JPS6032623B2 - プロスタグランジン誘導体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規なプロスタグランジン誘導体に関するもの
である。

さらに詳しくは、本発明は一般式〔式中、Ｚはカルポキ
シル基またはメトキシカルボニル基、Ｚは水酸基または
低級アルカノィルオキシ基、Ｚはヒドロキシメチル基ま
たは低級アルカノイルオキシメチル基、Ｚは炭素数１〜
１０のアルキル基、Ｚは水素原子または低級アルキル基
を示す。

５員顔から点線で伸びた結合は５員環平面から下に伸び
た結合すなわちＱ配位を示している。

〕で表わされるプロスタグランジン誘導体に関するもの
である。プロスタグランジン類およびその類縁体は次の
構造をもったブロスタン酸の誘導体として命名すること
が出来る。

プロスタン酸の骨格炭素原子の教え方は上式に示した通
りである。

なお、プロスタン酸の系統的な名称は７−〔２６ーオク
チル）ーシクロベントーＩＱーィル〕へブタン酸である
。本発明によって得られる前記一般式（１）の化合物は
ブロスタン酸を基本骨格として命名すると、（Ｚ、９Ｑ
、１１Ｑ、１班、１＄もしくは１球）−９．１５−ジヒ
ドロキシ−１１ーヒドロキシメチルー１２−ィソプロス
タ−５．１３−ジェン−１一酸の１５．１５−ジ置換一
の−ノル誘導体である。

プロスタグランジン類およびプロスタグランジン誘導体
の命名法については例えばＮ．Ａ．ネルソン、ジャーナ
ル・オブ・メティシナル・ケミストリー第１７巻９１１
〜９１８頁（１９７必王）を参照されたい。１２−ィソ
プロスタン酸とは次式で表わされるようなプロスタン酸
の１２位の立体異性体の意味である。

本発明によって得られる前記一般式（１）の化合物は１
＄体と１球体を任意に意味し、どちらかに特に限定され
るものではない。本発明によって得られる前記一般式（
１）及び（０）を有する化合物はプロスタン酸の５員環
につくすべての置換基がＱ配置をとっていることに特徴
があり、加えて１１位の置換基がヒドロキシメチル基で
あることに特徴を有するものであり、これらの意味から
本発明によって得られる前記一般式（１）及び（０）を
有する化合物は構造的に新規な化合物であり、また後に
述べるように製法的にも全く新規な特徴を有するもので
ある。本発明によって得られる前記一般式（１）及び（
０）を有する化合物のあるものはまた、薬理試験におい
て有意な作用を示した。本発明によって得られる化合物
のうち、ＺＩがカルボキシル基であるものは、また薬理
上許容される塩の形にすることが出来る。

薬理上許容される塩の形としては、例えばナトリウム、
カリウム、マグネシウム、カルシウムのようなアルカリ
金属またはアルカリ士類金属の塩、アンモニウム塩、テ
トラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、
ベンジルトリメチルアンモニウム、フエニルトリェチル
アンモニウムのような第四級アンモニウム塩、メチルア
ミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジヱチルアミン
トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルヘキ
シルアミン、シクロベンチルアミン、ジシクｏヘキシル
アミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン、Ｑ一フエ
ニルエチルアミン、エチレンジアミンのような低級脂肪
族、低級脂環式および低級芳香脂肪族アミンの塩、ピベ
リジン、モルホリン、ピロリジン、ピベラジン、ピリジ
ン、１ーメチルピベラジン、４ーェチルモルホリンのよ
うな榎素環式アミンおよびそれらの低級アルキル誘導体
の塩、モノエタノールアミン、エチルジエタノールアミ
ン、２−アミノー１−ブタノールのような親水性の基を
含むアミンの塩等をあげることができる。本発明化合物
において一般式中、Ｚはカルボキシル基またはヱステル
等の保護されたカルボキシル基を示すが、具体的には遊
離の力ルボキメチルヱステル等があげられる。Ｚは水酸
基又はアシルオキシ基等の保護された水酸基であり、具
体的には遊離の水酸基；アセチル、クロルアセチル、ブ
ロピオニル等の低級アルカノィル基で保護された水酸基
があげられる。

公は、ヒドロキシメチル基または水酸基の保護されたヒ
ドロキシメチル基であり、具体的には遊離のヒドロキシ
メチル基または水酸基が前記Ｚ２と同様の保護基で保護
されたヒドロキシメチル基である。Ｚ４は、アルキル基
であり、アルキル基としては具体的にはメチル、エチル
、ベンチル、オクチル等炭素数１〜１０のアルキル基あ
るいは置換アルキル基が好ましい。

友は水素又はアルキル基であり、アルキル基としては特
に炭素数１〜５のものが好ましい。本発明の化合物、即
ち前記一般式（１）で示される化合物は例えば次に示さ
れるように（ロ）の化合物をカルボニル還元剤で処理す
るかあるいはグリニャー試薬と反応させ、続いて必要に
応じて保護基を除去する反応に付することによって得ら
れる。また本発明化合物中、特にＺがカルポキシル基、
Ｚが水酸基、Ｚがヒドロキシメチル基である化合物（ｍ
）は次に示されるように（Ｎ）の化合物を保護基を除去
する反応に付することによっても製造することができる
。

ここでＺＩ〜Ｚ５は前述したものと同意義であり、汐は
水素原子又は水酸基の保護基を示す。

本発明において一般式Ｚに含まれるカルポキシル基の保
護基としては、実質的に後にその保護基を除去して水素
原子に置換する際に化合物の他の部分に影響を与えない
ようなものであれば特に限定はなく、その具体例は前記
のとおりである。

Ｚに含まれる水酸基の保護基としては、実質的に後にそ
の保護基を除去して水素原子に置換する際に、除去反応
によって化合物の他の部分に影響を与えないようなもの
であれば特に限定はなく「そのような保護基としては前
記のようなものがあげられる。Ｚに含まれる水酸基の保
護基としては、後述するようにァシル化条件によってエ
ーテル環結合を切断してしかるのち数段階の反応を経て
−般式（０）の化合物が導かれてくることから好ましく
はアセチル、プロピオニル、クロルアセチル、のような
アシル基が望まれるが、特に限定されるものではない。

実質的に後にその保護基を除去して水素原子に置換する
際に化合物の他の部分に影響を与えないものであれば特
に限定はなく、そのような保護基としては例えばＺに含
まれる水酸基の保護基として前述したものの中から任意
に選択される。汐で表わされる水酸基の保護基としては
他の反応中にそれ自身が変化を受けないようなものであ
って、後にその保護基を除去する際に化合物の他の部分
に影響を与えないようなものであれば特に限定はなく、
そのような保護基としては例えばＺ２に含まれる水酸基
の保護基として前述したものの中から任意に選ぶことが
出来る。

本発明の方法を更に詳細に説明すると、化合物（１）は
前記一般式（ｎ）を有する化合物をカルボニル還元剤で
還元するか、あるいはグリニャー試薬で処理し、続いて
必要に応じて水酸基の保護基あるいはカルボキシル基の
保護基を除去する反応に任意の順序で付することによっ
て得られる。

本発明の方法を実施するにあたって反応は溶剤の存在下
または不存在下で還元剤もしくはＺ５Ｍｇｘとして表わ
されるグリニャー試薬（Ｚはァルキル基、好ましくはＣ
，〜Ｃ５のアルキル基、ｘはハロゲン）を使用すること
によって達成される。使用される還元剤としてはカルボ
ニル基を水酸基に変換する還元剤であれば特に限定はな
く、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリ
ウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素
化トリ−ｔｅｎ−プトキシリチウムアルミニウム、水素
化トリメトキシリチウムアルミニウム、水素化シアノホ
ウ素ナトリウムなどの水素化金属化合物が好適に用いら
れる。使用されるグリニヤ‐試薬（ＺＭ鮫）としてはエ
ーテルもしくはテトラヒドロフラン中で金属マグネシウ
ムとアルキルハフィドの反応によって調製した炭素数１
〜５のアルキルマグネシウムハラィドが好適に用いられ
る。反応は溶剤の存在下または不存在下で行なわれるが
、反応を円滑に進行させるためには溶剤を使用する方が
好ましく、使用される溶剤としては、本反応に関与しな
ければ特に限定はなく、例えば還元反応の場合にはメタ
ノール、エタノール、ィソブロパノールなどのアルコー
ル類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類
等の不活性有機溶剤が用いられ、グリニャー反応の場合
には、エーテル、テトラヒド。フランのようなエーテル
類等の不活性溶剤が好適に用いられる。反応温度には特
に限定はないが、副反応を抑えるためには比較的低い温
度が望ましく通常は、一２０００乃至室温で好適に行わ
れる。反応時間は主に反応温度使用される反応試剤の種
類によって異なるが、通常１分間乃至１時間である。反
応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物から採
取される。例えば反応終了後、反応混合物にギ酸、酢酸
、シュウ酸、酒石酸のような有機酸を加えて、過剰の還
元剤あるいはグリニャー試薬を分解し、ついで有機溶剤
を加えて抽出を行い抽出液を水洗、乾燥した後抽出液よ
り溶剤を留去することによって得られる。得られた目的
化合物は必要ならば常法、例えばカラムクロマトグラフ
ィー、薄層クロマトグラフィーなどを用いて更に精製す
ることが出来る。このようにして得られた前記一般式（
１）を有する化合物のうち水酸基あるいはカルボキシル
基の保護基のついているものは必要に応じて、それらの
保護基を除去する反応に付することが出来る。水酸基の
保護基を除去する反応は保護基の種類により、除去する
条件が異なる。水酸基の保護基が例えばアセチル、クロ
ルアセチル、プロピオニルのようなアシル基の場合は酸
または塩基と接触させることによって容易に達成される
。使用される酸または塩基としては例えば塩酸、息化水
素酸、硫酸などの滋酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ士類金属の水酸
化物：炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム
などのアルカリ金属およびアルカリ金属およびアルカＩ
Ｊ士類金属の炭酸塩などが好適に使用される。通常は塩
基性の条件で好適に行われる。反応は溶剤の存在下また
は不存在下に実施されるが反応を円滑に行うには、溶剤
を使用する方が好ましく、使用される溶剤としては本反
応に関与しなければ特に限定はなく、例えば水：メタノ
ール、エタノールなどのアルコール類；テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンなどのエーテル類またはこれらの有機
溶剤と水との混合物である水性有機溶剤が好適に使用さ
れる。反応温度には特に限定はなく室温ないし、溶剤の
還流温度で行われる。反応終了後、本反応の目的化合物
は常に従って反応混合物から採取される。例えば反応終
了後反応混合物に適当な有機溶剤を加えて抽出を行い。
抽出液より溶剤を留去することによつて得られる。得ら
れた目的化合物は必要ならば通常の方法、例えばカラム
クロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィーなどを用
いて更に精製することが出来る。次にカルボキシル基の
保護基を除去する反応は、保護基の種類によってその除
去条件が異なる。カルボキシル基の保護基が例えばメチ
ル、の場合は酸または塩基と接触させることにより達成
される。使用される酸または塩基は通常のェステルの加
水分解に使用される酸または塩基が特に限定なく使用さ
れ、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸などの舷酸または水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウムどの
アルカリ金属およびアルカリ士類金属の水酸化物；炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウムなどのアル
カリ金属およびアルカリ士類金属の炭酸塩等が好適に使
用される。通常は塩基性の条件で好適に行われる。反応
は溶剤の存在下または不存在下に行われるが、反応を円
滑に進行させるためには溶剤を使用する方が好ましく、
使用される溶剤としては本反応に関与しなければ特に限
定はなく、例えば水あるいは水とメタノール、エタノー
ルなどのアルコール類またはテトラヒドロフラン、ジオ
キサンなどのエーテル類との混合溶剤が好適に用いられ
る。反応温度には特に限定はなく室温ないし、溶剤の還
流温度で行われる。反応終了後、本反応の目的化合物は
常法に従って反応混合物から採取される。例えば反応終
了後、反応混合物に適当な有機溶剤を加えて、抽出を行
い抽出液より溶剤を蟹去することによって得られる。得
られた目的化合物は必要ならば常法、例えばカラムクロ
マトグラフィー、薄層クロマトグラフィーによって更に
精製することが出来る。本発明の方法を実施するに当っ
て原料化合物として使用した前記一般式（０）を有する
化合物は新規な化合物であり、例えば次のような方法で
製造することが出来るが、もちろんこれらに限定される
ものではない。

第１工程 第２工程 第３工程 第４工程 第５工程 第６工程 第７工程 第８工程 第９工程 第１０工程 本発明の方法を実施するに当って原料化合物として使用
した一般式（Ｗ）を有する化合物は、Ｚ３が水素原子を
意味する場合には、一般式（１）を有する化合物を意味
するが、Ｚが水酸基の保護基を表わす場合には、新規な
化合物である。

化合物（Ｗ）から化合物（ｍ）を導く方法は保護基を除
去する反応であり、その方法は前に化合物（０）から化
合物（１）を導く方法において説明した方法と全く同様
である。

また、出発物質（Ｗ）は新規な化合物であり、例えば前
記一般式（Ｋ）を有する化合物から次のように製造する
ことができる。

第１１工程 第１２工程 第１３工程 第１４工程 第１５工程 第１６工程 上記式中、Ｚ〜友の表わす意味は、前述したものと同じ
である。

Ａは保護されたカルボニル基を示す。カルボニル基の保
護基としては、第７工程即ちアルコールをアルデヒ日こ
酸化する工程において変化を受けないようなものならば
特に限定はなく、そのような保護基で保護されたカルポ
ニル基としては例えば、メチレンジオキシ、エチレンジ
オキシのようなアルキレンジオキシ基：ジメトキシ、ジ
ェトキシのようなジアルコキシ基：エチレンジチオ、ト
リメチレンジチオのようなアルキシンジチオ基：オキシ
ムなどをあげることが出来るが、これらの保護基に特に
限定されるものではない。Ｚは水酸基の保護基を示す。

Ｚ７で表わされる水酸基の保護基としては、以下に続く
第４工程、第５工程および第１２工程において変化を受
けないもので、かつその保護基を除去する工程において
化合物の他の部分に影響を与えないものであれば特に限
定はないが、望ましくは、ＺおよびＺに含まれる水酸基
の保護基と区別して優先的に除去されるような保護基が
選ばれる。そのような保護基としては例えば、クロロア
セチル基、２，２，２−トリクロロェトキシカルボニル
基等があるが、もちろんこれらに限定されるものではな
い。ここにおいてＺ４がアルキル基を示す場合に限りＡ
はまた酸素原子を示す。

Ａが酸素原子を示す場合には、第５工程と第１０工程即
ちカルボニル基を保護する工程と、カルボニル基の保護
基を除去する工程は省略することが出釆る。この場合、
第８工程即ち後述するゥィティッヒ反応においてアルデ
ヒドとケトンが両方存在することになるが、ウィティッ
ヒ反応はアルデヒドに優先的に起るので、一般式（柳）
で示される化合物が主として生成する。

ここで原料化合物として使用した前記一般式（Ｖ）を有
する化合物は既知化合物であり、その合成法は例えば、
藤瀬、丸山、宇田、づ・原、黒沢、日本化学雑誌第８２
萱３６刀貢〜３７２頁（１９６１年）に記載されている
。

以下、第１工程から第１６工程まで順を追って簡潔に説
明する。

第１工程はアルコールを保護する反応であり、Ｚに含ま
れる保護基としては、以下に続く工程中で変化しないも
のが選ばれる。

第２工程はァルドール縮合類似反応であって、一般式を
有する化合物と四塩化チタン、四塩化錫、三塩化アルミ
ニウム、三フッ化ホウ素ヱーテラートなどのルイス酸を
反応試剤として用いることによって達成される。

ここにＺはアセチル、プロピオニルなどのアシル基：メ
チル、エチルなどのアルキル基：トリメチルシリルなど
のトリアルキルシリル基を示している。四塩化チタンを
用いる反応については、例えば向山、伊沢、西郷、ケミ
ストリー・レダーズ、（１９７仏王）３２３〜３２６頁
に記載されている。第３工程は水酸基を保護する反応で
あり、水酸基の保護基としては、Ｚについて前述したよ
うな保護基が選ばれる。

第４工程は化合物（ｍ）を酸存在下に で表わされるカルボン酸無水物ととも に加熱することによって容易に達成される。

従って、この場合ぞはＲＯＯＯＨなるカルボン酸とェス
テル形成して保護された形のヒドロキシメチル基を表わ
す。通常の実施においては、Ｐ−トルェンスルホン酸存
在下、無水酢酸中で加熱することによって充分目的が達
成される。第５工程はカルボニル基を保護する反応であ
って、カルボニル基の保護基としてはＡについて前述し
たものの中から選ばれ、一般的に知られた反応によって
目的が達成される。第６工程は水酸基の保護基Ｚを除去
する反応である。

Ｚ７がクロロアセチル基を表わす場合には、チオ尿素も
しくは２−アミノーチオェタノールとともにおだやかに
加熱することによって除去することが出釆る。Ｚが２，
２，２ートリクロロェトキシカルボニル基を表わす場合
には、亜鉛粉末と処理することによって除去することが
出来る。第７工程は水酸基を酸化してアルデヒドにする
反応であり、酸化剤としては化合物中の他の部分に関与
しなければ特に限定なく、公知の酸化剤が好適に使用さ
れる。第８工程はゥィティッヒ反応であって、式（Ｃ６
氏）８Ｐ由−ＣｅＨ−（ＣＨ２）８ＣＯＯＮａで表わさ
れるホスホニウムイリドと前記一般式（細）を有する化
合物との反応によって前記一般式（柳）を有する化合物
が得られる。

第９工程はカルボキシル基を保護する反応であってカル
ボキシル基の保護基としては以下に続く工程で変化しな
いようなものであれば特に限定なく使用される。

第１０工程はカルボニル基の保護基を除去する反応であ
って、Ａで表わされる保護基に応じた公知の除去条件が
好適に使用される。

第１１工程はＱ、８不飽和カルボニル基を還元してアリ
ルアルコールに変換する工程であって、還元剤としては
、化合物の他の部分に変化を与えないようなものであれ
ば特に限定なく使用され、そのような還元剤としては例
えば公３由の水素化ホウ素亜鉛のようなものが好適に使
用される。

第１２工程は水酸基を保護する反応であって、水酸基の
保護基としては以下に続く反応工程中に変化を受けない
もので、後にその保護基を除去する反応の際に化合物の
他の部分に影響を与えないようなものであれば、任意に
好適に使用される。

第１３工程は水酸基の保護基Ｚを除去して水素原子に置
換する反応であって、第６工程について前述したものと
同様な反応である。第ｌｔ上程は水酸基を酸化してアル
デヒドに変換する工程であって、前述した第７工程と同
様である。

一・−、 、第１５工程はゥィティッ
ヒ反応であって、前述した第８工程と同様である。

第１６工程はカルボキシル基を保護する工程であって、
前述した第９工程と同様であるが、続いて特許請求の範
囲第２項に記載した方法で各保護基を除去する反応に付
する場合には、第１６工程を省略することが出来、その
場合目から明らかなように前述一般式（Ｗ）を有する化
合物において、ＺＩはカルポキシル基を意味する。

反応終了後、各工程の目的化合物は通常の方法によって
反応混合物から採取され、得られた目的化合物は必要な
らば常法例えばカラムクロマトグラフィー、薄層クロマ
トグラフィー、あるいは製造的高速液体クロマトグラフ
ィーなどの手段によって更に精製することができる。

次に実施例および参考例をあげて、本発明の方法を更に
具体的に説明するが、もちろんこれらによって本発明の
範囲が限定されるものではない。

略号として次のものを使用した。ｍｐ：融点（未補正） Ｕｃ：薄層クロマトグラフィ （特記なき限り、メルク社製シリカゲ ル簿層板 アート・５７１５を使用） ｉｒ：赤外吸収スペクトル ｍａｓｓ：質量スペクトル ｎｍｒ：核磁気共鳴吸収スペクトル （プロトン、１０ｍＭＨＺで測定） １３Ｃ‐ｎｍｒ：炭素一１３核磁気共鳴吸収スペクトル
〔Ｑ〕ｏ：旋光度ｌｒのデータは主要なピークのみ記載
した。

ｍａｓｓのデータは親ピークもしくはそれに対応するピ
ークのみ記載した。実施例 １ （皮，９ｏ，１１ｏ，１班，ＩＳ）−９，１５ージヒド
ロキシー１１ーヒドロキシメチルー１２ーイソブロスタ
ー５，１３−ジヱン−１一酸および（皮，９Ｑ，１１ｏ
，１班，１駅）‐９，１５ージヒドロキシ−１１ーヒド
ロキシメチルー１２ーィソブロスター５，１３ージェン
ー１一酸（皮，９Ｑ，１１Ｑ，１斑）−１１−アセチル
オキシメチル−９−ヒドロキシー１５ーオキソー１２
ーィソプロスター５，１３ージェンー１一酸〆チルェス
テル１５０の９を８の‘のメタノールに溶解し、これを
氷水溶中で冷却、鷹梓しながら水素化ホウ素ナトリウム
４０の夕を加える。

１時間後 ＩＮ水酸化カリウム水溶液６泌を加え、室温
で１時間縄拝する。

シュウ酸飽和水溶液を滴下して、反応液をｐＨ−３にし
て水流ポンプによる減圧下にメタノールの大部分を留去
し、残った水層を酢酸エチル１００の‘を使用して数回
に分けて抽出する。酢酸エチル層を合して、少量の食塩
水で洗浄したのち、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶剤を
留去することによって、油状物１５７の夕を得た。

これをメルク社製シリカゲル−６０を９タ使用したカラ
ムクロマトグラフィーに供し、メタノール３ないし１５
％を含有したクロロホルムで港出２５Ｍのフラクション
を２３本取る。Ｍ．８からＭ．１２のフラクションを濃
縮することによって油状物質として純粋な（Ｚ，９Ｑ，
１１ｏ，１班，１駅）‐９，１５−ジヒドロキシ−１１
−ヒドロキシメチルー１２ーイソプロスタ−５，１３ー
ジェン−１酸７６．６のタカミ得られた。地．１６から
Ｍ．２３のフラクションを集めて濃縮することによって
油状物質として純粋な（皮，９Ｑ，１１Ｑ，１班，１＄
）−９，１５‐ジヒドロキシー１１−ヒドロキシメチル
ー１２−イソプロスタ−５，１３ージェン‐１−酸級６
奴のミ得られた。Ｍ．１３力）らＭ．１５のフラクショ
ンを集めて濃縮することにより、上記２種の化合物の混
合物２５．７ののミ油状物質として得られた。次の分析
手段により確認した。（但し、ＩＳおよび１球は、比に
おいてＲｆ値の小さい方を１＄体と仮定した。）Ｕｃ
（酢酸エチル ２回展開） ＩＳ体 Ｒｆ＝０．２０ １球体 Ｒｆ＝０．２９ ｔｉｃ（ベンゼン：ジオキサン：酢酸 ２０：１０：・
）１＄体 Ｒｆ＝０．３５ １弧体 Ｒｆ＝０．４５ ０ｃ （酢酸エチル：酢酸 １００：１）１＄体
Ｒｆ＝０．１４ １球体 Ｒｆ＝０．２４ １ｒ （液膜） し：弧‐１ １＄体：３４００，２９２０，２８５０，１７１０，９
７０１訳体：３４００，２９２０，２８５０，１７１０
，９７０〔Ｑ〕客：１＄体：＋１７．１０（Ｃ＝１．１
１ＣＨＣ１３）１球体：十４７．５０（Ｃ＝１．０７Ｃ
ＨＣ１３）ｎｍｒ （ＣＤＣ１３）６脚（ＴＭＳから）
ＩＳ体０．８７ （ｔ，細） １，０５〜２．５ （Ｃ，２皿）２．６〜２．
９ （ｍ，ＩＨ） ３．５９ （ｄ，が） ４．０〜４．３ （ｍ，２Ｈ）４．９６
（Ｓ，４Ｈ） ５．２〜６．１ （ｍ，４Ｈ）１球体 ０．８７ （ｔ，細） １．０〜２，５ （Ｃ，２皿） ２．５〜２．９ （ｍ，ＩＨ）３．５６
（ｄ，２Ｈ） ４．０〜４．３ （ｍ，２Ｈ）４．９６
（Ｓ，岬） ５，２〜６．０ （ｍ，岬） 実施例 ２ （皮，９Ｑ，１１ｏ，１の）−９ーアセチルオキシ−１
１ーアセチルオキシメチルー１５ーヒドロキシー１２ー
イソプロスター５，１３ージエン−１−酸−メチルェス
テル（皮，９Ｑ，１１Ｑ，１班）‐９−ァセチルオキシ
ー１１アセチルオキシメチル一１５ーオキソー１２ーイ
ソプロスタ−５，１３ージヱンー１一酸〆チルェステル
２１０雌を１０の‘のアルコールに溶解し、室温で縄拝
しながら、水素化ホウ素ナトリウム６０奴ｐを少量ずつ
加える。

３０分燈梓を続けたのち、減圧下にアルコールを除去し
、残りに２０の‘酒右酸水素ナトリウム飽和水溶液を加
え、酢酸エチル４０の【で５回抽出する。

酢酸エチル抽出液を合して、重曹水少量と食塩水少量で
洗い、硫酸ナトリウムで乾燥してから酢酸エチルを蟹去
すると、２０５ｍｏの油状物質が得られた。このものは
次の分析データと次に示す実施例３の結果から表記の（
皮，９Ｑ，１１ｏ，１班）−９−アセチルオキシー１１
−アセチルオキシメチル−１５ーヒドロキシー１２−イ
ソプロスタ−５，１３ージェンー１一酸−メチルェステ
ルであると推定出来る。ｄｃ （シクロヘキサン：酢酸
エチル １：・）Ｒｆ＝０．２５ ０．３ ｌｖ （液膜） し仇‐１ 乳５０，２＄０，２８５０，１７３５ ９７０実施例
３（Ｚ，９Ｑ，１１Ｑ，１の，１５）‐９，１５ージヒ
ドロキシー１１ーヒドロキシメチルー１２ーイソプロス
ター５，１３ージェンー１一酸実施例２で得た油状物質
則ち（皮，９Ｑ，１１ｏ，１班）‐９ーアセチルオキシ
‐１１‐アセチルオキシメチル一１５−ヒドロキシー１
２−イソプロスター５，１３ージェンー１一酸−メチル
ェステルの１＄，１粥混合物２０５のｏを２０の‘のメ
タノールに溶解し、これに２０奴の１規定、水酸化カリ
ウム水溶液を加えて室温で１．虫時間鷹拝する。

減圧下にメタノールの大部分を蟹去したあと、残った水
溶液にシュウ酸飽和水溶液を加えて、ｐＨ２〜３に調整
してから酢酸エチル５０の【で５回抽出する。酢酸エチ
ル抽出液を合して食塩水少量で１回洗った後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮することによって、油
状物１７０の９を得た。このものを厚さ２肋で調製され
たシリカゲル薄層板（２０肌×２０弧）２枚を使用した
製造的薄層クロマトグラフィーに供し、酢酸１％を含ん
だ酢酸エチルで展開する。Ｒｆが０．１５から０．２５
までの範囲のシリカゲル層をかき取りメタノールで抽出
し、シリカゲルをロ過して除いた後、濃縮する。濃縮物
を酢酸エチル６０叫に溶かし、酢酸を含んだ水で３回洗
ってシリカゲル由来の不純物を除いて、更に食塩水で１
回洗った後、硫酸マグネシウムで乾燥してから酢酸エチ
ルを留去することによって、目的の（Ｚ，９Ｑ，１１Ｑ
，１班，１＄）‐９，１５ージヒドロキシ−１１−ヒド
ロキシメチルー１２ーイソプロスター５，１３ージェン
−１一酸が６５のタ得られた。次の分析データにより確
認した。ｕｃ （酢酸１％含有酢酸エチル） Ｒｆ二０．１４ ｌｖ （液膜） し弧‐１ ３４００，２９２０，２８５０，１７１０，９７０ｎｍ
ｒ（ＣＤＣ１３）６脚（ＴＭＳから）０．８７
（ｔ，汎） １．０５〜２．５ （Ｃ，２０Ｈ）２．５〜
２．９ （ｍ，ＩＨ）３．５９
（ｄ，斑）４．０〜４．３ （ｍ，
が） ４．９６ （Ｓ，凪） ５．２〜６，１ （ｍ，山） 実施例 ４ （Ｚ，９Ｑ，１１Ｑ，１班，１球）‐９，１５−ジヒド
ロキシー１１ーヒドロキシメチル−１２ーイソフ。

ロスター５，１３ジェンー１一酸実施例３の製造的薄層
クロマトグラフィーにおいてＲｆが０．２５から０．３
までの範囲のシリカゲル層をかき取り、メタノールで抽
出してシリカゲルをロ過して除いた後、濃縮する。

濃縮物を酢酸エチル６０の‘に溶かし、酢酸を含んだ水
少量で３回洗い、更に食塩水少量で１回洗った後、硫酸
マグネシウムで乾燥してから、酢酸エチルを蟹去するこ
とによって目的の（Ｚ，９は，１１Ｑ，１斑，１球）−
９，１５−ジヒドロキシー１１ーヒドロキシメチルー１
２ーイソプ。スター５，１３ージエン−１一酸が３５の
９得られた。次の分析データにより、確認した。ｏｃ
（酢酸１％含有酢酸エチル） Ｒｆ＝０．２４ ｌｒ （液膜） ひ肌‐１ ３４００，２９２０，２８５０，１７１０，９７０実施
例 ５（皮，９Ｑ，１１Ｑ，１紙）‐９，１５ージヒド
ロキシー１１−ヒドロキシメチルー１５−メチル一１２
ーィソプロスタ−５，１３ージェン−１一酸（弦，９ｏ
，１１Ｑ，１班）‐９ーアセチルオキシ−１１−アセチ
ルオキシメチル一１５ーオキソ−１２ーィソブロスター
５，１３−ジヱンー１一酸〆チルヱステル１私雌を１６
の‘のエーテルに溶解し、これをドライアイス−アセト
ン溶中で鷹拝する。

これにメチルマグネシウムョーダィドのエーテル溶液（
０．７８Ｍ）２の‘（過剰）を加え鷹拝を続けながら徐
々に温度を上げてゆく。室温になってから更に１時間縄
梓を続けた後、氷水裕中で冷却燈拝しながら、少量の酒
石酸水素ナトリウム飽和溶液を加えて過剰のグリニャー
試薬を分解させ、続いてエーテルを減圧下に留去する。
残りの反応混合物にメタノール１０の‘を加え、更に１
規定水酸化カリウム溶液１０叫を加えて、室温で２時間
燈拝した後、おだやかな減圧下にメタノールの大部分を
留去し、残った水溶液に酒石酸水素ナトリウム飽和水溶
液を加えて注意深くｐＨ３．５〜４．０にする。この水
層を酢酸エチル５０泌で５回抽出し、抽出液を合して、
食塩水少量で１回洗った後、硫酸ナトリウムで乾燥して
から、溶剤を蟹去することによって、油状の粗生成物１
４０のｏが得られた。このものを厚さ２肋で調製された
シリカゲル薄層板（２比ス×２０ｃｍ）を使用した製造
的薄層クロマトグラフィーに供し、酢酸を１％含有した
酢酸エチルで２回展開する。Ｒｆが０．２５から０．３
２までのシリカゲル層をかき取ってメタノールで抽出し
、実施例３および４で前述したと同様の処理を行うこと
によってＩＳ体を主に含有した目的化合物（皮，９Ｑ，
１１Ｑ，１斑）‐９．１５−ジヒドロキシ−１１−ヒド
ロキシメチルー１５−メチル一１２ーイソプロスター５
．１３ージェン−１一酸５４雌が得られた。Ｒｆが０．
３２から０．４までのシリカゲル層をかき取ってメタノ
ールで抽出し、同様の処理を行うことによって、１球体
を主に含有した目的化合物（皮，９Ｑ，１１Ｑ，１班）
９．１５‐ジヒドロキシ−１１ーヒドロキシメチル−１
５ーメチル‐１２−イソプロスター５．１３−ジェン−
１−酸３６のｏが得られた。

（但しＩＳ体と１球体の決定は、ＵｃにおけるＲｆ値の
小さい方をもって１＄体と仮定した。）次の分析データ
によって確認した。ｏｃ （酢酸エチル：酢酸 ９９：
１） １＄体 Ｒｆ＝０．２５ １球体 Ｒｆ＝０．２７ ｉｒ（液膜） し肌‐１ ３４５０，２９３０，２８５０，１７１０，９７０ｎｍ
ｒ （Ｃ比１３）６脚（ＴＭＳから）０．機
（ｔ ９Ｈ） １．０５〜２．８ （Ｃ ２１Ｈ）（１
．２だがを除く）１．２７ （Ｓ 班） ３．５７ （ｍ が） ４．０〜４．３ （ｍ ＩＨ） ４９ （Ｓ 山） ５．２・６．１ （ｍ ４Ｈ）（ｉｒ，ｎｍ
ｒは１＄体、１球体について同じ）実施例 ６（皮，９
ｏ，１１Ｑ，１班）‐２０ーェチル‐９．１５ージヒド
ロキシ−１１−ヒドロキシメチル−１２ーィソブロスタ
ー５．１３−ジェン−１一酸（皮，９Ｑ，１１Ｑ，１班
）−９ーアセチルオキシー１１−アセチルオキシメチル
一２０ーエチル−１５ーオキソ−１２ーイソプロスター
５．１３−ジエンー１一酸〆チルェステル１１５の夕を
１０地のアルコールに溶解し、氷水浴中で縄投しながら
、水素化ホウ素ナトリウム５０の９を少量ずつ加えて、
２時間燈拝を続ける。

減圧下にアルコールを除去した後、残澄にメタノール１
０の‘と１規定水酸化カリウム水溶液１０泌を加え、室
温で１．虫時間蝿拝する。おだやかな減圧下にメタノー
ルの大部分を留去した後、残った水溶液にシュウ酸飽和
水溶液を注意深く加えて、ｐＨ３にする。酢酸エチル４
０奴で６回抽出し、抽出液を合して１回食塩水少量で洗
浄してから硫酸マグネシウムで乾燥し溶剤を留去するこ
とによって油状の粗生成物１０５のｏを得た。これをシ
リカゲル７夕を用いたカラムクロマトグラフィーに供し
、メタノール５なし、し１０％を含有したク。ｏホルム
で溶出して、２５の‘のフラクションを２０本取るＭ．
５からＭ．１４のフラクションを集めて濃縮することに
よって油状の目的化合物（弦，９Ｑ，１１ｏ，１組）‐
２０−エチル−９．１５ージヒドロキシー１１ーヒドロ
キシメチルー１２ーイソプロスタ−５．１３−ジェン−
１−酸（ＩＳ，１弧の混合物）７２倣が得られた。次の
分析データより確認した。ｔｉｃ（ベンゼン：ジオキサ
ン：酢酸 ２０：１０：・）Ｒｆ＝０．４（ＩＳ，１斑
混合物） Ｒｆ＝０．４７ ｌｒ （液膜） し仇‐１ ３４５０，２９２０，２８５０，１７１０，９７０ｍｍ
【 （ＣＤＣ１３） ６脚（ＴＭＳから）０．８７
（ｔｍ９Ｈ）１．０〜２．９
（ｍ ２斑） ３．５７ （ｍ が） ４．０〜４．３ （ｍ が） ５．０ （Ｓ 岬） ５．２〜６．１ （ｍ 岬） 参考例 １ （Ｚ，９Ｑ，１１Ｑ，１班）‐９ーアセチルオキシー１
１ーアセチルオキシメチルー１５ーオキソー１２ーィソ
ブロスター５．１３ージェン−１一酸〆チ′レエステ／
し参考例３で得た粗生成物即ち（Ｚ，９Ｑ，１１ｏ，１
＄）‐１１ーアセチルオキシメチルー１５１５ーエチレ
ンジオキシー９−ヒドロキシ−１２ーイソプロスタ−５
．１３−ジヱンー１酸〆チルェステルとその９−アセチ
ル化物の混合物約０．７夕を５０の‘のアセトンに溶解
し、これにＰ−トルェンスルホン酸−水和物５０脚を加
えて室温で２時間蝿拝する。

アセトンを減圧下に除去した後、残りを２５０叫の酢酸
エチルに溶解し、酢酸エチル溶液を飽和重曹水少量 続
いて食塩水少量にて洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧下に溶剤を蟹去することによって、油状の粗生
成物０．７夕を得た。これをシリカゲル３５夕を使用し
たカラムクロマトグラフィーに供し、酢酸エチル含有（
２０〜３０％）シクロヘキサンで辰開溶出し、１００の
‘のフラクションを５本と続いて３０私のフラクション
を２４本取る。舷．３から船．１１のフラクションを集
めて濃縮することにより目的の化合物（皮，９Ｑ，１１
ｏ，１班）一９ーアセチルオキシー１１−アセチルオキ
シメチル一１５ーオキソー１２ーイソプロスタ−５．１
３ージエンー１一酸−メチルェステルが油状物質として
０．２３５タ得られた。次の分析データによって確認し
た。ｏｃ （ベンゼン：酢酸エチル ６：４）Ｒｆ＝０
．２４ ｔｉｃ （シクロヘキサン：酢酸エチル ８：２３回展
開）Ｒｆ＝０．２４ 〔Ｑ〕舎＝十１４０ （Ｃ＝０．８６ クロロホルム）
ｌｒ （液膜） し仇‐１２９２５ ２８５０，１７４
０，１６７０，１６２０ｎｍｒ （ＣＤＣ１３） ６胸
（ＴＭＳから）０．８９ （ｔ ３Ｈ
）１．１〜２．７ （Ｃ ２岬） （２．０１Ｓ，２．０＄を除く） ２．０１ （Ｓ 汎） ２．０９ （Ｓ 細） ２．７〜３．１ （ｍ ＩＨ）３．６５
（Ｓ 細） ３．８〜４．１ （ｍ が） ５．１〜５．５ （ｍ 班） ６．１ （ｄ ＩＨ） ６．８９ （ｄｄ ＩＨ）参考例 １２ （皮，９ｏ，１１Ｑ，１班）‐１１ーァセチルオキシメ
チルー９ーヒドロキシ−１５−オキソ−１２ーィソプロ
スタ−５．１３−ジェン−１−酸〆チルエステル参考例
１のカラムクロマトグラフイーにおいてＭ．１２かＭ．
２９までのフラクションを集めて濃縮することによって
表記目的化合物（皮，９Ｑ，１１Ｑ，１斑）−１１ーア
セチルオキシメチルー９−ヒドロキシ−１５ーオキソー
１２ーイソプロスター５．１３−ジェンー１−酸〆チル
ェステルが油状物質として０．２８２タ得られた。

次の分析データにより確認した。ｏｃ （ベンゼン：酢
酸エチル ６：４）Ｒｆ＝０．５７ ｔｉｃ （シクｏヘキサン：酢酸エチル ８：２３回展
開）Ｒｆ＝０．２４ 〔Ｑ〕容＝十２０ｏ （Ｃ＝２．１４ クロロホルム）
ｌｒ （液膜） し瓜‐１３５００，２雛５ ２８５
０，１７４０ １６６０，１６２０ ｍｍｒ （ＣＤＣ１３）８脚 （ＴＭＳから）０．８９
（ｔ ３Ｈ）１．１〜２．７
（Ｃ ２１Ｈ）（２．０１Ｓ３日を除く） ２．０１ （Ｓ 細） ２．７〜３．０ （ｍ ＩＨ）３．６５
（Ｓ が） ４０ （ｍ が） ４．３６ （ｍ ＩＨ） ５４ （ｍ が） ６．０１ （ｄ ＩＨ） ７．０５ （ｄｄＩＨ） 参考列 ３ （皮，９Ｑ，１１ｏ，１班）‐１１−アセチルオキシメ
チル−１５．１５−エチレンジオキシー９ーヒドロキシ
−１２ーイソブロスタ−５．１３−ジエンー１一酸〆チ
ルェステルおよび（皮，９ｏ，１１ｏ，１班）‐９ーァ
セチルオキシー１１ーアセチルオキシメチルー１５．１
５ーエチレンジオキシ−１２−イソプロスタ−５．１３
−ジェン−１一酸〆チルヱステル参考例４で得られた粗
生成物（皮，９Ｑ，１１Ｑ，１紙）一１５．１５ーエチ
レンジオキシ−９ーヒドロキシー１１ーヒドロキシメチ
ルー１２ーイソプロスター５．１３ージェンー１−酸メ
チルェステル０．７夕を６Ｍの無水酢酸に溶解せしめ、
これを氷水浴中で燈拝しながら２の‘のピリジンを加え
る。

１時間燈梓を続けたのち減圧下に無水酢酸とピリジンを
除去することによって油状物質０．７夕を得た。

このものは直ちに参考例１の原料として供する。Ｕｃ
（ベンゼン：酢酸エチル ６：４）Ｒｆ＝０．３８（９
−ヒドロキシ体） Ｒｆ＝０．５６（９ーアセチルオキシ体）ｌｒ （液膜
） し仇‐１ 私００，２９２５ ２８５０，１７３０ 参考例 ４ （皮，９Ｑ．１１ｏ，１斑）‐１５．１５‐ヱチレンジ
オキシ−９ーヒドロキシー１１ーヒドロキシメチル−１
２ーイソブロスター５．１３−ジエン−１一酸〆チルェ
ステル（皮，９ｏ，１１Ｑ，１班）−１５．１５‐エチ
レンジオキシー９ーヒドロキシ−１１ーヒドロキシメチ
ル−１２ーイソプロスタ−５．１３−ジェンー１一酸０
．７０夕をジェチルェ−テル７０泌に溶解し、これにジ
アゾメタンのジェチルェーテル溶液を過剰に加える。

直ちに減圧下に過剰のジアゾメタンとジェチルエーテル
を除去することによって目的の（皮，９ｏ，１１Ｑ，１
班）‐１５．１５ーェチレンジオキシー９−ヒドロキシ
ー１１−ヒドロキシメチルー１２ーィソプロスタ−５．
１３ージェン−１一酸〆チルェステル０．７１夕が油状
物質として得られた。このものは直ちに参考例３の原料
として供する。ＯＣ （酢酸エチル）Ｒｆ；０．４７ ｉｒ （液膜） し 仇‐１ ３４００，２９３０，２８５０，１７４０参考例 ５
， （弦，９Ｑ，１１Ｑ，１班）‐１５．１５−エチレンジ
オキシー９ーヒドロキシ−１１ーヒドロキシメチルー１
２−イソプロスター５．１３ージエン−１一酸減圧下９
０℃で１時間乾燥した４−カルボヒドロキシプチルトリ
フエニルホスホニウムブロマイド４．４３夕（１仇ｈｍ
ｏｌ）を乾燥したジメチルスルホキシド９の‘に溶解す
る。

これを室温で燈拝しながら、ナトリウムメチルスルフイ
ニルカルバニドのジメチルスルホキサィド溶液（２．０
９Ｍ）９の‘を加えて赤燈色のホスホラン溶液を得る。
これに参考例６で得た（＄Ｓ，４Ｓ，駅，畝Ｓ）ーヘキ
サヒドロー〔（Ｅ）−３．３−エチレンジオキシ−１ー
オクテニル〕−２ーヒドロキシメチル−２日ーシクロベ
ンタ〔ｂ〕フラン０．６６夕（２ｈｍｏｌ）のジメチル
スルホキシド（１０の‘）溶液を加え室温で１．５時間
鷹拝する。高真空中でジメチルスルホキサィドを除去し
残澄に６０私の冷水を加える。

水層を５０の‘の酢酸エチル：エーテル（１：１）混合
溶剤で４回抽出したる後、約４夕の酒石酸水素ナトリウ
ムを水層に加えて、ｐＨ約４とする。エーテル６０の‘
で６回抽出操作を行い、エーテル抽出液を合して少量の
食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、ェー７
ルを留去することによって目的の粗生成物（皮，９は，
１１Ｑ，１班）‐１５．１５−エチレンジオキシー９ー
ヒドロキシー１１ーヒドロキシメチルー１２ーィソプロ
スタ−５．１３−ジェンー１一酸０．７夕が油状物質と
して得られた。

このものは特に精製することなく、参考例４の原料とす
る。ｔｉｃ （酢ェチ） Ｒｆ＝０．１５ 参考例 ６ （＄Ｓ，４Ｓ，弧，斑Ｓ）‐へキサヒドｏ−４一〔（Ｅ
）−３．３−エチレンジオキシ−１ーオクテニル〕一２
−ヒドロキシー５−ヒドロキシメチルー２日ーシクロベ
ンタ〔ｂ〕フラン参考例７で得た（ＩＳ，狐，釈，４Ｒ
）−４−ァセチルオキシメチル一１ーベンゾイルオキシ
ー３一〔（Ｅ）一３．３ーエチレンジオキシー１ーオク
テニル〕−２ーホルミルメチルーシクロベンタン０．９
５夕とメタノール５０の‘および１規定水酸化カリウム
水溶液５０叫の混合物を室温で縄拝する。

３．５時間後ゆるい減圧下にメタ／ールの大部分を留去
し、残った水層を食塩で飽和した後酢酸エチル１００の
‘で５回抽出する。

酢酸エチル抽出液を合して少量の食塩水で洗浄し、硫酸
ナトリウムで乾燥した後、溶剤を留去することによって
無色半固状の生成物（３Ｓ，交，球，舷Ｓ）ーヘキサヒ
ドロー４‐〔（Ｅ）‐３．３‐エチレンジオキシー１ー
オクテニル〕−２ーヒドロキシー５−ヒドロキシメチル
ー２日ーシクロベンタ〔ｂ〕フラン０．６６夕を得た。

リｃ（酢ェチ）Ｒｆ＝０．２５ ｉｒ （ＫＢｒ） レ 仇‐１ 私００，２９５０，２９２４，２８５０，１０２０参考
例 ７（ＩＳ，波，駅，収）‐４‐アセチルオキシメチ
ル−１ーベンゾイルオキシー３−〔（Ｅ）−３．３ーエ
チレンジオキシ−１ーオクテニル〕一２−ホルミルメチ
ルーシクロベンタン減圧下１５０℃で充分乾燥したセラ
イトー５４５１８夕とクロム酸２ピリジン錯体（コリン
ズ試薬）９夕および乾燥精製した塩化メチレン９０の‘
の混合物をアルゴン雰囲気中−５０〜０℃に燭拝しなが
ら、参考例８で得た。

（ＩＳ，弧，駅，侭）−４ーアセチルオキシメチルー１
−ペンゾイルオキシ−３−〔（Ｅ）−３．３−エチレン
ジオキシー１ーオクテニル〕一２一（２ーヒドロキシエ
チル）ーシクロベンタン１．０８夕の塩化メチレン（１
５の‘）溶液を一度に加え、１８分間欄拝する。その後
細かく粉砕した硫酸水素ナトリウム１８夕を加え更に１
０分間燈梓する。セラィトー５４５を敷いたグラスフィ
ルターで反応混合物をロ遇し塩化メチレンで充分洗つ。
ロ液を洗液を合して濃縮した後エーテル３００の‘に溶
解し、もう一度ロ過してクロム化合物の沈澱の大部分を
除く、エーテル溶液を濃縮することによって油状の生成
物（ＩＳ，狐，球，４Ｒ）−４−アセチルオキシメチル
−１ーベンゾイルオキシー３−〔（Ｅ）一３．３−エチ
レンジオキシー１−オクテニル〕一２ーホルミルメチル
ーシクロベンタン０．９５夕を得た。ｏｃ （ベンゼン
：酢酸エチル ８：２）Ｒｆ＝０．３３ ｌｒ （液膜） し 弧‐１ ２９３０，２８５０，２７２０，１７３５，１７２０，
１６００，７１５参考例 ８ （ＩＳ，波，駅，４Ｒ）‐４‐アセチルオキシメチル一
１−ペンゾイルオキシ−３一〔（Ｅ）一３．３−エチレ
ンジオキシ−１−オクテニル）一２一（２ーヒドロキシ
ヱチル）ーシクｏベンタン（ＩＳ，２Ｒ，駅，４Ｒ）‐
４ーアセチルオキシメチルー１ーベンゾイルオキシ−２
一（２ークロロアセチルオキシエチル）一３一〔（Ｅ）
一３．３ーエチレンジオキシー１ーオクテニル〕ーシク
ｏベンタン１．１８３夕をアルコール１２０の‘に溶解
せしめ、これにチオ尿素１６７の９炭酸水素ナトリウム
１８５雌を加えて７０午０の油裕中で縄拝する。

２岬時間後混合物からアルコールを除去し、残りをエー
テル４００の‘に溶解して、このエーテル溶液を飽和重
曹水少量で２回、飽和食塩水少量で３回洗った後硫酸ナ
トリウムで乾燥し、エーテルを留去することによって粗
生成物（ＩＳ，波，駅，収）−４−ァセチルオキシメチ
ル一１−ペンゾイルオキシ−３一〔（Ｅ）一３．３ーエ
チレンジオキシー１ーオクテニル〕一２一（２−ヒドロ
キシヱチル）ーシクロベンタン１．雌夕が油状物として
得られた。

Ｕｃ ベンゼ：酢酸エチル ８：２） Ｒｆ＝０．１７ ｌｒ （液膜） し 仇‐１ ３５００，２班０，２８６０，１７４０，１７２０１６
００，７１５参考例 ９ （ＩＳ，狐，細，傘）‐４‐ァセチルオキシメチル一１
−ペンゾイルオキシ−２一（２ークロロアセチルオキシ
エチル）一３一〔（Ｅ）一３．３ーエチレンジオキシ−
１ーオクテニル〕−シクロベンタン（ＩＳ，狐，松，収
）‐４‐ァセチルオキシメチル−１ーベンゾイルオキシ
−２一（２ークロロアセチルオキシヱチル）一３−〔（
Ｅ）一３−オキソ−１ーオクテニル〕ーシクロベンタン
１．８０４夕とベンゼン１００の【とエチレングリコー
ル６泌およびＰ−トルェンスルホン酸１水和物２０倣の
混合物を加熱して水分磁器をつけた糸で脱水しながら還
流させる。

２岬時間後ベンゼン溶液を少量の重曹水と少量の食塩水
で各々３回ずつ洗い、硫酸ナトリウムで乾燥した後ベン
ゼンを留去することによって油状の粗生成物１．９６夕
を得た。

シリカゲル７０夕を使用したカラムクロマトグラフイー
により、酢酸エチル含有（５〜１０％）ベンゼンで展開
港出し対応するフラクションを集めて濃縮することによ
って純粋な目的物（ＩＳ，波，駅，４Ｒ）−４−アセチ
ルオキシメチル一１ーベンゾイルオキシ−２一（２ーク
ロロアセチルオキシエチル）一３一〔（Ｂ）一３．３−
エチレンジオキシー１ーオクテニル〕−シクロベンタン
１．２夕を油状物質として得た。次の分析データにより
確認した。ｏｃ （ベンゼン：酢酸エチル ８：２）Ｒ
ｆ＝０．４４ ｉｒ （液膜） し 仇‐１ ２９４０，２８５０，１７６０，１７４０，１７２０１
６００，７１５！，〔Ｑ〕客＝十２４０ （Ｃ＝２‐
３４ メタノール）ｎｍｒ（ＣＣ１４）６脚（ＴＭＳか
ら）０．８７ （ｔ ３Ｈ） １．１〜３．０ （Ｃ Ｉ９Ｈ）（１．９５
Ｓ ３日を除く）１．９５ （Ｓ 粗） ３．６〜４．０ （ｍ が） （３．９３Ｓ 餌を除く） ３．９３ （Ｓ が） ４．１４ （ｔ が） ５．４２ （ｄ ＩＨ） ５．５５ （ｍ ＩＨ） ６．０ （ｄｄＩＨ） ７．３〜７．６ （ｍ 班） ７．９〜８．１ （ｍ が） 参考例 １０ （ＩＳ，狐，派，想）‐４ーアセチルオキシメチルー１
ーベンゾイルオキシー２−（２−クロロアセチルオキシ
エチル）−３一〔（Ｅ）−３−オキソー１−オクテニル
〕−シクロベンタン（ＩＲ，粉Ｒ，＄，駅，飴Ｒ）ーヘ
キサヒドロー５ーベンゾイルオキシー６−（２−クロロ
アセチルオキシエチル）一１一（２−オキソーヘプチル
）−ＩＨーシクロベンタ〔Ｃ〕フラン５．９夕とＰート
ルェンスルホン酸１水和物１夕を無水酢酸１２０の‘に
溶解し、この溶液を７０００油裕中で擬梓する。

２．５時間後、減圧下に無水酢酸を蟹去し残りを酢酸エ
チル５００の‘に溶かして重曹水少量で２回、食塩水少
量で３回洗った後、硫酸マグネシウムで乾燥して、濃縮
することにより、粗生成物６．４８夕を得た。

これをシリカゲル３００夕を使用したカラムクロマトグ
ラフィーに供し、酢酸エチル含有（２０％）シクロヘキ
サンで溶出し、２００の‘ずつのフラクションを２０本
取る。Ｎｏ．８から船．１４までのフラクションを集め
て濃縮することによって純粋な目的化合物（ＩＳ，狐，
駅，傘）−４‐ァセチルオキシメチル一１ーベンゾイル
オキシ−２−（２ークロロアセチルオキシエチル）一３
−〔（Ｅ）一３ーオキソ−１ーオクテニル〕ーシクロペ
ンタン４．１７９夕が油状物質として縛られた。次の分
析デー外こよって確認した。ＱＣ （ベンゼン：酢酸エ
チル ８：２）Ｒｆ＝０．３７ ｌｒ （液膜） し 仇‐１ ２９５０，２９２５，２８５０，１７６０，１７４０，
１７２０，１６７０，１６２５１６００，７１５〔Ｑ〕
客＝十１？ （Ｃ＝１‐０６ ク。

ロホルム）〔Ｑ〕奪＝十２２．６０（Ｃ＝１‐０６ メ
タノール）ｍｍｒ（ＣＤＣ１３）６脚 （ＴＭＳから）
０．８７ （ｔ 細）１．１〜３．１
（Ｃ Ｉ汎）（１．９＄犯および２．５４
ｔ班を除く）１．９９ （Ｓ 班） ２，弘 （ｔ が） ３，８〜４，３ （ｍ が） （３．９＄がおよび４．１乳幻を除く） ３．９９ （Ｓ が） ４．１８ （ｔ が） ５．５７ （ｍ ＩＨ） ６．１９ （ｄ ＩＨ）７．０３
（ｄｄ ＩＨ）７，３〜７．７
（ｍ 粗）７．９〜８，２ （ｍ が） 参考例 １１ （ＩＳ，駅，狐，収）‐４ーアセチルオキシメチルー１
−ペンゾイルオキシ−２一（２ーク。

ロアセチルオキシエチル）一３一〔（Ｅ）一３ーオキソ
ー１ーオクテニル〕ーシクロベンタン参考例９で得た（
ＩＳ，波，駅，凪）‐４−ァセチルオキシメチル一１−
ペンゾイルオキシ−２−（２ークロロアセチルオキシエ
チル）一３一〔（Ｅ）一３．３ーエチレンジオキシ−１
−オクテニル〕ーシクロベンタン５のｏとアセトン１の
【およびＰートルェンスルホン酸水和物１ｍｐの混合物
を室温で２時間蝿拝した後アセトンを減圧下に除去し残
澄を酢酸エチル１０の‘に溶解して、少量の重曹水で洗
い、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶剤を蟹去するこ
とにより、表記化合物（ＩＳ，波，釈，４Ｒ）‐４ーア
セチルオキシメチルー１ーベンゾイルオキシー２−（２
ークｏｏアセチルオキシエチル）−３−〔（Ｅ）一３ー
オキソー１ーオクテニル〕ーシクロベンタン４の夕が得
られた。

次の分析データによって確認した。Ｕｃ （ベンゼン：
酢酸エチル ８：２）Ｒｆ＝０．３７ ｌｒ（液膜） し 弧‐１ ２９５０，２９２５，２８５０，１７６０，１７４０，
１７２０，１６７０，１６２５１６００，７１５参考例
１２ （ＩＲ，粉Ｒ，＄，駅，笹Ｒ）ーヘキサヒドロ−５ーベ
ンゾイルオキシ−６−（２ークロロアセチルオキシエチ
ル）−１−（２ーオキソーヘプチル）−ＩＨシクロベン
タ〔Ｃ〕フラン（ＩＲ，粉Ｒ，＄，駅，皮Ｒ）−へキサ
ヒドロ‐５ーベンゾイルオキシー６一（２ーヒドロキシ
エチル）一１−（２ーオキソーヘプチル）一ＩＨ−シク
ロベンタ〔Ｃ〕フラン０．３０夕（０．７７ｍｍｏｌ）
とクロロアセチルクロライド０．１０２夕（０．９ｈｍ
ｏｌ）を乾燥エーテル１０凧【に溶かし、氷水浴中で冷
却縄拝しながらピリジン０．０７１夕（０．９ｈｍｏｌ
）を加える。

１時間後エーテル７０泌を加えてうすめ、ヱーナル溶液
を、水、重曹水、１規定塩酸、重曹水で順に洗浄してか
ら硫酸マグネシウムで乾燥し、エーテルを蟹去すること
によって無色油状の生成物が０．３１２タ得られた。

このものは次の分析データによって、（ＩＲ，松Ｒ，＄
，駅，弦Ｒ）−へキサヒドロー５ーベンゾイルオキシー
６一（２−クロロアセチルオキシエチル）−１一（２ー
オキソーヘプチル）−ＩＨーシク。ペン夕〔Ｃ〕フラン
であることを確認した。ｏｃ（シクロヘキサン：酢酸エ
チル６：４）Ｒｆ＝０．３５〔Ｑ〕客＝十５１．７（Ｃ
＝１．１６ メタノール）ｌｒ （液膜） し仇‐１
２９５０，２８６０，１７６０，１７１０，１６００．
１２７０，７１３ｍｍｒ（ＣＣ１４） ６ 脚（ＴＭＳ
から）０．９１ （ｔ 細）１．１〜３１
（Ｃ １７Ｈ） ３．３〜３７ （ｍ ＩＨ） ３．９４ （Ｓ が） ３．９〜４．３ （ｍ ＩＨ） ４，１９ （ｔ が） ４．斑 （ｍ ＩＨ） ５．５０ （ｍ ＩＨ） ７．３〜７．６ （ｍ 細） ７．９〜８．１ （ｍ 班） 参考例 １３ （ＩＲ，粉Ｒ，＄．駅．舷Ｒ）ーヘキサヒドロー５−ペ
ンゾイルオキシー６−（２ーヒドロキシエチル）一１一
（２−オキソーヘプチル）−ＩＨーシクロベンタ〔Ｃ〕
フラン２ーアセトキシー１−へプテン６．３５７夕（４
０．７ｍｍｏｌ）を精製した塩化メチレン８０ｗ‘に溶
かし、この溶液をアルゴン雰囲気中０℃〜一５℃に冷却
縄拝しながら、これに四塩化チタンの塩化メチレン溶液
（０．６４Ｍ）６３．８の【（４０．７ｍｍｏｌ）をゆ
っくり滴下して加える。

得られた淡黄色の混合物を縄拝しながらこらに更に６−
ェピーテトラヒドロフンヒドロアウクビゲニンベンゾエ
イト１０．１５夕（３７．０９ｈｍｏｌ）を含んだ塩化
メチレン溶液（５０のと）をゆっくり滴下して加える。
滴下終了後更に００〜一５℃で３０分燈梓を続けてから
、得られたかつ色の反応液に冷却した飽和重曹水２００
の‘を加えてチタンの錆体を分解する塩化メチレン層を
分離したのち水層を酢酸エチル４００の‘で５回抽出し
、有機層を合してから、重曹水２００叫で２回食塩水２
００奴で１回洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮して
油状の粗生成物１５．２７夕が得られた。シリカゲル３
００夕を使用したカラムクロマトグラフィーに供し、酢
酸エチル５〜２０％を含んだ塩化メチレンで展開溶出し
５００机上のフラクションを２１本採取する。Ｍ．７か
ら舷．１３までのフラクションを集めて濃縮することに
よって無色樹状の純粋な生成物８．８２夕（２２．７ｍ
ｍｏｌ）が得られた。

地．６のフラクションと船．１４から２１までのフラク
ションを集めて濃縮することによって、不純物少量を含
んだ生成物０．９６夕が得られた。この生成物は次に示
す分析データによって表記の（ＩＲ，粉Ｒ，＄，服，斑
Ｒ）‐へキサヒドロ−５ーベンゾイルオキシー６一（２
ーヒドロキシエチル）一１一（２ーオキソ−へプチル）
一ＩＨーシクロベンタ〔Ｃ〕フランであることを確認し
た。Ｕｃ（シクロヘキサン：酢酸エチル６：４）Ｒｆ＝
０．１ｏｃ（塩化メチレン：酢酸エチル１０：１）Ｒｆ
＝０．２〔Ｑ〕客＝十６８．６ｏ（Ｃ＝１．１０１ メ
タノール）ｉｒ（液膜） し弧‐１３４５０，２９４
０，２８５０，１７１３ １６００，１２７５，１１１
０，１０７０，１０２５ ７１２Ｍａｓｓ Ｍ＋＝＄
斑 ｎｍｒ（ＣＤＣ１３） ６脚（ＴＭＳから）０，８８
（ｔ が）１．１〜３．１ （Ｃ
Ｉ班） ３．４〜４．４ （Ｃ ４Ｈ）４．６４
（ｍ ＩＨ） ５．５７ （ｍ ＩＨ） ７，３〜７．６ （ｍ 細） ７．９〜８．２ （ｍ が） １８Ｃ‐ｎｍｒ（ＣＤＣｌ３）６跡 （ＴＭＳから低磁場） ２０９．５３８ １６６．３３３ １３３．１２９１３
０．２７０１２９．６８７（本） １２８．６４８（公
）７９．００８７７．１８８７４．７１９６１．４６５
５２．９５３４８．６６５ ４３．５９７４３．４０２４２．９４７ ３７．４２５３１．３８１ ２８．６５３２３．１９５
２２．４１５１３．９０４ 参考例 １４ ６ーエピーテトラヒドロアンヒドロアウクビゲニンベン
ゾエイト６ーエビーテトラヒド。

アンヒドロアウクビゲニン７．２７夕（４２．８ｒｍｏ
ｌ）をビリシン２０泌に溶かし氷水浴中で冷却縄拝しな
がらペンゾィルクロラィド７．６夕（弘ｍｍｏｌ）を滴
下する。滴下終了後室温に戻して更に２時間網拝してか
らエーテル５００の‘でうすめ、水、１規定塩酸、水、
飽和重曹水、飽和食塩水で順に洗う。エーテル溶液を硫
酸ナトリウムで乾燥してから濃縮することにより、粗生
成１２．４６夕を油状物質として得た。シリカゲル５０
０夕を使用したカラムクロマトグラフィーに供し、ベン
ゼン：酢酸エチル混合溶剤で展開溶出することにより精
製して１０．１８夕の無色結晶が得られた。次の分析デ
ータによって６−ヱピーテトラヒドロアンヒドロアウク
ビゲニンゾエイトであることを確認した。ｍＰ
６０〜６１℃ ｏｃ（塩化メチレン） Ｒｆ＝０．７５ 〔Ｑ〕客＝十３２．７ （Ｃ＝１．０４ メタノール） ｉｒ（ＫＢｒ） リ弧‐１ ２９４０，２８５０，１７１０，１２８５１１２０，１
０５５ ７１０ Ｍａｓｓ Ｍ＋＝２７４ ｍｍｒ（ＣＤＣ１３） ６胸（ＴＭＳから）１．６〜３
．０ （Ｃ ７Ｈ）３．３〜３．６
（ｍ ＩＨ）３．６〜４．２ （Ｃ 細
） ５．２７ （ｄ ＩＨやＰＳ） ５．４５ （ｍ ＩＨ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｚ＾１はカルボキシル基又はメトキシカルボ
   ニル基、Ｚ＾２は水酸基又は低級アルカノイルオキシ基
   、Ｚ＾３はヒドロキシメチル基又は低級アルカノイルオ
   キシメチル基、Ｚ＾４は炭素数１〜１０のアルキル基、
   Ｚ＾５は水素原子又は低級アルキル基を示す。 ５員環から点線で伸びた結合は、５員環平面から点線で
   伸びた結合は、５員環平面から下に伸びた結合すなわち
   α配位を示している。 〕で表わされるプロスタグランジン誘導体。