JPS6152152B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6152152B2 JPS6152152B2 JP57016253A JP1625382A JPS6152152B2 JP S6152152 B2 JPS6152152 B2 JP S6152152B2 JP 57016253 A JP57016253 A JP 57016253A JP 1625382 A JP1625382 A JP 1625382A JP S6152152 B2 JPS6152152 B2 JP S6152152B2
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- JP
- Japan
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- trityl
- following general
- group
- alkyl group
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はピラゾフリン（一般式、1′位はβ体
を意味する）の製法に関するものである。しかし
てその意図するところは抗腫瘍性（M.J.Sweeney
他、Cancer Res.、33、2619（1973））あるいは
抗菌作用（G.E.Gutowski他、Ann.N.Y.Acad.
Sci.、255、544（1975））の点で注目されている
上記抗生物質を経済的に有利に製造することにあ
る。
を意味する）の製法に関するものである。しかし
てその意図するところは抗腫瘍性（M.J.Sweeney
他、Cancer Res.、33、2619（1973））あるいは
抗菌作用（G.E.Gutowski他、Ann.N.Y.Acad.
Sci.、255、544（1975））の点で注目されている
上記抗生物質を経済的に有利に製造することにあ
る。
ピラゾフリン（ピラゾマイシン）は
Strcptmyces candidus株の培養液より単離され
たＣ−ヌクレオシドであり（G.D.Daves Jr.他、
Prog.Med.Chem.13、303（1976）；K.Gerzon
他、第２回国際複素環会議、講演要旨集、p131
（1969））、その薬理作用が最近注目を浴びてい
る。一方、その製造法に関しては、培養法による
もの以外に三つの合成法が報告されているのみで
ある。（J.Farkas、Tetrahedron Letters、
1972、2279；S.De Bernardo他、J.Org.Chem.、
41、287（1976）；J.G.Buchanan他、J.Chem.
Soc.Perkin Ｉ、1981、2374） これらの製法は収率、原料選択、反応行程など
から、それぞれ改良の余地がある。たとえばフア
ーカス法はフロログルシン誘導体のＣ−グリコシ
ドを、ベルナルド法はアセトンジカルボン酸エス
テルのＣ−グリコシドを、またブキヤナン法は３
−シアノ−４−ニトロ−ピラゾールのＣ−ヌクレ
オシドを出発原料とする法であるが、フアーカス
法は収量の点で（全収率4.5％）、後の二法は出発
原料の製造の点で難点がある。
Strcptmyces candidus株の培養液より単離され
たＣ−ヌクレオシドであり（G.D.Daves Jr.他、
Prog.Med.Chem.13、303（1976）；K.Gerzon
他、第２回国際複素環会議、講演要旨集、p131
（1969））、その薬理作用が最近注目を浴びてい
る。一方、その製造法に関しては、培養法による
もの以外に三つの合成法が報告されているのみで
ある。（J.Farkas、Tetrahedron Letters、
1972、2279；S.De Bernardo他、J.Org.Chem.、
41、287（1976）；J.G.Buchanan他、J.Chem.
Soc.Perkin Ｉ、1981、2374） これらの製法は収率、原料選択、反応行程など
から、それぞれ改良の余地がある。たとえばフア
ーカス法はフロログルシン誘導体のＣ−グリコシ
ドを、ベルナルド法はアセトンジカルボン酸エス
テルのＣ−グリコシドを、またブキヤナン法は３
−シアノ−４−ニトロ−ピラゾールのＣ−ヌクレ
オシドを出発原料とする法であるが、フアーカス
法は収量の点で（全収率4.5％）、後の二法は出発
原料の製造の点で難点がある。
これに対し本発明はアセト酢酸エステルのＣ−
グリコシド、すなわち４−Ｃ−（2′・3′−Ｏ−イ
ソプロピリデン−5′−Ｏ−トリチル（又はアロイ
ル−Ｄ−リボフラノシル）−アセト酢酸エステル
（一般式Ｉ、式中R1は低級アルキル基、R2はトリ
チル又はアロイル基、ＸはH2を意味する）なる
Ｃ−グリコシドをトシルアジドによりジアゾ化
し、２−ジアゾ体（一般式、式中R1は低級ア
ルキル基、R2はトリチル又はアロイル基、Ｘは
N2を意味する）を製造し、このものを不活性有
機溶媒、たとえばジグライ中、窒素気流中で金属
水素化物、たとえば水素化ナトリウムと室温で数
時間撹拌することにより、閉環せしめ、ピラゾー
ル体（一般式、式中R2はトリチル又はアロイ
ル基、ＹはＯ−アルキル基を意味する）を製造
し、このものをアンモノリシスによりアミド体
（一般式、式中R2はトリチル又はアロイル基、
Ｙはアミノ基を意味する）を製造後、脱保護反応
を行ないピラゾフリン（一般式）を製造する方
法である。なお、アンモノリシスは封管中アンモ
ニア水あるいはアンモニア−アルコールと約90゜
で数時間加熱すればよく、また脱保護反応はトリ
フロ酢酸と約１時間放置するのみでよい。さらに
またα体とβ体とはシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイーで容易に分離できる。溶媒系は適当に選
択できるが、たとえばｎ−ヘキサンと酢酸エチル
の混合物が有利である。収率はより換算して約
45％である。本法は収率の点でフアーカス法
（4.5％）に対しては勿論、ベルナルド法（約34
％）、ブキヤナン法（42％）に比べ遜色はない
が、とくに原料が他法に比べてはるかに容易に製
造できる点が特徴である。
グリコシド、すなわち４−Ｃ−（2′・3′−Ｏ−イ
ソプロピリデン−5′−Ｏ−トリチル（又はアロイ
ル−Ｄ−リボフラノシル）−アセト酢酸エステル
（一般式Ｉ、式中R1は低級アルキル基、R2はトリ
チル又はアロイル基、ＸはH2を意味する）なる
Ｃ−グリコシドをトシルアジドによりジアゾ化
し、２−ジアゾ体（一般式、式中R1は低級ア
ルキル基、R2はトリチル又はアロイル基、Ｘは
N2を意味する）を製造し、このものを不活性有
機溶媒、たとえばジグライ中、窒素気流中で金属
水素化物、たとえば水素化ナトリウムと室温で数
時間撹拌することにより、閉環せしめ、ピラゾー
ル体（一般式、式中R2はトリチル又はアロイ
ル基、ＹはＯ−アルキル基を意味する）を製造
し、このものをアンモノリシスによりアミド体
（一般式、式中R2はトリチル又はアロイル基、
Ｙはアミノ基を意味する）を製造後、脱保護反応
を行ないピラゾフリン（一般式）を製造する方
法である。なお、アンモノリシスは封管中アンモ
ニア水あるいはアンモニア−アルコールと約90゜
で数時間加熱すればよく、また脱保護反応はトリ
フロ酢酸と約１時間放置するのみでよい。さらに
またα体とβ体とはシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイーで容易に分離できる。溶媒系は適当に選
択できるが、たとえばｎ−ヘキサンと酢酸エチル
の混合物が有利である。収率はより換算して約
45％である。本法は収率の点でフアーカス法
（4.5％）に対しては勿論、ベルナルド法（約34
％）、ブキヤナン法（42％）に比べ遜色はない
が、とくに原料が他法に比べてはるかに容易に製
造できる点が特徴である。
即ち、本発明の出発原料としてアセト酢酸エス
テルのＣ−グリコシド（上記化合物、式中R1
は低級アルキル基、R2はトリチル又はアロイル
基、ＸはH2を意味する）を使用するものである
が、この文献未載の新規化合物であるが他法の
出発原料に比べ、極めて容易に製造される点を特
徴とするものである。すなわちジケテンより２行
程で得られる３−アルコキシカルボニル−２−オ
キソプロピリデントリフエニルホスホラン
（Ph3PCH・CO・CH2・CO2R1、式中R1は低級ア
ルキル基を意味する）と保護されたＤ−リボフラ
ノース、２・３−Ｏ−イソプロピリデン−５−Ｏ
−トリチル−Ｄ−リボフラノースとを不活性有機
溶媒中加熱還流することにより容易に製造され
る。溶媒としてはベンゼンやトルエンを使用でき
るが、特にアセトニトリルを用いて長時間（50−
90時間）加熱還流するとほとんど定量的である。
テルのＣ−グリコシド（上記化合物、式中R1
は低級アルキル基、R2はトリチル又はアロイル
基、ＸはH2を意味する）を使用するものである
が、この文献未載の新規化合物であるが他法の
出発原料に比べ、極めて容易に製造される点を特
徴とするものである。すなわちジケテンより２行
程で得られる３−アルコキシカルボニル−２−オ
キソプロピリデントリフエニルホスホラン
（Ph3PCH・CO・CH2・CO2R1、式中R1は低級ア
ルキル基を意味する）と保護されたＤ−リボフラ
ノース、２・３−Ｏ−イソプロピリデン−５−Ｏ
−トリチル−Ｄ−リボフラノースとを不活性有機
溶媒中加熱還流することにより容易に製造され
る。溶媒としてはベンゼンやトルエンを使用でき
るが、特にアセトニトリルを用いて長時間（50−
90時間）加熱還流するとほとんど定量的である。
従つて本発明は、３−アルコキシカルボニル−
２−オキソプロピリデントリフエニルホスホラン
（Ph3PCH・CO・CH2・CO2R、式中Ｒは低級ア
ルキル基を意味する）と計算量の２・３−Ｏ−イ
ソプロピリデン−５−Ｏ−トリチル−Ｄ−リボフ
ラノースよりを製造し、ジアゾ化（）後、閉
環させ（）、アンモノリシス（）、脱保護反応
してピラゾフリン（）を製造する方法もその対
象とするものである。なおピラゾフリン（）を
含め、はいずれもそれぞれシリカゲルカラム
クロマトグラフイーにより糖部1′位におけるエピ
マーα体とβ体とを容易に分離することができ
る。また出発原料のアセト酢酸エステルのＣ−グ
リコシド体（）は1′位におけるαおよびβ−エ
ピマ−の混合物であり必ずしも結晶しないが、そ
のまま次の反応を進めて差支えない。
２−オキソプロピリデントリフエニルホスホラン
（Ph3PCH・CO・CH2・CO2R、式中Ｒは低級ア
ルキル基を意味する）と計算量の２・３−Ｏ−イ
ソプロピリデン−５−Ｏ−トリチル−Ｄ−リボフ
ラノースよりを製造し、ジアゾ化（）後、閉
環させ（）、アンモノリシス（）、脱保護反応
してピラゾフリン（）を製造する方法もその対
象とするものである。なおピラゾフリン（）を
含め、はいずれもそれぞれシリカゲルカラム
クロマトグラフイーにより糖部1′位におけるエピ
マーα体とβ体とを容易に分離することができ
る。また出発原料のアセト酢酸エステルのＣ−グ
リコシド体（）は1′位におけるαおよびβ−エ
ピマ−の混合物であり必ずしも結晶しないが、そ
のまま次の反応を進めて差支えない。
以下に本発明の方法を実施例によつて説明す
る。
る。
実施例 １
４−Ｃ−（2′・3′−Ｏ−イソプロピリデン−5′−
Ｏ−トリチル−Ｄ−リボフラノシル）−アセト
酢酸エチル（一般式、式中R1はエチル基、
R2はトリチル基、ＸはH2を意味する）の製法 ２・３−Ｏ−イソプロピリデン−５−Ｏ−トリ
チル−Ｄ−リボフラノース（10.9ｇ、25ミリモ
ル）と３−エトキシカルボニル−２−オキソプロ
ピリデントリフエニルホスホラン（Ph3P・CH・
CO・CH2・CO2Et）（11.8ｇ、30ミリモル）とを
アセトニトリル（30ml）に溶かし、72時間加熱還
流する。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲル
（300ｇ）カラムクロマトグラフイーに付す。ｎ−
ヘキサン−酢酸エチル（９：１）で溶出せしめ無
色粘稠液体（）、13.5ｇ（定量的）を得る。
Ｏ−トリチル−Ｄ−リボフラノシル）−アセト
酢酸エチル（一般式、式中R1はエチル基、
R2はトリチル基、ＸはH2を意味する）の製法 ２・３−Ｏ−イソプロピリデン−５−Ｏ−トリ
チル−Ｄ−リボフラノース（10.9ｇ、25ミリモ
ル）と３−エトキシカルボニル−２−オキソプロ
ピリデントリフエニルホスホラン（Ph3P・CH・
CO・CH2・CO2Et）（11.8ｇ、30ミリモル）とを
アセトニトリル（30ml）に溶かし、72時間加熱還
流する。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲル
（300ｇ）カラムクロマトグラフイーに付す。ｎ−
ヘキサン−酢酸エチル（９：１）で溶出せしめ無
色粘稠液体（）、13.5ｇ（定量的）を得る。
分析値：C33H36O7として
計算値：Ｃ、72.77；Ｈ、6.66
実測値：Ｃ、72.86；Ｈ、6.71
赤外吸収スペクトル（クロロホルム）：1740、
1720cm-1 実施例 ２ ４−Ｃ−（2′・3′−Ｏ−イソプロピリデン−5′−
Ｏ−トリチル−Ｄ−リボフラノシル）−２−ジ
アゾ−アセト酢酸エチル（一般式、式中R1
はエチル基、R2はトリチル基、ＸはN2を意味
する）製法 上記化合物（）（12ｇ、22ミリモル）のアセ
トニトリル（100ml）溶液に、トリエチルアミン
（2.2ｇ、22ミリモル）と窒化トシル（12ml）を加
え、室温で30分間放置する。反応液を減圧濃縮
し、得られる残渣にベンゼンを加え不溶物を濾去
する。ベンゼン濾液は減圧濃縮し、残渣をシリカ
ゲル（400ｇ）カラムクロマトグラフイーに付
す。ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（９：１）溶出分
を濃縮して、無色粘稠液体（）12.2ｇ（94％）
を得る。
1720cm-1 実施例 ２ ４−Ｃ−（2′・3′−Ｏ−イソプロピリデン−5′−
Ｏ−トリチル−Ｄ−リボフラノシル）−２−ジ
アゾ−アセト酢酸エチル（一般式、式中R1
はエチル基、R2はトリチル基、ＸはN2を意味
する）製法 上記化合物（）（12ｇ、22ミリモル）のアセ
トニトリル（100ml）溶液に、トリエチルアミン
（2.2ｇ、22ミリモル）と窒化トシル（12ml）を加
え、室温で30分間放置する。反応液を減圧濃縮
し、得られる残渣にベンゼンを加え不溶物を濾去
する。ベンゼン濾液は減圧濃縮し、残渣をシリカ
ゲル（400ｇ）カラムクロマトグラフイーに付
す。ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（９：１）溶出分
を濃縮して、無色粘稠液体（）12.2ｇ（94％）
を得る。
分析値：C33H34N2O7・1/5C6H14として
計算値：Ｃ、69.87；Ｈ、6.31；Ｎ、4.77
実測値：Ｃ、70.04；Ｈ、6.13；Ｎ、4.99
赤外吸収スペクトル（クロロホルム）：2150、
1710、1645cm-1 実施例 ３ ３−（2′・3′−Ｏ−イソプロピリデン−5′−Ｏ−
トリチル−Ｄ−リボフラノシル）−４−ヒドロ
キシピラゾール−５−カルボン酸エチルエステ
ル（一般式、式中R2はトリチル基、Ｙはエ
トキシル基を意味する）の製法 水素化ナトリウム（50％油性液、2.6ｇ、55ミ
リモル）を無水ジグライム（60ml）に懸濁し、窒
素気流中氷冷下、撹拌する。この液に上記化合物
（6.5ｇ、11ミリモル）の無水ジグライム（60
ml）溶液を滴下する。半量（30ml）滴下後、温度
を室温にもどし、さらに滴下を続ける。３時間撹
拌後、再び氷冷し酢酸（3.3ｇ、55ミリモル）の
無水ジグライム（10ml）溶液を滴下する。反応液
を減圧濃縮し、残渣に少量の水を加えた後エーテ
ルで抽出する。エーテル層を水洗乾燥後、濃縮す
る。残渣をシリカゲルクロマトグラフイーに付
し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１）溶出分
より無色粘稠液体（）、5.2ｇ（82％）を得る。
1710、1645cm-1 実施例 ３ ３−（2′・3′−Ｏ−イソプロピリデン−5′−Ｏ−
トリチル−Ｄ−リボフラノシル）−４−ヒドロ
キシピラゾール−５−カルボン酸エチルエステ
ル（一般式、式中R2はトリチル基、Ｙはエ
トキシル基を意味する）の製法 水素化ナトリウム（50％油性液、2.6ｇ、55ミ
リモル）を無水ジグライム（60ml）に懸濁し、窒
素気流中氷冷下、撹拌する。この液に上記化合物
（6.5ｇ、11ミリモル）の無水ジグライム（60
ml）溶液を滴下する。半量（30ml）滴下後、温度
を室温にもどし、さらに滴下を続ける。３時間撹
拌後、再び氷冷し酢酸（3.3ｇ、55ミリモル）の
無水ジグライム（10ml）溶液を滴下する。反応液
を減圧濃縮し、残渣に少量の水を加えた後エーテ
ルで抽出する。エーテル層を水洗乾燥後、濃縮す
る。残渣をシリカゲルクロマトグラフイーに付
し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１）溶出分
より無色粘稠液体（）、5.2ｇ（82％）を得る。
分析値：C33H34N2O7・3/4CH3・CO2C2H5として
計算値：Ｃ、67.91；Ｈ、6.33；Ｎ、4.40
実測値：Ｃ、67.72；Ｈ、6.06；Ｎ、4.60
赤外吸収スペクトル（クロロホルム）：3440、
1720、1685cm-1 なお、このものをさらに、シリカゲル（800
ｇ）カラムクロマトグラフイーに付すことによ
り、同溶媒で初留液より、mp159−160゜（無色
プリズム、エーテルより再結晶）のβ体、3.5ｇ
（55％）を得る。
1720、1685cm-1 なお、このものをさらに、シリカゲル（800
ｇ）カラムクロマトグラフイーに付すことによ
り、同溶媒で初留液より、mp159−160゜（無色
プリズム、エーテルより再結晶）のβ体、3.5ｇ
（55％）を得る。
分析値：C33H34N2O7として
計算値：Ｃ、69.46；Ｈ、6.01；Ｎ、4.91
実測値：Ｃ、69.29；Ｈ、6.05；Ｎ、4.64
赤外吸収スペクトル（クロロホルム）：3440、
1720、1685cm-1 さらに溶出を続け、後留分より無色粘稠液体α
体、1.5ｇ（24％）を得る。
1720、1685cm-1 さらに溶出を続け、後留分より無色粘稠液体α
体、1.5ｇ（24％）を得る。
実施例 ４
３−（2′・3′−Ｏ−イソプロピリデン−5′−Ｏ−
トリチル−Ｄ−リボフラノシル）−４−ヒドロ
キシピラゾール−５−カルボキサマイド（一般
式、式中R2はトリチル基、Ｙはアミノ基を
意味する）の製法 (a) 上記リボフラノシル−ピラゾール−カルボン
酸エチルエステル（一般式、式中R2はトリ
チル基、Ｙはエトキシル基を意味する）（1.2
ｇ、1.9ミリモル）を０゜でアンモニアを飽和
させた無水メタノール（35ml）に溶かし、封管
中90−95゜で２時間加熱する。開管後反応液を
濃縮し、残渣をシリカゲル（60ｇ）カラムクロ
マトグラフイーに付す。ｎ−ヘキサン−酢酸エ
チル（３：１）で溶出し、初留よりのβ体
（無色粘稠液体）を得る。
トリチル−Ｄ−リボフラノシル）−４−ヒドロ
キシピラゾール−５−カルボキサマイド（一般
式、式中R2はトリチル基、Ｙはアミノ基を
意味する）の製法 (a) 上記リボフラノシル−ピラゾール−カルボン
酸エチルエステル（一般式、式中R2はトリ
チル基、Ｙはエトキシル基を意味する）（1.2
ｇ、1.9ミリモル）を０゜でアンモニアを飽和
させた無水メタノール（35ml）に溶かし、封管
中90−95゜で２時間加熱する。開管後反応液を
濃縮し、残渣をシリカゲル（60ｇ）カラムクロ
マトグラフイーに付す。ｎ−ヘキサン−酢酸エ
チル（３：１）で溶出し、初留よりのβ体
（無色粘稠液体）を得る。
分析値：C31H31N3O6・1/2CH3・CO2C2H5とし
て 計算値：Ｃ、67.68；Ｈ、6.02；Ｎ、7.17 実測値：Ｃ、67.59；Ｈ、5.92；Ｎ、7.29 赤外吸収スペクトル（クロロホルム）：1665cm
-1 さらに溶出を続け、後留分より同じく無色粘
稠液体の−α体を得る。
て 計算値：Ｃ、67.68；Ｈ、6.02；Ｎ、7.17 実測値：Ｃ、67.59；Ｈ、5.92；Ｎ、7.29 赤外吸収スペクトル（クロロホルム）：1665cm
-1 さらに溶出を続け、後留分より同じく無色粘
稠液体の−α体を得る。
分析値：C31H31N3O6・3/4CH3・CO2C2H5とし
て 計算値：Ｃ、67.20；Ｈ、6.14；Ｎ、6.91 実測値：Ｃ、66.96；Ｈ、6.21；Ｎ、7.09 赤外吸収スペクトル（クロロホルム）：1665cm
-1 (b) 前記実施例３で製造したのβ−エピマー体
（2.3ｇ、４ミリモル）を０゜で飽和させたアン
モニア−無水メタノール（70ml）に溶かし、封
管で５時間、90−95゜に加熱する。開管後、前
と同様に処理し、シリカゲル（60ｇ）カラムク
ロマトグラフイーにより無色粘稠液体−β
体、2.2ｇ（94％）を得る。赤外吸収スペクト
ルで標品と同定。
て 計算値：Ｃ、67.20；Ｈ、6.14；Ｎ、6.91 実測値：Ｃ、66.96；Ｈ、6.21；Ｎ、7.09 赤外吸収スペクトル（クロロホルム）：1665cm
-1 (b) 前記実施例３で製造したのβ−エピマー体
（2.3ｇ、４ミリモル）を０゜で飽和させたアン
モニア−無水メタノール（70ml）に溶かし、封
管で５時間、90−95゜に加熱する。開管後、前
と同様に処理し、シリカゲル（60ｇ）カラムク
ロマトグラフイーにより無色粘稠液体−β
体、2.2ｇ（94％）を得る。赤外吸収スペクト
ルで標品と同定。
実施例 ５
ピラゾフリン（一般式）の製法
前記実施例４(a)で製造した化合物−β体
（1.76ｇ、３ミリモル）を90％トリフロロ酢酸
（40ml）に溶かし、45分室温に放置後、氷冷下
（５゜以下）減圧濃縮する。残渣をシリカゲル
（360ｇ）カラムクロマトグラフイーに付し、酢酸
エチル−アセトン−メタノール−水（６：１：
１：１）で溶出し、mp108−110゜の無色プリズ
ム（水より再結晶）、0.71ｇ（85％）を得る。
（1.76ｇ、３ミリモル）を90％トリフロロ酢酸
（40ml）に溶かし、45分室温に放置後、氷冷下
（５゜以下）減圧濃縮する。残渣をシリカゲル
（360ｇ）カラムクロマトグラフイーに付し、酢酸
エチル−アセトン−メタノール−水（６：１：
１：１）で溶出し、mp108−110゜の無色プリズ
ム（水より再結晶）、0.71ｇ（85％）を得る。
分析値：C9H13N3O6・H2Oとして
計算値：Ｃ、38.99；Ｈ、5.45；Ｎ、15.16
実測値：Ｃ、38.96；Ｈ、5.34；Ｎ、15.20
さらに同溶媒で溶出を続け、mp69−70゜の無
色針状晶（水より再結晶）、ピラゾフリンＢ（Ｖ
−α−エピマー体）を0.06ｇ（７％）得る。
色針状晶（水より再結晶）、ピラゾフリンＢ（Ｖ
−α−エピマー体）を0.06ｇ（７％）得る。
分析値：C9H13N3O6・2H2Oとして
計算値：Ｃ、36.61；Ｈ、5.80；Ｎ、14.23
実測値：Ｃ、36.31；Ｈ、5.89；Ｎ、14.36
以上のビラゾフリン（Ｖ−β体）およびピラゾ
フリンＢ（Ｖ−α体）の赤外吸収スペクトルはそ
れぞれ市販品のスペクトルと全く一致した。
フリンＢ（Ｖ−α体）の赤外吸収スペクトルはそ
れぞれ市販品のスペクトルと全く一致した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ４−Ｃ−（2′・3′−Ｏ−イソプロピリデン−
5′−Ｏ−置換−Ｄ−リボフラノシル）−アセト酢
酸エステル（下記一般式、式中R1は低級アル
キル基、R2はトリチル又はアロイル基、ＸはH2
を意味する）をトリエチルアミン存在下、トシル
アジドでジアゾ化し、２−ジアゾ体（下記一般式
、式中R1は低級アルキル基、R2はトリチル又
はアロイル基、ＸはN2を意味する）を製造し、
このものを不活性有機溶媒中水素化ナトリウムの
ような金属水素化物の存在で、窒素気流中常温で
撹拌することにより閉環せしめピラゾール体（下
記一般式、式中R2はトリチル又はアロイル
基、ＹはＯ−アルキル基を意味する）を製造後、
このものを常法アンモノリシスしてアミド体（下
記一般式、式中R2はトリチル又はアロイル
基、Ｙはアミノ基を意味する）を製造し、このも
のをトリフロロ酢酸で脱保護反応を行ない、ピラ
ゾフリン（下記一般式、1′位はβ位を意味す
る）を製造する方法。 ２ ３−アルコキシカルボニル−２−オキソプロ
ピリデントリフエニルホスホラン（一般式
Ph3PCH・CO・CH2・CO2R1、式中R1は低級ア
ルキル基を意味する）を、２・３および５位を保
護したＤ−リボース、２・３−Ｏ−イソプロピリ
デン−５−Ｏ−トリチル（又はアロイル）−Ｄ−
リボフラノースと不活性有機溶媒中加熱還流して
リボフラノシル−アセト酢酸エステル（下記一般
式、式中R1は低級アルキル基、R2はトリチル
又はアロイル基、ＸはH2を意味する）を製造
し、このものをトリエチルアミンの存在下、トシ
ルアジドでジアゾ化後、窒素気流中水素化ナトリ
ウムの存在下、不活性溶媒中常温にて閉環せしめ
リボフラノシルピラゾール体（下記一般式、式
中R2はトリチル又はアロイル基、ＹはＯ−アル
キル基を意味する）を製造し、さらにこのものを
アンモノリシス後、脱保護してピラゾフリン（下
記一般式、1′位はβ体を意味する）を製造する
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57016253A JPS58134088A (ja) | 1982-02-05 | 1982-02-05 | ピラゾフリンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57016253A JPS58134088A (ja) | 1982-02-05 | 1982-02-05 | ピラゾフリンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58134088A JPS58134088A (ja) | 1983-08-10 |
| JPS6152152B2 true JPS6152152B2 (ja) | 1986-11-12 |
Family
ID=11911393
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57016253A Granted JPS58134088A (ja) | 1982-02-05 | 1982-02-05 | ピラゾフリンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58134088A (ja) |
-
1982
- 1982-02-05 JP JP57016253A patent/JPS58134088A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58134088A (ja) | 1983-08-10 |
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