JPS6320341B2 - - Google Patents
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- JPS6320341B2 JPS6320341B2 JP55052695A JP5269580A JPS6320341B2 JP S6320341 B2 JPS6320341 B2 JP S6320341B2 JP 55052695 A JP55052695 A JP 55052695A JP 5269580 A JP5269580 A JP 5269580A JP S6320341 B2 JPS6320341 B2 JP S6320341B2
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- Japan
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- layer
- photosensitive
- organopolysiloxane
- film layer
- plasma
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、湿し水を必要としない平版印刷用印
刷版の製造方法に関し、さらに詳しくは、解像
性、耐刷性などの点できわめてすぐれた性質を有
する平版印刷用印刷版の製造方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a lithographic printing plate that does not require dampening water, and more specifically to a lithographic printing plate that has excellent properties in terms of resolution, printing durability, etc. This invention relates to a method for manufacturing a printing plate for printing.
平版印刷においては、凸版または凹版のように
版面に明瞭な高低がなく、外見上同じ平面上に画
線部と非画線部とを設けた版が使用されるが、こ
の印刷法はつぎの工程で行われる。すなわち、こ
れにはまず水と脂肪とが互に反発することから、
前記非画線部を化学的あるいは機械的処理によつ
て親水性にすると共に、前記画線部を脂肪性樹脂
の転写または写真焼付けなどによつて親油性と
し、次いでこの版面に水を転移させて水を親水性
である非画線部のみに付着させてから、さらにこ
の版面にインキを転移する。このようにすると、
このインキは水が存在している非画線部には付着
せずに親油性である画線部にのみ付着するので、
つぎにこれを被印刷物に転移させて目的の印刷物
を得るという工程によつて行われている。 In lithographic printing, a plate is used that does not have clear heights on the plate surface like letterpress or intaglio, and has a printed area and a non-printed area on the same plane in appearance.This printing method involves the following process. It will be held in In other words, first of all, water and fat repel each other,
The non-image area is made hydrophilic by chemical or mechanical treatment, and the image area is made lipophilic by transfer of a fatty resin or photographic printing, and then water is transferred to the printing plate. After that, water is applied only to the hydrophilic non-image areas, and then ink is further transferred to this plate surface. In this way,
This ink does not adhere to the non-print areas where water is present, but only to the lipophilic print areas, so
This is then transferred to a substrate to obtain the desired printed matter.
しかし、この平版印刷法には、たとえば上記し
た湿し水のインキローラーへの転移がインキロー
ラー上でのインキの乳化を引き起すため、これが
地よごれなどの原因となるほか、この湿し水の被
印刷物への転移は、被印刷物の寸法変化の原因と
もなるので、特に多色刷り印刷においては印刷画
像が不鮮明になるという大きな欠点がある。また
この平版印刷法においては、色調の一定な印刷物
を得るために、湿し水の量とインキの量とを一定
のつり合いに保つことが必要とされているが、こ
の両者の量を一定のつり合いに保つことは非常に
困難であり、したがつて印刷物の色調にばらつき
が生じるという欠点があつた。 However, in this lithographic printing method, for example, the transfer of the dampening water to the ink roller causes the ink to emulsify on the ink roller, which causes stains, and also The transfer to the printing material also causes a change in the dimensions of the printing material, so there is a major drawback that the printed image becomes unclear, especially in multicolor printing. In addition, in this lithographic printing method, in order to obtain printed matter with a constant color tone, it is necessary to maintain a constant balance between the amount of dampening water and the amount of ink. It is very difficult to maintain a balance, which has the disadvantage of causing variations in the color tone of the printed matter.
このため、上記した不利を改良する目的におい
て、湿し水を必要としない平版印刷用印刷版の開
発が試みられているが、現在までに知られている
ものはいずれもいまだ実用に耐える充分満足すべ
き性質を示すにはいたつていない。 For this reason, attempts have been made to develop printing plates for lithographic printing that do not require dampening water in order to improve the above-mentioned disadvantages, but none of the plates known to date are sufficiently satisfactory for practical use. They are not yet able to show the characteristics they should have.
たとえば、アルミニウム板などの基板上に、ジ
アゾ型感光性組成物よりなるジアゾ感光層とジメ
チルポリシロキサンゴム層とを形成させ、ついで
この上にさらにポジフイルムを重ね合せてから露
光することによつて露光部分のジアゾ感光層を不
溶化させ、非露光部分のジアゾ感光層を現像処理
により除去し、ついで非露光部分のジメチルポリ
シロキサンゴム層を剥ぎ取るという方法(特公昭
44−23042号公報参照)、あるいはアルミニウム板
などの基板上に、ジアゾ感光層と接着剤層とシリ
コーンゴム層を順次形成させ、ついでこの上にネ
ガフイルムを重ね合せてから露光し、露光部分に
おける感光層の光分解を利用して現像し、ついで
露光部分のシリコーンゴム層を剥ぎ取るという方
法で平版印刷用印刷版を得る方法(特公昭46−
16044号公報参照)が公知とされている。しかし、
これらの方法はいずれもジアゾ感光層とポジまた
はネガフイルムとの間に非感光性のシリコーンゴ
ムが存在するため、これにはポジまたはネガフイ
ルムに現わされているパターンが正確に再現され
ず、さらにはシリコーンゴム層の剥ぎ取りが感光
層の溶剤溶解性の変化を利用して行われるために
剥ぎ取り後のシリコーンゴム層によつて形成され
る画像はそのエツジ部分のきれが悪く、シヤープ
なものにならないという重大な欠点があり、これ
にはまたその製造が基板上に2〜3層を順次重
ね、露光後、現像するという工程で行われるた
め、操作が複雑であるという不利がある。 For example, a diazo photosensitive layer made of a diazo type photosensitive composition and a dimethylpolysiloxane rubber layer are formed on a substrate such as an aluminum plate, and then a positive film is further laminated thereon and then exposed. A method of insolubilizing the diazo photosensitive layer in the exposed areas, removing the diazo photosensitive layer in the non-exposed areas by development treatment, and then peeling off the dimethylpolysiloxane rubber layer in the non-exposed areas (Tokuko Sho)
44-23042), or on a substrate such as an aluminum plate, a diazo photosensitive layer, an adhesive layer, and a silicone rubber layer are sequentially formed, and then a negative film is superimposed on this layer and exposed. A method of obtaining a printing plate for lithographic printing by developing the photosensitive layer using photodecomposition and then peeling off the silicone rubber layer in the exposed area (Japanese Patent Publication No. 1973-
16044) is known. but,
In all of these methods, a non-photosensitive silicone rubber exists between the diazo photosensitive layer and the positive or negative film, so the pattern appearing on the positive or negative film cannot be accurately reproduced. Furthermore, since the silicone rubber layer is peeled off using changes in the solvent solubility of the photosensitive layer, the images formed by the silicone rubber layer after peeling off have poor edges and are not sharp. It has the serious disadvantage that it cannot be used as a commercially available product, and it also has the disadvantage of being complex in operation, since its manufacture involves the steps of successively depositing two or three layers on a substrate, exposing and developing it.
以上の現像操作上の欠点を除くものとして、シ
リコーン層を電子線、レーザー光、放電等により
破壊する方法(特公昭42−21879号公報参照)、シ
リコーン層をグローまたはコロナビームで走査す
ることにより親油性に変える方法(特公昭48−
8207号公報参照)が公知とされている。これによ
れば、電子線、レーザー光、放電等によるシリコ
ーン層の破壊またはコロナビームによる処理を行
うことにより、何ら現像操作を必要とせずに湿し
水なしでオフセツト印刷可能である。しかしなが
ら、インキ反発層であるジメチルポリシロキサン
を破壊し低分子量ジメチルポリシロキサンを生成
するためには高エネルギーが必要であり製版装置
が大がかりになる。さらには、シリコーン層のパ
ターニングの際に高エネルギーで熱的にシリコー
ンを破壊することにより画像エツジが盛り上がり
画像のシヤープネスが失われ、解像性および印刷
品質が低下するという欠点を有している。また、
コロナビームの使用ではインキ反発層を走査し画
像を形成するため刷版時間が長く、特有の設備が
必要となる。 As a method to eliminate the above-mentioned drawbacks in the development operation, there are methods of destroying the silicone layer by electron beam, laser light, electric discharge, etc. (see Japanese Patent Publication No. 42-21879), and by scanning the silicone layer with glow or corona beam. How to make it lipophilic
8207) is known. According to this, by destroying the silicone layer with an electron beam, laser beam, electric discharge, etc., or processing it with a corona beam, offset printing can be performed without any developing operation and without dampening water. However, high energy is required to destroy the ink repellent layer of dimethylpolysiloxane and generate low molecular weight dimethylpolysiloxane, and the plate making apparatus becomes large-scale. Furthermore, when patterning the silicone layer, the silicone is thermally destroyed with high energy, which causes the edges of the image to swell, resulting in a loss of sharpness of the image, resulting in a reduction in resolution and print quality. Also,
When using a corona beam, the printing plate takes a long time to form an image by scanning the ink repellent layer, and special equipment is required.
本発明者らは、上述した従来の湿し水を必要と
しない平版印刷用印刷版の難点をふまえ、材料の
選択および製造法に関し総合的に検討した結果、
プラズマ状態の活性化された化学種で選択的に化
学処理することにより、発油性オルガノシリコー
ンが親油性に変化することおよびこの変化はコロ
ナ放電や火炎処理などと異なりシリコーン層表面
のみでなく内部にまで及んでいること、低エネル
ギーで短時間に処理できること、また保護被膜層
として感光性樹脂を用いると高解像力が得られる
こと、特にこの感光性樹脂中に比較的少量の感光
性シリコーンを添加することにより感光性樹脂の
表面張力が低下して下層のオルガノポリシロキサ
ン硬化膜層の表面張力に近づくため、オルガノポ
リシロキサンの硬化膜層に対してぬれ性および密
着性良好なレジスト層を形成することができ、き
わめて高い解像力が安定して得られることを見い
出し、本発明に到達したものである。 The inventors of the present invention have comprehensively studied material selection and manufacturing methods, taking into account the above-mentioned drawbacks of conventional lithographic printing plates that do not require dampening water.
By selectively chemically treating the activated chemical species in a plasma state, the oil-repellent organosilicone changes to lipophilicity, and unlike corona discharge or flame treatment, this change occurs not only on the surface of the silicone layer but also inside the silicone layer. It can be processed in a short time with low energy, and high resolution can be obtained by using a photosensitive resin as a protective coating layer.In particular, it is possible to obtain high resolution by adding a relatively small amount of photosensitive silicone to this photosensitive resin. As a result, the surface tension of the photosensitive resin decreases and approaches the surface tension of the underlying organopolysiloxane cured film layer, thereby forming a resist layer with good wettability and adhesion to the organopolysiloxane cured film layer. The present invention was achieved based on the discovery that extremely high resolution can be stably obtained.
すなわち、本発明は、基板の一方の面に、オル
ガノポリシロキサンの硬化膜層、および感光性シ
リコーンとこれ以外の感光性樹脂とからなる混合
樹脂の被膜層を順次形成し、次いで露光、現像処
理を施すことによりパターンを形成した後、この
面をプラズマ状態の活性化された化学種でプラズ
マ処理し、次いで前記感光性混合樹脂の被膜層を
除去することにより、基板上にオルガノポリシロ
キサン硬化膜層からなる非画線部とプラズマ処理
されたオルガノポリシロキサン硬化膜層からなる
画線部とを形成することを特徴とする平版印刷用
印刷版の製造方法に関するものである。 That is, in the present invention, a cured film layer of organopolysiloxane and a film layer of a mixed resin made of photosensitive silicone and other photosensitive resin are sequentially formed on one surface of a substrate, and then exposed to light and developed. After forming a pattern by subjecting this surface to plasma treatment with activated chemical species in a plasma state and then removing the coating layer of the photosensitive mixed resin, a cured organopolysiloxane film is formed on the substrate. The present invention relates to a method for manufacturing a printing plate for lithographic printing, which comprises forming a non-image area consisting of a layer and an image area consisting of a plasma-treated organopolysiloxane cured film layer.
本発明の製造方法およびこれにより得られる平
版印刷用印刷版は次のようなすぐれた利点を有す
る。 The manufacturing method of the present invention and the lithographic printing plate obtained thereby have the following excellent advantages.
(1) 高解像力の感光性樹脂を使用するため、従来
の湿し水不要の平版印刷版よりも高解像力を有
する平版印刷用印刷版が得られる。(1) Since a high-resolution photosensitive resin is used, a lithographic printing plate with higher resolution than conventional lithographic printing plates that do not require dampening water can be obtained.
(2) オルガノポリシロキサン硬化膜層に対する感
光性樹脂層の密着性を向上させるために、感光
性混合樹脂中に添加する感光性シリコーンの量
は比較的少量でよいため、感光性樹脂層の現像
性が良好で、高解像力が保持される。(2) In order to improve the adhesion of the photosensitive resin layer to the organopolysiloxane cured film layer, the amount of photosensitive silicone added to the photosensitive mixed resin can be relatively small, so it is difficult to develop the photosensitive resin layer. The image quality is good and high resolution is maintained.
なお、上記密着性向上の目的に対しては通常
の界面活性剤を添加することも考えられるが、
この場合には現像処理の際界面活性剤がオルガ
ノポリシロキサンの硬化膜上に残留したり、あ
るいは露光部分の樹脂中から界面活性剤の溶出
が起こり、現像性および解像性の低下がもたら
されるほか、界面活性剤を多量に添加しないと
下層に対するぬれ性が向上せず、またこれによ
つても密着性の充分な向上は望めない。 It should be noted that for the purpose of improving the adhesion mentioned above, it is possible to add a normal surfactant, but
In this case, during the development process, the surfactant may remain on the cured organopolysiloxane film, or the surfactant may be eluted from the resin in the exposed area, resulting in a decrease in developability and resolution. In addition, unless a large amount of surfactant is added, the wettability to the lower layer will not improve, and even with this, sufficient improvement in adhesion cannot be expected.
(3) 感光性樹脂として感光性シリコーンとこれ以
外の感光性樹脂とからなる混合樹脂を使用する
と、感光性樹脂と感光性シリコーンとの間の相
溶性が増し、さらに均一な被膜が得られ、さら
に感光性樹脂と同時に感光性シリコーンも現像
されるため、一段と高い解像力が得られる。(3) When a mixed resin consisting of photosensitive silicone and other photosensitive resin is used as the photosensitive resin, the compatibility between the photosensitive resin and the photosensitive silicone increases, and a more uniform coating can be obtained. Furthermore, since the photosensitive silicone is also developed at the same time as the photosensitive resin, even higher resolution can be obtained.
(4) また、オルガノポリシロキサンの硬化膜層と
接着性良好な感光性シリコーンを、これ以外の
感光性樹脂と混合した被膜層として使用するこ
とにより、両層の接着性がより向上し、版の取
り扱いが容易となる。(4) In addition, by using photosensitive silicone, which has good adhesion to the organopolysiloxane cured film layer, as a coating layer mixed with other photosensitive resins, the adhesion of both layers is further improved, and the printing plate becomes easier to handle.
(5) 感光性樹脂の選択により、ネガ型、ポジ型の
版材が自由に選べる。(5) By selecting the photosensitive resin, you can freely choose between negative and positive plate materials.
以下本発明について詳細に説明する。 The present invention will be explained in detail below.
まず、本発明を図面に基づき説明すると、第4
図は本発明の方法により得られる平版印刷用印刷
版の構成を概略的に例示した一部拡大断面図であ
り、該刷版は、基板1の一方の面に、オルガノポ
リシロキサン硬化膜層からなるインキ反発性の層
2(非画線部)と、プラズマ親油化処理されたオ
ルガノポリシロキサン硬化膜層からなるインキ受
理性の層3(画線部)とを有する。 First, the present invention will be explained based on the drawings.
The figure is a partially enlarged sectional view schematically illustrating the structure of a printing plate for lithographic printing obtained by the method of the present invention. and an ink-receptive layer 3 (image area) consisting of an organopolysiloxane cured film layer subjected to plasma lipophilic treatment.
つぎに、本発明の平版印刷用印刷版の製造法に
つき説明すると、第1図に示すように、基板1の
一方の面に、オルガノポリシロキサン硬化膜層4
をその膜厚が2〜50μmとなるように設けた後、
第2図に示すように上記オルガノポリシロキサン
硬化膜層4の上にパターン状に保護層(感光性混
合樹脂の被膜層)5を設ける。つぎに、プラズマ
親油化処理すると、第3図に示すように保護層5
を設けていない部分のオルガノポリシロキサン硬
化膜層が改質されて親油化し、しかしてインキ受
理性の画線部3が形成される。しかる後、保護層
5を除去すると、第4図に示す平版印刷用印刷版
が得られる。第5図は上記のようにして得た平版
印刷版の表面にインキ6が付着した状態を示す。 Next, a method for manufacturing a lithographic printing plate of the present invention will be explained. As shown in FIG.
After providing the film with a thickness of 2 to 50 μm,
As shown in FIG. 2, a protective layer (coating layer of photosensitive mixed resin) 5 is provided in a pattern on the organopolysiloxane cured film layer 4. As shown in FIG. Next, when plasma lipophilization treatment is performed, the protective layer 5 is treated as shown in FIG.
The organopolysiloxane cured film layer in the areas where it is not provided is modified and made lipophilic, thus forming the ink-receptive image area 3. Thereafter, the protective layer 5 is removed to obtain the lithographic printing plate shown in FIG. FIG. 5 shows the ink 6 adhered to the surface of the planographic printing plate obtained as described above.
上記基板には、プラズマ親油化処理によつて酸
化やエツチング、あるいはプラズマで発生する紫
外光による光劣化反応などの影響を受けないもの
が用いられ、その具体例としては、銅板、アルミ
ニウム板、ステンレス板、亜鉛板、鉄板あるいは
ニツケルメツキした銅板もしくは鉄板、またはク
ロムメツキ鉄板などの金属板が使用される。さら
に、ポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレ
などの各種プラスチツクフイルム、あるいは一方
の面にアルミニウム等の金属の蒸着を施した上記
各種プラスチツクフイルム、またさらにアルミニ
ウムなどの金属箔を接着した上記各種プラスチツ
クフイルムなども、上記金属板で裏面を補強して
使用することができる。 The substrate used is one that is not affected by oxidation, etching, or photodegradation reactions caused by ultraviolet light generated by plasma due to plasma lipophilic treatment. Specific examples thereof include copper plates, aluminum plates, A metal plate such as a stainless steel plate, a zinc plate, an iron plate, a nickel-plated copper plate or iron plate, or a chrome-plated iron plate is used. Furthermore, various plastic films such as polyester, polypropylene, polyethylene, etc., the above-mentioned various plastic films with metal such as aluminum vapor-deposited on one side, and the above-mentioned various plastic films with metal foil such as aluminum bonded are also available. It can be used by reinforcing the back side with a metal plate.
基板上にオルガノポリシロキサン硬化膜層を設
けるのに用いるオルガノポリシロキサンとして
は、強度、耐摩耗性にすぐれ耐刷性がよく、イン
キ反発性が強いものが望ましく、ポリジメチルシ
ロキサンを主成分とする各種熱硬化性シリコーン
が好ましく使用される。熱硬化性シリコーンとし
ては、一液型および二液型があり、二液型におけ
る硬化はSi−OH、Si−OR、Si−H、Si
−CH=CH2のような反応基をもつシロキサン同
士の触媒による架橋反応によるもので、脱水縮
合、脱アルコール縮合、脱水素縮合、付加重合な
どによる架橋反応が起る。一液型の硬化は空気中
の水分と反応し縮合硬化反応を起すもので、脱酢
酸型、脱アミン型、脱アルコール型、脱オキシム
型などがある。これらは基板の一方の面に、ベン
ゼン、トルエン等適当な溶剤に溶かし、回転塗布
法、浸漬法、たれ流し法等により塗布し、加熱乾
燥することにより設けられる。 The organopolysiloxane used to form the organopolysiloxane cured film layer on the substrate is desirably one that has excellent strength, abrasion resistance, good printing durability, and strong ink repulsion properties, and contains polydimethylsiloxane as the main component. Various thermosetting silicones are preferably used. Thermosetting silicones come in one-component and two-component types, and the two-component type cures with Si-OH, Si-OR, Si-H, and Si.
This is due to a catalytic crosslinking reaction between siloxanes having reactive groups such as -CH= CH2 , and crosslinking reactions such as dehydration condensation, dealcoholization condensation, dehydrogenation condensation, and addition polymerization occur. One-component curing reacts with moisture in the air to cause a condensation curing reaction, and includes deacetic acid type, deamined type, dealcoholized type, and deoxime type. These are applied to one surface of the substrate by dissolving them in a suitable solvent such as benzene or toluene, applying them by a spin coating method, dipping method, dripping method, etc., and then heating and drying.
なお、オルガノポリシロキサン硬化膜層の均一
被膜形成のため、予め基板表面を適宜の方法で清
浄し、さらに必要に応じ、その表面を粗面化し、
該被膜との密着性を向上させることが望ましい。
また、この基板表面は該被膜との接着性向上のた
めその表面に予めプライマーを塗布しておくこと
もよく、このプライマーとしては、ビニルトリス
(2−メトキシエトキシ)シラン、3−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン、N−(3−
トリメトキシシリルプロピル)エチレンジアミ
ン、3−アミノプロピルトリエトキシシランなど
のシラン単独またはこれらの混合物さらにはこれ
らの部分加水分解物または部分共加水分解物が使
用され、これらは回転塗布、ロツドコーテイン
グ、刷毛塗り、スプレー塗りなど通常の方法によ
り塗布される。 In order to form a uniform film of the cured organopolysiloxane film layer, the surface of the substrate is cleaned in advance by an appropriate method, and if necessary, the surface is roughened.
It is desirable to improve the adhesion with the coating.
In addition, it is advisable to apply a primer to the surface of this substrate in advance to improve adhesion with the film. Examples of this primer include vinyltris(2-methoxyethoxy)silane, 3-glycidoxypropyltritri Methoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, N-(3-
Silanes such as (trimethoxysilylpropyl) ethylenediamine, 3-aminopropyltriethoxysilane alone or mixtures thereof, as well as their partial hydrolysates or cohydrolysates, are used, and these can be applied by spin coating, rod coating, brush coating, etc. It is applied by conventional methods such as painting or spraying.
上記のようにして基板上にオルガノポリシロサ
ンの硬化膜層を形成した後、この層上に感光性シ
リコーンとこれ以外の感光性樹脂とからなる混合
樹脂の被膜層を形成するのであるが、この際使用
されるシリコーン系以外の感光性樹脂としては従
来知られているものでよく、これにはけい皮酸系
感光性樹脂(東京応化社製TPR、コダツク社製
KPR等)、環化ゴム系感光性樹脂(東京応化社製
OMR、富士薬品工業製FSR等)、アジゾ系感光
性樹脂(富士薬品工業製FPER等)、さらにジア
ゾ系感光性樹脂(シユプレ社製AZ、東京応化社
製OFPR、富士薬品工業製FPPR等)などが例示
される。 After forming a cured film layer of organopolysilosane on a substrate as described above, a coating layer of a mixed resin consisting of photosensitive silicone and other photosensitive resin is formed on this layer. Conventionally known photosensitive resins other than silicone-based resins may be used, including cinnamic acid-based photosensitive resins (TPR made by Tokyo Ohka Co., Ltd., and Kodatsu Co., Ltd.).
KPR, etc.), cyclized rubber photosensitive resin (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.)
OMR, Fuji Pharmaceutical Co., Ltd. FSR, etc.), azizo photosensitive resins (Fuji Pharmaceutical Co., Ltd. FPER, etc.), and diazo photosensitive resins (Supure Co., Ltd. AZ, Tokyo Ohka Co., Ltd. OFPR, Fuji Pharmaceutical Co., Ltd. FPPR, etc.), etc. is exemplified.
上記感光性樹脂に添加される感光性シリコーン
の量は比較的少量で目的とする効果を十分に得る
ことができ、通常は1〜15重量%とすればよい。 The amount of photosensitive silicone added to the photosensitive resin can sufficiently obtain the desired effect with a relatively small amount, and is usually 1 to 15% by weight.
なお、上記感光性シリコーンの具体的例示とし
ては、マレイミド基または置換原子もしくは基を
含有するマレイミド基が結合したシロキサン単位
を有するオルガノポリシロキサン(特開昭51−
120804号、同51−125277号、同52−13907号、同
52−105002号、同52−116304号等参照)、アクリ
ロキシ基または置換原子もしくは基を含有するア
クリロキシ基が結合したシロキサン単位を有する
オルガノポリキシロキサン(特開昭48−16991号、
同48−19682号、同48−21779号、同48−23880号、
同48−47997号、同48−48000号、同48−83722号、
同51−34291号、同51−52001号、同52−105003
号、同52−105004号、同52−113805号、同52−
113801号等参照)、メルカプト基含有シロキサン
単位を有するオルガノポリシロキサンとビニル基
含有シロキサン単位を有するオルガノポリシロキ
サンとの混合物(特開昭53−17405号等参照)、ビ
ニル基含有シロキサン単位を有するオルガノポリ
シロキサンとオルガノハイドロジエンポリシロキ
サンとの混合物(特開昭53−15907号等参照)、ア
ミド基を含有するシロキサン単位を有するオルガ
ノポリシロキサン(特開昭52−139200号、同52−
139504号等参照)、アクリロキシ基含有シロキサ
ン単位を有するオルガノポリシロキサンとビニル
基含有シロキサン単位を有するオルガノポリシロ
キサンとの混合物(特開昭52−139505号等参照)
などが例示される。 Specific examples of the photosensitive silicones include organopolysiloxanes having siloxane units bonded to maleimide groups or maleimide groups containing substituent atoms or groups (Japanese Patent Application Laid-Open No. 1983-1989-1).
No. 120804, No. 51-125277, No. 52-13907, No. 120804, No. 51-125277, No. 52-13907, No.
52-105002, 52-116304, etc.), organopolyxyloxanes having siloxane units bonded with acryloxy groups or acryloxy groups containing substituted atoms or groups (see JP-A-48-16991,
No. 48-19682, No. 48-21779, No. 48-23880,
No. 48-47997, No. 48-48000, No. 48-83722,
No. 51-34291, No. 51-52001, No. 52-105003
No. 52-105004, No. 52-113805, No. 52-
113801, etc.), mixtures of organopolysiloxanes having mercapto group-containing siloxane units and organopolysiloxanes having vinyl group-containing siloxane units (see JP-A-53-17405, etc.), organopolysiloxanes having vinyl group-containing siloxane units, etc. Mixtures of polysiloxanes and organohydrodiene polysiloxanes (see JP-A-53-15907, etc.);
139504, etc.), a mixture of an organopolysiloxane having an acryloxy group-containing siloxane unit and an organopolysiloxane having a vinyl group-containing siloxane unit (see JP-A-52-139505, etc.)
Examples include.
オルガノポリシロキサンの硬化膜層の上に、上
記感光性混合樹脂の被膜層を形成する方法として
は、通常の回転塗布法、刷毛塗り法、ロツドコー
テイング法等によればよく、この塗布方法に制限
はない。 The coating layer of the photosensitive mixed resin may be formed on the cured organopolysiloxane film layer by a conventional spin coating method, brush coating method, rod coating method, etc. There are no restrictions.
感光性混合樹脂の被膜層を露光、現像処理する
ことによりパターン化するが、このパターン化の
方法は通常の感光性樹脂製版法により行えばよ
く、これによりオルガノポリシロキサンの硬化膜
層露出部分と感光性樹脂層による保護層部分とが
形成される。 The coating layer of the photosensitive mixed resin is patterned by exposure and development, and this patterning can be done by a normal photosensitive resin plate making method, which allows the exposed portions of the cured film layer of organopolysiloxane and A protective layer portion made of a photosensitive resin layer is formed.
つぎに、本発明の方法は上記のようにして形成
したパターン化面をプラズマ状態の活性化された
化学種でプラズマ処理する。このプラズマ処理に
よりオルガノポリシロキサンの硬化膜層の露出部
分が親油化され、インキの受理性の画線部とな
る。 Next, the method of the present invention plasma-treats the patterned surface formed as described above with activated chemical species in a plasma state. Through this plasma treatment, the exposed portions of the cured film layer of organopolysiloxane are rendered oleophilic and become ink receptive image areas.
上記プラズマ処理によりオルガノポリシロキサ
ンの硬化膜層を親油化するには、アルゴン、ヘリ
ウム、ネオンのような不活性ガスまたは酸素もし
くは大気などのような活性ガスによるプラズマ親
油化処理が良好である。プラズマ親油化処理で
は、(1)エツチング、(2)化学修飾、(3)架橋、(4)重合
の4種類の変化が複雑に複合して起るとされてい
るが、本発明における不活性ガスまたは活性ガス
によるプラズマ親油化処理においては電子顕微鏡
観察、赤外吸収の測定により、表面のエツチング
は起こらず主としてオルガノポリシロキサンの硬
化膜層の化学修飾、すなわちプラズマ状態におけ
る活性化学種がオルガノポリシロキサンの硬化膜
表面に衝突することによつてアルキルラジカルの
脱離、ケイ素ラジカルの生成、架橋によるオルガ
ノポリシロキサンの三次元化、アルキル基の酸化
等による水酸基、カルボニル基の生成等が起りオ
ルガノポリシロキサンの硬化膜が親油化するもの
と思われる。さらにこれらの反応は、オルガノポ
リシロキサンの硬化膜層の表面のみでなく、処理
時間によつてかなり内部まで進行している。これ
はオルガノポリシロキサン硬化膜層が一般にガス
透過性に富むため活性化学種が層内部まで到達す
るものと推定される。 In order to make the cured film layer of organopolysiloxane oleophilic by the above plasma treatment, plasma oleophilic treatment using an inert gas such as argon, helium, or neon or an active gas such as oxygen or air is good. . Plasma lipophilization treatment is said to involve a complex combination of four types of changes: (1) etching, (2) chemical modification, (3) crosslinking, and (4) polymerization. Electron microscopy and infrared absorption measurements show that during plasma lipophilization treatment using active gas or active gas, surface etching does not occur, but mainly chemical modification of the cured organopolysiloxane film layer, that is, active chemical species in the plasma state. By colliding with the cured film surface of organopolysiloxane, alkyl radicals are eliminated, silicon radicals are generated, organopolysiloxane becomes three-dimensional due to crosslinking, and hydroxyl groups and carbonyl groups are generated due to oxidation of alkyl groups, etc. It is thought that the cured film of organopolysiloxane becomes lipophilic. Furthermore, these reactions proceed not only on the surface of the cured organopolysiloxane film layer, but also quite deep inside the cured film layer depending on the processing time. It is presumed that this is because the cured organopolysiloxane film layer generally has high gas permeability, so that the active chemical species reach the inside of the layer.
一方、コロナ処理や火炎処理の場合はごく表面
のみに働き、この効果は手や布で擦つただけで失
なわれるのが普通である。これに対し本発明によ
るプラズマ処理では処理膜が摩耗するほど擦つて
もなお効果は失なわれない。 On the other hand, corona treatment and flame treatment only work on the surface, and this effect is usually lost by simply rubbing it with your hands or cloth. In contrast, in the plasma treatment according to the present invention, the effect is not lost even if the treated film is rubbed to the point of wear.
プラズマ活性化学種を形成させるための低圧ふ
ん囲気は、一般に空気でよいが、Ar、Ne、He
等の不活性ガス、O2、N2、NH3、CO2、フツ化
炭化水素ガス等の活性ガスが使用できる。 The low-pressure atmosphere for forming plasma-activated species can generally be air, but Ar, Ne, He, etc.
Inert gases such as O 2 , N 2 , NH 3 , CO 2 , and active gases such as fluorinated hydrocarbon gases can be used.
プラズマ親油化処理時間は条件により変化する
が、たとえば、0.03トル、300Wの条件下におい
て30秒以上で効果的にオルガノポリシロキサンの
硬化膜層が親油化されるが、同条件下で20分以上
ではエツチング効果により保護層の劣化が起るた
めに好ましくない。 The plasma lipophilization treatment time varies depending on the conditions, but for example, under the conditions of 0.03 Torr and 300W, the cured film layer of organopolysiloxane is effectively rendered lipophilic in 30 seconds or more; If it exceeds 1 minute, the protective layer will deteriorate due to the etching effect, which is not preferable.
プラズマ処理終了後、感光性混合樹脂層(保護
層)を除去するには、ホトレジストの場合ではオ
ルガノポリシロキサンの硬化膜層を破壊するよう
なもの、たとえば強酸、強アルカリによるものは
好ましくなく、アセトン、エチルセロソルブ、ト
ルエン等の溶剤により除去することが望ましい。
たとえば東京応化社製TPRではエチルセロソル
ブにより、また富士薬品工業製FPERではメチル
エチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系
溶剤により除去することができる。またさらに
AZ、FPPRなどの感光性樹脂ではアルコール、
ケトン系の溶剤により除去することができる。 After plasma treatment, to remove the photosensitive mixed resin layer (protective layer), in the case of photoresist, it is not preferable to use a substance that would destroy the cured organopolysiloxane film layer, such as strong acid or strong alkali, and use acetone. , ethyl cellosolve, toluene, or other solvents.
For example, TPR manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd. can be removed using ethyl cellosolve, and FPER manufactured by Fuji Pharmaceutical Co., Ltd. can be removed using a ketone solvent such as methyl ethyl ketone or cyclohexanone. Even more
For photosensitive resins such as AZ and FPPR, alcohol,
It can be removed with a ketone solvent.
上記のようにして製造された平版印刷用印刷版
は、第4図に示す如く、プラズマ処理された画線
部3とオルガノポリシロキサンの硬化膜層からな
るインキ反発性の非画線部2から構成され、高い
解像力を有する。この印刷版にインキをインキロ
ーラから供給すると、プラズマ処理された画線部
3にのみインキが転位し、湿し水不要の平版印刷
を行うことができる。 As shown in FIG. 4, the lithographic printing plate manufactured as described above consists of an image area 3 that has been subjected to plasma treatment and an ink-repellent non-image area 2 that is made of a cured film layer of organopolysiloxane. structure and has high resolution. When ink is supplied to this printing plate from an ink roller, the ink is transferred only to the plasma-treated image area 3, making it possible to perform planographic printing without the need for dampening water.
つぎに、実施例をあげて本発明をさらに具体的
に説明する。 Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
実施例 1
脱脂洗浄されたアルミニウム板上に、オルガノ
ポリシロキサンKS774(信越化学社製商品名)を
乾燥後の膜厚が10μになるように塗布し、乾燥、
熱硬化後、この面に組成式
で示されるマレイミド基含有オルガノポリシロキ
サンを5重量%添加したジアゾ系感光性樹脂
FPER100(富士薬品工業社製商品名)を回転塗布
法により塗布した。Example 1 Organopolysiloxane KS774 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was coated on a degreased and cleaned aluminum plate so that the film thickness after drying was 10μ, dried,
After heat curing, the composition formula is written on this side. A diazo photosensitive resin containing 5% by weight of a maleimide group-containing organopolysiloxane represented by
FPER100 (trade name manufactured by Fuji Pharmaceutical Co., Ltd.) was applied by a spin coating method.
つぎに、ポジ原稿を密着し露光後、現像処理し
てパターンを形成し、大気下2トル、300Wの条
件下で10分間のプラズマ処理を行ない、メチルエ
チルケトンにより感光性樹脂層を除去して平版印
刷用印刷版を得た。 Next, a positive original is placed in close contact with the original, exposed, developed to form a pattern, and subjected to plasma treatment for 10 minutes under the conditions of 2 torr and 300 W in the atmosphere, and the photosensitive resin layer is removed with methyl ethyl ketone for lithographic printing. A printing plate was obtained.
この印刷版を用いて平版印刷機(ハイデルベル
グ社製KOR印刷機)により印刷を行なつたとこ
ろ、5万枚の耐刷性を示した。 When this printing plate was used for printing with a lithographic printing machine (KOR printing machine manufactured by Heidelberg), it showed a printing durability of 50,000 sheets.
実施例 2
実施例1において、FPER100の代りにジアゾ
系感光性樹脂FPPR700(富士薬品工業社製商品
名)を使用したほかは同様にしてKS774の硬化膜
層上に塗布を行い、ついでネガ原稿を密着し露光
後、現像処理してパターンを形成し、前例と同様
にしてプラズマ処理を行つたところ、5万枚の耐
刷性を有する平版印刷用印刷版が得られた。Example 2 In Example 1, except that diazo photosensitive resin FPPR700 (product name manufactured by Fuji Pharmaceutical Co., Ltd.) was used instead of FPER100, coating was carried out on the cured film layer of KS774, and then a negative original was coated. After contact and exposure, a pattern was formed by development, and plasma treatment was performed in the same manner as in the previous example, resulting in a lithographic printing plate having a printing durability of 50,000 sheets.
実施例 3
組成式
で示される感光性シリコーンを5重量%添加した
FPER100を感光性樹脂層に用いた以外は実施例
1と同様の方法で平版印刷用印刷版を作つた。Example 3 Composition formula Added 5% by weight of photosensitive silicone shown in
A printing plate for lithographic printing was prepared in the same manner as in Example 1 except that FPER100 was used for the photosensitive resin layer.
この印刷版は200線において7%〜97%の解像
性を示し、5万枚の耐刷性を有していた。 This printing plate showed a resolution of 7% to 97% at 200 lines and had a printing life of 50,000 sheets.
実施例 4
裏面をアルミニウム板で補強したポリエステル
フイルム上にKS774を塗布し熱硬化させた後、こ
の上に組成式
で示される感光性シリコーンを5重量%添加した
けい皮酸系感光性樹脂TPR(東京応化社商品名)
を塗布し、パターン形成後、実施例1と同様にし
てプラズマ処理を行つたところ、耐刷力5万枚の
平版印刷用印刷版が得られた。Example 4 After applying KS774 on a polyester film whose back side was reinforced with an aluminum plate and curing it with heat, the composition formula was applied on top of it. A cinnamic acid-based photosensitive resin TPR containing 5% by weight of photosensitive silicone (trade name of Tokyo Ohka Co., Ltd.)
After coating and patterning, plasma treatment was performed in the same manner as in Example 1, and a lithographic printing plate with a printing durability of 50,000 sheets was obtained.
実施例 5
裏面をアルミニウム板で補強した、片面にアル
ミニウムを蒸着したポリエステルフイルムのアル
ミニウム蒸着面上に設けたオルガノポリシロキサ
ン硬化膜層上に、組成式
で示される感光性シリコーンを5重量%添加した
FPPR700を塗布し、実施例2と同様の方法によ
りプラズマ処理を行つたところ、200線において
7%〜97%の解像力を有する、耐刷力5万枚の平
版印刷用印刷版が得られた。Example 5 A polyester film having the composition formula Added 5% by weight of photosensitive silicone shown in
When FPPR700 was applied and plasma treatment was performed in the same manner as in Example 2, a lithographic printing plate having a resolution of 7% to 97% at 200 lines and a printing life of 50,000 sheets was obtained.
実施例 6
シロキサン重合度500のα,ω−ジヒドロキシ
ジメチルポリシロキサンの15%トルエン溶液247
部(部は重量部を示す、以下同様)およびフエニ
ルトリクロロシランの加水分解生成物の15%トル
エン溶液60重量部を混合し、これに3−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン0.25部、ジブ
チルヒドロキシトルエン0.01部およびジブチルす
ずジラウレート0.1部を添加し、トルエンの還流
温度下に縮合反応を行せ、生成する水を除去しな
がら8時間反応させたところ、粘度28.5センチト
ークス(シリコーン濃度15%)の共重合体が得ら
れた。Example 6 15% toluene solution of α,ω-dihydroxydimethylpolysiloxane with siloxane polymerization degree of 500 247
(parts indicate parts by weight, the same applies hereinafter) and 60 parts by weight of a 15% toluene solution of a hydrolysis product of phenyltrichlorosilane are mixed, and to this, 0.25 parts of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane and dibutylhydroxytoluene are mixed. After adding 0.01 part of dibutyltin dilaurate and 0.1 part of dibutyltin dilaurate, a condensation reaction was carried out at the reflux temperature of toluene, and the reaction was continued for 8 hours while removing the produced water. A polymer was obtained.
上記光重合性オルガノポリシロキサンを5重量
%添加したジアゾ系感光性樹脂AZ−111S(シユ
プレ社製商品名)を、脱脂洗浄したアルミニウム
板上に設けたKS774の硬化膜上に塗布し乾燥後、
実施例2と同様の方法で平版印刷用印刷版を作つ
たところ、この印刷版は5万枚の耐刷力を示し
た。 The diazo photosensitive resin AZ-111S (trade name manufactured by Syupre) containing 5% by weight of the above photopolymerizable organopolysiloxane was applied onto a cured film of KS774 provided on a degreased and cleaned aluminum plate, and after drying,
When a printing plate for lithographic printing was made in the same manner as in Example 2, this printing plate showed a printing durability of 50,000 sheets.
第1図〜第4図は、本発明の平版印刷用印刷版
を製造するための工程を示す逐次段階の一部拡大
断面図、第5図は本発明の印刷版の表面にインキ
が付着した状態を示す一部拡大断面図である。
1……基板、2……オルガノポリシロキサン硬
化膜層からなる非画線部、3……表面がプラズマ
処理されたオルガノポリシロキサン硬化膜層から
なる画線部、4……オルガノポリシロキサン硬化
膜層、5……保護層、6……インキ層。
Figures 1 to 4 are partially enlarged cross-sectional views of successive steps showing the process for producing the printing plate for lithographic printing of the present invention, and Figure 5 is a diagram showing ink attached to the surface of the printing plate of the present invention. It is a partially enlarged sectional view showing the state. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Substrate, 2...Non-image area consisting of an organopolysiloxane cured film layer, 3...Image area consisting of an organopolysiloxane cured film layer whose surface has been plasma treated, 4...Organopolysiloxane cured film Layer, 5... protective layer, 6... ink layer.
Claims (1)
の硬化膜層、および感光性シリコーンとこれ以外
の感光性樹脂とからなる混合樹脂の被膜層を順次
形成し、次いで露光、現像処理を施すことにより
パターンを形成した後、この面をプラズマ状態の
活性化された化学種でプラズマ処理し、次いで前
記感光性混合樹脂の被膜層を除去することによ
り、基板上にオルガノポリシロキサン硬化膜層か
らなる非画線部とプラズマ処理されたオルガノポ
リシロキサン硬化膜層からなる画線部とを形成す
ることを特徴とする平版印刷用印刷版の製造方
法。1. A cured film layer of organopolysiloxane and a mixed resin film layer consisting of photosensitive silicone and other photosensitive resin are sequentially formed on one side of the substrate, and then exposed and developed to form a pattern. After forming this surface, a non-image layer consisting of an organopolysiloxane cured film layer is formed on the substrate by plasma treating the surface with activated chemical species in a plasma state and then removing the coating layer of the photosensitive mixed resin. A method for producing a printing plate for lithographic printing, comprising forming a line portion and an image portion consisting of a plasma-treated organopolysiloxane cured film layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5269580A JPS56149040A (en) | 1980-04-21 | 1980-04-21 | Manufacture of printing plate for lithography |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5269580A JPS56149040A (en) | 1980-04-21 | 1980-04-21 | Manufacture of printing plate for lithography |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56149040A JPS56149040A (en) | 1981-11-18 |
| JPS6320341B2 true JPS6320341B2 (en) | 1988-04-27 |
Family
ID=12922014
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5269580A Granted JPS56149040A (en) | 1980-04-21 | 1980-04-21 | Manufacture of printing plate for lithography |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56149040A (en) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55142348A (en) * | 1979-04-23 | 1980-11-06 | Dainippon Printing Co Ltd | Manufacture of printing plate for lithography |
-
1980
- 1980-04-21 JP JP5269580A patent/JPS56149040A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56149040A (en) | 1981-11-18 |
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