JPS6146732U - 半導体用熱処理装置 - Google Patents
半導体用熱処理装置Info
- Publication number
- JPS6146732U JPS6146732U JP13174584U JP13174584U JPS6146732U JP S6146732 U JPS6146732 U JP S6146732U JP 13174584 U JP13174584 U JP 13174584U JP 13174584 U JP13174584 U JP 13174584U JP S6146732 U JPS6146732 U JP S6146732U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat treatment
- semiconductors
- treatment equipment
- treatment apparatus
- visible light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Resistance Heating (AREA)
- Furnace Details (AREA)
- Muffle Furnaces And Rotary Kilns (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は本考案にかかる熱処理装置の側断面を示す図、
第２図は従来の熱処理装置の側断面を示す図である。 図において、１はハロゲンランプ、２は石英処理容器、
３はウエハー、４はウエハーホルダー、５は放物面反射
鏡、１１は本考案にかかる散乱体、１２は揺動機構、を
示している。
第２図は従来の熱処理装置の側断面を示す図である。 図において、１はハロゲンランプ、２は石英処理容器、
３はウエハー、４はウエハーホルダー、５は放物面反射
鏡、１１は本考案にかかる散乱体、１２は揺動機構、を
示している。
Claims (1)
- 赤外線および可視光を透過する材料からなる処、理容器
を挟んで、上下に高出力ランプと放物面反射鏡を組み合
わせた加熱体を有する熱処理装置において、前記処理容
器と加熱体との間に、赤外線および可視光を透過する材
料からなる散乱体を設け、該散乱体を熱処理時間に比べ
て十分に短い時間周期で揺動させ、被加熱物が均一に照
射されるようにした機構を設けたことを特徴とする半導
体用熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13174584U JPS6146732U (ja) | 1984-08-29 | 1984-08-29 | 半導体用熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13174584U JPS6146732U (ja) | 1984-08-29 | 1984-08-29 | 半導体用熱処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6146732U true JPS6146732U (ja) | 1986-03-28 |
Family
ID=30690319
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13174584U Pending JPS6146732U (ja) | 1984-08-29 | 1984-08-29 | 半導体用熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6146732U (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63128625A (ja) * | 1986-11-18 | 1988-06-01 | Nec Corp | 光照射加熱炉 |
| JPH07249589A (ja) * | 1994-03-10 | 1995-09-26 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置 |
| JPH09330886A (ja) * | 1996-06-10 | 1997-12-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の枚葉式熱処理装置 |
-
1984
- 1984-08-29 JP JP13174584U patent/JPS6146732U/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63128625A (ja) * | 1986-11-18 | 1988-06-01 | Nec Corp | 光照射加熱炉 |
| JPH07249589A (ja) * | 1994-03-10 | 1995-09-26 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置 |
| JPH09330886A (ja) * | 1996-06-10 | 1997-12-22 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の枚葉式熱処理装置 |
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