JPS6164885A - 非晶質磁性金属薄帯の表面処理方法 - Google Patents
非晶質磁性金属薄帯の表面処理方法Info
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- JPS6164885A JPS6164885A JP18542484A JP18542484A JPS6164885A JP S6164885 A JPS6164885 A JP S6164885A JP 18542484 A JP18542484 A JP 18542484A JP 18542484 A JP18542484 A JP 18542484A JP S6164885 A JPS6164885 A JP S6164885A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- surface treatment
- ribbon
- treatment agent
- metal ribbon
- amorphous magnetic
- Prior art date
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C6/00—Coating by casting molten material on the substrate
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は磁気特性に優れた非晶質磁性金属薄帯の表面
処理方法に関するものである。
処理方法に関するものである。
〔従来の技術）
溶融状態からご冷凝固することによって作製される非晶
質金属（合金）Ｂ帯（板）は種々の優れた性質を示し、
応用上注目されている。なかでも、Ｆｅ１５非晶質合金
は飽和磁束省度が高く、鉄損が低いため各種鉄心用材料
として利用されつつある。Ｆｅｊム非晶質合金の鉄損が
低い理由として、異方性がなく、結晶粒界等の欠陥がな
いため、ヒステリシス損が小さいことが挙げらている。
質金属（合金）Ｂ帯（板）は種々の優れた性質を示し、
応用上注目されている。なかでも、Ｆｅ１５非晶質合金
は飽和磁束省度が高く、鉄損が低いため各種鉄心用材料
として利用されつつある。Ｆｅｊム非晶質合金の鉄損が
低い理由として、異方性がなく、結晶粒界等の欠陥がな
いため、ヒステリシス損が小さいことが挙げらている。
このようにＦｅ非晶質金属は本来磁気特性に優れた材料
であるが、板厚が薄いために１表面処理先行なうと、ｌ
！＆帯と、その上に表面処理により形成された表面皮膜
との相互作用に起因して生しる歪により、磁気特性に影
響を受け、磁気特性が劣化る。すなわち、非晶質磁性金
属薄帯は熱膨張率が小さく、従って通常のクロメート処
理等のガラス質皮膜では冷却後、圧縮応力を受けること
になり、折角良好な磁性が劣化してしまうのである。
であるが、板厚が薄いために１表面処理先行なうと、ｌ
！＆帯と、その上に表面処理により形成された表面皮膜
との相互作用に起因して生しる歪により、磁気特性に影
響を受け、磁気特性が劣化る。すなわち、非晶質磁性金
属薄帯は熱膨張率が小さく、従って通常のクロメート処
理等のガラス質皮膜では冷却後、圧縮応力を受けること
になり、折角良好な磁性が劣化してしまうのである。
従って従来は表面処理が行なわれていないのが汀通であ
った・ このような事ｆ５から、例えばＺｒＯ２・５ｉ０２．２
Ｍｇ０拳２Ａｉｚ０３・５Ｓｉ０２゜Ｌｉ ０２ ａＡ
ｉｚ ０３ Φ２Ｓｉ ０２等ノ８１１Ｍ張率の低いセ
ラミックス系の皮膜の形成が可能であれば、非晶質磁性
金属薄帯の表面に張力をかけることかでき、少くとも心
性の劣化と防止することができ、場合によっては磁性の
一層の向上が期待できる。
った・ このような事ｆ５から、例えばＺｒＯ２・５ｉ０２．２
Ｍｇ０拳２Ａｉｚ０３・５Ｓｉ０２゜Ｌｉ ０２ ａＡ
ｉｚ ０３ Φ２Ｓｉ ０２等ノ８１１Ｍ張率の低いセ
ラミックス系の皮膜の形成が可能であれば、非晶質磁性
金属薄帯の表面に張力をかけることかでき、少くとも心
性の劣化と防止することができ、場合によっては磁性の
一層の向上が期待できる。
また前記のように通常は表面処理は行なわれていないが
１表面処理が行なわれていたものがあったとしても、そ
れは薄帯が一旦鋳造、冷却された後１表面処理されてい
るものと推定される。
１表面処理が行なわれていたものがあったとしても、そ
れは薄帯が一旦鋳造、冷却された後１表面処理されてい
るものと推定される。
また非晶質金属は温度を上げると結晶化し易いので１前
記の表面処理は結晶化温度以下での処理が前提となるた
め、低熱膨張率のセラミンク系の表面処理剤を用いても
密度の高いセラミックス皮膜を形成できないために効果
を充分に挙げることかできない。
記の表面処理は結晶化温度以下での処理が前提となるた
め、低熱膨張率のセラミンク系の表面処理剤を用いても
密度の高いセラミックス皮膜を形成できないために効果
を充分に挙げることかできない。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は、Ｅ記のような問題を解決し、非晶質磁性金ｆ
；ｊｉ薄帯の表面処理を効果的に行ない、ｌａ磁気特性
向上を図ろうとするものである。
；ｊｉ薄帯の表面処理を効果的に行ない、ｌａ磁気特性
向上を図ろうとするものである。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、溶融金属を移動する冷却体の表面に噴射し、
急冷凝固させて全屈薄帯を製造する方法において、前記
溶融金属の噴射に続いてγ：し？１″ｔの表面にペース
ト状ないしワックス状表面処理剤を塗布焼き付けること
によって非晶質磁性ｔ：（ｌ帯の表面に皮膜を形成させ
ることを特徴とするものである。
急冷凝固させて全屈薄帯を製造する方法において、前記
溶融金属の噴射に続いてγ：し？１″ｔの表面にペース
ト状ないしワックス状表面処理剤を塗布焼き付けること
によって非晶質磁性ｔ：（ｌ帯の表面に皮膜を形成させ
ることを特徴とするものである。
本発明方法を実施するための非晶質金属薄帯は例えば第
１図に示すように、駆動軸２により回転するロールｌの
表面に、その直上に配置したるっぽ３の底面に設けたノ
ズル５から溶融金属４を噴出させ、急冷凝固させること
によって作製するが、本発明においては、前記ノズル５
に隣接して表面処理剤９を貯えた表面処理剤押し出し装
置８が配置されており、その底部にはノズル１０が設け
られているので、前記ノズル５から溶融金属４が噴出さ
れて薄帯７が形成されると、その表面に表面処理剤押し
出し装置８から押し出された表面処理剤９が塗布され、
さらに焼付けられて皮膜が形成される。
１図に示すように、駆動軸２により回転するロールｌの
表面に、その直上に配置したるっぽ３の底面に設けたノ
ズル５から溶融金属４を噴出させ、急冷凝固させること
によって作製するが、本発明においては、前記ノズル５
に隣接して表面処理剤９を貯えた表面処理剤押し出し装
置８が配置されており、その底部にはノズル１０が設け
られているので、前記ノズル５から溶融金属４が噴出さ
れて薄帯７が形成されると、その表面に表面処理剤押し
出し装置８から押し出された表面処理剤９が塗布され、
さらに焼付けられて皮膜が形成される。
なお、第２図はノズル５の開口部６の形状の一例を示す
もので、第２図（ａ）は幅広の薄帯を作製するのに適し
、また第２図（ｂ）は幅広で板厚の薄い薄帯の作製に適
する。
もので、第２図（ａ）は幅広の薄帯を作製するのに適し
、また第２図（ｂ）は幅広で板厚の薄い薄帯の作製に適
する。
本発明において使用されるペースト状表面処理剤の例と
して、Ｌｉ、Ｍｇ、Ａ見、Ｓｉ、ＴｉあるいはＺｒのア
ルコール化合物の１種または２種以上の混合物がある。
して、Ｌｉ、Ｍｇ、Ａ見、Ｓｉ、ＴｉあるいはＺｒのア
ルコール化合物の１種または２種以上の混合物がある。
これらのアルコール化合物を加水分解しゲル化する。
このようにして薄帯の表面に塗布された表面処理剤は葭
帯の熱で乾燥焼付けられ、アルコール化合物が分解生成
した活性な金属酸化物と薄帯表面に酸化形成された５ｉ
０２あるいは他の酸化物とが結合し、低膨張率絶縁性酸
化物が形成され、薄１２表面に固若する。なおこの際溶
奴の着火を防ぐため不活性ガス雰囲気中で行なうことが
望ましい。
帯の熱で乾燥焼付けられ、アルコール化合物が分解生成
した活性な金属酸化物と薄帯表面に酸化形成された５ｉ
０２あるいは他の酸化物とが結合し、低膨張率絶縁性酸
化物が形成され、薄１２表面に固若する。なおこの際溶
奴の着火を防ぐため不活性ガス雰囲気中で行なうことが
望ましい。
（作用）
上記のような表面処理剤により生成された皮膜の熱膨張
率は非晶質金属薄帯の熱膨張率に比べて小さいので、薄
イ（７および皮膜が冷却したとき、熱膨張率の差によっ
て薄帯に引張残留歪が発生する。その結果、磁区が細分
化され、鉄損が減少し、磁気特性が向上する。
率は非晶質金属薄帯の熱膨張率に比べて小さいので、薄
イ（７および皮膜が冷却したとき、熱膨張率の差によっ
て薄帯に引張残留歪が発生する。その結果、磁区が細分
化され、鉄損が減少し、磁気特性が向上する。
（実施例）
次に実施例をあげて説明する。
実施例
第１図に示す装置を用いて本発明方法を実施した。
ロールｌは調合金製で直径１１００ｈφ、幅２００ Ｉ
Ｉｍであり、速度４５０ｒ、１９ｍ、で回転させた。こ
の装置によって、組成ＦｅｍｔＳ ｉｔｔ Ｂ＊ Ｃｔ
（ａｔ ＄） （１）合金を第２図（ｂ）に示すよ
うな三遣のスロント状の開口部（幅ｄ Ｏ，４ｍｍ、
＆さ見５０ｍｍ 、間隔ａｔ■）を有するものを用いて
薄帯に鋳造した。−刃表面処理剤としてＺｒのｎ−ブチ
ルアルコール化合物のＺｒＯ２として５＄Ｗｆ−醜ｎ−
ブチル溶液と。
Ｉｍであり、速度４５０ｒ、１９ｍ、で回転させた。こ
の装置によって、組成ＦｅｍｔＳ ｉｔｔ Ｂ＊ Ｃｔ
（ａｔ ＄） （１）合金を第２図（ｂ）に示すよ
うな三遣のスロント状の開口部（幅ｄ Ｏ，４ｍｍ、
＆さ見５０ｍｍ 、間隔ａｔ■）を有するものを用いて
薄帯に鋳造した。−刃表面処理剤としてＺｒのｎ−ブチ
ルアルコール化合物のＺｒＯ２として５＄Ｗｆ−醜ｎ−
ブチル溶液と。
Ｓｉのエチルアルコール化合物の５ｉ０２ として５ｚ
８酸エチル溶液を等量混合したものを加水分解し、ゲル
化したペーストを表面処理剤押し出し装置によりＮ２ガ
ス雰囲気中でａｌｌ ？ｉ）表面に塗布した。冷７１後
の皮膜付着量は０，８〜１．０ ｇ／−″であった。
８酸エチル溶液を等量混合したものを加水分解し、ゲル
化したペーストを表面処理剤押し出し装置によりＮ２ガ
ス雰囲気中でａｌｌ ？ｉ）表面に塗布した。冷７１後
の皮膜付着量は０，８〜１．０ ｇ／−″であった。
このようにして作製された＋’ｈ （ｉ７ （・ＩＩ均
板厚６５ｐｉ）約２ｋｇを外Ｐ１２０ｍｍの巻枠に張力
２ｋｇ−ｃ巻回し、８き鉄心に成形した。この巻き鉄心
を ３７０℃で２時間、磁界約１５エルステツドをかけ
ながらＮ２ガス気流中で焼鈍した。この鉄心の測定され
た磁気特性は第１表のとおりであった。
板厚６５ｐｉ）約２ｋｇを外Ｐ１２０ｍｍの巻枠に張力
２ｋｇ−ｃ巻回し、８き鉄心に成形した。この巻き鉄心
を ３７０℃で２時間、磁界約１５エルステツドをかけ
ながらＮ２ガス気流中で焼鈍した。この鉄心の測定され
た磁気特性は第１表のとおりであった。
また比較例として、上記供試材と同一組成、同一条件で
作製され１表面処理のみを行なわなかった薄帯を供試材
と形状１寸法、焼鈍条件も同一にしたものを第１表に示
す。
作製され１表面処理のみを行なわなかった薄帯を供試材
と形状１寸法、焼鈍条件も同一にしたものを第１表に示
す。
この表から明らかなように、本発明方法により製造され
た薄帯を用いた鉄心は、比較材より鉄損が低く、磁気特
性が優れていることが明らかである。また通常コーティ
ング処理によって劣化する励磁実効ＶＡの劣化もほとん
どない。
た薄帯を用いた鉄心は、比較材より鉄損が低く、磁気特
性が優れていることが明らかである。また通常コーティ
ング処理によって劣化する励磁実効ＶＡの劣化もほとん
どない。
第１表
＊ ”３ｏ ：周波数５０Ｈ′・ｍ重密度１・３テ″
′における鉄損イぬ 木本Ｖ Ａ ７゜：同上条件における励磁実効ボルト・
アンペアｆ直 （発明の効果） 以ヒ説明したように本発明方法によれば１表面処理皮膜
により非晶質金属薄帯に残留引張歪を与えて磁区の細分
化を図ることができるので、単なる居間絶縁性だけでな
く、磁気特性を一層高めることができる。
′における鉄損イぬ 木本Ｖ Ａ ７゜：同上条件における励磁実効ボルト・
アンペアｆ直 （発明の効果） 以ヒ説明したように本発明方法によれば１表面処理皮膜
により非晶質金属薄帯に残留引張歪を与えて磁区の細分
化を図ることができるので、単なる居間絶縁性だけでな
く、磁気特性を一層高めることができる。
また、＃融金属の噴射に引き続いて表面処理剤を塗布す
るので、表面処理された非晶質磁性金属薄帯をＭ続的に
効率よく製造することができる。しかも、微来のように
コーティング処理工程を別に設ける必要がなく、従って
工程の簡略化を図ることができる。
るので、表面処理された非晶質磁性金属薄帯をＭ続的に
効率よく製造することができる。しかも、微来のように
コーティング処理工程を別に設ける必要がなく、従って
工程の簡略化を図ることができる。
ｔＪ４１図は本発明方法を実施する装置の一例を示す説
明図、第２図はノズル開口部の形状を示すド図面である
。 １・・・ロール、２・・・駆動軸、３・・・るつぼ、４
・・・溶融金属、５・・・ノズル、６・・・ノズル開口
部、８・・・表面処理剤押し出し装置、９・・・表面処
理剤、 １０・・・ノズル。
明図、第２図はノズル開口部の形状を示すド図面である
。 １・・・ロール、２・・・駆動軸、３・・・るつぼ、４
・・・溶融金属、５・・・ノズル、６・・・ノズル開口
部、８・・・表面処理剤押し出し装置、９・・・表面処
理剤、 １０・・・ノズル。
Claims (1)
- 溶融金属を移動する冷却体の表面に噴射し、急冷凝固さ
せて金属薄帯を製造する方法において、前記溶融金属の
噴射に続いて薄帯の表面にペースト状ないしワックス状
表面処理剤を塗布焼き付けることを特徴とする非晶質磁
性金属薄帯の表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18542484A JPS6164885A (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | 非晶質磁性金属薄帯の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18542484A JPS6164885A (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | 非晶質磁性金属薄帯の表面処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6164885A true JPS6164885A (ja) | 1986-04-03 |
| JPH0512434B2 JPH0512434B2 (ja) | 1993-02-18 |
Family
ID=16170545
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18542484A Granted JPS6164885A (ja) | 1984-09-06 | 1984-09-06 | 非晶質磁性金属薄帯の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6164885A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0813153A (ja) * | 1994-06-30 | 1996-01-16 | Korea Advanced Inst Of Sci Technol | 非晶質磁性合金薄帯の絶縁被膜形成方法 |
-
1984
- 1984-09-06 JP JP18542484A patent/JPS6164885A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0813153A (ja) * | 1994-06-30 | 1996-01-16 | Korea Advanced Inst Of Sci Technol | 非晶質磁性合金薄帯の絶縁被膜形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0512434B2 (ja) | 1993-02-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |