JPS6148734A - 気体の濃度および分圧測定装置 - Google Patents
気体の濃度および分圧測定装置Info
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- JPS6148734A JPS6148734A JP16999484A JP16999484A JPS6148734A JP S6148734 A JPS6148734 A JP S6148734A JP 16999484 A JP16999484 A JP 16999484A JP 16999484 A JP16999484 A JP 16999484A JP S6148734 A JPS6148734 A JP S6148734A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/10—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void
- G01J1/20—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle
- G01J1/34—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle using separate light paths used alternately or sequentially, e.g. flicker
- G01J1/36—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void intensity of the measured or reference value being varied to equalise their effects at the detectors, e.g. by varying incidence angle using separate light paths used alternately or sequentially, e.g. flicker using electric radiation detectors
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- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、例えば鉄鋼業において使用される各種熱処理
炉その他、各業種において使用されている各種プロセス
において雰囲気気体の濃度および分圧を管理するだめの
測定装置に関するものである。
炉その他、各業種において使用されている各種プロセス
において雰囲気気体の濃度および分圧を管理するだめの
測定装置に関するものである。
(従来の技術)
鉄鋼業において使用される加熱炉、焼鈍炉を始め、気体
の成分濃度および分圧が管理された雰囲気中で行われる
プロセスは数多く存在し、そこでは気体の濃度および分
圧を測定することが不可欠である。そのため現在は、測
定用プローブを被all定雰囲気中に直接挿入し測定を
行う方法や、被測定カスを適当な装置を用いて吸引しプ
ロセスの外部で測定する方法などが行われている。
の成分濃度および分圧が管理された雰囲気中で行われる
プロセスは数多く存在し、そこでは気体の濃度および分
圧を測定することが不可欠である。そのため現在は、測
定用プローブを被all定雰囲気中に直接挿入し測定を
行う方法や、被測定カスを適当な装置を用いて吸引しプ
ロセスの外部で測定する方法などが行われている。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながらこれらの方法は、例えばプロセスの雰囲気
が高温、高圧状態にある場合や腐食性の強い気体成分か
ら構成されている場合等々苛酷な条件下では、測定用プ
ローブの耐熱、耐圧、1耐腐食性能に限界があることや
、カスを外部に取出すことに起因して、ガス成分が失わ
れてしまうことがある等々種々の問題があり、■確な4
(11定を竹うことができない場合があった。
が高温、高圧状態にある場合や腐食性の強い気体成分か
ら構成されている場合等々苛酷な条件下では、測定用プ
ローブの耐熱、耐圧、1耐腐食性能に限界があることや
、カスを外部に取出すことに起因して、ガス成分が失わ
れてしまうことがある等々種々の問題があり、■確な4
(11定を竹うことができない場合があった。
本発明は、上記のような問題点を解決し、光の吸収強度
を利用し、測定用の光をプロセス中の管理雰囲気中を直
接通過させることにより、背景雑音の彩管を′、θ時除
去しつつ、そのガス成分の濃度あよひ分圧を正確に測定
するための装置を提供せんとするものである。
を利用し、測定用の光をプロセス中の管理雰囲気中を直
接通過させることにより、背景雑音の彩管を′、θ時除
去しつつ、そのガス成分の濃度あよひ分圧を正確に測定
するための装置を提供せんとするものである。
(問題へを解決するだめの手段1作用)本発明は、前記
のように光の吸収強度を利用して気体の濃度および分圧
を4111定するもので、Wl11光用光源および参照
充用光源として半導体レーザを設け、被flll+定気
体に向けて放射されるレーザ光の光1h11−ヒに、全
吸収而と透過孔を有する回転セクタと、全反射面、全吸
収而および透過孔を有する回転セクタを、互に同期回転
するように設け、かつ1咳回転セクタの中間にハーフミ
ラ−を設け、さらに1ji記光d41+ 、、l−の被
測定気体の後方に反射面を設けるとともに、nQ記ハー
フミラ−の反射面に対向して検出器を設けたことを特徴
とする。
のように光の吸収強度を利用して気体の濃度および分圧
を4111定するもので、Wl11光用光源および参照
充用光源として半導体レーザを設け、被flll+定気
体に向けて放射されるレーザ光の光1h11−ヒに、全
吸収而と透過孔を有する回転セクタと、全反射面、全吸
収而および透過孔を有する回転セクタを、互に同期回転
するように設け、かつ1咳回転セクタの中間にハーフミ
ラ−を設け、さらに1ji記光d41+ 、、l−の被
測定気体の後方に反射面を設けるとともに、nQ記ハー
フミラ−の反射面に対向して検出器を設けたことを特徴
とする。
先ず本発明装置の測定原理について説明する。
第1表に示すように気体分子は分子振動に対応して特定
の波長の光を強く吸収する。石こで、この特定の吸収波
長をもつ光を用いて、気体の吸収強度を測定し、これか
ら測定対象ガスの濃度を1TllI定する方法は、例え
ば特公昭51−20!304号公報に開示されているよ
うにすでに行われている。
の波長の光を強く吸収する。石こで、この特定の吸収波
長をもつ光を用いて、気体の吸収強度を測定し、これか
ら測定対象ガスの濃度を1TllI定する方法は、例え
ば特公昭51−20!304号公報に開示されているよ
うにすでに行われている。
第1表
本発明装]゛ζ1は上記の特定の吸収波り七をもつ光(
以下4111定光という。)の他に、吸収波長に近いか
、光吸収を受けない波長の光(以下参照光という。)を
用い、しかも両党か同一光路を通過するようにし、かつ
測定光および参照光について光源の光強度(以下始強度
という、)および被A111定気体中を通過し、該気体
による光吸収を受けた後の光強度(以下終強度という。
以下4111定光という。)の他に、吸収波長に近いか
、光吸収を受けない波長の光(以下参照光という。)を
用い、しかも両党か同一光路を通過するようにし、かつ
測定光および参照光について光源の光強度(以下始強度
という、)および被A111定気体中を通過し、該気体
による光吸収を受けた後の光強度(以下終強度という。
)を測定し、これらの(+Gからカス濃度の平均値を測
定しようとするもので、しかも光源として半導体レーザ
を使用することを最大の特徴とする。すなわち、半導体
レーザは発振部の温度と供給電流により発振波長が定ま
り、温度あるいは電流を掃引することかできる波長可変
レーザであるので、波長掃引によって参照光と測定光を
1つの素子から得ることを特徴とするものである。
定しようとするもので、しかも光源として半導体レーザ
を使用することを最大の特徴とする。すなわち、半導体
レーザは発振部の温度と供給電流により発振波長が定ま
り、温度あるいは電流を掃引することかできる波長可変
レーザであるので、波長掃引によって参照光と測定光を
1つの素子から得ることを特徴とするものである。
一般に、光吸収はLambert−Beerの法則に従
いI(L)=Ioexp(−asn*L)と表わされる
。但し工(0)は始強度、nは被rllli定気体の体
積モル濃度、Lは光路長、αは吸収係数、I (L)は
終強度である。なお、吸収係数αは被ΔIll廻気体、
使用波長により一義的に決まる物理定数である。
いI(L)=Ioexp(−asn*L)と表わされる
。但し工(0)は始強度、nは被rllli定気体の体
積モル濃度、Lは光路長、αは吸収係数、I (L)は
終強度である。なお、吸収係数αは被ΔIll廻気体、
使用波長により一義的に決まる物理定数である。
そこで本発明においては測定光、参照光および背光雑音
をJli+定するため、光コ;を側の回転セクタ(以下
No、lセクタという。)には透過孔と全吸収σ11を
設け、他力の(被Δ111定カス側の)回転セクタ(却
下N022セクタという。)には全反射面、全吸収面お
よび透過孔を設け、第2表にンバす組合せを構成させ、
組合せ■では始強度を、(2,)では検出器のUtt雑
音を、・■では終強度を、・4)では背光雑音としての
放出光を1TII+定する。
をJli+定するため、光コ;を側の回転セクタ(以下
No、lセクタという。)には透過孔と全吸収σ11を
設け、他力の(被Δ111定カス側の)回転セクタ(却
下N022セクタという。)には全反射面、全吸収面お
よび透過孔を設け、第2表にンバす組合せを構成させ、
組合せ■では始強度を、(2,)では検出器のUtt雑
音を、・■では終強度を、・4)では背光雑音としての
放出光を1TII+定する。
第2表
すなわち回転セクタの組合せにより得られる光強度■、
〜■4は次のようになる。
〜■4は次のようになる。
組合せ・慢の場合 I、 =Iλ、(a) + Iz1
’1= zA2 (o) + 11 // を示 // I 3 =
K I人+ (a)exp(−α入+ ・ n・
L) +IB + Iz I 3 = K I入2 (o)exp(−
αλ2− n轡 L)+IB+IZ // 4) // I
4 =IB +Ixなおこのときタンシュ記
号のないものは参照光に関する光強度、グ・ノシュ記号
のあるものは測定光にI′Aする光強度を表わすもので
ある。
’1= zA2 (o) + 11 // を示 // I 3 =
K I人+ (a)exp(−α入+ ・ n・
L) +IB + Iz I 3 = K I入2 (o)exp(−
αλ2− n轡 L)+IB+IZ // 4) // I
4 =IB +Ixなおこのときタンシュ記
号のないものは参照光に関する光強度、グ・ノシュ記号
のあるものは測定光にI′Aする光強度を表わすもので
ある。
但し、入1は参照光の波長、入2はAjl+定光の波長
、αλ1は波長入、に対する吸収係数、α入2は波長へ
2に対する吸収係数、I入1 (0)は参照先の始強度
、I屓(0)は測定光の始強度、nは被al定気体の体
積モル濃度、Lは光路長、Iz は検出′A:(の1
f5雑音、IB は背光雑音としての放出光、には被
d111定気体による光駁収以外の光損失を表わす係数
である。(なおこの係数は、光路に存在する窓ガラスの
汚れによる損失、光路において測定光の一部か欠けるこ
とによる損失等を表わす。)これらにより、参照光およ
び測定光の透過率R,,R2は 透過率比Rは となり、経時変化する未知の係iKを消去することかで
きる。また参照先は被4111定気体により吸収されな
いので、αλλ〉〉α入1とすることかでき。
、αλ1は波長入、に対する吸収係数、α入2は波長へ
2に対する吸収係数、I入1 (0)は参照先の始強度
、I屓(0)は測定光の始強度、nは被al定気体の体
積モル濃度、Lは光路長、Iz は検出′A:(の1
f5雑音、IB は背光雑音としての放出光、には被
d111定気体による光駁収以外の光損失を表わす係数
である。(なおこの係数は、光路に存在する窓ガラスの
汚れによる損失、光路において測定光の一部か欠けるこ
とによる損失等を表わす。)これらにより、参照光およ
び測定光の透過率R,,R2は 透過率比Rは となり、経時変化する未知の係iKを消去することかで
きる。また参照先は被4111定気体により吸収されな
いので、αλλ〉〉α入1とすることかでき。
従って透過率比Rは
R−exp(αλ2畢n @L )
・・−C2)となる。さらにこの (2)式の両辺の対
数をとり、被測定気体の体積モル濃度nについて整理す
るととなる。そこでこの体積モル!農度nと気体の状態
方程Δ゛− P=n・R−T ・・・(4)
(但しPは被flll+定気体の分圧、Tは披411定
気体の温度、Rは気体Z5゛数)を組合せることにより
被A1(1定気体の分圧を測定することかできる。
・・−C2)となる。さらにこの (2)式の両辺の対
数をとり、被測定気体の体積モル濃度nについて整理す
るととなる。そこでこの体積モル!農度nと気体の状態
方程Δ゛− P=n・R−T ・・・(4)
(但しPは被flll+定気体の分圧、Tは披411定
気体の温度、Rは気体Z5゛数)を組合せることにより
被A1(1定気体の分圧を測定することかできる。
/(発明装、7はこのような理論に基いて被−111定
気の濃度および分圧を?S+11定する装置に関するも
ので、以下図面により本発明について説明する。第1図
は未発明の構成を示す説明図で、1はレーザ素子、5A
および5Bはモータ6より同期回転する回転セクタで、
レーザ;に子1側のN011回転セクタ5Aには透過孔
15および全吸収面16を、また被4111定気体12
側のNo、2回転セクタ5Bには透過孔15.全吸収面
16および全反射面17を前記第2表に示す組合せにな
るように配置°ろ゛しである(第3図参照)。7は両回
転セクタ5A、5B間に設けたハーフミラ−18は該ハ
ーフミラ−7に対向させた軸はずし放物lI6鏡、9は
検出器であり、これらは本体10内に収容している。1
1は本体10に設けた窓で、筺体からの/1lll定光
および参照光か通過する。窓材としては使用波長に対す
る透過率か既知であり、かつ各波長に対する透過率が等
しいものを仙用することかヘリましい。また13は被3
])1定置体12の後方に設けたレトロリフレクタ−等
の反射面である。
気の濃度および分圧を?S+11定する装置に関するも
ので、以下図面により本発明について説明する。第1図
は未発明の構成を示す説明図で、1はレーザ素子、5A
および5Bはモータ6より同期回転する回転セクタで、
レーザ;に子1側のN011回転セクタ5Aには透過孔
15および全吸収面16を、また被4111定気体12
側のNo、2回転セクタ5Bには透過孔15.全吸収面
16および全反射面17を前記第2表に示す組合せにな
るように配置°ろ゛しである(第3図参照)。7は両回
転セクタ5A、5B間に設けたハーフミラ−18は該ハ
ーフミラ−7に対向させた軸はずし放物lI6鏡、9は
検出器であり、これらは本体10内に収容している。1
1は本体10に設けた窓で、筺体からの/1lll定光
および参照光か通過する。窓材としては使用波長に対す
る透過率か既知であり、かつ各波長に対する透過率が等
しいものを仙用することかヘリましい。また13は被3
])1定置体12の後方に設けたレトロリフレクタ−等
の反射面である。
本発明装置により気体の濃度および分圧をJlll定す
るには、波長掃引によってレーザ索子lかも得た波長入
1 、入2のレーザ光を回転セクタ5Aに放身1する。
るには、波長掃引によってレーザ索子lかも得た波長入
1 、入2のレーザ光を回転セクタ5Aに放身1する。
そこで先ず始強度1 (o)を求めるには。
回転セクタ5Aの透過孔15と回転セクタ5日の全反射
面16の組合せ(第2表LD)を光j111I上に位置
させる。このときにはレーザ素子1からの光は透過孔1
5を透過し、さらにハーフミラ−7を透過して回転セク
タ5Bの全反射面16で反射し、ハーフミラ−7に戻り
反射して軸はずし放物面鏡8に至り集光され検出器9に
到達する。従ってこのとき波長掃引することにより参照
光、測定光の始強度■1 。
面16の組合せ(第2表LD)を光j111I上に位置
させる。このときにはレーザ素子1からの光は透過孔1
5を透過し、さらにハーフミラ−7を透過して回転セク
タ5Bの全反射面16で反射し、ハーフミラ−7に戻り
反射して軸はずし放物面鏡8に至り集光され検出器9に
到達する。従ってこのとき波長掃引することにより参照
光、測定光の始強度■1 。
11が検出される。次に回転セクタ5Aおよび5Bがそ
れぞれ全吸収面16となる組合せ(第2表(ワ)で光軸
上に位置するようにすると、検出器9に入射する光か遮
断されるので検出器9自身の1@雑音(I2=Iりのみ
が検出される。ざらに回転セクタ5Aおよび5Bがとも
に透過孔15の組合せ(第2表(j))で光軸上に位置
すると、レーザ素t!1からの光は回転セクタ5Aの透
過孔15.ハーフミラ−7、回転セクタ5Bの透過孔1
5を透過し、さらに窓11を透過し、被測定気体12を
通過し、反射面13により反射し再び被測定気体12を
通過し、本体10内に1アリハーフミラ−7により反射
し11d+はずし放物面鏡8により集光されて検出器9
に到達する。
れぞれ全吸収面16となる組合せ(第2表(ワ)で光軸
上に位置するようにすると、検出器9に入射する光か遮
断されるので検出器9自身の1@雑音(I2=Iりのみ
が検出される。ざらに回転セクタ5Aおよび5Bがとも
に透過孔15の組合せ(第2表(j))で光軸上に位置
すると、レーザ素t!1からの光は回転セクタ5Aの透
過孔15.ハーフミラ−7、回転セクタ5Bの透過孔1
5を透過し、さらに窓11を透過し、被測定気体12を
通過し、反射面13により反射し再び被測定気体12を
通過し、本体10内に1アリハーフミラ−7により反射
し11d+はずし放物面鏡8により集光されて検出器9
に到達する。
従ってこのとき波長掃引すれば参照光および1111定
光の終強度工3およびI′3が検出されることになる。
光の終強度工3およびI′3が検出されることになる。
さらに回転セクタ5Aの全吸収面17および回転セクタ
5Bの透過孔15の組合せ(第2表■)が光軸上に位j
δすると検出器9には光源以外の背光雑音工4が検出さ
れることになる。
5Bの透過孔15の組合せ(第2表■)が光軸上に位j
δすると検出器9には光源以外の背光雑音工4が検出さ
れることになる。
このようにして始強度、暗雑音、終強度、背光雑音の光
強度I* 、It 、I2 、I3 、I3お
よび工4の測定値が得られるので、これらの値から前記
のように参照光および測定光の透過率R1。
強度I* 、It 、I2 、I3 、I3お
よび工4の測定値が得られるので、これらの値から前記
のように参照光および測定光の透過率R1。
R2を求めすることができ、さらに (1)式、 (2
)式および (3)式により体積モル濃度nを、また
(4)式から被測定気体の分圧を求めることができる。
)式および (3)式により体積モル濃度nを、また
(4)式から被測定気体の分圧を求めることができる。
第4図は検出器9により求められた光強度■1〜工4か
ら体積モル濃度nおよび分圧Pを求めるための演算回路
の一例を示すもので、検出器9によって光から変換され
た′上流イ、]弓は1回イ・バセクタの回転に伴って発
生し、デコーダ−21を経て供給される同期回路20か
らの信号に従って、プリアンプ18あるいは該プリアン
プ18およびAGOアンプ18を経てサンプルホールド
回路22〜27のいずれかに入力され、光強度11〜工
4として出力される。
ら体積モル濃度nおよび分圧Pを求めるための演算回路
の一例を示すもので、検出器9によって光から変換され
た′上流イ、]弓は1回イ・バセクタの回転に伴って発
生し、デコーダ−21を経て供給される同期回路20か
らの信号に従って、プリアンプ18あるいは該プリアン
プ18およびAGOアンプ18を経てサンプルホールド
回路22〜27のいずれかに入力され、光強度11〜工
4として出力される。
さらにこの光強度I、およびI2は演算回路3oにより
(It I2 )の演算が行われ、また演算回路3
1により(I’1=I2)の演算が行われ、ざら演算が
行われ、 AGC制御回路29を経てAGGアンプ19
にフィードバックされる。一方光強度工4は演算回路3
2により基準電圧発生器28からの信号と比較され、さ
らに演算回路33により光強度■3との間で(13I4
)の演算か行われる。また演算回路34により (I
3 I4)の演算が行われ、さらにこれらの結果は
演算回路36により3−I4 (7,、)の演算か行われ、Logアンプ37゜演算回
路38により透過率比R1体JMモル濃度nが演算出力
される。また畳られた体積モル濃度nと別途求めた温度
T (K)を乗算アンプ39により乗算し、演算回路4
0を経て分圧Pが演算出力される。
(It I2 )の演算が行われ、また演算回路3
1により(I’1=I2)の演算が行われ、ざら演算が
行われ、 AGC制御回路29を経てAGGアンプ19
にフィードバックされる。一方光強度工4は演算回路3
2により基準電圧発生器28からの信号と比較され、さ
らに演算回路33により光強度■3との間で(13I4
)の演算か行われる。また演算回路34により (I
3 I4)の演算が行われ、さらにこれらの結果は
演算回路36により3−I4 (7,、)の演算か行われ、Logアンプ37゜演算回
路38により透過率比R1体JMモル濃度nが演算出力
される。また畳られた体積モル濃度nと別途求めた温度
T (K)を乗算アンプ39により乗算し、演算回路4
0を経て分圧Pが演算出力される。
また−ヒ記の演算、すなわち光強度11〜■4より体積
モル濃度nおよび分圧Pを求めるGn算を、マイクロコ
ンピュータを用い、ティジタル的に行わせることもでき
る。
モル濃度nおよび分圧Pを求めるGn算を、マイクロコ
ンピュータを用い、ティジタル的に行わせることもでき
る。
またレーザ素子がIyl子では必要な波長域をカバーで
きないときには、第5図に示すようにレーザ素子を2個
用いることができる。第5図においてIAおよびIBは
互に波長の異なるレーザ素子、 2A、2Bおよび3A
、3Bは放物面鏡、 4Aおよび4Bはハーフミラ−
である。すなわちレーザ素子IAから放射された光束は
放vyJ晶鏡2A 、3Aを経て平行光束となりハーフ
ミラ−4Aで反射し、さらにハーフミラ−4日で反射し
回転セクタ5Aに至り、一方レーザ素子IBからの光束
は放物面鏡2B′8よび3Bにより反射し−9”j丁光
末となり、さらにハーフミラ−4Bを透過して回転セク
タ5Aに到達する。その後の動作は第1図の場合と同様
である。なお14は温調器である。
きないときには、第5図に示すようにレーザ素子を2個
用いることができる。第5図においてIAおよびIBは
互に波長の異なるレーザ素子、 2A、2Bおよび3A
、3Bは放物面鏡、 4Aおよび4Bはハーフミラ−
である。すなわちレーザ素子IAから放射された光束は
放vyJ晶鏡2A 、3Aを経て平行光束となりハーフ
ミラ−4Aで反射し、さらにハーフミラ−4日で反射し
回転セクタ5Aに至り、一方レーザ素子IBからの光束
は放物面鏡2B′8よび3Bにより反射し−9”j丁光
末となり、さらにハーフミラ−4Bを透過して回転セク
タ5Aに到達する。その後の動作は第1図の場合と同様
である。なお14は温調器である。
第6図は本発明を鋼板の焼鈍炉中の鋼板の近傍の雰囲気
ガスの濃度および分圧測定に適用した場合を示すもので
、41は焼鈍炉、42は鋼板、43は本発明装置の本体
10と焼鈍炉41の窓45とを連結するベローズ、44
は反射面13と焼ユ電炉41の窓46との間に設けた継
手である。このように構成すると、鋼板42の近傍の気
体12の濃度および分圧を側だすることかできる。
ガスの濃度および分圧測定に適用した場合を示すもので
、41は焼鈍炉、42は鋼板、43は本発明装置の本体
10と焼鈍炉41の窓45とを連結するベローズ、44
は反射面13と焼ユ電炉41の窓46との間に設けた継
手である。このように構成すると、鋼板42の近傍の気
体12の濃度および分圧を側だすることかできる。
なお、上記の説明はall定対象として1種類のガスの
場合について行ったか、他種ガスについて吸収される他
の波長入3 、入4・・・を加え、2種類以上の測定光
を用いることにより上記の場合と同様にして、同時に2
種類以上のカスの濃度および分圧を測定することができ
る。
場合について行ったか、他種ガスについて吸収される他
の波長入3 、入4・・・を加え、2種類以上の測定光
を用いることにより上記の場合と同様にして、同時に2
種類以上のカスの濃度および分圧を測定することができ
る。
(実施例)
次に本発明装置により大気中の水分量を6111足した
場合を示す。測定時の気温25℃、相対湿度32%で、
光路長は2mである。また半心体は素子温度一定の条件
で発振させ、供給電流を掃引することにより、発振波長
を6.9種類m〜[1,98壓mの量変化させた。第7
図に上記範囲の各波長に対する透過率のA11l定結果
を示した。この場合測定光波長として入、 =6.9
6用m、参照光波長として入2=f3.95gmを使用
し、前記(2)式を用いて透過率比Rを求めるとR=
1.11となった。また前記(3)式を用いて体積モル
濃度を求めると、n = 0.21mol/l となっ
た。さらに+iij記(4)式を用いて水分量の分圧を
求めると、7.8mmHgとなった。このf++Qは前
記の相対温度から求めた(itjとよく一致した。
場合を示す。測定時の気温25℃、相対湿度32%で、
光路長は2mである。また半心体は素子温度一定の条件
で発振させ、供給電流を掃引することにより、発振波長
を6.9種類m〜[1,98壓mの量変化させた。第7
図に上記範囲の各波長に対する透過率のA11l定結果
を示した。この場合測定光波長として入、 =6.9
6用m、参照光波長として入2=f3.95gmを使用
し、前記(2)式を用いて透過率比Rを求めるとR=
1.11となった。また前記(3)式を用いて体積モル
濃度を求めると、n = 0.21mol/l となっ
た。さらに+iij記(4)式を用いて水分量の分圧を
求めると、7.8mmHgとなった。このf++Qは前
記の相対温度から求めた(itjとよく一致した。
(発明の効果)
以上説明したように本発明装置によれば、被flll+
定気体か持つ温度、圧力などの条件によらず、11!1
定光および参照光を被測定気体中を通過させるのみで、
常時背光雑音の影響を除去しつつ多種類の気体濃度およ
び分圧を同時に正確に測定することかでき、しかも機構
的にも簡易である、また多方向に適用し得る等その実用
上の効果は極めて大きい。
定気体か持つ温度、圧力などの条件によらず、11!1
定光および参照光を被測定気体中を通過させるのみで、
常時背光雑音の影響を除去しつつ多種類の気体濃度およ
び分圧を同時に正確に測定することかでき、しかも機構
的にも簡易である、また多方向に適用し得る等その実用
上の効果は極めて大きい。
第1図は本発明装置の構成を示す説明図、第2図は本発
明における回転セクタの構成を示す説明(4、第3図は
回転セクタに配設した全吸収面、−会反射面、透過孔の
組合せを示す説明図、第4図は本発明装置に使用する演
p回路の一例を示す図、第5に!′Iは本発明装置にお
いてレーザ素子を2個用いた場合の説明図、第6図は本
発明を鋼板の焼を電炉に適用した場合を示す説明図、第
7図は本発明による大気中の水分量の測定結果を示す図
である。 1・・レーザ素子、2,3・・・放物面鏡、4・・・ハ
ーフミラ−15・・・回中云セクタ、6・・・モーター
、7・・・ハーフミラ−18・・・軸はずし放′1勿σ
11鏡、9・・・検出器、10・・・本体、11・・・
窓、12・・・被測定気体、13・・・反射面、18・
・・プリアンプ、18・・・AGcアンプ、2o・・・
回期回路、21・・・デコーダー、22〜27・・・サ
ンプルホールド回路、28・・・基博電圧発生′A:(
,29・・・AGC制σ口回路、30〜3G・・・iM
f算回路、E?−Logア〉′プ、3 a−1:H9回
路、 39・・・乗q回路140・l1ii ’j’J
[!I回路、41 ・・・焼鈍炉、43・・・ベロー
ズ、44・・・継手、45.46・・・窓。
明における回転セクタの構成を示す説明(4、第3図は
回転セクタに配設した全吸収面、−会反射面、透過孔の
組合せを示す説明図、第4図は本発明装置に使用する演
p回路の一例を示す図、第5に!′Iは本発明装置にお
いてレーザ素子を2個用いた場合の説明図、第6図は本
発明を鋼板の焼を電炉に適用した場合を示す説明図、第
7図は本発明による大気中の水分量の測定結果を示す図
である。 1・・レーザ素子、2,3・・・放物面鏡、4・・・ハ
ーフミラ−15・・・回中云セクタ、6・・・モーター
、7・・・ハーフミラ−18・・・軸はずし放′1勿σ
11鏡、9・・・検出器、10・・・本体、11・・・
窓、12・・・被測定気体、13・・・反射面、18・
・・プリアンプ、18・・・AGcアンプ、2o・・・
回期回路、21・・・デコーダー、22〜27・・・サ
ンプルホールド回路、28・・・基博電圧発生′A:(
,29・・・AGC制σ口回路、30〜3G・・・iM
f算回路、E?−Logア〉′プ、3 a−1:H9回
路、 39・・・乗q回路140・l1ii ’j’J
[!I回路、41 ・・・焼鈍炉、43・・・ベロー
ズ、44・・・継手、45.46・・・窓。
Claims (1)
- 測光用光源および参照光用光源として半導体レーザを設
け、被測定気体に向けて放射されるレーザ光の光軸上に
、全吸収面と透過孔を有する回転セクタと、全反射面、
全吸収面および透過孔を有する回転セクタを、互に同期
回転するように設け、かつ該回転セクタの中間にハーフ
ミラーを設け、さらに前記光軸上の被測定気体の後方に
反射面を設けるとともに、前記ハーフミラーの反射面に
対向して検出器を設けたことを特徴とする気体の濃度お
よび分圧測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16999484A JPS6148734A (ja) | 1984-08-16 | 1984-08-16 | 気体の濃度および分圧測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16999484A JPS6148734A (ja) | 1984-08-16 | 1984-08-16 | 気体の濃度および分圧測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6148734A true JPS6148734A (ja) | 1986-03-10 |
Family
ID=15896620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16999484A Pending JPS6148734A (ja) | 1984-08-16 | 1984-08-16 | 気体の濃度および分圧測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6148734A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5314938A (en) * | 1976-07-26 | 1978-02-10 | Kuriyama Satsushi Kougiyou Kk | Manufacturing method of window frames for square and round sliding doors |
| JPS5374479A (en) * | 1976-12-14 | 1978-07-01 | Sanyo Electric Co Ltd | Gas density measuring apparatus |
| JPS5633516A (en) * | 1979-08-25 | 1981-04-04 | Suga Shikenki Kk | Color measuring device with automatic compensation based on standard value |
| JPS56150305A (en) * | 1980-03-07 | 1981-11-20 | Perkin Elmer Ltd | Method of and apparatus for generating electrical output signal indicating ratio between two quantities |
-
1984
- 1984-08-16 JP JP16999484A patent/JPS6148734A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5314938A (en) * | 1976-07-26 | 1978-02-10 | Kuriyama Satsushi Kougiyou Kk | Manufacturing method of window frames for square and round sliding doors |
| JPS5374479A (en) * | 1976-12-14 | 1978-07-01 | Sanyo Electric Co Ltd | Gas density measuring apparatus |
| JPS5633516A (en) * | 1979-08-25 | 1981-04-04 | Suga Shikenki Kk | Color measuring device with automatic compensation based on standard value |
| JPS56150305A (en) * | 1980-03-07 | 1981-11-20 | Perkin Elmer Ltd | Method of and apparatus for generating electrical output signal indicating ratio between two quantities |
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