H） 参考例 １ （5Z・９α・11α・13E）−９−アセチルオキシ
−11−アセチルオキシメチル−15−オキソ−12
−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸メチ
ルエステル 参考例３で得た粗生成物即ち（5Z・９α・11
α・13E）−11−アセチルオキシメチル−15・15
−エチレンジオキシ−９−ヒドロキシ−12−イソ
プロスタ−５・13−ジエン−１酸メチルエステル
とその９−アセチル化物の混合物約0.7ｇを50ml
のアセトンに溶解し、これにＰ−トルエンスルホ
ン酸−水和物50mgを加えて室温で２時間撹拌す
る。アセトンを減圧下に除去した後、残りを250
mlの酢酸エチルに溶解、酢酸エチル溶液を飽和重
曹水少量続いて食塩水少量にて洗浄した後、硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶剤を留去するこ
とによつて、油状の粗生成物0.7ｇを得た。これ
をシリカゲル35ｇを使用したカラムクロマトグラ
フイーに供し、酢酸エチル含有（20〜30％）シク
ロヘキサンで展開溶出し、100mlのフラクシヨン
を５本と続いて30mlのフラクシヨンを24本取る。
No.3からNo.11のフラクシヨンを集めて濃縮する
ことにより目的の化合物（5Z・９α・11α・
13E）−９−アセチルオキシ−11−アセチルオキ
シメチル−15−オキソ−12−イソプロスタ−５・
13−ジエン−１−酸メチルエステルが油状物質と
して0.235ｇ得られた。次の分析データによつて
確認した。 tlc（ベンゼン：酢酸エチル ６：４） Rf＝0.24 tlc（シクロヘキサン：酢酸エチル８：23回展
開） Rf＝0.24 〔α〕２４ Ｄ＝＋14゜（Ｃ＝0.86クロロホルム） ir（液膜） νcm-1 2925、2850、1740、1670、1620 nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 0.89（ｔ 3H） 1.1〜2.7（Ｃ 20H）（2.01S、2.09Sを除く） 2.01（Ｓ 3H） 2.09（Ｓ 3H） 2.7〜3.1（ｍ 1H） 3.65（Ｓ 3H） 3.8〜4.1（ｍ 2H） 5.1〜5.5（ｍ 3H） 6.1（ｄ 1H） 6.89（dd 1H） 参考例 ２ （5Z・９α・11α・13E）−11−アセチルオキシ
メチル−９−ヒドロキシ−15−オキソ−12−イ
ソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸メチルエ
ステル 参考例１のカラムクロマトグラフイーにおいて
No.12からNo.29までのフラクシヨンを集めて濃
縮することによつて表記目的化合物（5Z・９
α・11α・13E）−11−アセチルオキシメチル−
９−ヒドロキシ−15−オキソ−12−イソプロスタ
−５・13−ジエン−１−酸メチルエステルが油状
物質として0.282ｇ得られた。 次の分析データにより確認した。 tlc（ベンゼン：酢酸エチル ６：４） Rf＝0.57 tlc（シクロヘキサン：酢酸エチル８：23回展
開） Rf＝0.24 〔α〕２４ Ｄ＝＋20゜（Ｃ＝2.14クロロホルム） ir（液膜） νcm-1 3500、2925、2850、1740、1660、1620 nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 0.89（ｔ 3H） 1.1〜2.7（Ｃ 21H）（2.01 S3Hを除く） 2.01（Ｓ 3H） 2.7〜3.0（ｍ 1H） 3.65（Ｓ 3H） 4.0（ｍ 2H） 4.36（ｍ 1H） 5.4（ｍ 2H） 6.01（ｄ 1H） 7.5（dd 1H） 参考例 ３ （5Z・９α・11α・13E）−11−アセチルオキシ
メチル−15・15−エチレンジオキシ−９−ヒド
ロキシ−12−イソプロスタ−５・13−ジエン−
１−酸メチルエステル および（5Z・９α・11α・13E）−９−アセチ
ルオキシ−11−アセチルオキシメチル−15・15
−エチレンジオキシ−12−イソプロスタ−５・
13−ジエン−１−酸メチルエステル 参考例４で得られた粗生成物（5Z・９α・11
α・13E）−15・15−エチレンジオキシ−９−ヒ
ドロキシ−11−ヒドロキシメチル−12−イソプロ
スタ−５・13−ジエン−１−酸メチルエステル
0.7ｇを６mlの無水酢酸に溶解せしめ、これを氷
水浴中で撹拌しながら２mlのピリジンを加える。
１時間撹拌を続けたのち減圧下に無水酢酸とピリ
ジンを除去することによつて油状物質0.7ｇを得
た。このものは直ちに参考例１の原料として供す
る。 tlc（ベンゼン：酢酸エチル ６：４） Rf＝0.38（９−ヒドロキシ体） Rf＝0.56（９−アセチルオキシ体） ir（液膜） νcm-1 3400、2925、2850、1730 参考例 ４ （5Z・９α・11α・13E）−15・15−エチレンジ
オキシ−９−ヒドロキシ−11−ヒドロキシメチ
ル−12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−
酸メチルエステル （5Z・９α・11α・13E）−15・15−エチレン
ジオキシ−９−ヒドロキシ−11−ヒドロキシメチ
ル−12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸
0.70ｇをジエチルエーテル70mlに溶解し、これに
ジアゾメタンのジエチルエーテル溶液を過剰に加
える。直ちに減圧下に過剰のジアゾメタンとジエ
チルエーテルを除去することによつて目的の
（5Z・９α・11α・13E）−15・15−エチレンジオ
キシ−９−ヒドロキシ−11−ヒドロキシメチル−
12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸メチ
ルエステル0.71ｇが油状物質として得られた。こ
のものは直ちに参考例３の原料として供する。 tlc（酢酸エチル） Rf＝0.47 ir（液膜） νcm-1 3400、2930、2850、1740 参考例 ５ （5Z・９α・11α・13E）−15・15−エチレンジ
オキシ−９−ヒドロキシ−11−ヒドロキシメチ
ル−12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−
酸 減圧下90℃で１時間乾燥した４−カルボヒドロ
キシブチルトリフエニルホスホニウムブロマイド
4.43ｇ（10ｍ mol）を乾燥したジメチルスルホ
キシド９mlを溶解する。これを室温で撹拌しなが
ら、ナトリウムメチルスルフイニルカルバニドの
ジメチルスルホキサイド溶液（2.09M）９mlを加
えて赤橙色のホスホラン溶液を得る。これに参考
例６で得た（3aS・4S・5R・6aS）−ヘキサヒド
ロ−４−〔(E)−３・３−エチレンジオキシ−１−
オクテニル〕−２−ヒドロキシメチル−2H−シク
ロペンダ〔ｂ〕フラン0.66ｇ（２ｍ mol）のジ
メチルスルホキシド（10ml）溶液を加え室温で
1.5時間撹拌する。 高真空中でジメチルスルホキシドを除去し残渣
に60mlの冷水を加える。水層を50mlの酢酸エチ
ル：エーテル（１：１）混合溶剤で４回抽出した
る後、約４ｇの酒石酸水素ナトリウムを水層に加
えて、PH約４とする。エーテル60mlで６回抽出操
作を行い、エーテル抽出液を合して少量の食塩水
で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、エーテ
ルを留去することによつて目的の粗生成物
（5Z・９α・11α・13E）−15・15−エチレンジオ
キシ−９−ヒドロキシ−11−ヒドロキシメチル−
12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸0.7
ｇが油状物質として得られた。このものは特に精
製することなく、参考例４の原料とする。 tlc（酢エチ） Rf＝0.15 参考例 ６ （3aS・4S・5R・6aS）−ヘキサヒドロ−４−
〔(E)−３・３−エチレンジオキシ−１−オクテ
ニル〕−２−ヒドロキシ−５−ヒドロキシメチ
ル−2H−シクロペンダ〔ｂ〕フラン 参考例７で得た（1S・2R・3R・4R）−４−ア
セチルオキシメチル−１−ベンゾイルオキシ−３
−〔(E)−３・３−エチレンジオキシ−１−オクテ
ニル〕−２−ホルミルメチル−シクロペンタン
0.95ｇとメタノール50mlおよび１規定水酸化カリ
ウム水溶液50mlの混合物を室温で撹拌する。3.5
時間後ゆるい減圧下にメタノールの大部分を留去
し、残つた水層を食塩で飽和した後酢酸エチル
100mlで５回抽出する。 酢酸エチル抽出液を合して少量の食塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶剤を留去す
ることによつて無色半固状の生成物（3aS・4S・
5R・6aS）−ヘキサヒドロ−４−〔(E)−３・３−エ
チレンジオキシ−１−オクテニル〕−２−ヒドロ
キシ−５−ヒドロキシメチル−2H−シクロペン
ダ〔ｂ〕フラン0.66ｇを得た。 tlc（酢エチ） Rf＝0.25 ir（KBr） νcm-1 3400、2950、2924、2850、1020 参考例 ７ （1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオキシメチ
ル−１−ベンゾイルオキシ−３−〔(E)−３・３
−エチレンジオキシ−１−オクテニル〕−２−
ホルミルメチル−シクロペンタン 減圧下150℃で充分乾燥したセライト−545 18
ｇとクロム酸２ピリジン錯体（コリンズ試薬）９
ｇおよび乾燥精製した塩化メチレン90mlの混合物
をアルゴン雰囲気中−５゜〜０℃に撹拌しなが
ら、参考例８で得た。（1S・2R・3R・4R）−４−
アセチルオキシメチル−１−ベンゾイルオキシ−
３−〔(E)−３・３−エチレンジオキシ−１−オク
テニル〕−２−（２−ヒドロキシエチル−シクロペ
ンタン1.08ｇの塩化メチレン（15ml）を溶液を一
度に加え、15分間撹拌する。その後細かく粉砕し
た硫酸水素ナトリウム18ｇを加え更に10分間撹拌
する。セライト−545を敷いたグラスフイルター
で反応混合物をロ過し塩化メチレンで充分洗う。
ロ液を洗液を合して濃縮した後エーテル300mlに
溶解し、もう一度ロ過してクロム化合物の沈澱の
大部分を除く、エーテル溶液を濃縮することによ
つて油状の生成物（1S・2R・3R・4R）−４−ア
セチルオキシメチル−１−ベンゾイルオキシ−３
−〔(E)−３・３−エチレンジオキシ−１−オクテ
ニル〕−２−ホルミルメチル−シクロペンタン
0.95ｇを得た。 tlc（ベンゼン：酢酸エチル８：２） Rf＝0.33 ir（液膜） νcm-1 2930、2850、2720、1735、1720、1600、715 参考例 ８ （1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオキシメチ
ル−１−ベンゾイルオキシ−３−〔(E)−３・３
−エチレンジオキシ−１−オクテニル〕−２−
（２−ヒドロキシエチル）−シクロペンタン （1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオキシメ
チル−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロ
アセチルオキシエチル）−３−〔(E)−３・３−エチ
レンジオキシ−１−オクテニル〕シクロペンタン
1.183ｇをアルコール120mlに溶解せしせ、これに
チオ尿素167mg炭酸水素ナトリウム185mgを加えて
70℃の油浴中で撹拌する。24時間後混合物からア
ルコールを除去し、残りをエーテル400mlに溶解
して、このエーテル溶液を飽和重曹水少量で２
回、飽和食塩水少量で３回洗つた後硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、エーテルを留去することによつて粗
生成物（1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオキ
シメチル−１−ベンゾイルオキシ−３−〔(E)−
３・３−エチレンジオキシ−１−オクテニル〕−
２−（２−ヒドロキシエチル）−シクロペンタン
1.08ｇが油状物として得られた。 tlc（ベンゼン：酢酸エチル８：２） Rf＝0.17 ir（液膜） νcm-1 3500、2940、2860、1740、1720、1600、715 参考例 ９ （1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオキシメチ
ル−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロ
アセチルオキシエチル）−３−〔(E)−３・３−エ
チレンジオキシ−１−オクテニル〕−シクロペ
ンタン （1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオキシメ
チル−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロ
アセチルオキシエチル）−３−〔(E)−３・３−エチ
レンジオキソ−１−オクテニル〕−シクロペンタ
ン1.804ｇとベンゼン100mlとエチレングリコール
６mlおよびＰ−トルエンスルホン酸１水和物20mg
の混合物を加熱して水分離器をつけた糸で脱水し
ながら還流させる。24時間後ベンゼン溶液を少量
の重曹水と少量の食塩水で各々３回ずつ洗い、硫
酸ナトリウムで乾燥した後ベンゼンを留去するこ
とによつて油状の粗生成物1.96ｇを得た。シリカ
ゲル70ｇを使用したカラムクロマトグラフイーに
より、酢酸エチル含有（５〜10％）ベンゼンで展
開溶出し対応するフラクシヨンを集めて濃縮する
ことによつて純粋な目的物（1S・2R・3R・4R）
−４−アセチルオキシメチル−１−ベンゾイルオ
キシ−２−（２−クロロアセチルオキシエチル）−
３−〔(E)−３・３−エチレンジオキシ−１−オク
テニル〕−シクロペンタン1.2ｇを油状物質として
得た。次の分析データにより確認した。 tlc（ベンゼン：酢酸エチル ８：２） Rf＝0.44 ir（液膜） νcm-1 2940、2850、1760、1740、1720、1600、715 〔α〕２６ Ｄ＝＋24゜（Ｃ＝2.34メタノール） nmr（CDCl4） δPPm（TMSから） 0.87（ｔ 3H） 1.1〜3.0（Ｃ 15H）（1.95S3Hを除く） 1.95（Ｓ 3H） 3.6〜4.0（ｍ 2H）（3.93S2Hを除く） 3.93（Ｓ 2H） 4.14（ｔ 2H） 5.42（ｄ 1H） 5.55（ｍ 1H） 6.0（dd 1H） 7.3〜7.6（ｍ 3H） 7.9〜8.1（ｍ 2H） 参考例 10 （1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオキシメチ
ル−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロ
アセチルオキシエチル）−３−〔(E)−３−オキソ
−１−オクテニル〕シクロペンタン （1R・3aR・5S・6R・6aR）−ヘキサヒドロ−
５−ベンゾイルオキシ−６−（２−クロロアセチ
ルオキシエチル）−１−（２−オキソ−ヘブチル）
−1H−シクロペンタン〔Ｃ〕フラン5.9ｇとＰ−
トルエンスルホン酸１水和物１ｇを無水酢酸120
mlに溶解し、この溶液を70℃油浴中で撹拌する。
2.5時間後、減圧下に無水酢酸を留去し残りを酢
酸エチル50mlに溶かして重曹水少量で２回、食塩
水少量で３回洗つた後、硫酸マグネシウムで乾燥
して、濃縮することにより、粗生成物6.48ｇを得
た。これをシリカゲル300ｇを使用したカラムク
ロマトグラフイーに供し、酢酸エチル含有（20
％）シクロヘキサンで溶出し、200mlずつのフラ
クシヨンを20本取る。No.8からNo.14までのフラ
クシヨンを集めて濃縮することによつて純粋な目
的化合物（1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオ
キシメチル−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−
クロロアセチルオキシエチル）−３−〔(E)−３−オ
キソ−１−オクテニル〕−シクロペンタン4.179ｇ
が油状物質として得られた。次の分析データによ
つて確認した。 tlc（ベンゼン：酢酸エチル８：２） Rf＝0.37 ir（液膜） νcm-1 2950、2925、2850、1760、1740、1720、1670、
1625、1600、715 〔α〕２３ Ｄ＝＋17゜（Ｃ＝1.06クロロホルム） 〔α〕２３ Ｄ＝＋22.6゜（Ｃ＝1.06メタノール） nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 0.87（ｔ 3H） 1.1〜3.1（Ｃ 13H （1.99S3Hおよび2.54t2Hを除く） 1.99（Ｓ 3H） 2.54（ｔ 2H） 3.8〜4.3（ｍ 2H） （3.99S2Hおよび4.18t2Hを除く） 3.99（Ｓ 2H） 4.18（ｔ 2H） 5.57（ｍ 1H） 6.19（ｄ 1H） 7.03 （dd 1H） 7.3〜7.7（ｍ 3H） 7.9〜8.2（ｍ 2H） 参考例 11 （1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオキシメチ
ル−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロ
アセチルオキシエチル）−３−〔(E)−３−オキソ
−１−オクテニル〕−シクロペンタン 参考例９で得た（1S・2R・3R・4R）−４−ア
セチルオキシメチル−１−ベンゾイルオキシ−２
−（２−クロロアセチルオキシエチル）−３−〔(E)
−３・３−エチレンジオキシ−１−オクテニル〕
−シクロペンタン５mgとアセトン１mlおよびＰ−
トルエンスルホン酸水和物１mgの混合物を室温で
２時間撹拌した後アセトンを減圧下に除去した残
渣を酢酸エチル10mlに溶解して、少量の重曹水で
洗い、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶剤を留
去することにより、表記化合物（1S・2R・3R・
4R）−４−アセチルオキシメチル−１−ベンゾイ
ルオキシ−２−（２−クロロアセチルオキシエチ
ル）−３−〔(E)−３−オキソ−１−オクテニル〕−
シクロペンタン４mgが得られた。 次の分析データによつてて確認した。 tlc（ベンゼン：酢酸エチル８：２） Rf＝0.37 ir（液膜） νcm-1 2950、2925、2850、1760、1740、1720、1670、
1625、1600、715 参考例 12 （1R・3aR・5S・6R・6aR）−ヘキサヒドロ−５
−ベンゾイルオキシ−６−（２−クロロアセチ
ルオキシエチル）−１−（２−オキソ−ヘブチ
ル）−1H−シクロペンタ〔Ｃ〕フラン （1R・3aR・5S・6R・6aR）−ヘキサヒドロ−
５−ベンゾイルオキシ−６−（２−ヒドロキシエ
チル）−１−（２−オキソ−ヘブチル）−1H−シク
ロペンタ〔Ｃ〕フラン0.30ｇ（0.77ｍ mol）と
クロロアセチルクロライド0.102ｇ（0.9ｍ
mol）を乾燥エーテル10mlに溶かし、氷水浴中で
冷却撹拌しながらピリジン0.071ｇ（0.9ｍ
mol）を加える。 １時間後エーテル70mlを加えてうすめ、エーテ
ル溶液を、水、重曹水、１規定塩酸、重曹水で順
に洗浄してから硫酸マグネシウムで乾燥し、エー
テルを留去することによつて無色油状の生成物が
0.312ｇ得られた。このものは次の分析データに
よつて、（1R・3aR・5S・6R・6aR）−ヘキサヒド
ロ−５−ベンゾイルオキシ−６−（２−クロロア
セチルオキシエチル）−１−（２−オキソ−ヘブチ
ル）−1H−シクロペンタ〔Ｃ〕フランであること
を確認した。 tlc（シクロヘキサン：酢酸エチル６：４） Rf＝0.35 〔α〕２３ Ｄ＝＋51.7゜（Ｃ＝1.16メタノール） ir（液膜） νcm-1 2950、2860、1760、1710、1600、1270、713 nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 0.91（ｔ 3H） 1.1〜3.1（Ｃ 17H） 3.3〜3.7（ｍ 1H） 3.94（Ｓ 2H） 3.9〜4.3（ｍ 1H） 4.19（ｔ 2H） 4.58（ｍ 1H） 5.50（ｍ 1H） 7.3〜7.6（ｍ 3H） 7.9〜8.1（ｍ 2H） 参考例 13 （1R・3aR・5S・6R・6aR）−ヘキサヒドロ−５
−ベンゾイルオキシ−６−（２−ヒドロキシエ
チル）−１−（２−オキソ−ヘブチル）−1H−シ
クロペンタ〔Ｃ〕フラン ２−アセトキシ−１−ヘプテン6.357ｇ（40.7
ｍ mol）を精製した塩化メチレン80mlに溶か
し、この溶液をアルゴン雰囲気中０℃〜５℃に冷
却撹拌しながら、これに四塩化チタンの塩化メチ
レン溶液（0.64M）63.8ml（40.7ｍ mol）をゆつ
くり滴下して加える。得られた淡黄色の混合物を
撹拌しながらこれに更に６−エピ−テトラヒドロ
アンヒドロアウクビゲニンベンゾエイト10.15ｇ
（37.05ｍ mol）を含んだ塩化メチレン溶液（50
ml）をゆつくり滴下して加える。滴下終了後更に
０℃〜５℃で30分撹拌を続けてから、得られたか
つ色の反応液に冷却した飽和重曹水200mlを加え
てチタンの錯体を分解する塩化メチレン層を分離
したのち水層を酢酸エチル400mlで５回抽出し、
有機層を合してから、重曹水200mlで１回洗い、
硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮して油状の粗生成
物15.27ｇが得られた。シリカゲル300ｇを使用し
たカラムクロマトグラフイーに供し、酢酸エチル
５〜20％を含んだ塩化メチレンで展開溶出し500
mlのフラクシヨンを21本採取する。 No.7からNo.13までのフラクシヨンを集めて濃
縮することによつて無色油状の純粋な生成物8.82
ｇ（22.7ｍ mol）が得られた。No.6のフラクシ
ヨンとNo.14から21までのフラクシヨンを集めて
濃縮することによつて、不純物少量を含んだ生成
物0.96ｇが得られた。この生成物は次に示すす分
析データによつて表記の（1R・3aR・5S・6R・
6aR）−ヘキサヒドロ−５−ベンゾイルオキシ−
６−（２−ヒドロキシエチル）−１−（２−オキソ
−ヘブチル）−1H−シクロペンタ〔Ｃ〕フランで
あることを確認した。 tlc（シクロヘキサン：酢酸エチル６：４） Rf＝0.1 tlc（塩化メチレン：酢酸エチル10：１） Rf＝0.2 〔α〕２５ Ｄ＝＋68.6゜（Ｃ＝1.101メタノール） ir（液膜） νcm-1 3450、2940、2850、1713、1600、1275、1110、
1070、1025、712 mass M+＝388 nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 0.88（ｔ 3H） 1.1〜3.1（Ｃ 18H） 3.4〜4.4（Ｃ 4H） 4.64（ｍ 1H） 5.57（ｍ 1H） 7.3〜7.6（ｍ 3H） 7.9〜8.2（ｍ 2H）13 C−nmr（CDCl3） δPPm（TMSから低磁場） 209.538 166.333 133.129 130.270 129.687（2C） 128.648（2C） 79.008 77.188 74.719 61.465 52.953 48.665 43.597 43.402 42.947 37.425 31.381 28.653 23.195 22.415 13.904 実施例 14 ６−エピ−テトラヒドロアンヒドロアウクビゲ
ニンベンゾエイト ６−エピ−テトラヒドロアンヒドロアウクビゲ
ニン7.27ｇ（42.8ｍ mol）をピリジン20mlに溶
かし氷水浴中で冷却撹拌しながらベンゾイルクロ
ライド7.6ｇ（54ｍ mol）を滴下する。 滴下終了後室温に戻して更に２時間撹拌してか
らエーテル500mlでうすめ、水、１規定塩酸、
水、飽和重曹水、飽和食塩水で順に洗う。エーテ
ル溶液を硫酸ナトリウムで乾燥してから濃縮する
ことにより、粗生成12.46ｇを油状物質として得
た。シリカゲル500ｇを使用したカラムクロマト
グラフイーに供し、ベンゼン：酢酸エチル混合溶
剤で展開溶出することにより精製して10.18ｇの
無色結晶が得られた。次の分析データによつて６
−エピ−テトラヒドロアンヒドロアウクビゲニン
ベンゾエイトであることを確認した。 mP 60〜61℃ tlc（塩化メチレン） Rf＝0.75 〔α〕２５ Ｄ＝＋32.7゜（Ｃ＝1.04メタノール） ir（KBr） νcm-1 2940、2850、1710、1285、1120、1055、710 mass M+＝274 nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 1.6〜3.0（Ｃ 7H） 3.3〜3.6（ｍ 1H） 3.6〜4.2（Ｃ 3H） 5.27（ｄ 1H 5CPS） 5.45（ｍ 1H） 7.3〜7.7（ｍ 3H） 7.9〜8.2（ｍ 2H）13 C−nmr（CDCl3）δPPm（TMSから） 166.073 133.067 13.337 129.620（2C） 128.518（2C） 100.771 79.202 71.731 59.646 41.648 40.088 36.125 （2C） 21.831
とエステル形成して保護された形のヒドロキシメ
チル基を表わす。通常の実施においては、Ｐ−ト
ルエンスルホン酸存在下、無水酢酸中で加熱する
ことによつて充分目的が達成される。 第５工程はカルボニル基を保護する反応であつ
て、カルボニル基の保護基としてはＡについて前
述したものの中から選ばれ、一般的に知られた反
応によつて目適が達成される。 第６工程は水酸基の保護基Z7を除去する反応で
ある。Z7がクロロアセチル基を表わす場合には、
チオ尿素もしくは２−アミノ−チオエタノールと
ともにおだやかに加熱することによつて除去する
ことが出来る。Z7が２・２・２−トリクロロエト
キシカルボニル基を表わす場合には、亜鉛粉末と
処理することによつて除去することが出来る。 第７工程は水酸基を酸化してアルデヒドにする
反応であり、酸化剤としては化合物中の他の部分
に関与しなければ特に限定なく、公知の酸化剤が
好適に使用される。 第８工程はウイテイツヒ反応であつて、式
（C6H5）3P−CH−（CH2）3COONaで表わされるホ
スホニウムイリドと前記一般式（XII）を有する化
合物との反応によつて前記一般式（XII）を有する
化合物が得られる。 第９工程はカルボキシル基を保護する反応であ
つてカルボキシル基の保護基としては以下に続く
工程で変化しないようなものであれば特に限定な
く使用される。 第10工程はカルボニル基の保護基を除去する反
応であつて、Ａで表わされる保護基に応じた公知
の除去条件が好適に使用される。 第11工程はα・β不飽和カルボニル基を還元し
てアリルアルコールに変換する工程であつて、還
元剤としては、化合物の他の部分に変化を与えな
いようなものであれば特に限定なく使用され、そ
のような還元剤としては例えば公知の水素化ホウ
素亜鉛のようなものが好適に使用される。 第12工程は水酸基を保護する反応であつて、水
酸基の保護基としては以下に続く反応工程中に変
化を受けないもので、後にその保護基を除去する
反応の際に化合物の他の部分に影響を与えないよ
うなものであれば、任意に好適に使用される。 第13工程は水酸基の保護基Z7を除去して水素原
子に置換する反応であつて、第６工程について前
述したものと同様な反応である。 第14工程は水酸基を酸化してアルデヒドに変換
する工程であつて、前述した第７工程と同様であ
る。 第15工程はウイテイツヒ反応であつて、前述し
た第８工程と同様である。 第16工程はカルボキシル基を保護する工程であ
つて、前述した第９工程と同様であるが、続いて
特許請求の範囲第２項に記載した方法で各保護基
を除去する反応に付する場合には、第16工程を省
略することが出来、その場合自から明らかなよう
に前記一般式（）を有する化合物において、Z1
はカルボキシル基を意味する。 反応終了後、各工程の目的化合物は通常の方法
によつて反応混合物から採取され、得られた目的
化合物は必要ならば常法例えばカラムクロマトグ
ラフイー、薄層クロマトグラフイー、あるいは製
造的高速液体クロマトグラフイーなどの手段によ
つて更に精製することができる。 次に実施例および参考例をあげて、本発明の方
法を更に具体的に説明するが、もちろんこれらに
よつて本発明の範囲が限定されるものではない。 略号として次のものを使用した。 mp：触点（末補正） tlc：薄層クラマトグラフイー （特記なき限り、メルク社製シリカゲル薄層板
アート・5715を使用） ir：赤外吸収スペクトル mass：質量スペクトル nmr：核磁気共鳴吸収スペクトル （プロトン、100MHZで測定）13 C−nmr：炭素−13核磁気共鳴吸収スペクトル 〔α〕D：施光度 irのデータは主要なピークのみ記載した。 massのデータは親ピークもしくはそれに対応
するピークのみ記載した。 実施例 １ （5Z・９α・11α・13E・15S）−９・15−ジヒ
ドロキシ−11−ヒドロキシメチル−12−イソプ
ロスタ−５・13−ジエン−１−酸 および（5Z・９α・11α・13E・15R）−９・15
−ジヒドロキシ−11−ヒドロキシメチル−12−
プロスタ−５・13−ジエン−１−酸 （5Z・９α・11α・13E）−11−アセチル オ
キシメチル−９−ヒドロキシ−15−オキソ−12−
イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸メチルエ
ステル150mgを８mlのメタノールに溶解し、これ
を氷水浴中で冷却、撹拌しながら水素化ホウ素ナ
トリウム40mgを加える。１時間後、1N水酸化カ
リウム水溶液６mlを加え、室温で１時間撹拌す
る。シユウ酸飽和水溶液を滴下して、反応液をPH
−３にして水流ポンプによる減圧下にメタノール
の大部分を留去し、残つた水層を酢酸エチル100
mlを使用して数回に分けて抽出する。 酢酸エチル層を合して、少量の食塩水で洗浄し
たのち、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶剤を留去
することによつて、油状物157mgを得た。これを
メルク社製シリカゲル−60を９ｇ使用したカラム
クロマトグラフイーに供し、メタノール３ないし
15％を含有したクロロホルムで溶出25mlのフラク
シヨンを23本取る。No.8からNo.12のフラクシヨ
ンを濃縮することによつて油状物質として純粋な
（5Z・９α・11α・13E・15R）−９・15−ジヒド
ロキシ−11−ヒドロキシメチル−12−イソプロス
タ−５・13−ジエン−１酸76.6mgが得られた。
No.16からNo.23のフラクシヨンを集めて濃縮す
ることによつて油状物質として純粋な（5Z・９
α・11α・13E・15S）−９・15−ジヒドロキシ−
11−ヒドロキシメチル−12−イソプロスタ−５・
13−ジエン−１−酸38.6mgが得られた。No.13か
らNo.155のフラクシヨンを集めて濃縮すること
により、上記２種の化合物の混合物25.7mgが油状
物質として得られた。次の分析手段により確認し
た。（但し、15Sおよび15Rは、tlcにおいてRf値
の小さい方を15S体と仮定した。） tlc（酢酸エチル ２回展開） 15S体 Rf＝0.20 15R体 Rf＝0.29 tlc（ベンゼン：ジオキサン：酢酸20：10：１） 15S体 Rf＝0.35 15R体 Rf＝0.45 tlc（酢酸エチル：酢酸 100：１） 15S体 Rf＝0.14 15R体 Rf＝0.24 ir（液膜） ν＝cm-1 15S体：3400、2920、2850、1710、970 15R体：3400、2920、2850、1710、970 〔α〕２３ Ｄ； 15S体：＋17.1゜（Ｃ＝1.11 CHCl3） 15R体：＋47.5゜（Ｃ＝1.07 CHCl3） nmr（CDCl3） σPPm（TMSから） 15S体 0.87（ｔ、3H） 1.05〜2.5（Ｃ、20H） 2.6〜2.9（ｍ、1H） 3.59（ｄ、2H） 4.0〜4.3（ｍ、2H） 4.96（Ｓ、4H） 5.2〜6.1（ｍ 4H） 15R体 0.87（ｔ、3H） 1.0〜2.5（Ｃ、20H） 2.5〜2.9（ｍ、1H） 3.56（ｄ、2H） 4.0〜4.3（ｍ、2H） 4.96（Ｓ、4H） 5.2〜6.0（ｍ 4H） 実施例 ２ （5Z・９α・11α・13E）−９−アセチルオキシ
−11−アセチルオキシメチル−15−ヒドロキシ
−12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸
−メチルエステル （5Z・９α・11α・13E）−９−アセチルオキ
シ−11−アセチルオキシメチル−15−オキソ−12
−イソブロスタ−５・13−ジエン−１−酸メチル
エステル210mgを10mlのアルコールに溶解し、室
温で撹拌しながら、水素化ホウ素ナトリウム60mg
を少量ずつ加える。30分撹拌を続けたのち、減圧
下にアルコールを除去し、残りに20ml酒石酸水素
ナトリウム飽和水溶液を加え、酢酸エチル40mlで
５回抽出する。酢酸エチル抽出液を合して、重曹
水少量を食塩水少量で洗い、硫酸ナトリウムで乾
燥してから酢酸エチルを留去すると、205mgの油
状物質が得られた。このものは次の分析データと
次に示す実施例３の結果から表記の（5Z・９
α・11α・13E）−９−アセチルオキシ−11−ア
セチルオキシメチル−15−ヒドロキシ−12−イソ
ブロスタ−５・13−ジエン−１−酸−メチルエス
テルであると推定できる。 tlc（シクロヘキサン：酢酸エチル１：１） Rf＝0.25 0.3 iv（液膜） νcm-1 3450、2930、2850、1735、970 実施例 ３ （5Z・９α・11α・13E・15S）−９・15−ジヒ
ドロキシ−11−ヒドロキシメチル−12−イソプ
ロスタ−５・13−ジエン−１−酸 実施例２で得た油状物質即ち（5Z・９α・11
α・13E）−９−アセチルオキシ−11−アセチル
オキシメチル−15−ヒドロキシ−12−イソプロス
タ−５・13−ジエン−１−酸−メチルエステルの
15S、15R混合物205mgを20mlのメタノールに溶解
し、これに20mlの１規定、水酸化カリウム水溶液
を加えて室温で1.5時間撹拌する。 減圧下にメタノールの大部分を留去したあと、
残つた水溶液にシユウ酸飽和水溶液を加えて、PH
２〜３に調整してから酢酸エチル50mlで５回抽出
する。酢酸エチル抽出液を合して食塩水少量で１
回洗つた後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
に濃縮することによつて、油状物170mgを得た。
このものを厚さ２mmで調製されたシリカゲル薄層
板（20cm×20cm）２枚を使用した製造的薄層クロ
マトグラフイーに供し、酢酸１％を含んだ酢酸エ
チルで展開する。Rfが0.15から0.25までの範囲の
シリカゲル層をかき取りメタノールで抽出し、シ
リカゲルをロ過して除いた後、濃縮する。濃縮物
を酢酸エチル60mlに溶かし、酢酸を含んだ水で３
回洗つてシリカゲル由来の不純物を除いて、更に
食塩水で１回洗つた後、硫酸マグネシウムで乾燥
してから酢酸エチルを留去することによつて、目
的の（5Z・９α・11α・13E・15S）−９・15−ジ
ヒドロキシ−11−ヒドロキシメチル−12−イソプ
ロスタ−５・13−ジエン−１−酸が65mg得られ
た。次の分析データにより確認した。 tlc（酢酸１％ 含有酢酸エチル） Rf＝0.14 iv（液膜） νcm-1 3400、2920、2850、1710、970 nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 0.87（ｔ、3H） 1.05〜2.5（Ｃ、20H） 2.6〜2.9（ｍ、1H） 3.59（ｄ、2H） 4.0〜4.3（ｍ、2H） 4.96（Ｓ、4H） 5.2〜6.1（ｍ 4H） 実施例 ４ （5Z・９α・11α・13E・15R）−９・15−ジヒ
ドロキシ−11−ヒドロキシメチル−12−イソプ
ロスタ−５・13−ジエン−１−酸 実施例３の製造的薄層クロマトグラフイーにお
いてRfが0.25から0.3までの範囲のシリカゲル層
をかき取り、メタノールで抽出してシリカゲルを
ロ過して除いた後、濃縮する。濃縮物を酢酸エチ
ル60mlに溶かし、酢酸を含んだ水少量で３回洗
い、更に食塩水少量で１回洗つた後、硫酸マグネ
シウムで乾燥してから、酢酸エチルを留去するこ
とによつて目的の（5Z・９α・11α・13E・
15R）−９・15−ジヒドロキシ−11−ヒドロキシ
メチル−12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１
−酸が35mg得られた。 次の分析データにより、確認した。 tlc（酢酸１％含有酢酸エチル） Rf＝0.24 ir（液膜） νcm-1 3400、2920、2850、1710、970 実施例 ５ （5Z・９α・11α・13E・）−９・15−ジヒドロ
キシ−11−ヒドロキシメチル−15−メチル−12
−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸 （5Z・９α・11α・13E）−９−アセチルオキ
シ−11−アセチルオキシメチル−15−オキソ−12
−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸メチル
エステル164mgを16mlのエーテルに溶解し、これ
をドライアイス−アセトン浴中で撹拌する。これ
にメチルマグネシウムヨーダイドのエーテル溶液
（0.75M）２ml（過剰）を加え撹拌を続けながら
徐々に温度を上げてゆく。室温になつてから更に
１時間撹拌を続けた後、氷水浴中で冷却撹拌しな
がら、少量の酒石酸水素ナトリウム飽和溶液を加
えて過剰のグリニヤー試薬を分解させ、続いてエ
ーテルを減圧下に留去する。残りの反応混合物に
メタノールを10mlを加え、更に１規定水酸化カリ
ウム溶液10mlを加えて、室温で２時間撹拌した
後、おだやかな減圧下にメタノールの大部分を留
去し、残つた水溶液に酒石酸水素ナトリウム飽和
水溶液を加えて注意深く、PH3.5〜4.0にする。こ
の水層を酢酸エチル50mlで５回抽出し、抽出液を
合して、食塩水少量で１回洗つた後、硫酸ナトリ
ウムで乾燥してから、溶剤を留去することによつ
て、油状の粗生成物140mgが得られた。このもの
を厚さ２mmで調製されたシルカゲル薄層板（20cm
×20cm）を使用した製造的薄層クロマトグラフイ
ーに供し、酢酸１％含有した酢酸エチルで２回展
開する。 Rfが0.25から0.32までのシリカゲル層をかき取
つてメタノールで抽出し、実施例３および４で前
述したと同様の処理を行うことによつて15S体を
主に含有した目的化合物（5Z・９α・11α・
13E）−９・15−ジヒドロキシ−11−ヒドロキシ
メチル−15−メチル−12−イソプロスタ−５・13
−ジエン−１−酸54mgが得られた。 Rfが0.32から0.4までのシリカゲル層をかき取
つてメタノールで抽出し、同様の処理を行うこと
によつて、15R体を主に含有した目的化合物
（5Z・９α・11α・13E）−９・15−ジヒドロキシ
−11−ヒドロキシメチル−15−メチル−12−イソ
プロスタ−５・13−ジエン−１−酸36mgが得られ
た。（但し、15S体と15R体の決定は、tlcにおける
Rf値の小さい方をもつて15S体と仮定した。）次
の分析データによつて確認した。 tlc（酢酸エチル：酢酸 99：１ 15S体 Rf＝0.25 15R体 Rf＝2.7 ir（液膜） νcm-1 3450、2930、2850、1710、970 nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 0.88（ｔ 3H） 1.05〜2.8（Ｃ 21H）（1.27S3Hを除く） 1.27（Ｓ 3H） 3.57（ｍ 2H） 4.0〜4.3（ｍ 1H） 4.9（Ｓ 4H） 5.2・6.1（ｍ 4H） （ir、nmrは15S体、15R体について同じ） 実施例 ６ （5Z・９α・11α・13E）−20−エチル−９・15
−ジヒドロキシ−11−ヒドロキシメチル−12−
イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸 （5Z・９α・11α・13E）−９−アセチルオキシ−
11−アセチルオキシメチル−20−エチル−15−オ
キソ−12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−
酸メチルエステル115mgを10mlのアルコールに溶
解し、氷水浴中で撹拌しながら、水素化ホウ素ナ
トリウム50mgを少量ずつ加えて、２時間撹拌を続
ける。減圧下にアルコールを除去した後、残渣に
メタノール10mlと１規定水酸化カリウム水溶液10
mlを加え、室温で1.5時間撹拌する。おだやかな
減圧下にメタノールの大部分を留去した後、残つ
た水溶液にシユウ酸飽和水溶液を注意深く加え
て、PH３にする。酢酸エチル40mlで６回抽出し、
抽出液を合して１回食塩水少量で洗浄してから硫
酸マグネシウムで乾燥し溶剤を留去することによ
つて油状の粗生成物105mgを得た。これをシリカ
ゲル７ｇを用いたカラムクロマトグラフイーに供
し、メタノール５ないし10％を含有したクロロホ
ルムで溶出して、25mlのフラクシヨンを20本取る
No.5からNo.14のフラクシヨンを集めて濃縮する
ことによつて油状の目的化合物（5Z・９α・11
α・13E）−20−エチル−９・15−ジヒドロキシ
−11−ヒドロキシメチル−12−イソブロスタ−
５・13−ジエン−１−酸（15S、15Rの混合物）
72mgが得られた。次の分析データより確認した。 tlc（ベンゼン：ジオキサン：酢酸20：10：１） Rf＝0.4 （15S、15R混合物） Rf＝0.47 ir（液膜） νcm-1 3450、2920、2850、1710、970 nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 0.87（tm 3H） 1.0〜2.9（ｍ 25H） 3.57（ｍ 2H） 4.0〜4.3（ｍ 2H） 5.0（Ｓ 4H） 5.2〜6.1（ｍ 4H） 参考例 １ （5Z・９α・11α・13E）−９−アセチルオキシ
−11−アセチルオキシメチル−15−オキソ−12
−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸メチ
ルエステル 参考例３で得た粗生成物即ち（5Z・９α・11
α・13E）−11−アセチルオキシメチル−15・15
−エチレンジオキシ−９−ヒドロキシ−12−イソ
プロスタ−５・13−ジエン−１酸メチルエステル
とその９−アセチル化物の混合物約0.7ｇを50ml
のアセトンに溶解し、これにＰ−トルエンスルホ
ン酸−水和物50mgを加えて室温で２時間撹拌す
る。アセトンを減圧下に除去した後、残りを250
mlの酢酸エチルに溶解、酢酸エチル溶液を飽和重
曹水少量続いて食塩水少量にて洗浄した後、硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶剤を留去するこ
とによつて、油状の粗生成物0.7ｇを得た。これ
をシリカゲル35ｇを使用したカラムクロマトグラ
フイーに供し、酢酸エチル含有（20〜30％）シク
ロヘキサンで展開溶出し、100mlのフラクシヨン
を５本と続いて30mlのフラクシヨンを24本取る。
No.3からNo.11のフラクシヨンを集めて濃縮する
ことにより目的の化合物（5Z・９α・11α・
13E）−９−アセチルオキシ−11−アセチルオキ
シメチル−15−オキソ−12−イソプロスタ−５・
13−ジエン−１−酸メチルエステルが油状物質と
して0.235ｇ得られた。次の分析データによつて
確認した。 tlc（ベンゼン：酢酸エチル ６：４） Rf＝0.24 tlc（シクロヘキサン：酢酸エチル８：23回展
開） Rf＝0.24 〔α〕２４ Ｄ＝＋14゜（Ｃ＝0.86クロロホルム） ir（液膜） νcm-1 2925、2850、1740、1670、1620 nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 0.89（ｔ 3H） 1.1〜2.7（Ｃ 20H）（2.01S、2.09Sを除く） 2.01（Ｓ 3H） 2.09（Ｓ 3H） 2.7〜3.1（ｍ 1H） 3.65（Ｓ 3H） 3.8〜4.1（ｍ 2H） 5.1〜5.5（ｍ 3H） 6.1（ｄ 1H） 6.89（dd 1H） 参考例 ２ （5Z・９α・11α・13E）−11−アセチルオキシ
メチル−９−ヒドロキシ−15−オキソ−12−イ
ソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸メチルエ
ステル 参考例１のカラムクロマトグラフイーにおいて
No.12からNo.29までのフラクシヨンを集めて濃
縮することによつて表記目的化合物（5Z・９
α・11α・13E）−11−アセチルオキシメチル−
９−ヒドロキシ−15−オキソ−12−イソプロスタ
−５・13−ジエン−１−酸メチルエステルが油状
物質として0.282ｇ得られた。 次の分析データにより確認した。 tlc（ベンゼン：酢酸エチル ６：４） Rf＝0.57 tlc（シクロヘキサン：酢酸エチル８：23回展
開） Rf＝0.24 〔α〕２４ Ｄ＝＋20゜（Ｃ＝2.14クロロホルム） ir（液膜） νcm-1 3500、2925、2850、1740、1660、1620 nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 0.89（ｔ 3H） 1.1〜2.7（Ｃ 21H）（2.01 S3Hを除く） 2.01（Ｓ 3H） 2.7〜3.0（ｍ 1H） 3.65（Ｓ 3H） 4.0（ｍ 2H） 4.36（ｍ 1H） 5.4（ｍ 2H） 6.01（ｄ 1H） 7.5（dd 1H） 参考例 ３ （5Z・９α・11α・13E）−11−アセチルオキシ
メチル−15・15−エチレンジオキシ−９−ヒド
ロキシ−12−イソプロスタ−５・13−ジエン−
１−酸メチルエステル および（5Z・９α・11α・13E）−９−アセチ
ルオキシ−11−アセチルオキシメチル−15・15
−エチレンジオキシ−12−イソプロスタ−５・
13−ジエン−１−酸メチルエステル 参考例４で得られた粗生成物（5Z・９α・11
α・13E）−15・15−エチレンジオキシ−９−ヒ
ドロキシ−11−ヒドロキシメチル−12−イソプロ
スタ−５・13−ジエン−１−酸メチルエステル
0.7ｇを６mlの無水酢酸に溶解せしめ、これを氷
水浴中で撹拌しながら２mlのピリジンを加える。
１時間撹拌を続けたのち減圧下に無水酢酸とピリ
ジンを除去することによつて油状物質0.7ｇを得
た。このものは直ちに参考例１の原料として供す
る。 tlc（ベンゼン：酢酸エチル ６：４） Rf＝0.38（９−ヒドロキシ体） Rf＝0.56（９−アセチルオキシ体） ir（液膜） νcm-1 3400、2925、2850、1730 参考例 ４ （5Z・９α・11α・13E）−15・15−エチレンジ
オキシ−９−ヒドロキシ−11−ヒドロキシメチ
ル−12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−
酸メチルエステル （5Z・９α・11α・13E）−15・15−エチレン
ジオキシ−９−ヒドロキシ−11−ヒドロキシメチ
ル−12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸
0.70ｇをジエチルエーテル70mlに溶解し、これに
ジアゾメタンのジエチルエーテル溶液を過剰に加
える。直ちに減圧下に過剰のジアゾメタンとジエ
チルエーテルを除去することによつて目的の
（5Z・９α・11α・13E）−15・15−エチレンジオ
キシ−９−ヒドロキシ−11−ヒドロキシメチル−
12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸メチ
ルエステル0.71ｇが油状物質として得られた。こ
のものは直ちに参考例３の原料として供する。 tlc（酢酸エチル） Rf＝0.47 ir（液膜） νcm-1 3400、2930、2850、1740 参考例 ５ （5Z・９α・11α・13E）−15・15−エチレンジ
オキシ−９−ヒドロキシ−11−ヒドロキシメチ
ル−12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−
酸 減圧下90℃で１時間乾燥した４−カルボヒドロ
キシブチルトリフエニルホスホニウムブロマイド
4.43ｇ（10ｍ mol）を乾燥したジメチルスルホ
キシド９mlを溶解する。これを室温で撹拌しなが
ら、ナトリウムメチルスルフイニルカルバニドの
ジメチルスルホキサイド溶液（2.09M）９mlを加
えて赤橙色のホスホラン溶液を得る。これに参考
例６で得た（3aS・4S・5R・6aS）−ヘキサヒド
ロ−４−〔(E)−３・３−エチレンジオキシ−１−
オクテニル〕−２−ヒドロキシメチル−2H−シク
ロペンダ〔ｂ〕フラン0.66ｇ（２ｍ mol）のジ
メチルスルホキシド（10ml）溶液を加え室温で
1.5時間撹拌する。 高真空中でジメチルスルホキシドを除去し残渣
に60mlの冷水を加える。水層を50mlの酢酸エチ
ル：エーテル（１：１）混合溶剤で４回抽出した
る後、約４ｇの酒石酸水素ナトリウムを水層に加
えて、PH約４とする。エーテル60mlで６回抽出操
作を行い、エーテル抽出液を合して少量の食塩水
で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、エーテ
ルを留去することによつて目的の粗生成物
（5Z・９α・11α・13E）−15・15−エチレンジオ
キシ−９−ヒドロキシ−11−ヒドロキシメチル−
12−イソプロスタ−５・13−ジエン−１−酸0.7
ｇが油状物質として得られた。このものは特に精
製することなく、参考例４の原料とする。 tlc（酢エチ） Rf＝0.15 参考例 ６ （3aS・4S・5R・6aS）−ヘキサヒドロ−４−
〔(E)−３・３−エチレンジオキシ−１−オクテ
ニル〕−２−ヒドロキシ−５−ヒドロキシメチ
ル−2H−シクロペンダ〔ｂ〕フラン 参考例７で得た（1S・2R・3R・4R）−４−ア
セチルオキシメチル−１−ベンゾイルオキシ−３
−〔(E)−３・３−エチレンジオキシ−１−オクテ
ニル〕−２−ホルミルメチル−シクロペンタン
0.95ｇとメタノール50mlおよび１規定水酸化カリ
ウム水溶液50mlの混合物を室温で撹拌する。3.5
時間後ゆるい減圧下にメタノールの大部分を留去
し、残つた水層を食塩で飽和した後酢酸エチル
100mlで５回抽出する。 酢酸エチル抽出液を合して少量の食塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶剤を留去す
ることによつて無色半固状の生成物（3aS・4S・
5R・6aS）−ヘキサヒドロ−４−〔(E)−３・３−エ
チレンジオキシ−１−オクテニル〕−２−ヒドロ
キシ−５−ヒドロキシメチル−2H−シクロペン
ダ〔ｂ〕フラン0.66ｇを得た。 tlc（酢エチ） Rf＝0.25 ir（KBr） νcm-1 3400、2950、2924、2850、1020 参考例 ７ （1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオキシメチ
ル−１−ベンゾイルオキシ−３−〔(E)−３・３
−エチレンジオキシ−１−オクテニル〕−２−
ホルミルメチル−シクロペンタン 減圧下150℃で充分乾燥したセライト−545 18
ｇとクロム酸２ピリジン錯体（コリンズ試薬）９
ｇおよび乾燥精製した塩化メチレン90mlの混合物
をアルゴン雰囲気中−５゜〜０℃に撹拌しなが
ら、参考例８で得た。（1S・2R・3R・4R）−４−
アセチルオキシメチル−１−ベンゾイルオキシ−
３−〔(E)−３・３−エチレンジオキシ−１−オク
テニル〕−２−（２−ヒドロキシエチル−シクロペ
ンタン1.08ｇの塩化メチレン（15ml）を溶液を一
度に加え、15分間撹拌する。その後細かく粉砕し
た硫酸水素ナトリウム18ｇを加え更に10分間撹拌
する。セライト−545を敷いたグラスフイルター
で反応混合物をロ過し塩化メチレンで充分洗う。
ロ液を洗液を合して濃縮した後エーテル300mlに
溶解し、もう一度ロ過してクロム化合物の沈澱の
大部分を除く、エーテル溶液を濃縮することによ
つて油状の生成物（1S・2R・3R・4R）−４−ア
セチルオキシメチル−１−ベンゾイルオキシ−３
−〔(E)−３・３−エチレンジオキシ−１−オクテ
ニル〕−２−ホルミルメチル−シクロペンタン
0.95ｇを得た。 tlc（ベンゼン：酢酸エチル８：２） Rf＝0.33 ir（液膜） νcm-1 2930、2850、2720、1735、1720、1600、715 参考例 ８ （1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオキシメチ
ル−１−ベンゾイルオキシ−３−〔(E)−３・３
−エチレンジオキシ−１−オクテニル〕−２−
（２−ヒドロキシエチル）−シクロペンタン （1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオキシメ
チル−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロ
アセチルオキシエチル）−３−〔(E)−３・３−エチ
レンジオキシ−１−オクテニル〕シクロペンタン
1.183ｇをアルコール120mlに溶解せしせ、これに
チオ尿素167mg炭酸水素ナトリウム185mgを加えて
70℃の油浴中で撹拌する。24時間後混合物からア
ルコールを除去し、残りをエーテル400mlに溶解
して、このエーテル溶液を飽和重曹水少量で２
回、飽和食塩水少量で３回洗つた後硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、エーテルを留去することによつて粗
生成物（1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオキ
シメチル−１−ベンゾイルオキシ−３−〔(E)−
３・３−エチレンジオキシ−１−オクテニル〕−
２−（２−ヒドロキシエチル）−シクロペンタン
1.08ｇが油状物として得られた。 tlc（ベンゼン：酢酸エチル８：２） Rf＝0.17 ir（液膜） νcm-1 3500、2940、2860、1740、1720、1600、715 参考例 ９ （1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオキシメチ
ル−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロ
アセチルオキシエチル）−３−〔(E)−３・３−エ
チレンジオキシ−１−オクテニル〕−シクロペ
ンタン （1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオキシメ
チル−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロ
アセチルオキシエチル）−３−〔(E)−３・３−エチ
レンジオキソ−１−オクテニル〕−シクロペンタ
ン1.804ｇとベンゼン100mlとエチレングリコール
６mlおよびＰ−トルエンスルホン酸１水和物20mg
の混合物を加熱して水分離器をつけた糸で脱水し
ながら還流させる。24時間後ベンゼン溶液を少量
の重曹水と少量の食塩水で各々３回ずつ洗い、硫
酸ナトリウムで乾燥した後ベンゼンを留去するこ
とによつて油状の粗生成物1.96ｇを得た。シリカ
ゲル70ｇを使用したカラムクロマトグラフイーに
より、酢酸エチル含有（５〜10％）ベンゼンで展
開溶出し対応するフラクシヨンを集めて濃縮する
ことによつて純粋な目的物（1S・2R・3R・4R）
−４−アセチルオキシメチル−１−ベンゾイルオ
キシ−２−（２−クロロアセチルオキシエチル）−
３−〔(E)−３・３−エチレンジオキシ−１−オク
テニル〕−シクロペンタン1.2ｇを油状物質として
得た。次の分析データにより確認した。 tlc（ベンゼン：酢酸エチル ８：２） Rf＝0.44 ir（液膜） νcm-1 2940、2850、1760、1740、1720、1600、715 〔α〕２６ Ｄ＝＋24゜（Ｃ＝2.34メタノール） nmr（CDCl4） δPPm（TMSから） 0.87（ｔ 3H） 1.1〜3.0（Ｃ 15H）（1.95S3Hを除く） 1.95（Ｓ 3H） 3.6〜4.0（ｍ 2H）（3.93S2Hを除く） 3.93（Ｓ 2H） 4.14（ｔ 2H） 5.42（ｄ 1H） 5.55（ｍ 1H） 6.0（dd 1H） 7.3〜7.6（ｍ 3H） 7.9〜8.1（ｍ 2H） 参考例 10 （1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオキシメチ
ル−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロ
アセチルオキシエチル）−３−〔(E)−３−オキソ
−１−オクテニル〕シクロペンタン （1R・3aR・5S・6R・6aR）−ヘキサヒドロ−
５−ベンゾイルオキシ−６−（２−クロロアセチ
ルオキシエチル）−１−（２−オキソ−ヘブチル）
−1H−シクロペンタン〔Ｃ〕フラン5.9ｇとＰ−
トルエンスルホン酸１水和物１ｇを無水酢酸120
mlに溶解し、この溶液を70℃油浴中で撹拌する。
2.5時間後、減圧下に無水酢酸を留去し残りを酢
酸エチル50mlに溶かして重曹水少量で２回、食塩
水少量で３回洗つた後、硫酸マグネシウムで乾燥
して、濃縮することにより、粗生成物6.48ｇを得
た。これをシリカゲル300ｇを使用したカラムク
ロマトグラフイーに供し、酢酸エチル含有（20
％）シクロヘキサンで溶出し、200mlずつのフラ
クシヨンを20本取る。No.8からNo.14までのフラ
クシヨンを集めて濃縮することによつて純粋な目
的化合物（1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオ
キシメチル−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−
クロロアセチルオキシエチル）−３−〔(E)−３−オ
キソ−１−オクテニル〕−シクロペンタン4.179ｇ
が油状物質として得られた。次の分析データによ
つて確認した。 tlc（ベンゼン：酢酸エチル８：２） Rf＝0.37 ir（液膜） νcm-1 2950、2925、2850、1760、1740、1720、1670、
1625、1600、715 〔α〕２３ Ｄ＝＋17゜（Ｃ＝1.06クロロホルム） 〔α〕２３ Ｄ＝＋22.6゜（Ｃ＝1.06メタノール） nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 0.87（ｔ 3H） 1.1〜3.1（Ｃ 13H （1.99S3Hおよび2.54t2Hを除く） 1.99（Ｓ 3H） 2.54（ｔ 2H） 3.8〜4.3（ｍ 2H） （3.99S2Hおよび4.18t2Hを除く） 3.99（Ｓ 2H） 4.18（ｔ 2H） 5.57（ｍ 1H） 6.19（ｄ 1H） 7.03 （dd 1H） 7.3〜7.7（ｍ 3H） 7.9〜8.2（ｍ 2H） 参考例 11 （1S・2R・3R・4R）−４−アセチルオキシメチ
ル−１−ベンゾイルオキシ−２−（２−クロロ
アセチルオキシエチル）−３−〔(E)−３−オキソ
−１−オクテニル〕−シクロペンタン 参考例９で得た（1S・2R・3R・4R）−４−ア
セチルオキシメチル−１−ベンゾイルオキシ−２
−（２−クロロアセチルオキシエチル）−３−〔(E)
−３・３−エチレンジオキシ−１−オクテニル〕
−シクロペンタン５mgとアセトン１mlおよびＰ−
トルエンスルホン酸水和物１mgの混合物を室温で
２時間撹拌した後アセトンを減圧下に除去した残
渣を酢酸エチル10mlに溶解して、少量の重曹水で
洗い、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶剤を留
去することにより、表記化合物（1S・2R・3R・
4R）−４−アセチルオキシメチル−１−ベンゾイ
ルオキシ−２−（２−クロロアセチルオキシエチ
ル）−３−〔(E)−３−オキソ−１−オクテニル〕−
シクロペンタン４mgが得られた。 次の分析データによつてて確認した。 tlc（ベンゼン：酢酸エチル８：２） Rf＝0.37 ir（液膜） νcm-1 2950、2925、2850、1760、1740、1720、1670、
1625、1600、715 参考例 12 （1R・3aR・5S・6R・6aR）−ヘキサヒドロ−５
−ベンゾイルオキシ−６−（２−クロロアセチ
ルオキシエチル）−１−（２−オキソ−ヘブチ
ル）−1H−シクロペンタ〔Ｃ〕フラン （1R・3aR・5S・6R・6aR）−ヘキサヒドロ−
５−ベンゾイルオキシ−６−（２−ヒドロキシエ
チル）−１−（２−オキソ−ヘブチル）−1H−シク
ロペンタ〔Ｃ〕フラン0.30ｇ（0.77ｍ mol）と
クロロアセチルクロライド0.102ｇ（0.9ｍ
mol）を乾燥エーテル10mlに溶かし、氷水浴中で
冷却撹拌しながらピリジン0.071ｇ（0.9ｍ
mol）を加える。 １時間後エーテル70mlを加えてうすめ、エーテ
ル溶液を、水、重曹水、１規定塩酸、重曹水で順
に洗浄してから硫酸マグネシウムで乾燥し、エー
テルを留去することによつて無色油状の生成物が
0.312ｇ得られた。このものは次の分析データに
よつて、（1R・3aR・5S・6R・6aR）−ヘキサヒド
ロ−５−ベンゾイルオキシ−６−（２−クロロア
セチルオキシエチル）−１−（２−オキソ−ヘブチ
ル）−1H−シクロペンタ〔Ｃ〕フランであること
を確認した。 tlc（シクロヘキサン：酢酸エチル６：４） Rf＝0.35 〔α〕２３ Ｄ＝＋51.7゜（Ｃ＝1.16メタノール） ir（液膜） νcm-1 2950、2860、1760、1710、1600、1270、713 nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 0.91（ｔ 3H） 1.1〜3.1（Ｃ 17H） 3.3〜3.7（ｍ 1H） 3.94（Ｓ 2H） 3.9〜4.3（ｍ 1H） 4.19（ｔ 2H） 4.58（ｍ 1H） 5.50（ｍ 1H） 7.3〜7.6（ｍ 3H） 7.9〜8.1（ｍ 2H） 参考例 13 （1R・3aR・5S・6R・6aR）−ヘキサヒドロ−５
−ベンゾイルオキシ−６−（２−ヒドロキシエ
チル）−１−（２−オキソ−ヘブチル）−1H−シ
クロペンタ〔Ｃ〕フラン ２−アセトキシ−１−ヘプテン6.357ｇ（40.7
ｍ mol）を精製した塩化メチレン80mlに溶か
し、この溶液をアルゴン雰囲気中０℃〜５℃に冷
却撹拌しながら、これに四塩化チタンの塩化メチ
レン溶液（0.64M）63.8ml（40.7ｍ mol）をゆつ
くり滴下して加える。得られた淡黄色の混合物を
撹拌しながらこれに更に６−エピ−テトラヒドロ
アンヒドロアウクビゲニンベンゾエイト10.15ｇ
（37.05ｍ mol）を含んだ塩化メチレン溶液（50
ml）をゆつくり滴下して加える。滴下終了後更に
０℃〜５℃で30分撹拌を続けてから、得られたか
つ色の反応液に冷却した飽和重曹水200mlを加え
てチタンの錯体を分解する塩化メチレン層を分離
したのち水層を酢酸エチル400mlで５回抽出し、
有機層を合してから、重曹水200mlで１回洗い、
硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮して油状の粗生成
物15.27ｇが得られた。シリカゲル300ｇを使用し
たカラムクロマトグラフイーに供し、酢酸エチル
５〜20％を含んだ塩化メチレンで展開溶出し500
mlのフラクシヨンを21本採取する。 No.7からNo.13までのフラクシヨンを集めて濃
縮することによつて無色油状の純粋な生成物8.82
ｇ（22.7ｍ mol）が得られた。No.6のフラクシ
ヨンとNo.14から21までのフラクシヨンを集めて
濃縮することによつて、不純物少量を含んだ生成
物0.96ｇが得られた。この生成物は次に示すす分
析データによつて表記の（1R・3aR・5S・6R・
6aR）−ヘキサヒドロ−５−ベンゾイルオキシ−
６−（２−ヒドロキシエチル）−１−（２−オキソ
−ヘブチル）−1H−シクロペンタ〔Ｃ〕フランで
あることを確認した。 tlc（シクロヘキサン：酢酸エチル６：４） Rf＝0.1 tlc（塩化メチレン：酢酸エチル10：１） Rf＝0.2 〔α〕２５ Ｄ＝＋68.6゜（Ｃ＝1.101メタノール） ir（液膜） νcm-1 3450、2940、2850、1713、1600、1275、1110、
1070、1025、712 mass M+＝388 nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 0.88（ｔ 3H） 1.1〜3.1（Ｃ 18H） 3.4〜4.4（Ｃ 4H） 4.64（ｍ 1H） 5.57（ｍ 1H） 7.3〜7.6（ｍ 3H） 7.9〜8.2（ｍ 2H）13 C−nmr（CDCl3） δPPm（TMSから低磁場） 209.538 166.333 133.129 130.270 129.687（2C） 128.648（2C） 79.008 77.188 74.719 61.465 52.953 48.665 43.597 43.402 42.947 37.425 31.381 28.653 23.195 22.415 13.904 実施例 14 ６−エピ−テトラヒドロアンヒドロアウクビゲ
ニンベンゾエイト ６−エピ−テトラヒドロアンヒドロアウクビゲ
ニン7.27ｇ（42.8ｍ mol）をピリジン20mlに溶
かし氷水浴中で冷却撹拌しながらベンゾイルクロ
ライド7.6ｇ（54ｍ mol）を滴下する。 滴下終了後室温に戻して更に２時間撹拌してか
らエーテル500mlでうすめ、水、１規定塩酸、
水、飽和重曹水、飽和食塩水で順に洗う。エーテ
ル溶液を硫酸ナトリウムで乾燥してから濃縮する
ことにより、粗生成12.46ｇを油状物質として得
た。シリカゲル500ｇを使用したカラムクロマト
グラフイーに供し、ベンゼン：酢酸エチル混合溶
剤で展開溶出することにより精製して10.18ｇの
無色結晶が得られた。次の分析データによつて６
−エピ−テトラヒドロアンヒドロアウクビゲニン
ベンゾエイトであることを確認した。 mP 60〜61℃ tlc（塩化メチレン） Rf＝0.75 〔α〕２５ Ｄ＝＋32.7゜（Ｃ＝1.04メタノール） ir（KBr） νcm-1 2940、2850、1710、1285、1120、1055、710 mass M+＝274 nmr（CDCl3） δPPm（TMSから） 1.6〜3.0（Ｃ 7H） 3.3〜3.6（ｍ 1H） 3.6〜4.2（Ｃ 3H） 5.27（ｄ 1H 5CPS） 5.45（ｍ 1H） 7.3〜7.7（ｍ 3H） 7.9〜8.2（ｍ 2H）13 C−nmr（CDCl3）δPPm（TMSから） 166.073 133.067 13.337 129.620（2C） 128.518（2C） 100.771 79.202 71.731 59.646 41.648 40.088 36.125 （2C） 21.831
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中Z1はカルボキシル基または保護されたカル
ボキシル基、Z2は水酸基または保護された水酸
基、Z3はヒドロキシメチル基または水酸基の保護
されたヒドロキシメチル基、Z4は水素原子、アル
キル基または置換アルキル基を示す。５員環から
点線で伸びた結合は、５員環平面から下に伸びた
結合すなわちα配位を示している。〕で表される
化合物をカルボニル還元剤で処理するか、あるい
はグリニヤー試薬と反応させ、続いて必要に応じ
て保護基を除去する反応に付することを特徴とす
る一般式 〔式中Z1〜Z4は前述したものと同意義、Z5は水素
原子またはアルキル基を示す。〕で表されるプロ
スタグランジン誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25911584A JPS60149557A (ja) | 1984-12-10 | 1984-12-10 | プロスタグランジン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25911584A JPS60149557A (ja) | 1984-12-10 | 1984-12-10 | プロスタグランジン誘導体の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1395976A Division JPS6032623B2 (ja) | 1976-02-13 | 1976-02-13 | プロスタグランジン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60149557A JPS60149557A (ja) | 1985-08-07 |
| JPS6144864B2 true JPS6144864B2 (ja) | 1986-10-04 |
Family
ID=17329521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25911584A Granted JPS60149557A (ja) | 1984-12-10 | 1984-12-10 | プロスタグランジン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60149557A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3371482B2 (ja) * | 1992-09-30 | 2003-01-27 | 住友電気工業株式会社 | 車輪速度検知用歯車およびその製造方法 |
-
1984
- 1984-12-10 JP JP25911584A patent/JPS60149557A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60149557A (ja) | 1985-08-07 |
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