JPS6154221B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、湿し水を必要としない平版印刷版の
製造方法に関するものである。

平版印刷においては、凸版または凹版のように
版面に明瞭な高低がなく、外見上同じ平面上に画
線部と非画線部とを設けた版が使用されるが、こ
の印刷法はつぎの工程で行われる。すなわち、こ
れにはまず水と脂肪とが互に反発することから、
前記非画線部を化学的あるいは機械的処理によつ
て親水性にすると共に、前記画線部を脂肪性樹脂
の転写または写真焼付けなどによつて親油性と
し、ついでこの版面に水を転移させて水を親水性
である非画線部のみに付着させてから、さらにこ
の版面にインキを転移する。このようにすると、
このインキは水が存在している非画線部には付着
せずに親油性である画線部にのみ付着するので、
つぎにこれを被印刷物に転移させて目的の印刷物
を得るという工程によつて行われている。

しかし、この平版印刷法には、たとえば上記し
た湿し水のインキローラーへの転移がインキロー
ラー上でのインキの乳化を引き起すため、これが
地よごれなどの原因となるほか、この湿し水の被
印刷物への転移は、被印刷物の寸法変化の原因と
もなるので、特に多色刷り印刷においては印刷画
像が不鮮明になるという大きな欠点がある。ま
た、この平版印刷法においては、色調の一定な印
刷物を得るために、湿し水の量とインキの量とを
一定のつり合いに保つことが必要とされている
が、この両者の量を一定のつり合いに保つことは
非常に困難であり、したがつて印刷物の色調のば
らつきが生じるという欠点があつた。

このため、上記した欠点を改良する目的におい
て、湿し水を必要としない平版印刷版の開発が試
みられているが、現在までに知られているものは
いずれもいまだ実用に耐える充分満足すべき性質
を示すには至つていない。

たとえば、アルミニウム板などの基板上に、ジ
アゾ型感光性組成物よりなるジアゾ感光層とジメ
チルポリシロキサンゴム層とを形成させ、ついで
この上にさらにポジフイルムを重ね合せてから露
光することによつて露光部分のジアゾ感光層を不
溶化させ、非露光部分のジアゾ感光層を現像処理
により除去し、ついで非露光部分のジメチルポリ
シロキサンゴム層を剥ぎ取るという方法（特公昭
44−23042号公報参照）、あるいはアルミニウム板
などの基板上に、ジアゾ感光層と接着剤層とシリ
コーンゴム層を順次形成させ、ついでこの上にネ
ガフイルムを重ね合せてから露光し、露光部分に
おける感光層の光分解を利用して現像し、ついで
露光部分のシリコーンゴム層を剥ぎ取るという方
法で平版印刷用刷版を得る方法（特公昭46−
16044号公報参照）が公知とされている。

しかし、これらの方法はいずれもジアゾ感光層
とポジまたはネガフイルムとの間に非感光性のシ
リコーンゴムが存在するため、これにはポジまた
はネガフイルムに現わされているパターンが正確
に再現されず、さらにはシリコーンゴム層の剥ぎ
取りが感光層の溶剤溶解性の変化を利用して行わ
れるために剥ぎ取り後のシリコーンゴム層につて
形成される画像はそのエツジ部分のきれが悪く、
シヤープなものにならないという重大な欠点があ
る。さらにまたこれらの場合には版の構成が２〜
３層からなる多層であり、露出基板が画線部とな
るため画線深度が大きく、印刷の際に、インキ着
けロールから版、版からブランケツトまたは被印
刷体へのインキの転移が不良となり、印刷適性上
好ましくないという不利がある。

他方また、あらかじめ基板上にパターン化され
た保護層を形成し、ついでシリコーンをこの基板
上および保護層上に全面コートした後、保護層を
溶解し得る液（溶剤等）を供給して保護層を溶解
し同時に保護層上のシリコーンを除去する方法
（特公昭44−23042号公報参照）が知られている。
この方法によれば前記のような多層ではなくシリ
コーン単層の刷版が得られるので、画線深度が小
さいという利点はあるが、反面刷版工程中にシリ
コーンのコーテイングが必要となり操作がはん雑
であるという不利がある。

このような欠点ないし不利を改良した方法とし
て、シリコーンの表面を親油性に改質して平版印
刷用刷版とする方法、たとえばシリコーン層の表
面を電子線、レーザー光線、放電等により破壊す
る方法（特公昭42−21879号公報参照）、あるいは
シリコーン層をグローまたはコロナビームで走査
することにより親油性に変える方法（特公昭48−
8207号公報参照）が知られている。

これらの方法によればシリコーン単層であり、
かつ刷版工程は特にはん雑でないという利点があ
るけれども、前者の方法ではシリコーン層の表面
を破壊するために高エネルギーが必要であり、製
版装置が大がかりになること、また後者の走査法
では刷版時間が長く特有の設備が必要となるとい
う不利がある。

本発明者らは従来のかかる不利、欠点を解決す
べく鋭意研究の結果、本発明を完成したもので、
これは基板の表面に、シリコーン層およびそのシ
リコーン層上にパターン化された保護層を順次形
成し、ついでシリコーン蝕刻剤で処理して非保護
層部分のシリコーン層を除去した後該保護層を取
り除くことにより、基板上に該基板露出面からな
る画線部とシリコーン層からなる非画線部とを形
成することを特徴とする平版印刷版の製造方法に
関するものであり、この方法によれば、操作時間
が短い面露光処理が可能で、さらに真空処理、特
殊装置が不要な露光現像工程において刷版可能で
あり、解像性および印刷適性にすぐれた平版印刷
用刷版が得られる。

本発明の方法で使用されるシリコーン蝕刻剤は
比較的短時間の処理で目的部分のシリコーン層を
除去することができ、他方保護層をなるべく侵蝕
しないものであることが望ましく、これには塩
酸、硫酸、塩化第二鉄、りん酸、クロム酸、硝酸
等の１種もしくは２種以上の混合物、さらにはこ
れらの少なくとも１種と硫酸銅もしくは硝酸銀等
との混合物、水酸化ナトリウム等のアルカリ物質
が例示される。

このようなシリコーン蝕刻剤を用いる本発明方
法の利点を詳しく述べるとつぎのとおりである。

(1) 本発明の方法におけるシリコーン蝕刻剤によ
る処理は、この処理により除去されるシリコー
ン層がきわめてうすく、処理時間が短時間であ
るのでいわゆるサイドエツチがほとんど発生せ
ず、したがつて解像性は保護層（レジスト）の
解像力がほぼ再現されるため、高解像力の刷版
が得られる。

(2) また、シリコーン蝕刻剤による処理は、浸漬
処理、スプレーがけ処理、シリコーン蝕刻剤の
蒸気接触処理等の方法で行うことができ、特別
な設備を必要としない。

(3) 本発明の平版印刷用刷版はシリコーン単層か
らなり、通常これはきわめてうすい膜で形成さ
せるので、画線部と非画線部との高低差がほと
んどなく、インキの版およびブランケツトへの
転移が向上し、したがつて画線の再現性、イン
キの発色が向上し、高級な印刷物が得られる。

(4) シリコーン層形成のために使用されるシリコ
ーンにはパターン形成能力が必要とされないた
め、耐溶剤性、耐摩耗性、基板との接着性にす
ぐれたオルガノポリシロキサンから自由に選択
できる。

(5) 保護層（レジスト層）のパターン化の選択に
よりネガもしくはポジの版材が容易に作成でき
る。

以下、本発明について図面に基づき詳細に説明
する。

まず、本発明にかかわる平版印刷版の概略的部
分断面構造は第４図に示すとおりであり、同図中
１は基板、２′はシリコーン層からなる非画線
部、３は基板露出面からなる画線部をそれぞれ示
し、インキはこの画線部３に付着する。第１図〜
第３図はこの平版印刷版を製造する工程を概略的
に示したもので、第１図に示すように基板１の一
方の面にシリコーン層２を設けた後第２図に示す
ように該シリコーン層２上にパターン化された保
護層４を設ける。

つぎに、この面全体をシリコーン蝕刻剤で処理
すると、第３図に示すように、保護層４を設けて
いない部分のシリコーン層が除去されて基板が露
出し、インキ受理性の画線部３が形成される。し
かる後保護層４を取り除くと、第４図に示すよう
な前記本発明にかかわる平版印刷版が得られる。

上記基板１としてはシリコーン蝕刻剤に侵され
ない材質のものを使用することが望ましく、これ
には銅板、アルミニウム板、ステンレス板、亜鉛
板、鉄板またはニツケルメツキした銅板もしくは
鉄板などの金属板、および上記金属板に樹脂ある
いはプラスチツクフイルムをコーテイングまたは
ラミネートにより裏打ちしたもの、ポリエステ
ル、ポリプロピレン等の各種プラスチツク、さら
には紙、プラスチツク等の基体上にアルミニウム
その他の金属箔を設けたものが例示される。

基板１の表面に設けられるシリコーン層は、で
きるだけ均一にかつ強い密着性を維持するように
形成することが望ましく、このためには基板１の
面をあらかじめ適宜の方法で清浄し、さらに必要
に応じ粗面化するなどの手段を採ることが望まし
い。また、基板１の面に接着性（密着性）向上の
ためのプライマーをあらかじめ塗布することもよ
く、このプライマーとしてはビニルトリス（２−
メトキシエトキシ）シラン、３−グリシドキシプ
ロピルメトキシシラン、３−メタクリルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピル
トリエトキシシランなどのシラン単独もしくはこ
れらの混合物、またはこれらの部分（共）加水分
解縮合物などが使用される。

シリコーン層の厚さは、十分な耐刷性が得られ
る範囲内でうすい方が望ましく、通常は１〜20μ
ｍ程度の厚さとすればよい。厚さが大きすぎると
シリコーン蝕刻剤によるこの除去操作が困難とな
り不利であるので、より望ましくは１〜５μｍ程
度の厚さとすることがよい。

このシリコーン層２を形成するためのシリコー
ンの具体的種類としては、塗布後常温もしくは加
熱により架橋硬化してインキ反発性のシリコーン
ゴム弾性体となるもので、けい素原子に結合する
全有機基の90モル％以上がメチル基である高重合
度オルガノポリシロキサン（これはインキ反発性
にすぐれている）を主体としてなるものがよく、
これには(1)分子鎖両末端が水酸基で封鎖された有
機基の90モル％以上がメチル基である高重合度ジ
オルガノポリシロキサン、架橋剤としてメチルハ
イドロジエンポリシロキサンまたはエチルポリシ
リケート、および縮合触媒として有機酸金属塩か
らなるもの、(2)ビニル基含有高重合度ジオルガノ
ポリシロキサン（ビニル基以外の有機基の90モル
％以上がメチル基）、架橋剤としてのメチルハイ
ドロジエンポリシロキサン、および付加反応触媒
としての白金系触媒からなるもの、(3)分子鎖両末
端が水酸基で封鎖された有機基の90モル％以上が
メチル基である高重合度ジオルガノポリシロキサ
ン、および架橋剤として１分子中に３個以上のア
セトキシ基、アミノ基、オキシム基またはプロペ
ノキシ基等の加水分解性基を有するシランまたは
低重合度シロキサン化合物からなるものが例示さ
れる。本発明においては上記(1)または(2)に例示し
た種類のものが特に好適とされる。

なお、上記においてメチル基以外の有機基とし
ては、一般にフエニル基等のアリール基、ビニル
基等のアルケニル基、エチル基、プロピル基等の
アルキル基、トリフロオロプロピル基等のハロゲ
ン置換アルキル基などが例示される。

上記(1)，(2)および(3)に例示した組成物には、必
要に応じ、インキ反発性をさらに向上させるため
の通常のジオルガノポリシロキサンたとえばジメ
チルポリシロキサンを硬化塗膜の性質に悪影響を
与えない範囲で添加すること、また耐刷性向上の
目的で少量の補強性充てん剤たとえばシリカ微粉
末を添加することは差支えない。

シリコーン層２の上に設けられる保護層４とし
ては、本発明の目的上、シリコーン蝕刻物質に対
して安定で、パターン化が容易に行えるものが使
用されるが、これはシリコーン蝕刻剤による処理
の工程中（この処理工程は比較的短時間で完了さ
れる）非画線部保護層としての機能が発揮されれ
ばよく、必ずしも高度に耐蝕刻性である必要はな
いので、これには多くのものが使用可能である。

このような材料としてはジアジドキノン、アジ
ド、ジアゾ、ケイ皮酸、重クロム酸等の感光基を
含有するフオトレジスト、及び多数の感光性樹
脂、被覆性ある感光材料などが例示される。

このパターン化された保護層４を形成するには
(イ)市販品ホトレジストを使用し通常の製版法によ
りパターニングする方法、(ロ)耐酸性もしくは耐ア
ルカリ性の樹脂を含むインキを用いてスクリーン
印刷することによりレジスト層をパターン状に形
成させる方法、(ハ)成膜性樹脂液を手描きしたり適
当な印刷手段で転写したりする方法などいずれの
方法によつてもよい。

シリコーン蝕刻剤を用いて非保護層部分のシリ
コーンを除去するための具体的処理手段として
は、浸漬、塗布、スプレーがけ等の方法によれば
よいが、これはまた塩酸、硝酸等の蒸気を接触さ
せるという手段によつてもよく、これによれば被
処理面と該蒸気とを対面接触させることのみで目
的の処理を完了させることができるので、この場
合には基板としてたとえば樹脂等の裏打ちが施こ
されていない金属板を使用することができるとい
う利点が与えられる。

シリコーン層２の膜厚は前記したように、１〜
20μｍ程度のうすい被膜であるので、上記シリコ
ーン蝕刻剤による処理で非保護層部分のシリコー
ンが容易に除去され、画線部（インキ受理部）３
が形成される。

つぎに、保護層４を取り除くには、市販品ホト
レジストを使用した場合には適当な溶剤を用いて
これを溶解ないし剥離除去する手段によればよ
く、たとえばシツプレー社製ホトレジストAZで
はアセトン、メチルエチルケトン等を、また東京
応化製TPRではエチルセロソルブ等を、さらに
スクリーン印刷でのレジスト層ではトルエン等を
使用することにより容易に剥離ないし溶解除去す
ることができる。強酸や強アルカリはシリコーン
の層まで侵してしまうのでこれらの使用は避ける
べきである。なお、シリコーンは一般に他物質と
の接着が弱いという表面特性を有しているので、
保護層４は適当な接着テープを用いて剥すことも
できる。

このようにして保護層４を取り除くことにより
レジストの解像力がほぼそのまま再現された非画
線部（インキ反発部）２′が形成される。

以上述べた本発明の製造方法により前記した(1)
〜(5)の注目すべき利点が与えられるが、さらには
この平版印刷用刷版は湿し水を必要としない刷版
であるため、ブランケツトを介さずに直接被印刷
体に印刷することが可能であり、活版印刷機に取
り付けて印刷することができ、これによれば従来
の活版印刷におけるごとく印圧のむら取りに要す
る作業が回避され、解像性のすぐれた印刷物が得
られるという利点が与えられる。

つぎに、実施例をあげて本発明をさらに具体的
に説明する。

実施例 １ 裏面がエポキシ樹脂でコーテイングしてある脱
脂洗浄されたアルミニウム板上に、ジメチルポリ
シロキサン（信越化学社製、KS−705F）を乾燥
硬化後の膜厚が５μｍになるように塗布し、乾燥
硬化してシリコーン層を形成し、この上に界面活
性剤（3M社製、FC−431）を１重量％添加した
ホトレジスト液（シツプレー社製、AZ−111）を
乾燥後の膜厚が３μｍになるように回転塗布法で
塗布し乾燥した。

つぎに、ネガ原版を密着させて露光現像するこ
とによりシリコーン層上にレジスト画像（保護
層）を形成した後、これを７％塩酸中に室温にて
10分間浸漬処理して非保護層部分のシリコーン層
を除去し、水洗乾燥し、ついで保護層をアセトン
により剥膜し、平版印刷用刷版を得た。

この刷版は５万枚の耐刷力を示した。

実施例 ２ 前例と同様にしてアルミニウム板（ただしアル
ミニウム板は樹脂等による裏面コーテイングは施
してない）上にシリコーン層およびその上にレジ
スト画像を形成した後、これを35％塩酸より発生
する塩化水素蒸気で室温にて３分間処理して非保
護層部分のシリコーン層を除去し、水洗乾燥し、
ついで保護層をアセトンにより剥膜し、平版印刷
用刷版を得た。

この刷版は５万枚以上の耐刷力を示した。

実施例 ３ ポリエステルフイルムを裏面にラミネートした
銅板上にジメチルポリシロキサン（信越化学社
製、KS−774）を乾燥硬化後の膜厚が５μｍにな
るように塗布し、乾燥硬化してシリコーン層を形
成し、この上にホトレジスト液（東京応化製、
TPR）を乾燥後の膜厚が３μｍになるように回
転塗布法で塗布し乾燥した。

つぎにポジ原版を密着させて露光現像すること
によりシリコーン層上にレジスト画像（保護層）
を形成した後、これを５％塩化第２鉄水溶液中に
室温にて５分間浸漬処理して非保護層部分のシリ
コーン層を除去し、水洗乾燥し、ついで保護層を
エチルセロソルブアセテートにより剥膜し、平版
印刷用刷版を得た。

この刷版は３万枚の耐刷力を示した。

実施例 ４ 実施例１と同様なアルミニウム板上にジメチル
ポリシロキサン（信越化学社製、KE−45RTV）
を乾燥硬化後の膜厚が３μｍになるように塗布
し、乾燥硬化してシリコーン層を形成し、この上
に実施例１で使用したと同様のホトレジスト液を
塗布乾燥後、写真製版によりパターン化を行つ
た。ついでこのものに５％硝酸を室温にて３分間
スプレーがけ処理することにより非保護層部分の
シリコーン層を除去し、水洗乾燥した後、保護層
をアセトンにより剥膜し、平版印刷用刷版を得
た。

この刷版は５万枚以上の良好な耐刷力を示し
た。

実施例 ５ 実施例１と同様なアルミニウム板上に同例と同
じようにシリコーン層およびその上にレジスト画
像を形成した後、これを５％塩酸中に25℃５分間
浸漬処理して非保護層部分のシリコーン層を除去
し、水洗乾燥した。ついで保護層を粘着テープ
（日東電工社製、紙粘着テープ）を使用して剥膜
し、平版印刷用刷版を得た。

この刷版は、ブランケツトを介さず、直接被印
刷体に印刷したところ、３万枚の良好な印刷物が
得られた。

実施例 ６ 実施例２と同様な銅板上にジメチルポリシロキ
サン（KS−705F）を乾燥硬化後の膜厚が５μｍ
になるように塗布し、乾燥硬化してシリコーン層
を形成した。つぎにこのシリコーン層上に、エチ
ルセルロースとパインオイルを主成分とするスク
リーンオイル20重量部とガラスフリツト80重量部
からなるスクリーンインキを用いてあらかじめ準
備してあつたシルクスクリーン版で印刷を施した
後、これを３％塩酸中で25℃５分間浸漬処理して
スクリーンインキレジスト部分以外のシリコーン
層を除去し、水洗乾燥し、ついでスクリーンイン
キレジスト層を剥離し、平版印刷用刷版を得た。

この刷版はブランケツトを介さず、直接被印刷
体に印刷したところ、３万枚の良好な印刷物が得
られた。

実施例 ７ 厚さ0.1mmのポリエステルフイルムにアルミ箔
上にジメチルポリシロキサン（KS−774）を乾燥
硬化後の膜厚が５μｍになるように塗布し、乾燥
硬化してシリコーン層を形成し、この上にホトレ
ジスト液（富士薬品製、FSR FC−431 ２％添
加）を乾燥後の膜厚が３μｍになるように回転塗
布法で塗布乾燥した。

つぎに、ポジ原版を密着し、写真製版法により
パターン化を行つた。ついでこのものを５％水酸
化ナトリウム中に室温にて５分間処理することに
より非保護層部分のシリコーン層を徐去し、水洗
乾燥した後、ホトレジスト層を剥膜し、平版印刷
用刷版を得た。

この刷版は、１万枚の耐刷力を示した。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第４図は本発明の方法により平版印刷
版を製造する各工程の概略部分断面構造を示した
ものである。 １……基板、２……シリコーン層、３……基板
露出面からなる画線部、４……パターン化された
保護層、２′……非画線部を構成するシリコーン
層。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 基板の表面に、シリコーン層およびそのシリ
   コーン層上にパターン化された保護層を順次形成
   し、ついでシリコーン蝕刻剤で処理して非保護層
   部分のシリコーン層を除去した後該保護層を取り
   除くことにより、基板上に該基板露出面からなる
   画線部とシリコーン層からなる非画線部とを形成
   することを特徴とする平版印刷版の製造方法。