JPS6150986A - スルホキシドの製造法 - Google Patents
スルホキシドの製造法Info
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- JPS6150986A JPS6150986A JP17082484A JP17082484A JPS6150986A JP S6150986 A JPS6150986 A JP S6150986A JP 17082484 A JP17082484 A JP 17082484A JP 17082484 A JP17082484 A JP 17082484A JP S6150986 A JPS6150986 A JP S6150986A
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- acid
- penicillins
- cephalosporins
- hydrogen peroxide
- esters
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はスルホキシド化方法、とぐにペニシリン類ま
たはセファロスポリン類に燐酸化合物の存在下に過酸化
水素を作用させることを特徴とすルヘニシリン類または
セファロスポリン類のスルホキシド化方法に関する。
たはセファロスポリン類に燐酸化合物の存在下に過酸化
水素を作用させることを特徴とすルヘニシリン類または
セファロスポリン類のスルホキシド化方法に関する。
近年、セファロスポリン核をペニシリンスルホキシドか
ら製造する方法は工業的規模で実用されているが、ここ
で使用されるペニシリンスルホキシドをペニシリンから
製造することが重要な工居である。従来、過酸など危険
な試薬を用いる方法、過酸化水素を酸化剤として、タン
グステン化合物など稀元素触媒を用いる方法（特開昭４
８−３４１９２号）または反応速度の小きい低級アルカ
ン酸触媒による方法（５ｙｎｔｈｅｓｉｓ、 １９７８
年。
ら製造する方法は工業的規模で実用されているが、ここ
で使用されるペニシリンスルホキシドをペニシリンから
製造することが重要な工居である。従来、過酸など危険
な試薬を用いる方法、過酸化水素を酸化剤として、タン
グステン化合物など稀元素触媒を用いる方法（特開昭４
８−３４１９２号）または反応速度の小きい低級アルカ
ン酸触媒による方法（５ｙｎｔｈｅｓｉｓ、 １９７８
年。
３６１頁； ）ｌｅｔｅｒｏｃｙｃｌａｓ 、第２２巻
、５３１頁（１９８４年）゛）などが公知であるが、い
ずれも工業的利用には欠点がある０本発明者はかかる欠
点のない方法を探求し、過酸化水素によるスルホキシド
化が燐酸化合物により促進、円滑化されることを発見し
、この発明を完成した。
、５３１頁（１９８４年）゛）などが公知であるが、い
ずれも工業的利用には欠点がある０本発明者はかかる欠
点のない方法を探求し、過酸化水素によるスルホキシド
化が燐酸化合物により促進、円滑化されることを発見し
、この発明を完成した。
この発明に用いるペニシリン類は、ペニシリンＧ１ペニ
シリンＶなどの天然ペニシリン、６（αまたはβ）−ア
ミドペニシラン酸である合成ペニシリン、これら天然ま
たは合成ペニシリンの各種塩類、エステル類などである
。セファロスポリン類は７（αまたはβ）−アミドセフ
ァ０スポラン酸、その３位における各種誘導体およびそ
れらの塩類、エステル類などである。
シリンＶなどの天然ペニシリン、６（αまたはβ）−ア
ミドペニシラン酸である合成ペニシリン、これら天然ま
たは合成ペニシリンの各種塩類、エステル類などである
。セファロスポリン類は７（αまたはβ）−アミドセフ
ァ０スポラン酸、その３位における各種誘導体およびそ
れらの塩類、エステル類などである。
前記ペニシリン類、セファロスポリン類のアミド基を構
成するアシル基は、脂肪族や芳香族のアシル基であり、
異原子や不飽和結合を有しうる。
成するアシル基は、脂肪族や芳香族のアシル基であり、
異原子や不飽和結合を有しうる。
例えば、アルカノイノ呟置換アルカノイル、アルケノイ
ル、ベンゾイル、置換ベンゾイル、アラルカッイル、置
換アラルカッイル、アルコキシカッしポニノ呟アラルコ
キシカルボニルなどを例示できる。
ル、ベンゾイル、置換ベンゾイル、アラルカッイル、置
換アラルカッイル、アルコキシカッしポニノ呟アラルコ
キシカルボニルなどを例示できる。
セファロスポリン類の３位における各種誘導体として、
アルキル、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシ、アル
コキシ、アシルオキシ、アルキルチオ、アシルチオ、ア
リールチオ、ハロゲンなどを例示できる。これらの基は
各種置換分を有していてもよく、また、アリール部分は
窒素、＃素、硫黄などの異原子を含む異項環であっても
よい。
アルキル、アルケニル、アルキニル、ヒドロキシ、アル
コキシ、アシルオキシ、アルキルチオ、アシルチオ、ア
リールチオ、ハロゲンなどを例示できる。これらの基は
各種置換分を有していてもよく、また、アリール部分は
窒素、＃素、硫黄などの異原子を含む異項環であっても
よい。
とくに公知の低級アルキル、アルケニル、アルコキシ、
ハロゲン、アルフキジメチル、アルカノイルオキシメチ
ノ呟異項環チオメチル、ピリジニウムメチル、置換ピリ
ジニウムメチルなどが重要である。
ハロゲン、アルフキジメチル、アルカノイルオキシメチ
ノ呟異項環チオメチル、ピリジニウムメチル、置換ピリ
ジニウムメチルなどが重要である。
エステル類としては、ペニシリン、セファロスポリンの
化学の分野で、分子中の他の部分に不都合な変化を起こ
さずに脱着可能なものとして知られているエステル、例
えはアラルキルエステル（ベンジル、メチルベンジル、
ジメチルヘンシル、メトキシベンジル、エトキシベンジ
ル、ニトロベンジル、アミノヘンシル、ジフェニルメチ
ル、フタリジル、フェナシルなどのエステル）、アルキ
ルエステル（トリクロロエチル、第三級ブチル、アリル
などのエステル）、アリールエステル（ペンタクロロフ
ェニル、インダニルなどのエステル）、Ｎ−ヒドロキシ
アミノ化合物のエステル（アセトンオキシム、アセトフ
ェノンオキシム、アセトアルドキシム、Ｎ−ヒドロキシ
こはく酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドなどとの
エステル）、その他を例示できる。
化学の分野で、分子中の他の部分に不都合な変化を起こ
さずに脱着可能なものとして知られているエステル、例
えはアラルキルエステル（ベンジル、メチルベンジル、
ジメチルヘンシル、メトキシベンジル、エトキシベンジ
ル、ニトロベンジル、アミノヘンシル、ジフェニルメチ
ル、フタリジル、フェナシルなどのエステル）、アルキ
ルエステル（トリクロロエチル、第三級ブチル、アリル
などのエステル）、アリールエステル（ペンタクロロフ
ェニル、インダニルなどのエステル）、Ｎ−ヒドロキシ
アミノ化合物のエステル（アセトンオキシム、アセトフ
ェノンオキシム、アセトアルドキシム、Ｎ−ヒドロキシ
こはく酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドなどとの
エステル）、その他を例示できる。
ここに、置換分としてはＲ素基（アルキル、アルケニル
、アルキリデン、アルキニル、アラルキル、アリール、
カルボキシ、保護カルボキシ、カルバモイル ルカッイル、アロイル、アミノアルキル、シアノなど）
、窒素基（アミン、ヒドラジニル、アジド、ジアゾ、ア
ルキルアミノ、アリールアミノ、アシル化アミン、アル
キリデンアミノ、イミノ、アルコキシイミノ、ニトロソ
、ニトロなど）、酸素基（ヒドロキシ、アルコキシ、ア
ラルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、オキソな
ど）、硫黄基（メルカプト、アルキルチオ、アリールチ
オ、アシルチオ、チオキソ、スルフィニル、スルホ、保
護スルホなど）、燐基（ホスホなど）、ハロゲン原子（
ふっ素、塩素、臭素、ヨード）、その他の置換基を例示
できる。
、アルキリデン、アルキニル、アラルキル、アリール、
カルボキシ、保護カルボキシ、カルバモイル ルカッイル、アロイル、アミノアルキル、シアノなど）
、窒素基（アミン、ヒドラジニル、アジド、ジアゾ、ア
ルキルアミノ、アリールアミノ、アシル化アミン、アル
キリデンアミノ、イミノ、アルコキシイミノ、ニトロソ
、ニトロなど）、酸素基（ヒドロキシ、アルコキシ、ア
ラルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、オキソな
ど）、硫黄基（メルカプト、アルキルチオ、アリールチ
オ、アシルチオ、チオキソ、スルフィニル、スルホ、保
護スルホなど）、燐基（ホスホなど）、ハロゲン原子（
ふっ素、塩素、臭素、ヨード）、その他の置換基を例示
できる。
燐酸化合物としては、オルト燐酸、メタ燐酸、ピロ燐酸
、ポリ燐酸、五酸化溝など、およびそれらのアルカリ金
属塩などを例示できる。
、ポリ燐酸、五酸化溝など、およびそれらのアルカリ金
属塩などを例示できる。
過酸化水素としては、゛工業的に入手し易い３０％ない
し６０％の過酸化水素水も利用できるが、これに限定さ
れるものではない。
し６０％の過酸化水素水も利用できるが、これに限定さ
れるものではない。
この発明の反応は、不活性溶媒（芳香族炭化水素、ハロ
ゲン化炭化水素、エステルなどに属する工業用溶媒、水
など）中でも実施できる．また、反応促進剤としてアル
カン酸（ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ヘキサン酸
など）、芳香族カルボン＃（安息香酸、置換安息香酸な
ど）などのカルボン酸および無水物、脂肪族または芳香
族のスルホン酸、相移動試薬（テトラアルキルアンモニ
ウムハライドなど）、界面活性剤などを共存させて効率
化を図ることもできる。
ゲン化炭化水素、エステルなどに属する工業用溶媒、水
など）中でも実施できる．また、反応促進剤としてアル
カン酸（ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ヘキサン酸
など）、芳香族カルボン＃（安息香酸、置換安息香酸な
ど）などのカルボン酸および無水物、脂肪族または芳香
族のスルホン酸、相移動試薬（テトラアルキルアンモニ
ウムハライドなど）、界面活性剤などを共存させて効率
化を図ることもできる。
この反応は通常−３０〜８０°Ｃ１好ましくは０〜５０
℃で、５分〜３０時間、好ましくは２０分〜１０時間で
完了するように設計すると、収率向上、副反応抑制など
の点で有利である。例えは、原料であるペニシリン類、
セファロスポリン類を不活性溶媒（ジクロロメタン、ク
ロロホルムなど５〜２０ｉ１量部）と反応促進剤（ギ酸
、酢酸などθ〜１０当量）、燐酸化合物（燐酸、ポリ燐
酸、メタ燐酸、五塩化溝など０．１〜５当量）と混合し
、過酸化水素水（２０〜６５％；１〜１．５当りを加え
て１０分〜２時間、０〜３０℃でかきまぜる．収率は通
常、７０〜９８％の範囲で、スルホン、・ラクタム開裂
物質などの副生成物は極めて少ない。
℃で、５分〜３０時間、好ましくは２０分〜１０時間で
完了するように設計すると、収率向上、副反応抑制など
の点で有利である。例えは、原料であるペニシリン類、
セファロスポリン類を不活性溶媒（ジクロロメタン、ク
ロロホルムなど５〜２０ｉ１量部）と反応促進剤（ギ酸
、酢酸などθ〜１０当量）、燐酸化合物（燐酸、ポリ燐
酸、メタ燐酸、五塩化溝など０．１〜５当量）と混合し
、過酸化水素水（２０〜６５％；１〜１．５当りを加え
て１０分〜２時間、０〜３０℃でかきまぜる．収率は通
常、７０〜９８％の範囲で、スルホン、・ラクタム開裂
物質などの副生成物は極めて少ない。
目的とする生成物は反応液から未反応原料、副生成物、
溶媒などを抽出、蒸発、洗浄、ｆｉ縮、沈殿、濾過、乾
燥などの常法により除去したのち、吸着、溶離、蒸留、
沈殿、析出、クロマトグラフィー、結晶化など、常用の
後処理法を組み合わせて処理すれば単離することができ
る。
溶媒などを抽出、蒸発、洗浄、ｆｉ縮、沈殿、濾過、乾
燥などの常法により除去したのち、吸着、溶離、蒸留、
沈殿、析出、クロマトグラフィー、結晶化など、常用の
後処理法を組み合わせて処理すれば単離することができ
る。
主生成物のスルホキシド結合の立体配位はアミド側鎖と
同方向であることが多い。
同方向であることが多い。
この発明の生成物は有用な抗菌剤などの合成原料として
有用である。
有用である。
以下に実施例を示してこの発明の詳細な説明する。
実施例中、量を表わす部は原料β−ラクタム１重量部に
対する重量を、当量は原料β−ラクタム１モルに対する
モル数を示す。
対する重量を、当量は原料β−ラクタム１モルに対する
モル数を示す。
使用した略号は以下の通り。
Ｍｅ −メチル。
Ｐ、ｈ雪フェニル。
工ＣＥ！トリクロロエチル。
実施例
ペニシリンまたはセファロスポリンをジクロロメタンま
たはトルエンにとかし、これに反応促進剤、燐酸化合物
および過酸化水素水を加える。これを所定温度で所定時
間かきませる。反応液を水、５％炭酸水素ナトリウム水
、水で洗い、有機層を分取する。これを乾燥し、減圧濃
縮する。残渣をメタノールまたはインプロパツールから
結晶化させれば、目的物であるスルホキシドをうる。
たはトルエンにとかし、これに反応促進剤、燐酸化合物
および過酸化水素水を加える。これを所定温度で所定時
間かきませる。反応液を水、５％炭酸水素ナトリウム水
、水で洗い、有機層を分取する。これを乾燥し、減圧濃
縮する。残渣をメタノールまたはインプロパツールから
結晶化させれば、目的物であるスルホキシドをうる。
生成物の物理定数は第−表に示した。第二表にペニシリ
ン類の反応条件を、第三表にデアセトキシセファ０スポ
リン類の反応条件を表示した。
ン類の反応条件を、第三表にデアセトキシセファ０スポ
リン類の反応条件を表示した。
（以下余白）
第−表（その１） ０
丁
仁００Ｒ’
一且一一一一一一一エニー ｍ、−ｍ−Ｐｈ
Ｐｂ２ ＣＨ１５２Ｐｈ
ＣＨ２Ｐｈ ２ ＣＨ１２９ ＰｈＣＨ２ＴＣＥ １７４Ｐ
ｈＣＨ２ＰｈＣＨ２１７４ ＰｈＣＨ２Ｈ１４５ ＰｈＯＣＨｚ Ｐｈｚ ＣＨ９２
ＰｈＯＣＨ２ＴＣＥ １４７
ＰｈＯＣＨ２ＰｈＣＨ２１２８ ＰｈＯＣＨｇ Ｈ１６７Ｍａ
ｃ６ Ｈａ −ｐ Ｐｈｚ ＣＨ１７８
ＭａＣ６Ｈ４−ｐ Ｍｅ
１５４ＭＱＣ６Ｈ４−ｐ Ｍｅ
Ｃｅ ８４ ＣＨ２１６４Ｍｅｇａ Ｈ４−ｐ
Ｈ１８０ＣＩＣ６Ｈ４−ｐ
Ｐｂ２ ＣＨ１９２ＣＩＣａ Ｈ４−Ｈ１６０ 第−表（その２） ０ ↑ ＰｈＣＨｚ 、 ＴＣＥ １９
９ＰｈＣＨｚ Ｈ１８７ ＰｈＯ（Ｈｚ ｒｃＥ １７
４ＰｈＯＣ）Ｉ２Ｈ１９６ （以下余白）
Ｐｂ２ ＣＨ１５２Ｐｈ
ＣＨ２Ｐｈ ２ ＣＨ１２９ ＰｈＣＨ２ＴＣＥ １７４Ｐ
ｈＣＨ２ＰｈＣＨ２１７４ ＰｈＣＨ２Ｈ１４５ ＰｈＯＣＨｚ Ｐｈｚ ＣＨ９２
ＰｈＯＣＨ２ＴＣＥ １４７
ＰｈＯＣＨ２ＰｈＣＨ２１２８ ＰｈＯＣＨｇ Ｈ１６７Ｍａ
ｃ６ Ｈａ −ｐ Ｐｈｚ ＣＨ１７８
ＭａＣ６Ｈ４−ｐ Ｍｅ
１５４ＭＱＣ６Ｈ４−ｐ Ｍｅ
Ｃｅ ８４ ＣＨ２１６４Ｍｅｇａ Ｈ４−ｐ
Ｈ１８０ＣＩＣ６Ｈ４−ｐ
Ｐｂ２ ＣＨ１９２ＣＩＣａ Ｈ４−Ｈ１６０ 第−表（その２） ０ ↑ ＰｈＣＨｚ 、 ＴＣＥ １９
９ＰｈＣＨｚ Ｈ１８７ ＰｈＯ（Ｈｚ ｒｃＥ １７
４ＰｈＯＣ）Ｉ２Ｈ１９６ （以下余白）
Claims (1)
- （１）ペニシリン類またはセファロスポリン類に燐酸化
合物の存在下に過酸化水素を作用させることを特徴とす
るペニシリン類またはセファロスポリン類のスルホキシ
ド化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17082484A JPS6150986A (ja) | 1984-08-15 | 1984-08-15 | スルホキシドの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17082484A JPS6150986A (ja) | 1984-08-15 | 1984-08-15 | スルホキシドの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6150986A true JPS6150986A (ja) | 1986-03-13 |
| JPH0552316B2 JPH0552316B2 (ja) | 1993-08-05 |
Family
ID=15912008
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17082484A Granted JPS6150986A (ja) | 1984-08-15 | 1984-08-15 | スルホキシドの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6150986A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5442058A (en) * | 1989-10-16 | 1995-08-15 | Akzo Nobel N.V. | Conversion of penicillins and cephalosporins to 1-(S)-sulfoxides |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0680003U (ja) * | 1993-04-19 | 1994-11-08 | 日本プラスト株式会社 | 固着具 |
-
1984
- 1984-08-15 JP JP17082484A patent/JPS6150986A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5442058A (en) * | 1989-10-16 | 1995-08-15 | Akzo Nobel N.V. | Conversion of penicillins and cephalosporins to 1-(S)-sulfoxides |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0552316B2 (ja) | 1993-08-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |