JPS6160630A - アルデヒド誘導体の製造法 - Google Patents
アルデヒド誘導体の製造法Info
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- JPS6160630A JPS6160630A JP18325184A JP18325184A JPS6160630A JP S6160630 A JPS6160630 A JP S6160630A JP 18325184 A JP18325184 A JP 18325184A JP 18325184 A JP18325184 A JP 18325184A JP S6160630 A JPS6160630 A JP S6160630A
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- compound
- ethyl
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- sulfolene
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- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアルデヒド誘導体の製造法に関し、さらに詳し
くはハイマダラツメイガの性フエロモンである下記式(
I)で示される(11E,13E。
くはハイマダラツメイガの性フエロモンである下記式(
I)で示される(11E,13E。
13E)−11,13E)−11,13−ヘキサデカジ
エナール(以下、アルデヒド化合物と呼ぶ)の製造法に
関する。
エナール(以下、アルデヒド化合物と呼ぶ)の製造法に
関する。
ハイマダラツメイガは、その幼虫が大根、キャベツ等の
アブラナ科の野菜に重大な′食害を与えることから、そ
の効率的な防除が望まれている。
アブラナ科の野菜に重大な′食害を与えることから、そ
の効率的な防除が望まれている。
本発明の対象である上記のアルデヒド化合物は、ハイマ
ダラツメイガの雌成虫が分泌し雄成虫を誘引する性フェ
ロモンとして知られている(Agr、Biol、Che
m、、 46 、2395〜2397(1982))
。
ダラツメイガの雌成虫が分泌し雄成虫を誘引する性フェ
ロモンとして知られている(Agr、Biol、Che
m、、 46 、2395〜2397(1982))
。
該性フェロモンは、これを誘引物質とする誘蛾装置に用
いる ことにより、ハイマダラツメイガの発生密度を予
察することが可能となる。
いる ことにより、ハイマダラツメイガの発生密度を予
察することが可能となる。
ところで、害虫の発生密度を予察することが可能となる
。
。
ところで、害虫の発生密度を予察することができれば、
適切な時期に有効な殺虫剤を散布することが可能となり
、よって効率よく対象害虫を撲滅することができること
から、殊に現代の総合害虫防除体系において害虫の発生
密度の予察は極めて重要な技術である。
適切な時期に有効な殺虫剤を散布することが可能となり
、よって効率よく対象害虫を撲滅することができること
から、殊に現代の総合害虫防除体系において害虫の発生
密度の予察は極めて重要な技術である。
本発明者らは、かかるハイマダラツメイガの性フェロモ
ンを工業的にも有利に製造する方法につき鋭意検討した
結果、式(m) テ示される10−(5−エチル−8−スルホレン−2−
イル)デカン−1−オールをアルカリの存在下に加熱す
ることにより立体選択的に、しかも高収率で式(It) C2H4k’1 で示される(11E、1i11E)−11,13−ヘキ
サデカジエン−1−オールが得られ、次いで該化合物の
水酸基を酸化することにより目的のアルデヒド化合物が
容易にかつ収率よく得られることを見出し本発明に至っ
た。
ンを工業的にも有利に製造する方法につき鋭意検討した
結果、式(m) テ示される10−(5−エチル−8−スルホレン−2−
イル)デカン−1−オールをアルカリの存在下に加熱す
ることにより立体選択的に、しかも高収率で式(It) C2H4k’1 で示される(11E、1i11E)−11,13−ヘキ
サデカジエン−1−オールが得られ、次いで該化合物の
水酸基を酸化することにより目的のアルデヒド化合物が
容易にかつ収率よく得られることを見出し本発明に至っ
た。
上記の本発明方法において、原料となる式(11E,1
3+)で示されるアルコール化合物は新期化合物であり
、式(VI) で示される8−スルホレンに、塩基の存在下10−テト
ラヒドロビラニロキシデシJし基およびエチル基を導入
して得られる式(IV)〔式中、Tl(Pはテトラヒド
ロピラニル基を表わす。〕 で示される2−(10−テトラヒドロピラニロキシデシ
ル)−5−エチル−8−スルホレンを酸で処理すること
により得られる。
3+)で示されるアルコール化合物は新期化合物であり
、式(VI) で示される8−スルホレンに、塩基の存在下10−テト
ラヒドロビラニロキシデシJし基およびエチル基を導入
して得られる式(IV)〔式中、Tl(Pはテトラヒド
ロピラニル基を表わす。〕 で示される2−(10−テトラヒドロピラニロキシデシ
ル)−5−エチル−8−スルホレンを酸で処理すること
により得られる。
これまでに、上記式(I)で示されるアルデヒド化合物
の製法としては、前掲報文に記載のハイドロシアL/
:) 二JL/化(hydrozirconation
) 反応およびアセチレンジツバ−反応(acety
lenezipper reaction) を用い
る方法が知られているが、該方法は、工業的に取扱い難
いアセチレン系合成中間体を経由すること、高価な貴金
属触媒また1、7貴金属試薬を使用することなどの点で
必ずしも有利ではなく、またその収率も溝足し得るもの
ではない。
の製法としては、前掲報文に記載のハイドロシアL/
:) 二JL/化(hydrozirconation
) 反応およびアセチレンジツバ−反応(acety
lenezipper reaction) を用い
る方法が知られているが、該方法は、工業的に取扱い難
いアセチレン系合成中間体を経由すること、高価な貴金
属触媒また1、7貴金属試薬を使用することなどの点で
必ずしも有利ではなく、またその収率も溝足し得るもの
ではない。
一方、本発明方法によれば、入手容易な8−スルホレン
を出発原料として、極めて短かい工程でしかも収率よく
目的のアルデヒド化合物を製造することができ、工業的
にも極めて有利である。特に、本発明方法によれば、誘
引活性を有する異性体成分、即ち(E、E)−ジエン体
が高い立体選択性で得られる点で、極めて有利と言える
。
を出発原料として、極めて短かい工程でしかも収率よく
目的のアルデヒド化合物を製造することができ、工業的
にも極めて有利である。特に、本発明方法によれば、誘
引活性を有する異性体成分、即ち(E、E)−ジエン体
が高い立体選択性で得られる点で、極めて有利と言える
。
以下に本発明方法につき説明する。式(VT )で示さ
れる3−スルホレンから式(N)で示されるテトラヒド
ロピラニルエーテル化合物を得るに際し、lO−テトラ
ヒドロピラニロキシデシル基およびエチル基の導入試薬
としては、夫々、10−テトラヒドロピラニロキシデシ
ルアイオダイドのようなlO−テトラヒドロピラニロキ
シデシルハライドおよびヨウ化エチルなどのエチルハラ
イドが挙げられ、これらは、何れを先に反応させてもよ
い。また該反応時に存在させる塩基としてはリチウムへ
キサメチルジシラザン(L i HMDS )、リチウ
ムジイソプロピルアミドなどの有機塩基を挙げることが
でき、このような塩基は通常ヘキサメチルホスホ−ルア
マイト(HMPA)のようなカチオン捕捉剤の共存下に
反応に供される。また、該反応は、通常テトラヒドロフ
ラン(Tt(F)などの有機溶媒中で冷却下に行なわれ
る。
れる3−スルホレンから式(N)で示されるテトラヒド
ロピラニルエーテル化合物を得るに際し、lO−テトラ
ヒドロピラニロキシデシル基およびエチル基の導入試薬
としては、夫々、10−テトラヒドロピラニロキシデシ
ルアイオダイドのようなlO−テトラヒドロピラニロキ
シデシルハライドおよびヨウ化エチルなどのエチルハラ
イドが挙げられ、これらは、何れを先に反応させてもよ
い。また該反応時に存在させる塩基としてはリチウムへ
キサメチルジシラザン(L i HMDS )、リチウ
ムジイソプロピルアミドなどの有機塩基を挙げることが
でき、このような塩基は通常ヘキサメチルホスホ−ルア
マイト(HMPA)のようなカチオン捕捉剤の共存下に
反応に供される。また、該反応は、通常テトラヒドロフ
ラン(Tt(F)などの有機溶媒中で冷却下に行なわれ
る。
このようにして1%られるテトラヒドロピラニルエーテ
ル化合物は、常法により塩酸などの鉱酸、p−トルエン
スルホン酸などの有機酸を作用させることにより容易に
テトラヒドロピラニル基が離脱し、式(m)で示される
アルコール化合物に導かれる。
ル化合物は、常法により塩酸などの鉱酸、p−トルエン
スルホン酸などの有機酸を作用させることにより容易に
テトラヒドロピラニル基が離脱し、式(m)で示される
アルコール化合物に導かれる。
次に該アルコールは、化合物は、エタノール、メタノー
ルなどのプロトン性溶媒中で、例えば力性カリ、炭酸カ
リなどのアルカリの存在下に加熱することにより、円滑
に亜硫酸ガスを放ちながら熱開裂し、立体選択的に目的
の式(n)で示される(E、E)−ジエンアルコールが
ほぼ定量的に得られる。
ルなどのプロトン性溶媒中で、例えば力性カリ、炭酸カ
リなどのアルカリの存在下に加熱することにより、円滑
に亜硫酸ガスを放ちながら熱開裂し、立体選択的に目的
の式(n)で示される(E、E)−ジエンアルコールが
ほぼ定量的に得られる。
次いで、1EN(E、E)−ジエンアルコールに、例え
ばピリジニウムクロミルクロメート(FCC)などの、
水酸基をホルミル基に変換させるのに使用される通常の
酸化剤を作用させることにより、容易に目的のアルデヒ
ド化合物を得ることができる。
ばピリジニウムクロミルクロメート(FCC)などの、
水酸基をホルミル基に変換させるのに使用される通常の
酸化剤を作用させることにより、容易に目的のアルデヒ
ド化合物を得ることができる。
以下に本発明を実施例で詳しく説明するが、本発明は何
らこれらに限定されるものではない。
らこれらに限定されるものではない。
実施例
■ 10−(5−エチル−8−スルホレン−2−イル)
デ・カン−1−オールの合成 3−スルホレン26.6F、10−テトラヒドロピラニ
ロキシデシルアイオダイド41.4fおよびHMPA7
0−を乾燥THF 600−に溶解し、−78°Cに冷
却してお(。次いでLi邪■S20.Tfを乾燥TE(
F3Q−に溶解し一78℃に冷却した後、これを先に調
製しておいたTI(F溶液中に、減圧上攪拌しながら一
気に加え、−78”Cで1時間攪拌する。
デ・カン−1−オールの合成 3−スルホレン26.6F、10−テトラヒドロピラニ
ロキシデシルアイオダイド41.4fおよびHMPA7
0−を乾燥THF 600−に溶解し、−78°Cに冷
却してお(。次いでLi邪■S20.Tfを乾燥TE(
F3Q−に溶解し一78℃に冷却した後、これを先に調
製しておいたTI(F溶液中に、減圧上攪拌しながら一
気に加え、−78”Cで1時間攪拌する。
次に該反応液を徐々に昇温しながら一20°Cで飽和食
塩水100sItを加えた後、液温を室温まで上昇させ
る。反応液を減圧下に濃縮し、大部分のTHFを留去し
た後、水100−を加え塩化メチレンで抽出する。塩化
メチレン膚を無水硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮し、残渣
をシリカゲル(Wako C−200) 250 fを
充填したカラムクロマトグラフィー(溶出液;酢酸エチ
ル:n−ヘキサン−1:9)に付し、2−(10−テト
ラヒドロピラニロキシデシル)−8−スルホレン22.
69F(収率:55%)を得た。
塩水100sItを加えた後、液温を室温まで上昇させ
る。反応液を減圧下に濃縮し、大部分のTHFを留去し
た後、水100−を加え塩化メチレンで抽出する。塩化
メチレン膚を無水硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮し、残渣
をシリカゲル(Wako C−200) 250 fを
充填したカラムクロマトグラフィー(溶出液;酢酸エチ
ル:n−ヘキサン−1:9)に付し、2−(10−テト
ラヒドロピラニロキシデシル)−8−スルホレン22.
69F(収率:55%)を得た。
1HNMR(CDCza)
δ(+)1)m) 1.20〜2.20(24H,m)
111.65 (2H,S 、 5−H)8.20〜4
.00 (5H,m) 4.60(LH,m) 6.05(2H,s、8−H,4−H)IR(CHCt
a) 13E)10 、 1140ロ一1MS m/
857(M” −1)上記で得られた2−(10
−テトラヒドロピラニロキシデシル)−8−スルホレン
7.35f1ヨウ化エチル1.88−およびHMPA7
.2−を乾燥THF100mlに溶解し、次いでこれに
上記と同様にして、LiHMDS 3.81の乾燥Tf
(F溶液を加えた後、同様に処理し、2−(10−テト
ラヒドロピラニロキシデシル)−5−エチル−8−スル
ホレン5.06Nを得た(収率:67%)。
111.65 (2H,S 、 5−H)8.20〜4
.00 (5H,m) 4.60(LH,m) 6.05(2H,s、8−H,4−H)IR(CHCt
a) 13E)10 、 1140ロ一1MS m/
857(M” −1)上記で得られた2−(10
−テトラヒドロピラニロキシデシル)−8−スルホレン
7.35f1ヨウ化エチル1.88−およびHMPA7
.2−を乾燥THF100mlに溶解し、次いでこれに
上記と同様にして、LiHMDS 3.81の乾燥Tf
(F溶液を加えた後、同様に処理し、2−(10−テト
ラヒドロピラニロキシデシル)−5−エチル−8−スル
ホレン5.06Nを得た(収率:67%)。
’HNMR(CDCts )
δ(pm)m) 1.01(BF(、t、J−7,0
H2)1.15〜2.20(26H,m) 8.20〜4.05 (6H,m) 4.62(IH,、m) 。
H2)1.15〜2.20(26H,m) 8.20〜4.05 (6H,m) 4.62(IH,、m) 。
5.98 (2H,S 、 8.4−H)IR(CHC
tg)iaoo、1100 cm ’MS ”/
887(M +1)次に上記で得られた2−(10
−テトラヒドロピラニロキシデシル)−5−エチル−8
通常の後処理を行ない、92%の収率で目的の10−(
5−エチル−8−スルホレン−2−イル)デカン−1−
オールを得た。
tg)iaoo、1100 cm ’MS ”/
887(M +1)次に上記で得られた2−(10
−テトラヒドロピラニロキシデシル)−5−エチル−8
通常の後処理を行ない、92%の収率で目的の10−(
5−エチル−8−スルホレン−2−イル)デカン−1−
オールを得た。
1HNMR(CDCta )
δ(I)I)m) 1.00(aH,t、J=7.0
Hz)8.20(2H,t、J−6,5Hz)■ (1
1E,13E、113E)−11,13−ヘキサデカジ
エナールの合成 前記で得た10−(6−エチル−3−スルホレン−2−
イル)デカン−1−オール300岬を、95%エタノー
ル5dに溶解し、これに炭酸カリ280岬を加え、アル
ゴン雰囲気下封管中で、1.5時間13E)0°Cに加
熱した。
Hz)8.20(2H,t、J−6,5Hz)■ (1
1E,13E、113E)−11,13−ヘキサデカジ
エナールの合成 前記で得た10−(6−エチル−3−スルホレン−2−
イル)デカン−1−オール300岬を、95%エタノー
ル5dに溶解し、これに炭酸カリ280岬を加え、アル
ゴン雰囲気下封管中で、1.5時間13E)0°Cに加
熱した。
次いで反応液を室温まで冷却し、これに酢酸エチル20
−を加えた後、無機塩を沖去し、さら暑こ溶媒を留去し
た。得られた残液をシリカゲル10gを用いたカラムク
ロマトグラフィー(溶出液:酢酸エチル:n−ヘキサン
=1:9)に付し、目的の(11E,13E、1aE)
−11,13−11,13−ヘキサデカジエナール2B
(3vを得た(収率:95%)。
−を加えた後、無機塩を沖去し、さら暑こ溶媒を留去し
た。得られた残液をシリカゲル10gを用いたカラムク
ロマトグラフィー(溶出液:酢酸エチル:n−ヘキサン
=1:9)に付し、目的の(11E,13E、1aE)
−11,13−11,13−ヘキサデカジエナール2B
(3vを得た(収率:95%)。
’HNMR(CDCts )
J(ppm) 1.05(8H,t、J=s7.0H
z)1.20〜1.80(161(、m) 2.05(4H,m) 2.68(IH,b℃ 3) 8.60(2H,t、J=6.0H2)5.60 (2
B、m) 6.00 (2H,m ) ’CNMR(CDCLa ) δ(1)pm) 113E).78 82.67
13E)2.36 29.561B0.44
29.28 129.55 25.86 62.71 25.61 82.78 13E).68 M5 /z288(M ) ■ (11E,13E,13E)−11,1B−ヘキサ
デカジエナールの合成 上記のようにして得られる(11E,13E)−11,
13E)−へキサデヵジェノール844岬を塩化メチレ
ンlO−およびn−へキサン10mの混合溶媒に溶かし
、これに、D 、 Michelot らの方法(5
ynthesis、 198L13E)0)に準じて調
製したpCC−アルミナ8.56−Fを加え、アルゴン
雰囲気下室温で10時間攪拌した。反応液を常法により
処理した後、得られた粗生成物を、シリカゲル15Nを
用いたカラムクロマトグラフィー(溶出液:酢酸エチル
:n−ヘキサン−1:9)に付し、目的の(11E,1
3E、1fllE)−11,1ill−11,13−ヘ
キサデカジエナール26°Ovを得た(収率: 67.
2%)。
z)1.20〜1.80(161(、m) 2.05(4H,m) 2.68(IH,b℃ 3) 8.60(2H,t、J=6.0H2)5.60 (2
B、m) 6.00 (2H,m ) ’CNMR(CDCLa ) δ(1)pm) 113E).78 82.67
13E)2.36 29.561B0.44
29.28 129.55 25.86 62.71 25.61 82.78 13E).68 M5 /z288(M ) ■ (11E,13E,13E)−11,1B−ヘキサ
デカジエナールの合成 上記のようにして得られる(11E,13E)−11,
13E)−へキサデヵジェノール844岬を塩化メチレ
ンlO−およびn−へキサン10mの混合溶媒に溶かし
、これに、D 、 Michelot らの方法(5
ynthesis、 198L13E)0)に準じて調
製したpCC−アルミナ8.56−Fを加え、アルゴン
雰囲気下室温で10時間攪拌した。反応液を常法により
処理した後、得られた粗生成物を、シリカゲル15Nを
用いたカラムクロマトグラフィー(溶出液:酢酸エチル
:n−ヘキサン−1:9)に付し、目的の(11E,1
3E、1fllE)−11,1ill−11,13−ヘ
キサデカジエナール26°Ovを得た(収率: 67.
2%)。
【
HNMR(CDCLa)
δ(りI)m) 1.00(ill)(、t、J=7
.0Hz)1.20〜1.50 (12H,m) 1.60(2H,m) 2.06(4H,m) 2.44 (2H,d t 、 J=2.0Hz 。
.0Hz)1.20〜1.50 (12H,m) 1.60(2H,m) 2.06(4H,m) 2.44 (2H,d t 、 J=2.0Hz 。
J=8.0Hz)
5.60(2H,m)
6.03(2B、m)
9.82(if(、t、J=2.0f(Z)13CNM
R δ(pI)m) 202.15 82.591
3E)B、48 29. 41128.98 13E ).5048.88 IR(CH(:t3) 1720 an ’MS
”/ 286 (M )参考例 10−テトラヒドロピラニロキシデシルアイオダイドの
合成 1.10−デカンジオール201と57%ヨウ化水素酸
100−を混合し、これにトルエン500.dを加え6
時間加熱還流しながら、生じる10−ヒドロキシデシル
アイオダイドを連続的に抽出する。次いで室温に冷却し
、沈澱する1、10−デカンジオールを沖去し、トルエ
ン層をIN−炭酸カリ水溶液、ハイデおよび飽和食塩水
で順次洗浄後、トルエンを減圧下:こ留去する。残渣を
炭酸カリの存在下に蒸留し、85〜87°C/ 0.
I Torrの留分として無色油状の10−ヒドロキシ
デシルアイオダイド25.081を得た。
R δ(pI)m) 202.15 82.591
3E)B、48 29. 41128.98 13E ).5048.88 IR(CH(:t3) 1720 an ’MS
”/ 286 (M )参考例 10−テトラヒドロピラニロキシデシルアイオダイドの
合成 1.10−デカンジオール201と57%ヨウ化水素酸
100−を混合し、これにトルエン500.dを加え6
時間加熱還流しながら、生じる10−ヒドロキシデシル
アイオダイドを連続的に抽出する。次いで室温に冷却し
、沈澱する1、10−デカンジオールを沖去し、トルエ
ン層をIN−炭酸カリ水溶液、ハイデおよび飽和食塩水
で順次洗浄後、トルエンを減圧下:こ留去する。残渣を
炭酸カリの存在下に蒸留し、85〜87°C/ 0.
I Torrの留分として無色油状の10−ヒドロキシ
デシルアイオダイド25.081を得た。
次いで該アイオダイド11.6gを乾燥塩化常法により
対応するテトラハイドロピラニルエーテルに導びき、得
られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出液;n−ヘキサン:酢酸エチル−9:1)に付し
、目的の10−テトラハイドロビラニロキシデシルアイ
オダイド14.89を得た(収率:98%)。
対応するテトラハイドロピラニルエーテルに導びき、得
られる粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出液;n−ヘキサン:酢酸エチル−9:1)に付し
、目的の10−テトラハイドロビラニロキシデシルアイ
オダイド14.89を得た(収率:98%)。
1HNMR(CDC6s )
δ(酬ル84(22H,m)
8.20 (2H,t 、 J−6,5Hz )8.6
0(4H,m) 4.60(IH,m) (16完)
0(4H,m) 4.60(IH,m) (16完)
Claims (3)
- (1)10−(5−エチル−3−スルホレン−2−イル
)デカン−1−オールをアルカリの存在下に加熱するこ
とにより、(11E,13E)−11,13−ヘキサデ
カジエン−1−オールに導き、次いで該化合物の水酸基
を酸化することを特徴とする(11E,13E)−11
,13−ヘキサデカジエナールの製造法。 - (2)2−(10−テトラヒドロピラニロキシデシル)
−5−エチル−3−スルホレンを酸で処理することによ
り10−(5−エチル−3−スルホレン−2−イル)デ
カン−1−オールに導いた後、該化合物をアルカリの存
在下に加熱することにより(11E,13E)−11,
13−ヘキサデカジエン−1−オールに導き、次いで該
化合物の水酸基を酸化することを特徴とする(11E,
13E)−11,13−ヘキサデカジエナールの製造法
。 - (3)3−スルホレンに、塩基の存在下、10−テトラ
ヒドロピラニロキシデシルハライドによる10−テトラ
ヒドロピラニロキシデシル基の導入およびエチルハライ
ドによるエチル基の導入を行ない、得られる2−(10
−テトラヒドロピラニロキシデシル)−5−エチル−3
−スルホレンを酸で処理することにより10−(5−エ
チル−3−スルホレン−2−イル)デカン−1−オール
に導いた後、該化合物をアルカリの存在下に加熱するこ
とにより(11E,13E)−11,13−ヘキサデカ
ジエン−1−オールに導き、次いで該化合物の水酸基を
酸化することを特徴とする (11E,13E)−11,13−ヘキサデカジエナー
ルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18325184A JPS6160630A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | アルデヒド誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18325184A JPS6160630A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | アルデヒド誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6160630A true JPS6160630A (ja) | 1986-03-28 |
| JPH055819B2 JPH055819B2 (ja) | 1993-01-25 |
Family
ID=16132407
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18325184A Granted JPS6160630A (ja) | 1984-08-31 | 1984-08-31 | アルデヒド誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6160630A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020137935A1 (ja) * | 2018-12-27 | 2020-07-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、(共)重合体、組成物、パターン形成方法、及び化合物の製造方法 |
-
1984
- 1984-08-31 JP JP18325184A patent/JPS6160630A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020137935A1 (ja) * | 2018-12-27 | 2020-07-02 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、(共)重合体、組成物、パターン形成方法、及び化合物の製造方法 |
| CN113227028A (zh) * | 2018-12-27 | 2021-08-06 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、(共)聚合物、组合物、图案形成方法、及化合物的制造方法 |
| JPWO2020137935A1 (ja) * | 2018-12-27 | 2021-11-11 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、(共)重合体、組成物、パターン形成方法、及び化合物の製造方法 |
| TWI828827B (zh) * | 2018-12-27 | 2024-01-11 | 日商三菱瓦斯化學股份有限公司 | 化合物、(共)聚合物、組成物、圖型形成方法,及化合物之製造方法 |
| JP2024123024A (ja) * | 2018-12-27 | 2024-09-10 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物、(共)重合体、組成物、パターン形成方法、及び化合物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH055819B2 (ja) | 1993-01-25 |
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