JPS6159255A - 導電性基質上の薄膜の電気抵抗測定法 - Google Patents
導電性基質上の薄膜の電気抵抗測定法Info
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- JPS6159255A JPS6159255A JP18038284A JP18038284A JPS6159255A JP S6159255 A JPS6159255 A JP S6159255A JP 18038284 A JP18038284 A JP 18038284A JP 18038284 A JP18038284 A JP 18038284A JP S6159255 A JPS6159255 A JP S6159255A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の分野
本発明は、導電性基質上の薄膜の電気抵抗を測定する方
法に関するもので、より詳細釦は金属アルミ上の酸化ア
ルミ被膜のような薄膜の電気抵抗を、精度よ(且つ再現
性をもって簡便に測定する方法に関する。
法に関するもので、より詳細釦は金属アルミ上の酸化ア
ルミ被膜のような薄膜の電気抵抗を、精度よ(且つ再現
性をもって簡便に測定する方法に関する。
従来の技術及び発明の技術的課題
電子写真感光板の導電性基質としては、アルミニウム板
等が広く使用されているが、このアルミニウム板には被
覆層との密着性を高める目的で積極的く陽極酸化処理に
よる酸化膜を形成させており、或いはこのような処理を
行わない場合にも必然的に薄い酸化膜が形成されている
。この酸化膜に金属アルミニウムそのもの忙比べればは
るかに高抵抗であり、感光板製造の工種管理上、酸化膜
の電気抵抗を正確に案測することが重要となる。
等が広く使用されているが、このアルミニウム板には被
覆層との密着性を高める目的で積極的く陽極酸化処理に
よる酸化膜を形成させており、或いはこのような処理を
行わない場合にも必然的に薄い酸化膜が形成されている
。この酸化膜に金属アルミニウムそのもの忙比べればは
るかに高抵抗であり、感光板製造の工種管理上、酸化膜
の電気抵抗を正確に案測することが重要となる。
従来、このような酸化物薄層の電気抵抗を測定するには
、この薄層表面くワセリンや銀ペーストを塗布し、電極
を密着させてその抵抗値を測定する方法や、酸化物薄層
を切削し、この切削値の固有抵抗値を測定する方法等が
知られている。
、この薄層表面くワセリンや銀ペーストを塗布し、電極
を密着させてその抵抗値を測定する方法や、酸化物薄層
を切削し、この切削値の固有抵抗値を測定する方法等が
知られている。
しかしながら、前者の方法では、ワセリンや銀ペースト
の塗布の仕方により測定値が太き(変動し、信頼性のあ
る値が得られず、また値の再現性も乏しい。更に、感光
ドラム基板のように曲率を有する場合には、測定そのも
のが困難である。
の塗布の仕方により測定値が太き(変動し、信頼性のあ
る値が得られず、また値の再現性も乏しい。更に、感光
ドラム基板のように曲率を有する場合には、測定そのも
のが困難である。
また、後者の測定法は、測定サンプルが破壊されるとい
う問題があると共に、粉体の充填率により測定値が異な
り、間接的測定法たる非難を免れない。
う問題があると共に、粉体の充填率により測定値が異な
り、間接的測定法たる非難を免れない。
発明の目的
従って、本発明の目的は、酸化物薄層の如き導電性基質
上の高抵抗*iの電気抵抗を、簡単に且つ再現性良く測
定し得る方法を提供するにある。
上の高抵抗*iの電気抵抗を、簡単に且つ再現性良く測
定し得る方法を提供するにある。
本発明の他の目的は、コロナ放電による流れ込み電流値
を、導電性基質上の薄膜の電気抵抗の測定に利用する方
法を提供するにある。
を、導電性基質上の薄膜の電気抵抗の測定に利用する方
法を提供するにある。
発明の構成
本発明によれば、表面に薄膜を有する導電性基質を、薄
膜の側から一定電圧の直流コ四す放電に付して、導電性
基質とアースとの間に流れる電流値(h)を測定し、表
面に薄膜を有しない以外は同じ導電性基質を対照として
直流コロナ放電に付して導電性基質とアースとの間に流
れる電流値(嶋)を測定し、これらの電流値からfs膜
の電気抵抗値を算出することを特徴とする・導電性基質
上の薄膜の電気抵抗測定法が提供される。
膜の側から一定電圧の直流コ四す放電に付して、導電性
基質とアースとの間に流れる電流値(h)を測定し、表
面に薄膜を有しない以外は同じ導電性基質を対照として
直流コロナ放電に付して導電性基質とアースとの間に流
れる電流値(嶋)を測定し、これらの電流値からfs膜
の電気抵抗値を算出することを特徴とする・導電性基質
上の薄膜の電気抵抗測定法が提供される。
発明の好適態様
本発明を、添付図面に示す具体例に基づき、以下に詳細
に説明する。
に説明する。
測定原理
本発明の測定に用いる各部材の配置を示す第1図におい
て、表面に酸化物薄膜1を備えたアルミ板2から成る試
料6を、アースから絶縁した状態で保持し、アルミ板2
とアースとの間に電流計4を接続させる。試料6の薄層
1の側に小間隔をおいてコロナ放電極5を配置し、放電
極5を定電圧電源6に接続する。
て、表面に酸化物薄膜1を備えたアルミ板2から成る試
料6を、アースから絶縁した状態で保持し、アルミ板2
とアースとの間に電流計4を接続させる。試料6の薄層
1の側に小間隔をおいてコロナ放電極5を配置し、放電
極5を定電圧電源6に接続する。
測定に際して先ず、試料3に代えて酸化物薄膜のないア
ルミ板を対照として、コロナ放電を行い、流れ込み電流
値(tl)を電流計4により求める。
ルミ板を対照として、コロナ放電を行い、流れ込み電流
値(tl)を電流計4により求める。
次いで、対照アルミ板に代えて試料6をセットし、同じ
条件下にコロナ放電を行い、電流計4により流れ込み電
流値(l1)を測定する。
条件下にコロナ放電を行い、電流計4により流れ込み電
流値(l1)を測定する。
これらの電流値Gw’!から、薄膜1の電気抵抗値が次
のように算出される。先ず、第2図は対照アルミ板を用
いコロナ放電を行った場合の等価回路図であり、定電圧
電源6の電圧なr(ボルト)、コロナ放電時の空気抵抗
なA(Ω)とすると、電流値’1(アンペア)との関係
は、下記式(1)%式%(1) 一方、第6図は薄膜を備えたアルミ板を用い、コロナ放
電を行った場合の等価回路図であり、薄膜1の電気抵抗
B(Ω)と、電流値’1*’t との関係は、次式(
2) %式% 今、コロナ放電面の面積をScm”、 ′R膜1の厚
みをLcmとすると、抵抗率ρ(Ω−α〕は式(3)%
式%(3) として算出される。
のように算出される。先ず、第2図は対照アルミ板を用
いコロナ放電を行った場合の等価回路図であり、定電圧
電源6の電圧なr(ボルト)、コロナ放電時の空気抵抗
なA(Ω)とすると、電流値’1(アンペア)との関係
は、下記式(1)%式%(1) 一方、第6図は薄膜を備えたアルミ板を用い、コロナ放
電を行った場合の等価回路図であり、薄膜1の電気抵抗
B(Ω)と、電流値’1*’t との関係は、次式(
2) %式% 今、コロナ放電面の面積をScm”、 ′R膜1の厚
みをLcmとすると、抵抗率ρ(Ω−α〕は式(3)%
式%(3) として算出される。
g護死1
本発明の測定方法では、コロナ放電時の薄膜を通して導
電性基質への流れ込み電流値を測定するため、薄膜と電
極とが非接触の状態で測定が行われ、その抵抗値が薄膜
の表面状態に左右されないという顕著な利点がある。ま
た、流れ込み電流値は、定常状態では一定して精度良く
実測され、また定電圧電源の電圧も精度良(求められる
ので、電気抵抗の測定が良好な精度と再現性とをもって
、簡便に行われるという利点がある。これらの事実は後
述する例を参照することにより容易に了解されよう。
電性基質への流れ込み電流値を測定するため、薄膜と電
極とが非接触の状態で測定が行われ、その抵抗値が薄膜
の表面状態に左右されないという顕著な利点がある。ま
た、流れ込み電流値は、定常状態では一定して精度良く
実測され、また定電圧電源の電圧も精度良(求められる
ので、電気抵抗の測定が良好な精度と再現性とをもって
、簡便に行われるという利点がある。これらの事実は後
述する例を参照することにより容易に了解されよう。
発明の用途
本発明を陽極酸化によるアルミ酸化物薄膜の場合を例に
とって説明したが、本発明の測定法はこの場合にのみ限
定されない。
とって説明したが、本発明の測定法はこの場合にのみ限
定されない。
即ち、本発明は種々の被膜を有する導電性基質に適用で
きる。例えば、種々の表面処理金屑板、特にクロメート
処理鋼板の如き化成処理板或いは電解処理板、スパッタ
リング、真空蒸着、プラズマCVD (化学蒸着法)、
イオン注入法等による種々の表面処理板の薄1iLv電
気抵抗測定に広(適用することが可能である。
きる。例えば、種々の表面処理金屑板、特にクロメート
処理鋼板の如き化成処理板或いは電解処理板、スパッタ
リング、真空蒸着、プラズマCVD (化学蒸着法)、
イオン注入法等による種々の表面処理板の薄1iLv電
気抵抗測定に広(適用することが可能である。
実施例
本発明と次の例で説明する。
測定試料A
厚さ1朋のアルミニウム板の片面に陽極酸化処理を行な
い、厚さ11.0μのアルマイ11を設けた。
い、厚さ11.0μのアルマイ11を設けた。
電気抵抗測定
測定試料Aを第2図に従って、下記の条件で流れ込み電
流値!2を、また同一条件下で未処理のアルミニウム板
の流れ込み電流値i1を測定した。
流値!2を、また同一条件下で未処理のアルミニウム板
の流れ込み電流値i1を測定した。
定電圧電源電圧r士4.64 KV
コロナ放電面の面漬S = 1.8 (clrL) X
6. O(cm)測定の結果下記の通りであった。
6. O(cm)測定の結果下記の通りであった。
上記の測定値から、式(3)に従い、抵抗率ρ(Ω−c
rn)を算出したところ、 ρ=9.07xlO” (Ω−工ン であった。
rn)を算出したところ、 ρ=9.07xlO” (Ω−工ン であった。
また、同一の試料に対して〆をV=5.08KVに変更
する以外はまったく同一の方法で、iI 1 ’!を測
定した。
する以外はまったく同一の方法で、iI 1 ’!を測
定した。
その結果は
であった。これから抵抗率ρ(Ω−crrL)を測定し
たところ ρ=9.04x10・ (Ω−crIL)であり、先の
結果とほとんどかわらず、条件が変化してもほとんど同
一の結果が得られることがわかった。
たところ ρ=9.04x10・ (Ω−crIL)であり、先の
結果とほとんどかわらず、条件が変化してもほとんど同
一の結果が得られることがわかった。
第1図は、本発明の測定に用いる各部材の配置を示し、
@2図は、対照アルミ板を用いコロナ放電を行なった場
合の等価回路図、 第3図は、薄膜を備えたアルミ板を用いた場合の等価回
路図である。 側照数字1は′R膜、2は導電性基質、4は電流計、5
はコロナ放電極、6は定電圧電源な夫々示す。 特許出願人 三田工業株式会社 第1図 第2図 カー 第3図
合の等価回路図、 第3図は、薄膜を備えたアルミ板を用いた場合の等価回
路図である。 側照数字1は′R膜、2は導電性基質、4は電流計、5
はコロナ放電極、6は定電圧電源な夫々示す。 特許出願人 三田工業株式会社 第1図 第2図 カー 第3図
Claims (1)
- (1)表面に薄膜を有する導電性基質を、薄膜の側から
一定電圧の直流コロナ放電に付して、導電性基質とアー
スとの間に流れる電流値(i_2)を測定し、表面に薄
膜を有しない以外は同じ導電性基質を対照として直流コ
ロナ放電に付して導電性基質とアースとの間に流れる電
流値(i_1)を測定し、これらの電流値から薄膜の電
気抵抗値を算出することを特徴とする導電性基質上の薄
膜の電気抵抗測定法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18038284A JPS6159255A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 導電性基質上の薄膜の電気抵抗測定法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18038284A JPS6159255A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 導電性基質上の薄膜の電気抵抗測定法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6159255A true JPS6159255A (ja) | 1986-03-26 |
Family
ID=16082256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18038284A Pending JPS6159255A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | 導電性基質上の薄膜の電気抵抗測定法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6159255A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0385440A (ja) * | 1989-08-29 | 1991-04-10 | Yamazaki Seiki Kenkyusho:Kk | 樹脂材料のイオン侵入性を試験する方法および装置 |
-
1984
- 1984-08-31 JP JP18038284A patent/JPS6159255A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0385440A (ja) * | 1989-08-29 | 1991-04-10 | Yamazaki Seiki Kenkyusho:Kk | 樹脂材料のイオン侵入性を試験する方法および装置 |
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