JPS6154221B2 - - Google Patents
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Landscapes
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、湿し水を必要としない平版印刷版の
製造方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate that does not require dampening water.
平版印刷においては、凸版または凹版のように
版面に明瞭な高低がなく、外見上同じ平面上に画
線部と非画線部とを設けた版が使用されるが、こ
の印刷法はつぎの工程で行われる。すなわち、こ
れにはまず水と脂肪とが互に反発することから、
前記非画線部を化学的あるいは機械的処理によつ
て親水性にすると共に、前記画線部を脂肪性樹脂
の転写または写真焼付けなどによつて親油性と
し、ついでこの版面に水を転移させて水を親水性
である非画線部のみに付着させてから、さらにこ
の版面にインキを転移する。このようにすると、
このインキは水が存在している非画線部には付着
せずに親油性である画線部にのみ付着するので、
つぎにこれを被印刷物に転移させて目的の印刷物
を得るという工程によつて行われている。 In lithographic printing, a plate is used that does not have clear heights on the plate surface like letterpress or intaglio printing, and has a printed area and a non-printed area on the same plane in appearance.This printing method involves the following process. It will be held in In other words, first of all, water and fat repel each other,
The non-image area is made hydrophilic by chemical or mechanical treatment, and the image area is made lipophilic by transfer of a fatty resin or photographic printing, and then water is transferred to the printing plate. After that, water is applied only to the hydrophilic non-image areas, and then ink is further transferred to this plate surface. In this way,
This ink does not adhere to the non-print areas where water is present, but only to the lipophilic print areas, so
This is then transferred to a substrate to obtain the desired printed matter.
しかし、この平版印刷法には、たとえば上記し
た湿し水のインキローラーへの転移がインキロー
ラー上でのインキの乳化を引き起すため、これが
地よごれなどの原因となるほか、この湿し水の被
印刷物への転移は、被印刷物の寸法変化の原因と
もなるので、特に多色刷り印刷においては印刷画
像が不鮮明になるという大きな欠点がある。ま
た、この平版印刷法においては、色調の一定な印
刷物を得るために、湿し水の量とインキの量とを
一定のつり合いに保つことが必要とされている
が、この両者の量を一定のつり合いに保つことは
非常に困難であり、したがつて印刷物の色調のば
らつきが生じるという欠点があつた。 However, in this lithographic printing method, for example, the transfer of the dampening water to the ink roller causes the ink to emulsify on the ink roller, which causes stains, and also The transfer to the printing material also causes a change in the dimensions of the printing material, so there is a major drawback that the printed image becomes unclear, especially in multicolor printing. In addition, in this lithographic printing method, in order to obtain printed matter with a constant color tone, it is necessary to maintain a constant balance between the amount of dampening water and the amount of ink. It is very difficult to maintain this balance, which has the disadvantage of causing variations in color tone of printed matter.
このため、上記した欠点を改良する目的におい
て、湿し水を必要としない平版印刷版の開発が試
みられているが、現在までに知られているものは
いずれもいまだ実用に耐える充分満足すべき性質
を示すには至つていない。 For this reason, attempts have been made to develop lithographic printing plates that do not require dampening water in order to improve the above-mentioned drawbacks, but none of the plates known to date are still sufficiently satisfactory for practical use. It has not yet been possible to demonstrate its properties.
たとえば、アルミニウム板などの基板上に、ジ
アゾ型感光性組成物よりなるジアゾ感光層とジメ
チルポリシロキサンゴム層とを形成させ、ついで
この上にさらにポジフイルムを重ね合せてから露
光することによつて露光部分のジアゾ感光層を不
溶化させ、非露光部分のジアゾ感光層を現像処理
により除去し、ついで非露光部分のジメチルポリ
シロキサンゴム層を剥ぎ取るという方法(特公昭
44−23042号公報参照)、あるいはアルミニウム板
などの基板上に、ジアゾ感光層と接着剤層とシリ
コーンゴム層を順次形成させ、ついでこの上にネ
ガフイルムを重ね合せてから露光し、露光部分に
おける感光層の光分解を利用して現像し、ついで
露光部分のシリコーンゴム層を剥ぎ取るという方
法で平版印刷用刷版を得る方法(特公昭46−
16044号公報参照)が公知とされている。 For example, a diazo photosensitive layer made of a diazo type photosensitive composition and a dimethylpolysiloxane rubber layer are formed on a substrate such as an aluminum plate, and then a positive film is further laminated thereon and then exposed. A method of insolubilizing the diazo photosensitive layer in the exposed areas, removing the diazo photosensitive layer in the non-exposed areas by development treatment, and then peeling off the dimethylpolysiloxane rubber layer in the non-exposed areas (Tokuko Sho)
44-23042), or on a substrate such as an aluminum plate, a diazo photosensitive layer, an adhesive layer, and a silicone rubber layer are sequentially formed, and then a negative film is superimposed on this layer and exposed. A method of obtaining a lithographic printing plate by developing the photosensitive layer using photodecomposition and then peeling off the silicone rubber layer in the exposed area (Japanese Patent Publication No. 1973-
16044) is known.
しかし、これらの方法はいずれもジアゾ感光層
とポジまたはネガフイルムとの間に非感光性のシ
リコーンゴムが存在するため、これにはポジまた
はネガフイルムに現わされているパターンが正確
に再現されず、さらにはシリコーンゴム層の剥ぎ
取りが感光層の溶剤溶解性の変化を利用して行わ
れるために剥ぎ取り後のシリコーンゴム層につて
形成される画像はそのエツジ部分のきれが悪く、
シヤープなものにならないという重大な欠点があ
る。さらにまたこれらの場合には版の構成が2〜
3層からなる多層であり、露出基板が画線部とな
るため画線深度が大きく、印刷の際に、インキ着
けロールから版、版からブランケツトまたは被印
刷体へのインキの転移が不良となり、印刷適性上
好ましくないという不利がある。 However, in all of these methods, a non-photosensitive silicone rubber exists between the diazo photosensitive layer and the positive or negative film, so it is difficult to accurately reproduce the pattern appearing on the positive or negative film. Furthermore, since the silicone rubber layer is peeled off by utilizing changes in the solvent solubility of the photosensitive layer, the edges of the image formed on the silicone rubber layer after peeling off are poor.
It has a serious drawback of not being sharp. Furthermore, in these cases, the configuration of the edition is 2~
It is a multilayer consisting of three layers, and since the exposed substrate becomes the printing area, the printing depth is large, and during printing, the ink transfer from the ink roll to the plate, and from the plate to the blanket or printing medium is poor. There is a disadvantage that it is unfavorable in terms of printability.
他方また、あらかじめ基板上にパターン化され
た保護層を形成し、ついでシリコーンをこの基板
上および保護層上に全面コートした後、保護層を
溶解し得る液(溶剤等)を供給して保護層を溶解
し同時に保護層上のシリコーンを除去する方法
(特公昭44−23042号公報参照)が知られている。
この方法によれば前記のような多層ではなくシリ
コーン単層の刷版が得られるので、画線深度が小
さいという利点はあるが、反面刷版工程中にシリ
コーンのコーテイングが必要となり操作がはん雑
であるという不利がある。 On the other hand, it is also possible to form a patterned protective layer on a substrate in advance, coat the entire surface of the substrate and the protective layer with silicone, and then supply a liquid (such as a solvent) that can dissolve the protective layer to dissolve the protective layer. A method of dissolving the silicone and simultaneously removing the silicone on the protective layer is known (see Japanese Patent Publication No. 44-23042).
According to this method, a printing plate with a single layer of silicone can be obtained instead of the multi-layered one described above, so it has the advantage of a small printing depth, but on the other hand, it requires coating with silicone during the printing plate process, making the operation complicated. It has the disadvantage of being sloppy.
このような欠点ないし不利を改良した方法とし
て、シリコーンの表面を親油性に改質して平版印
刷用刷版とする方法、たとえばシリコーン層の表
面を電子線、レーザー光線、放電等により破壊す
る方法(特公昭42−21879号公報参照)、あるいは
シリコーン層をグローまたはコロナビームで走査
することにより親油性に変える方法(特公昭48−
8207号公報参照)が知られている。 As a method to improve these drawbacks and disadvantages, there is a method of modifying the surface of silicone to make it lipophilic and making it into a lithographic printing plate, for example, a method of destroying the surface of the silicone layer with an electron beam, laser beam, electrical discharge, etc. (see Japanese Patent Publication No. 42-21879), or a method of making the silicone layer lipophilic by scanning it with glow or a corona beam (Japanese Patent Publication No. 48-218).
8207) is known.
これらの方法によればシリコーン単層であり、
かつ刷版工程は特にはん雑でないという利点があ
るけれども、前者の方法ではシリコーン層の表面
を破壊するために高エネルギーが必要であり、製
版装置が大がかりになること、また後者の走査法
では刷版時間が長く特有の設備が必要となるとい
う不利がある。 According to these methods, silicone is a single layer;
Although the printing plate process has the advantage of not being particularly complicated, the former method requires high energy to destroy the surface of the silicone layer, requiring a large-scale plate-making device, and the latter scanning method requires high energy to destroy the surface of the silicone layer. The disadvantages are that the printing plate time is long and special equipment is required.
本発明者らは従来のかかる不利、欠点を解決す
べく鋭意研究の結果、本発明を完成したもので、
これは基板の表面に、シリコーン層およびそのシ
リコーン層上にパターン化された保護層を順次形
成し、ついでシリコーン蝕刻剤で処理して非保護
層部分のシリコーン層を除去した後該保護層を取
り除くことにより、基板上に該基板露出面からな
る画線部とシリコーン層からなる非画線部とを形
成することを特徴とする平版印刷版の製造方法に
関するものであり、この方法によれば、操作時間
が短い面露光処理が可能で、さらに真空処理、特
殊装置が不要な露光現像工程において刷版可能で
あり、解像性および印刷適性にすぐれた平版印刷
用刷版が得られる。 The present inventors completed the present invention as a result of intensive research in order to solve the conventional disadvantages and drawbacks,
This involves sequentially forming a silicone layer and a patterned protective layer on the silicone layer on the surface of the substrate, and then treating with a silicone etchant to remove the silicone layer in the non-protective layer area, and then removing the protective layer. The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate, characterized in that an image area consisting of the exposed surface of the substrate and a non-image area consisting of a silicone layer are formed on the substrate, and according to this method, A lithographic printing plate can be obtained that can perform surface exposure treatment with a short operation time, and can be printed in an exposure and development process that does not require vacuum treatment or special equipment, and has excellent resolution and printability.
本発明の方法で使用されるシリコーン蝕刻剤は
比較的短時間の処理で目的部分のシリコーン層を
除去することができ、他方保護層をなるべく侵蝕
しないものであることが望ましく、これには塩
酸、硫酸、塩化第二鉄、りん酸、クロム酸、硝酸
等の1種もしくは2種以上の混合物、さらにはこ
れらの少なくとも1種と硫酸銅もしくは硝酸銀等
との混合物、水酸化ナトリウム等のアルカリ物質
が例示される。 The silicone etchant used in the method of the present invention is capable of removing the silicone layer of the target area in a relatively short period of time, and is preferably one that does not erode the protective layer as much as possible. One or more mixtures of sulfuric acid, ferric chloride, phosphoric acid, chromic acid, nitric acid, etc., mixtures of at least one of these with copper sulfate or silver nitrate, alkaline substances such as sodium hydroxide, etc. Illustrated.
このようなシリコーン蝕刻剤を用いる本発明方
法の利点を詳しく述べるとつぎのとおりである。 The advantages of the method of the present invention using such a silicone etching agent will be described in detail as follows.
(1) 本発明の方法におけるシリコーン蝕刻剤によ
る処理は、この処理により除去されるシリコー
ン層がきわめてうすく、処理時間が短時間であ
るのでいわゆるサイドエツチがほとんど発生せ
ず、したがつて解像性は保護層(レジスト)の
解像力がほぼ再現されるため、高解像力の刷版
が得られる。(1) In the process using a silicone etchant in the method of the present invention, the silicone layer removed by this process is extremely thin and the process time is short, so so-called side etching hardly occurs, and therefore the resolution is low. Since the resolution of the protective layer (resist) is almost reproduced, a printing plate with high resolution can be obtained.
(2) また、シリコーン蝕刻剤による処理は、浸漬
処理、スプレーがけ処理、シリコーン蝕刻剤の
蒸気接触処理等の方法で行うことができ、特別
な設備を必要としない。(2) Furthermore, the treatment with silicone etchant can be carried out by dipping treatment, spraying treatment, steam contact treatment of silicone etchant, etc., and does not require any special equipment.
(3) 本発明の平版印刷用刷版はシリコーン単層か
らなり、通常これはきわめてうすい膜で形成さ
せるので、画線部と非画線部との高低差がほと
んどなく、インキの版およびブランケツトへの
転移が向上し、したがつて画線の再現性、イン
キの発色が向上し、高級な印刷物が得られる。(3) The lithographic printing plate of the present invention is made of a single layer of silicone, which is usually formed with an extremely thin film, so there is almost no difference in height between the printed area and the non-printed area, and the ink plate and blanket are easily formed. As a result, image reproducibility and ink color development are improved, resulting in high-quality printed matter.
(4) シリコーン層形成のために使用されるシリコ
ーンにはパターン形成能力が必要とされないた
め、耐溶剤性、耐摩耗性、基板との接着性にす
ぐれたオルガノポリシロキサンから自由に選択
できる。(4) Since the silicone used to form the silicone layer does not require pattern-forming ability, it can be freely selected from organopolysiloxanes that have excellent solvent resistance, abrasion resistance, and adhesion to the substrate.
(5) 保護層(レジスト層)のパターン化の選択に
よりネガもしくはポジの版材が容易に作成でき
る。(5) Negative or positive plates can be easily created by selecting the pattern of the protective layer (resist layer).
以下、本発明について図面に基づき詳細に説明
する。 Hereinafter, the present invention will be explained in detail based on the drawings.
まず、本発明にかかわる平版印刷版の概略的部
分断面構造は第4図に示すとおりであり、同図中
1は基板、2′はシリコーン層からなる非画線
部、3は基板露出面からなる画線部をそれぞれ示
し、インキはこの画線部3に付着する。第1図〜
第3図はこの平版印刷版を製造する工程を概略的
に示したもので、第1図に示すように基板1の一
方の面にシリコーン層2を設けた後第2図に示す
ように該シリコーン層2上にパターン化された保
護層4を設ける。 First, the schematic partial cross-sectional structure of the lithographic printing plate according to the present invention is as shown in FIG. The ink adheres to the image areas 3. Figure 1~
FIG. 3 schematically shows the process of manufacturing this lithographic printing plate, in which a silicone layer 2 is provided on one side of the substrate 1 as shown in FIG. A patterned protective layer 4 is provided on the silicone layer 2.
つぎに、この面全体をシリコーン蝕刻剤で処理
すると、第3図に示すように、保護層4を設けて
いない部分のシリコーン層が除去されて基板が露
出し、インキ受理性の画線部3が形成される。し
かる後保護層4を取り除くと、第4図に示すよう
な前記本発明にかかわる平版印刷版が得られる。 Next, when this entire surface is treated with a silicone etchant, the silicone layer in the area where the protective layer 4 is not provided is removed and the substrate is exposed, as shown in FIG. is formed. When the protective layer 4 is then removed, a lithographic printing plate according to the present invention as shown in FIG. 4 is obtained.
上記基板1としてはシリコーン蝕刻剤に侵され
ない材質のものを使用することが望ましく、これ
には銅板、アルミニウム板、ステンレス板、亜鉛
板、鉄板またはニツケルメツキした銅板もしくは
鉄板などの金属板、および上記金属板に樹脂ある
いはプラスチツクフイルムをコーテイングまたは
ラミネートにより裏打ちしたもの、ポリエステ
ル、ポリプロピレン等の各種プラスチツク、さら
には紙、プラスチツク等の基体上にアルミニウム
その他の金属箔を設けたものが例示される。 It is desirable to use a material that is not attacked by silicone etching agents as the substrate 1, and examples thereof include metal plates such as copper plates, aluminum plates, stainless steel plates, zinc plates, iron plates, or nickel-plated copper plates or iron plates, and the above-mentioned metal plates. Examples include plates lined with resin or plastic film coating or lamination, various plastics such as polyester and polypropylene, and substrates such as paper and plastic coated with aluminum or other metal foil.
基板1の表面に設けられるシリコーン層は、で
きるだけ均一にかつ強い密着性を維持するように
形成することが望ましく、このためには基板1の
面をあらかじめ適宜の方法で清浄し、さらに必要
に応じ粗面化するなどの手段を採ることが望まし
い。また、基板1の面に接着性(密着性)向上の
ためのプライマーをあらかじめ塗布することもよ
く、このプライマーとしてはビニルトリス(2−
メトキシエトキシ)シラン、3−グリシドキシプ
ロピルメトキシシラン、3−メタクリルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピル
トリエトキシシランなどのシラン単独もしくはこ
れらの混合物、またはこれらの部分(共)加水分
解縮合物などが使用される。 It is desirable that the silicone layer provided on the surface of the substrate 1 be formed as uniformly as possible while maintaining strong adhesion. For this purpose, the surface of the substrate 1 should be cleaned in advance by an appropriate method, and if necessary, It is desirable to take measures such as roughening the surface. It is also possible to apply a primer to the surface of the substrate 1 in advance to improve adhesion (adhesion).
Silanes such as methoxyethoxy)silane, 3-glycidoxypropylmethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, mixtures thereof, or partial (co)hydrolyzed condensates thereof etc. are used.
シリコーン層の厚さは、十分な耐刷性が得られ
る範囲内でうすい方が望ましく、通常は1〜20μ
m程度の厚さとすればよい。厚さが大きすぎると
シリコーン蝕刻剤によるこの除去操作が困難とな
り不利であるので、より望ましくは1〜5μm程
度の厚さとすることがよい。 The thickness of the silicone layer is preferably as thin as possible within the range that provides sufficient printing durability, and is usually 1 to 20 μm thick.
The thickness may be about m. If the thickness is too large, this removal operation using a silicone etchant becomes difficult and disadvantageous, so the thickness is more preferably about 1 to 5 μm.
このシリコーン層2を形成するためのシリコー
ンの具体的種類としては、塗布後常温もしくは加
熱により架橋硬化してインキ反発性のシリコーン
ゴム弾性体となるもので、けい素原子に結合する
全有機基の90モル%以上がメチル基である高重合
度オルガノポリシロキサン(これはインキ反発性
にすぐれている)を主体としてなるものがよく、
これには(1)分子鎖両末端が水酸基で封鎖された有
機基の90モル%以上がメチル基である高重合度ジ
オルガノポリシロキサン、架橋剤としてメチルハ
イドロジエンポリシロキサンまたはエチルポリシ
リケート、および縮合触媒として有機酸金属塩か
らなるもの、(2)ビニル基含有高重合度ジオルガノ
ポリシロキサン(ビニル基以外の有機基の90モル
%以上がメチル基)、架橋剤としてのメチルハイ
ドロジエンポリシロキサン、および付加反応触媒
としての白金系触媒からなるもの、(3)分子鎖両末
端が水酸基で封鎖された有機基の90モル%以上が
メチル基である高重合度ジオルガノポリシロキサ
ン、および架橋剤として1分子中に3個以上のア
セトキシ基、アミノ基、オキシム基またはプロペ
ノキシ基等の加水分解性基を有するシランまたは
低重合度シロキサン化合物からなるものが例示さ
れる。本発明においては上記(1)または(2)に例示し
た種類のものが特に好適とされる。 The specific type of silicone used to form this silicone layer 2 is one that cross-links and cures at room temperature or by heating after coating to become an ink-repellent silicone rubber elastic body, which contains all organic groups bonded to silicon atoms. It is best to use a highly polymerized organopolysiloxane (which has excellent ink repellency) as its main component, with 90 mol% or more of methyl groups.
These include (1) a highly polymerized diorganopolysiloxane in which both ends of the molecular chain are capped with hydroxyl groups and 90 mol% or more of the organic groups are methyl groups; methylhydrodiene polysiloxane or ethyl polysilicate as a crosslinking agent; A condensation catalyst consisting of an organic acid metal salt, (2) a vinyl group-containing highly polymerized diorganopolysiloxane (at least 90 mol% of organic groups other than vinyl groups are methyl groups), and a methylhydrodiene polysiloxane as a crosslinking agent. , and a platinum-based catalyst as an addition reaction catalyst, (3) a highly polymerized diorganopolysiloxane in which both ends of the molecular chain are blocked with hydroxyl groups and 90 mol% or more of the organic groups are methyl groups, and a crosslinking agent. Examples include silanes or low polymerization degree siloxane compounds having three or more hydrolyzable groups such as acetoxy groups, amino groups, oxime groups, or propenoxy groups in one molecule. In the present invention, the types exemplified in (1) or (2) above are particularly preferred.
なお、上記においてメチル基以外の有機基とし
ては、一般にフエニル基等のアリール基、ビニル
基等のアルケニル基、エチル基、プロピル基等の
アルキル基、トリフロオロプロピル基等のハロゲ
ン置換アルキル基などが例示される。 In addition, organic groups other than methyl groups in the above generally include aryl groups such as phenyl groups, alkenyl groups such as vinyl groups, alkyl groups such as ethyl groups and propyl groups, and halogen-substituted alkyl groups such as trifluoropropyl groups. is exemplified.
上記(1),(2)および(3)に例示した組成物には、必
要に応じ、インキ反発性をさらに向上させるため
の通常のジオルガノポリシロキサンたとえばジメ
チルポリシロキサンを硬化塗膜の性質に悪影響を
与えない範囲で添加すること、また耐刷性向上の
目的で少量の補強性充てん剤たとえばシリカ微粉
末を添加することは差支えない。 In the compositions exemplified in (1), (2) and (3) above, if necessary, ordinary diorganopolysiloxanes such as dimethylpolysiloxane may be added to improve the properties of the cured coating film in order to further improve the ink repellency. It is permissible to add a small amount of reinforcing filler, such as fine silica powder, to the extent that it does not cause any adverse effects, and for the purpose of improving printing durability.
シリコーン層2の上に設けられる保護層4とし
ては、本発明の目的上、シリコーン蝕刻物質に対
して安定で、パターン化が容易に行えるものが使
用されるが、これはシリコーン蝕刻剤による処理
の工程中(この処理工程は比較的短時間で完了さ
れる)非画線部保護層としての機能が発揮されれ
ばよく、必ずしも高度に耐蝕刻性である必要はな
いので、これには多くのものが使用可能である。 For the purposes of the present invention, the protective layer 4 provided on the silicone layer 2 is made of a material that is stable to silicone etching agents and can be easily patterned. During the process (this process is completed in a relatively short time), it is sufficient that the layer functions as a protective layer for the non-image area, and it does not necessarily need to be highly corrosion resistant. things are available.
このような材料としてはジアジドキノン、アジ
ド、ジアゾ、ケイ皮酸、重クロム酸等の感光基を
含有するフオトレジスト、及び多数の感光性樹
脂、被覆性ある感光材料などが例示される。 Examples of such materials include photoresists containing photosensitive groups such as diazidoquinone, azide, diazo, cinnamic acid, and dichromic acid, as well as numerous photosensitive resins and coatable photosensitive materials.
このパターン化された保護層4を形成するには
(イ)市販品ホトレジストを使用し通常の製版法によ
りパターニングする方法、(ロ)耐酸性もしくは耐ア
ルカリ性の樹脂を含むインキを用いてスクリーン
印刷することによりレジスト層をパターン状に形
成させる方法、(ハ)成膜性樹脂液を手描きしたり適
当な印刷手段で転写したりする方法などいずれの
方法によつてもよい。 To form this patterned protective layer 4
(a) A method of patterning using a commercially available photoresist using an ordinary plate making method, (b) A method of forming a resist layer into a pattern by screen printing using an ink containing an acid-resistant or alkali-resistant resin, ( c) Film-forming properties Any method may be used, such as hand-painting the resin liquid or transferring it using an appropriate printing means.
シリコーン蝕刻剤を用いて非保護層部分のシリ
コーンを除去するための具体的処理手段として
は、浸漬、塗布、スプレーがけ等の方法によれば
よいが、これはまた塩酸、硝酸等の蒸気を接触さ
せるという手段によつてもよく、これによれば被
処理面と該蒸気とを対面接触させることのみで目
的の処理を完了させることができるので、この場
合には基板としてたとえば樹脂等の裏打ちが施こ
されていない金属板を使用することができるとい
う利点が与えられる。 Specific treatment methods for removing silicone from the non-protective layer using a silicone etching agent include dipping, coating, spraying, etc. According to this method, the desired treatment can be completed simply by bringing the surface to be treated and the vapor into face-to-face contact, so in this case, the substrate may be lined with, for example, resin. The advantage is that uncoated metal sheets can be used.
シリコーン層2の膜厚は前記したように、1〜
20μm程度のうすい被膜であるので、上記シリコ
ーン蝕刻剤による処理で非保護層部分のシリコー
ンが容易に除去され、画線部(インキ受理部)3
が形成される。 As mentioned above, the thickness of the silicone layer 2 is 1 to 1.
Since it is a thin film of about 20 μm, the silicone in the non-protective layer is easily removed by the treatment with the silicone etchant, and the image area (ink receiving area) 3
is formed.
つぎに、保護層4を取り除くには、市販品ホト
レジストを使用した場合には適当な溶剤を用いて
これを溶解ないし剥離除去する手段によればよ
く、たとえばシツプレー社製ホトレジストAZで
はアセトン、メチルエチルケトン等を、また東京
応化製TPRではエチルセロソルブ等を、さらに
スクリーン印刷でのレジスト層ではトルエン等を
使用することにより容易に剥離ないし溶解除去す
ることができる。強酸や強アルカリはシリコーン
の層まで侵してしまうのでこれらの使用は避ける
べきである。なお、シリコーンは一般に他物質と
の接着が弱いという表面特性を有しているので、
保護層4は適当な接着テープを用いて剥すことも
できる。 Next, in order to remove the protective layer 4, if a commercially available photoresist is used, it may be dissolved or peeled off using an appropriate solvent. It can be easily peeled off or dissolved by using ethyl cellosolve, etc. for Tokyo Ohka TPR, and toluene, etc. for screen printing resist layers. Strong acids and strong alkalis should be avoided as they will attack the silicone layer. In addition, silicone generally has surface characteristics that make it weakly bonded to other substances, so
The protective layer 4 can also be removed using a suitable adhesive tape.
このようにして保護層4を取り除くことにより
レジストの解像力がほぼそのまま再現された非画
線部(インキ反発部)2′が形成される。 By removing the protective layer 4 in this manner, a non-image area (ink repelling area) 2' is formed in which the resolution of the resist is reproduced almost as is.
以上述べた本発明の製造方法により前記した(1)
〜(5)の注目すべき利点が与えられるが、さらには
この平版印刷用刷版は湿し水を必要としない刷版
であるため、ブランケツトを介さずに直接被印刷
体に印刷することが可能であり、活版印刷機に取
り付けて印刷することができ、これによれば従来
の活版印刷におけるごとく印圧のむら取りに要す
る作業が回避され、解像性のすぐれた印刷物が得
られるという利点が与えられる。 The above-mentioned (1) is achieved by the manufacturing method of the present invention described above.
This lithographic printing plate does not require dampening water, so it can be printed directly onto the printing material without using a blanket. It is possible to print by attaching it to a letterpress printing machine, which has the advantage of avoiding the work required to smooth out uneven printing pressure as in conventional letterpress printing, and producing printed matter with excellent resolution. Given.
つぎに、実施例をあげて本発明をさらに具体的
に説明する。 Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
実施例 1
裏面がエポキシ樹脂でコーテイングしてある脱
脂洗浄されたアルミニウム板上に、ジメチルポリ
シロキサン(信越化学社製、KS−705F)を乾燥
硬化後の膜厚が5μmになるように塗布し、乾燥
硬化してシリコーン層を形成し、この上に界面活
性剤(3M社製、FC−431)を1重量%添加した
ホトレジスト液(シツプレー社製、AZ−111)を
乾燥後の膜厚が3μmになるように回転塗布法で
塗布し乾燥した。Example 1 Dimethylpolysiloxane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KS-705F) was applied to a degreased and cleaned aluminum plate whose back surface was coated with epoxy resin so that the film thickness after drying and curing was 5 μm. A silicone layer was formed by drying and curing, and on top of this a photoresist solution (AZ-111, manufactured by Shippray) containing 1% by weight of a surfactant (FC-431, manufactured by 3M) was applied to form a silicone layer with a film thickness of 3 μm after drying. It was applied using a spin coating method and dried.
つぎに、ネガ原版を密着させて露光現像するこ
とによりシリコーン層上にレジスト画像(保護
層)を形成した後、これを7%塩酸中に室温にて
10分間浸漬処理して非保護層部分のシリコーン層
を除去し、水洗乾燥し、ついで保護層をアセトン
により剥膜し、平版印刷用刷版を得た。 Next, a resist image (protective layer) is formed on the silicone layer by exposing and developing the negative original plate, and then placing it in 7% hydrochloric acid at room temperature.
The non-protective silicone layer was removed by immersion treatment for 10 minutes, washed with water and dried, and then the protective layer was removed with acetone to obtain a lithographic printing plate.
この刷版は5万枚の耐刷力を示した。 This printing plate showed a printing durability of 50,000 sheets.
実施例 2
前例と同様にしてアルミニウム板(ただしアル
ミニウム板は樹脂等による裏面コーテイングは施
してない)上にシリコーン層およびその上にレジ
スト画像を形成した後、これを35%塩酸より発生
する塩化水素蒸気で室温にて3分間処理して非保
護層部分のシリコーン層を除去し、水洗乾燥し、
ついで保護層をアセトンにより剥膜し、平版印刷
用刷版を得た。Example 2 After forming a silicone layer and a resist image on an aluminum plate in the same manner as in the previous example (however, the aluminum plate was not coated with a resin or the like on the back side), it was treated with hydrogen chloride generated from 35% hydrochloric acid. The non-protective silicone layer was removed by steam treatment at room temperature for 3 minutes, washed with water and dried,
The protective layer was then removed with acetone to obtain a lithographic printing plate.
この刷版は5万枚以上の耐刷力を示した。 This printing plate showed a printing durability of over 50,000 sheets.
実施例 3
ポリエステルフイルムを裏面にラミネートした
銅板上にジメチルポリシロキサン(信越化学社
製、KS−774)を乾燥硬化後の膜厚が5μmにな
るように塗布し、乾燥硬化してシリコーン層を形
成し、この上にホトレジスト液(東京応化製、
TPR)を乾燥後の膜厚が3μmになるように回
転塗布法で塗布し乾燥した。Example 3 Dimethylpolysiloxane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KS-774) was applied to a copper plate with a polyester film laminated on the back side so that the film thickness after drying and curing was 5 μm, and the film was dried and cured to form a silicone layer. Then apply a photoresist solution (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) on top of this.
TPR) was applied by spin coating to a dry film thickness of 3 μm and dried.
つぎにポジ原版を密着させて露光現像すること
によりシリコーン層上にレジスト画像(保護層)
を形成した後、これを5%塩化第2鉄水溶液中に
室温にて5分間浸漬処理して非保護層部分のシリ
コーン層を除去し、水洗乾燥し、ついで保護層を
エチルセロソルブアセテートにより剥膜し、平版
印刷用刷版を得た。 Next, a resist image (protective layer) is formed on the silicone layer by exposing and developing the positive master plate.
After forming this, it was immersed in a 5% ferric chloride aqueous solution at room temperature for 5 minutes to remove the silicone layer on the non-protective layer, washed with water and dried, and then the protective layer was peeled off with ethyl cellosolve acetate. A printing plate for lithographic printing was obtained.
この刷版は3万枚の耐刷力を示した。 This printing plate showed a printing durability of 30,000 sheets.
実施例 4
実施例1と同様なアルミニウム板上にジメチル
ポリシロキサン(信越化学社製、KE−45RTV)
を乾燥硬化後の膜厚が3μmになるように塗布
し、乾燥硬化してシリコーン層を形成し、この上
に実施例1で使用したと同様のホトレジスト液を
塗布乾燥後、写真製版によりパターン化を行つ
た。ついでこのものに5%硝酸を室温にて3分間
スプレーがけ処理することにより非保護層部分の
シリコーン層を除去し、水洗乾燥した後、保護層
をアセトンにより剥膜し、平版印刷用刷版を得
た。Example 4 Dimethylpolysiloxane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KE-45RTV) was placed on an aluminum plate similar to Example 1.
was applied so that the film thickness after drying and curing was 3 μm, drying and curing to form a silicone layer, and on top of this a photoresist solution similar to that used in Example 1 was applied and after drying, it was patterned by photolithography. I went there. Next, the silicone layer on the non-protective layer was removed by spraying 5% nitric acid at room temperature for 3 minutes, washed with water and dried, and the protective layer was removed with acetone to form a lithographic printing plate. Obtained.
この刷版は5万枚以上の良好な耐刷力を示し
た。 This printing plate showed good printing durability of 50,000 sheets or more.
実施例 5
実施例1と同様なアルミニウム板上に同例と同
じようにシリコーン層およびその上にレジスト画
像を形成した後、これを5%塩酸中に25℃5分間
浸漬処理して非保護層部分のシリコーン層を除去
し、水洗乾燥した。ついで保護層を粘着テープ
(日東電工社製、紙粘着テープ)を使用して剥膜
し、平版印刷用刷版を得た。Example 5 After forming a silicone layer and a resist image thereon in the same manner as in Example 1 on an aluminum plate similar to Example 1, this was immersed in 5% hydrochloric acid at 25°C for 5 minutes to form a non-protective layer. The silicone layer was removed from the area, washed with water and dried. The protective layer was then peeled off using adhesive tape (manufactured by Nitto Denko Corporation, paper adhesive tape) to obtain a printing plate for lithographic printing.
この刷版は、ブランケツトを介さず、直接被印
刷体に印刷したところ、3万枚の良好な印刷物が
得られた。 When this printing plate was printed directly onto a printing material without using a blanket, 30,000 good prints were obtained.
実施例 6
実施例2と同様な銅板上にジメチルポリシロキ
サン(KS−705F)を乾燥硬化後の膜厚が5μm
になるように塗布し、乾燥硬化してシリコーン層
を形成した。つぎにこのシリコーン層上に、エチ
ルセルロースとパインオイルを主成分とするスク
リーンオイル20重量部とガラスフリツト80重量部
からなるスクリーンインキを用いてあらかじめ準
備してあつたシルクスクリーン版で印刷を施した
後、これを3%塩酸中で25℃5分間浸漬処理して
スクリーンインキレジスト部分以外のシリコーン
層を除去し、水洗乾燥し、ついでスクリーンイン
キレジスト層を剥離し、平版印刷用刷版を得た。Example 6 The film thickness after drying and curing of dimethylpolysiloxane (KS-705F) was 5 μm on the same copper plate as in Example 2.
The silicone layer was formed by drying and curing. Next, on this silicone layer, printing was performed using a silk screen plate prepared in advance using a screen ink consisting of 20 parts by weight of screen oil mainly composed of ethyl cellulose and pine oil and 80 parts by weight of glass frit. This was immersed in 3% hydrochloric acid at 25° C. for 5 minutes to remove the silicone layer other than the screen ink resist portion, washed with water and dried, and then the screen ink resist layer was peeled off to obtain a lithographic printing plate.
この刷版はブランケツトを介さず、直接被印刷
体に印刷したところ、3万枚の良好な印刷物が得
られた。 When this printing plate was printed directly onto a printing material without using a blanket, 30,000 good prints were obtained.
実施例 7
厚さ0.1mmのポリエステルフイルムにアルミ箔
上にジメチルポリシロキサン(KS−774)を乾燥
硬化後の膜厚が5μmになるように塗布し、乾燥
硬化してシリコーン層を形成し、この上にホトレ
ジスト液(富士薬品製、FSR FC−431 2%添
加)を乾燥後の膜厚が3μmになるように回転塗
布法で塗布乾燥した。Example 7 Dimethylpolysiloxane (KS-774) was applied on aluminum foil to a polyester film with a thickness of 0.1 mm so that the film thickness after drying and curing was 5 μm, and the silicone layer was formed by drying and curing. A photoresist solution (manufactured by Fuji Yakuhin, FSR FC-431 with 2% addition) was applied on top by a spin coating method and dried so that the film thickness after drying was 3 μm.
つぎに、ポジ原版を密着し、写真製版法により
パターン化を行つた。ついでこのものを5%水酸
化ナトリウム中に室温にて5分間処理することに
より非保護層部分のシリコーン層を徐去し、水洗
乾燥した後、ホトレジスト層を剥膜し、平版印刷
用刷版を得た。 Next, a positive master plate was attached and patterned using photolithography. Next, this material was treated in 5% sodium hydroxide at room temperature for 5 minutes to gradually remove the silicone layer on the non-protective layer, washed with water and dried, the photoresist layer was peeled off, and a lithographic printing plate was prepared. Obtained.
この刷版は、1万枚の耐刷力を示した。 This printing plate showed a printing durability of 10,000 sheets.
第1図〜第4図は本発明の方法により平版印刷
版を製造する各工程の概略部分断面構造を示した
ものである。
1……基板、2……シリコーン層、3……基板
露出面からなる画線部、4……パターン化された
保護層、2′……非画線部を構成するシリコーン
層。
FIGS. 1 to 4 show schematic partial cross-sectional structures of each step of manufacturing a lithographic printing plate by the method of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Substrate, 2...Silicone layer, 3...An image area consisting of the exposed surface of the substrate, 4...A patterned protective layer, 2'...A silicone layer constituting a non-image area.
Claims (1)
コーン層上にパターン化された保護層を順次形成
し、ついでシリコーン蝕刻剤で処理して非保護層
部分のシリコーン層を除去した後該保護層を取り
除くことにより、基板上に該基板露出面からなる
画線部とシリコーン層からなる非画線部とを形成
することを特徴とする平版印刷版の製造方法。1. Sequentially forming a silicone layer and a patterned protective layer on the silicone layer on the surface of the substrate, then treating with a silicone etchant to remove the silicone layer in the non-protective layer portion, and then removing the protective layer. A method for producing a lithographic printing plate, comprising forming on a substrate an image area consisting of the exposed surface of the substrate and a non-image area consisting of a silicone layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13262379A JPS5656864A (en) | 1979-10-15 | 1979-10-15 | Preparation of lithographic printing form |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13262379A JPS5656864A (en) | 1979-10-15 | 1979-10-15 | Preparation of lithographic printing form |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5656864A JPS5656864A (en) | 1981-05-19 |
| JPS6154221B2 true JPS6154221B2 (en) | 1986-11-21 |
Family
ID=15085643
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13262379A Granted JPS5656864A (en) | 1979-10-15 | 1979-10-15 | Preparation of lithographic printing form |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5656864A (en) |
-
1979
- 1979-10-15 JP JP13262379A patent/JPS5656864A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5656864A (en) | 1981-05-19 |
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