JPS616802A - 被膜抵抗体及びその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野： 本発明は、イ気的抵抗体、詳細には、予め定められた抵
抗を呈するためにトリミングすることができる電気的被
膜抵抗体に関する。

従来技術： 構、酸部分の接続をより簡単に得るだめに電子製品のサ
イズを減少させる目的で、電子素子は、屡々板、又は基
板上に形成され、この場合には、むしろ個々の構成部分
として構成されかつ板に配置される。抵抗体は、屡々こ
のような方法で第１に非導電性基板を製造することによ
って形成される。電気的抵抗材料のｔｍ及び少なくとも
２つの導電性端子は、基板に配置される。

電流は、端子間で電気的抵抗被膜を涌じて流れることが
できる。端子間の抵抗水準は、端子間の被膜の物理的形
状寸法によって決定される。

２つの端子の間の被膜の形状寸法は、被膜の選択された
部分を基板から”　トリミング°′又は除去することに
よって屡々変えられる。レーず−は、例えば被膜に”切
り溝”を作るか又は被膜を切り込むために使用すること
ができ、必要に応じて電流のパターンを基板上の被１関
によって変えることができる。

多数の用途、例えば補聴器の場合、抵抗体の製造業者に
は、被膜を基板に塗布した後に端子間の抵抗を連続的に
変えることが要求されている。しかし、この−ような被
膜抵抗体をトリミングするだめの現在有用とされている
多数の方法は、理想的に広範な抵抗範囲にわたってトリ
ミングするのには不適当である、従って、基板及び被膜
のサイズは、どちらかといえば必要以上に大きい。

咀に、一般に入手しうる多数の被膜抵抗体は、抵抗の“
変動”を呈する。従って、被膜抵抗体をトリミングした
後にこの被膜抵抗体が呈する電気抵抗は、例えば常に変
動するか又は種々の周囲温度に４露した結果として変動
しうる。抵抗のこのような不安定性は、被膜抵抗体が組
み込んである′４気的装置の性能を損ないうる。また、
電気的装置の設計は、被膜抵抗体が呈する変動を補償す
るためにどちらかといえば必要以上に大きく複雑でなけ
ればならないかもしれない。

作用； 原理的に見て本発明の目的は、第１端子及び第２端子な
らびに非導電性基板を有する被膜抵抗体である。更に、
この抵抗体は、端子と接触して基板に１布された電気的
抵抗被膜を包含する。

この被膜は、基板上の領域のそれぞれの単位方形に対し
て実質的に予、め定められた抵抗を生じる。また、この
被膜は、予め定められたパターン（例えば、レーデ−に
よって作られた切り溝）で基板から除去することができ
る。

第１端子は、第１電極を包含する。第２１端子は、第２
電極及び第３電極を包含する。ｐ４２′准極は、第１電
極からの第１に予め定められた距離をもって置かれてい
る。

第３電極は、第１心極からの第２に予め定められた距離
をもって置かれ、この第２に予め定められた距離は、第
１に予め定められた距離よりも大きい。それにも拘らず
、・客２電極と第３電極は電気的に相互接続されている
。

従って、端子間の抵抗は、第２１１！極が超質的に第１
電極から電気絶縁されるまで第１１に極と第２電極との
間の４′膜を選択的に除去することによって増大させる
ことができる。その後に、必要に応じて、端子間の抵抗
は、第１電極と第３（極との間の抵抗被膜を選択的に除
去することによってさらに増大させることができる。

他の原理的見地から、本発明の目的は、非導（５）性塙
板に配置されている第１及び第２の端子を有する被膜抵
抗体の製造法である。第１端子は、第１成極を包含する
。第２端子は、電気的に相互接続されている第２電極と
第３′＃Ｌ極を包含する。

成気的抵抗被膜は、６つの開極と妾触するように周板に
塗布される。更に、この被膜は、第１端子と第２端子と
の間の抵抗が連続的に増大しうる桿［にに第１電極と第
２電極との間で基板から除去することができる。

抵抗体に付加的な抵抗を呈することが要求される場合に
は、第２電極が実′ぼ的に第１成極から電気絶縁される
まで被膜の除去は連続される。

その後に、被膜は、第１電極と第３電極との間から除去
される。こうして、第１端子と第２端子との間の抵抗は
、なおさらに増大させることができる。

従って、本発明の対象は、改善された電気的被）莫抵抗
体である。他の対象は、抵抗値の広範な範囲を呈するた
めに連続的にトリミングすることができる小型の被膜抵
抗体である。なお他の対象は、トリミング後に特別の抵
抗値を正確に維持する改善された変動安定性を有する被
膜抵抗体である。

本発明のもう１つの対象は、被１１位低抗体を型造する
だめの改善された方法である。なお他の対象は、抵抗値
の広範な範囲を呈するために連続的にトリミングするこ
とができる小型の彼１摸抵抗体の製造法である。付加的
な対象は、大きい変動安定性を呈する被膜抵抗体の製ｔ
１法である。本発明のとれらの対象、特徴及び利点は、
次の詳細な記載で論じられ、明示されている。

実施例： 次に、本発明の好ましい実施態様を添付図面につき詳説
する。

第１図−第４図によれば、本発明の好ましい実施態様は
、改善された眠気的被膜抵抗体１゜として示される。被
膜抵抗体１０は、厚・漢又は薄膜抵抗体が必要とされる
全ての用途に使用することができる。しかし、本発明に
よる被膜抵抗体１０は、この抵抗体が抵抗値の広範な変
動を示すことができ、物理的に小型であり、かつ優れた
ドリフト特性を提供しなければならない点で大いに有利
であるように使用することができる。従って、例えば被
膜抵抗体１ｏは、補聴器（図示してない）を構成する場
合に太いに有利であるように使用することができる。

第１図は、公知の被膜抵抗体１２を示す。被膜抵抗体１
２は、非導電性基板１４、この非導電性基板に塗布され
た抵抗被膜１６、ならびに第１端子１８及び第２端子２
ｏを包含する。

基板１４は、実質的にそれぞれ２２．　２４゜２６及び
２８で示された、第１、第２、第３及び第４の端縁を有
する矩形を定める６第１図に示した実確例の場合、第１
端縁２２及び第３端縁２６は、それぞれ約３−０５ｃｍ
（約１．２インチ）の長さであり、第２端縁及び第４喘
縁は、それぞれ約２−４１　ｒｙｎ　（約０．９５イン
チ）の長さである。

抵抗被膜１Ｇは、実質的に一定の厚さで基板１４上に塗
布されている。更に、破膜抵抗体１０上での２つの大区
域、すなわちＩｔ、極の間の電気抵抗は、２つの電極の
間の抵抗被膜１６の形状寸法による１つの関数である。

より正確には、抵抗は、実質的に２つの区域の間での抵
抗被膜１６の領域の洟さ及び幅からのみの１つの関数で
ある。従って、例えば２つの電極（図示してない）の間
の抵抗ｗ１．膜１６Ｕ、約０，２５　ｃｒｒＬ（０−１
インチ）の（吏さと、約０．２５１（０，１インチ）の
幅との積によって定められる領域、すなわち方形である
。ｌ抗は、２つの電極の間の領域が約２．５４ｃｍ　（
１−０インチ）の長さと、約２＝５４ＣＴＬ（１，０イ
ンチ）の幅との積によって定められた場合には同じであ
ろう。しかし、特に２つの電極の間の抵抗は、２つの電
極の間の領域が約０−７６儂（０，３インチ）の長さと
、約０．２５ＣｒＩＬ（０，１インチ）の幅との債によ
って定められた場合には６倍になるであろう。

従って、当業者には、２つの電極の間の抵抗は２つの電
極の間の“抵抗被膜の単位方形”又は”方形”′の紋に
よって決定されることが認められる。方形の大きさは、
准極間の抵抗に対して処質的に直接には全く影響を及ぼ
さない。

代数学的用語において、２つの電極の間での抵抗は、１
つの簡単な、場合に次式によって表わすことができる： 但し、Ｒ＝Ωで表わされる、２つの１４極の間の抵抗： ＰＢ−Ω傭で表わされる、抵抗液ｒｇの体漬抵抗率： ｔ＝鑞で表わされる、裾板上での抵抗被膜の厚さ； Ｌ”／ｍで表わされる、２つの電極の間の領域の長さ： Ｗ＝１で表わされる、２つの電・水の闇の幅；及び Ｎ＝２つの成極の間での抵抗被膜の６方形”の数（寸法
なし）。

従って、２つの電極の間の＋ｆｔｆｔ抗抵抗２つの電極
の間の（抵抗材料の）方形の数を増すことによって増大
させることができる。

被膜抵抗体１２の第１＃ａ子１８と第２端子２０は、約
２．５４儂（約１インチ）離れている（第１図）。抵抗
被膜１６の任意１固所を基板１４から選択的に除去する
前に、１．ｔｉｕ、抵抗材料を直接に第１端子１８と、
第２端子２０との間で質流することができる。

第１端子１８と、第２端子２０との間の方形の数、すな
わち電気抵抗は、１ル抗被暎１６を基板１４から予め定
められたパターンで選択的に除去しかつ１つの端子から
他方の−「■子への間暗的なルートをとって電流を“強
剃的に流す”ことによって次第に増大させることができ
る。

従って、例えば抵抗体素子ノトトリミンゲするために特
別に設計された、コンピューター制御されるイツトリウ
ムアルミニウムが−ネット（ＹＡＧ　）又は二酸化炭素
レーデー（図示してない）は、抵抗被膜１６中に切り溝
を作るために使用することができる。しかし、腐蝕トリ
ミングのような他の公知技術も切り溝を作るために使用
することができる。

トリミングは、実質的に基板に影響を及ぼさないが、抵
抗被膜１６の細いストリップを除去する。第１図に示し
たように、第１の切り溝３０は、作ると抵抗被膜１６を
左右の部分３２゜３４に区分することができる− 第１の切り＃３０を作る前には、電流は、実質的に直線
で第１端子１８と、第２端子２０との間を流れることが
できる。しかし、第１の切り溝３０は、電流を４１端子
１８から第２端子２０への移動前に左部分３２に貫流さ
せる。

＄１の切り溝３０を第１４縁２２から第３端縁２６に向
って引くと、第１端子１８と、第２端子２０との間の抵
抗は、次第に増大する。第１図に示したように、第１の
切り溝３０は、被膜抵抗体１２の抵抗を２つの方形（こ
れは、第１図中で点線で拝承しかつ３６及び３８で示し
た。）にわたって増大させる。

前記のように、第１端子１８と、第２端子２０との間の
抵抗は、監視することができ、第１の切り溝３０の切り
込みは、適当な抵抗水準が得られると中断することがで
きる。しかし、被膜抵抗体１２によって示される抵抗が
ｐ４１の切り溝３０を作った後にもなお低すぎる場合に
は１．第２の切り溝４０は、第１の切り溝３０と平行に
作ることができる。第２の切り溝４０は、被膜抵抗体１
２の第３端縁２６から出発することができかつ第１端縁
２２に向って切り込むことができ、したがって電流が第
１端子１８と、第２端子２０との間での移動の際に貫流
するに相違ない抵抗被膜１６の方形の数を増大させる。

第２の切り溝４０を完成させた後に第１端子１８と、第
２端子２０との間で付加的な抵抗がなお必要とされる場
合には、付加的な切り溝４２は、第１及び第２の切り溝
３０．４０に対して前記したのと同じ方法で作ることが
でき・る。

第１図に示した、切り溝の“ジグザグパターンは、当業
界内で公知であり、屡々１サーペンタイン・カット（５
ｅｒｐｅｎｔｉｎｅ　Ｃｕｔ　）″と呼ばれる。

被膜抵抗体が示す（切り溝を切り込んだ後）最大抵抗を
、被膜抵抗体１２が示すＣ全ての切り溝を切り込む前）
最小抵抗で割った比は、屡々６　トリミング比°′と呼
ばれる。従って、トリミング比は、被膜抵抗体が如何に
可変するかの１つの尺度である。使用される特殊な抵抗
被膜の方形当りの抵抗によって増倍されるトリミング比
により、被膜抵抗体によって達成することができる抵抗
値の範囲が得られる。

抵抗材料の方形は約０．０６ＣｒＩＬ（０，０１インチ
）×約０−０５　ｃｍ　（０，０１インチ）未満であっ
てはならないことが観察されるとともに、基板の大きさ
は、第１図に示した“サーペンタイン・カット（５ｅｎ
ｐｅｎｔｉｎｅ　Ｃｕｔ　）　　”により７５：１未満
のトリミング比が得られるということを示唆する。

基板１４を拡大すべき場合には、第１端子１８と第２端
子２０は、さらに距離をおいて置くことができ、付加的
な切り溝は、第１端子１８と、第２端子２０との間に切
ね込むことができた。第１端子１８と第２端子２０をさ
らに距離をおいて置く場合には、全部の切り溝を切り込
む前に第１・端子１８と、第２端子２０との間の抵抗も
増大する。従って、トリミング比（これは、予想される
最大抵抗を予想される最小抵抗で割った比に等しい。）
は、被膜抵抗体１２を長めに配置しかつ第１端子１８と
第２端子２０をさらに距離をおいて置＜１扇合には、比
較的僅かな程度にのみ増大する。

しかし、本発明によれば、被膜抵抗体のトリミング比を
第２図に示した被膜、低杭体１０を使用することによっ
て顕Ｚに増大させることができることを見い出された。

被膜抵抗体１０は、非導電性板、すなわち基板４４上に
形成されている。被膜抵抗体１０は、第１端子４８及び
第２端子５０と一緒に、基板４４に塗布されている１気
的抵抗被膜４６をも包含する。

好ましい実施態様の基板４４は、アルミナ（Ａ１２０３
）からなる。しかし、例えばベリリア（Ｂｏｏ　）　、
すなわちガラスのような他の物質も基板１２を構成する
ために使用することができる。基板４４は、第１、第２
、第３及び第４の端縁５２，５４，５６．．５８を有す
る矩形を定める。第１端縁５２及び第３端縁５６は、そ
れぞれ約３．４３ｃＩｒＬ（約１．３５インチ）の長さ
であり、第２端縁５４及び第４端縁５８は、それぞれ約
２．４１ｍ（約０．９５インチ）の長さである。

（特に、４１図を含めて示された全図面は、説明のため
に描いたもので実際の寸法とは異なる。）本発明による
被膜抵抗体１０は、厚膜被膜抵抗体としても薄膜被膜抵
抗体とし、でも使用することができる。しかし、本発明
による好ましい実施態様の場合、抵抗被膜４６は、゛薄
膜”の変形である。従って、抵抗被膜４６は、例えば酸
化ルテニウムのような材料からなシ、基板４４上の抵抗
被膜４６のそれぞれの単位方形に対して予め定められた
４ｔ２を抵抗を生じる。抵抗被膜４６の１つの層は、少
なくとも１０μの厚さで基板４４に塗布され、乾燥され
、次に７５００Ｃ〜１０００°Ｃの温度の空気中で焼成
される。

次に、基板４４上の抵抗被膜４６は、１つの方形当り約
５００Ωの抵抗を生じる。

第１端子４８は、第１電極６０をＩに気的装置（図示し
てない）内の他の構成ｔ１１１分と相弘接続させる組合
されたハードウェアと一緒に第１′ｌｔ極６０を包含す
る。第１端子４８は、表板４４に結合し、かつ抵抗被膜
４６と［電気的に接続している。

しかし、第２端子５０は、第２？１を極６゛２及び第３
電極６４、ならびに第２及び・１３の電極６２．６４を
電気的に相互接続するための導体６６を包含する。第２
瑞子５０は、勿論、ｌ官２及び第３の電極６２，６４を
１程気的装置（図示してない）内の他の構成部分と相互
接続させる組合されたハードウェアをも包含する１、第
１電極６０及び第２電極６２ば、それらの間の抵抗被膜
４６の第１領域塗布と一緒に、それぞれ互いに約０＝０
５ｃｍ（約０．０２インチ）の距離を粋いてｉｉＱ板４
板上４上置している８しかし、第３電極６４は、第１電
極６０と、第３電極６４との間の第２領域７０と一緒に
、第１電極６０から約２．１６／−ｍ、（約０．８５イ
ンチ）の距離をもっている。

最初に、全部の切り溝を作る前に、第１端子４８と、第
２端子５０との間の全抵抗は、実質的に第１電極６０と
、第２覗極６２との間の第１領域塗布中の抵抗被膜４６
によって得られる。

前記と同様に、第１瑞子４８と、第２端子５０との間の
抵抗は監視され、付加的な抵抗を所望する暢今にｌは、
切り溝を抵抗被膜４６中に切り込むことができる。第１
瑞子４８と、第２端子５０との間の所望される水準が得
られたら直ちに切り溝のりノり込みは中断する。

第１部分７４及び第１部分７４分有・する第１切り溝７
２は、抵抗被膜４６の第１領域塗布中に切り込むことが
できる。第１切り溝７２の第１部分７４は、実質的に第
１電以６０と、第２戒極６２との間の中心で切り込まれ
る。第１切り溝７２の第１部分７４は、切り溝７２が第
１及び第２の電極６０．６２から約０．０３−Ｔｎ（約
０．０１インチ）の距離をもって曲り点７８に到達する
と中断される。第１切り溝１２の第２部分７６は、曲り
点７８から出発し、かつ第２端縁５４に向って拡がる。

前記と同様に、第１端子４８と、第２端子５０との間の
抵抗は、第１切り溝７２を作るにつれて次第に増大する
。第１切り溝７２の第２部分７６が第２端縁５４に接近
すると、第２′眠極６２は、第１端子４８と電気絶縁さ
れる。しかし、爾１端子４８からの電流の大部分は、そ
の代りに第３電極６４に流れ込む。

第２図に示したように、第１切り溝７２の第２、！Ａ分
は、それが第２端縁５４に約０．０６儒（０，０１イン
チ）以上の距離をもって接近するようにして中断される
。更に、第１切り溝７２は、実質的に基板を上部領域８
０と下部領域８２に分割した。被膜抵抗体１０になおさ
らに抵抗を示すことが要求される場合には、第２図に示
したように、付加的な切り溝を上部領域８０中に切り込
むことができる。

従って、第２切り溝８４は、基板４４上の抵抗被膜４６
の上部領域８０中に切り込むことができる。第２切り溝
８４は、曲り点γ８から出発し、かつ第３瑞縁５６に向
って拡がる。

４２切り溝８４は、第３端縁５６から少なくとも約０．
０５１１（０，０１インチ）の距離をおいて終る。第２
切り溝８４が第３端縁５６に到達したとすれば、４１端
子４８は、第２端子５０と電気絶縁され、実際に被膜抵
抗体１０の有用性が無視されることになるであろう。

本犠明によれば、第２切り溝８４は第３瑞縁５６から約
０．０３　ｃｒｒＬ（０−０１インチ）以上の距離をお
いて切り込むべきであることが観察される。そうでなけ
れば、被膜抵抗体１０が呈する抵抗は、最初、処理中及
びその後を通じて変化又は変軸しうる。

レーデ−（図示してない）により任意の切り溝を設ける
場合、マイクロクラック（図示してない）は、切り溝の
周辺で抵抗被膜４６中に生じうる。従って、第２切り溝
８４が実質的に第３端縁５６に約０．０３　／ＭＬ（０
，０１インチ）よゆも接近して拡がる場合には、マイク
ロクラックは、切り溝８４と、第３端縁５６との間に拡
がりうる。このようなマイクロクラックは、実質的に千
切できない方法で被膜抵抗体１０の抵抗を重大にも変え
うる。

必要な場合には、第３の切り溝８６は、第２切り溝８４
と平行に切り込むことができる。第３切シ溝８６は、第
２切り溝８４から約０．０３６ｒｒＬ（約０．０１イン
チ）の距離をもっている。第３切り溝８６は、基板４４
の第３４縁５６から出発し、かつ第１端縁５２に向って
拡がる、第３切り溝８６は、第１切り溝７２の第２ｆＡ
分から少なくとも約０．０３Ｃｒ／Ｌ（０，０１インチ
）の距離をおいて終る。

本発明によれば、第３切り溝８６は第１又は第２切り溝
７２．８４から約０−０３　ａｍ　（０，０１インチ）
以上の距離をもって設けなければならないことが観察さ
れた。そうでなければ、第１切り溝７２と、第３切り溝
８６との間又は第２切り溝８４と、第３切り溝８６との
間の抵抗被膜４２中のマイクロクラックは、被膜抵抗体
１０が呈する抵抗の実質的に予想できない変動を惹起し
うる。

付加的な切り溝８７は、第２切り溝８４及び第３切り溝
８，６に対して前記したのと同様の方法で抵抗被膜４６
の上部領域８０中に切り込むことができる６第２図に示
した被！漠抵抗体１０を１吏用して、１７０：１を越え
るトリミング比を得た。従って、本発明による被膜抵抗
体１０は、顕著に高いトリミング比を示ｊ〜、かつ予想
しうる値の高い範囲を生じる。

更に、切り溝は、基板４４の端縁５２〜５８又は他の切
り溝から約０．０３ｃＩｒＬ（約０．０１インチ）以上
の距離をおいて切り込まれているので、マイクロクラッ
クは、被膜抵抗体１０が呈する抵抗に対して殆んど影響
を及ぼさない。従って、被膜抵抗体１０は、それが呈す
る抵抗値の”シフト”に対して改善された安定性を生じ
る。

被膜抵抗体１０の第１電極６０と第２市極６２は比較的
に接近しているので、第１端子４８と、第２端子５０と
の間で呈する最小抵抗（任意の切り溝を切り込む前）は
、むしろ低い。

しかし、切り溝は、第２覗極６２が第１１に極うな程度
に抵抗被膜４６中に切り込むことができる。

第２′＋４！極６２が実質的に電気的に絶縁された後、
第１膚極６０からの大部分の１流は、第３電極６４に流
れ込む。しかし、１２＋ｔｔ４６２と第３電１血６４は
、電気的に相互接続されているので、第２電極６２を次
第に絶縁することは、被膜抵抗体１０の心気的性質を利
用又は監視する他のｄ気的構成部分からははっきり知る
ことができない。

第３電極６４は、第２電極６２の場合よりも第１′磯極
６０から遥かに；碓れて置かれている。

従って、＃Ｊ１端子４８と、第２端子５０との間の抵抗
は、第１電極６０と、第３電極６４との間に切り溝を切
り込むことによってさらに増大させることができる。

特に、基板４４、抵抗被膜４６及び端子４８゜５０の種
々の配置は、本発明の異なる実砲態様に入れることがで
きる。従って、第３図に示しだ好ましい実線態様の場合
には、基板９０、抵抗被膜９２、ならびに第１端子９４
及び第２端子９６を有する被膜抵抗体８８が示されてい
る。

前記と同様に、基板９０は、第１、第２、第３及び第４
の端縁９８，１００．１０２．１０４を有する矩形を定
める。更に、第１端縁９８及び＠３端縁１０２は、それ
ぞれ約６．４３傭（約１．６５インチ）の浸さてあり、
第２端縁１００及び第４端縁１０４は、それぞれ約２．
４１ｃｒｒＬ（約０．９５インチ）の長さである。

第１端子９４は、第１電極１０６を包含し、第２端子９
６は、導体１１２を介して電気的に相互接続されている
第２及び第３の電極１０８゜１１０を包含する。また、
前記と同様に、第３電極１１０は、第２電極１０８の嚇
合よりも第１電極１０６から遥かに離れて置かれている
。

しかし、被膜抵抗体８８の全電極１０８〜１１０は、約
２．５４ＣｒｆＬ（約１インチ）の長さである。従って
、第１切り溝１１４は、第１、第２及び第３の曲り点１
２４，１２６．１２８によってそれぞれ分けられた第１
、第２、第３及び第４の部分１１６，１１８，１２０．
１２２を包含する抵抗被膜９２中に切り込むことができ
る。

第１切り溝１１４の第１部分は、基板９０の第１端縁９
８から第３端縁１０２に向って拡がる。第１部分１１６
は、第１の曲り点１２４で終り、この第１の曲り点は、
第１端縁９８から約０．２８ｃＩｒＬ（約０．１１イン
チ）の距離をおいて位置している。第１切り溝１１４の
第２部分１１８は、それが第２の曲り点１２６に到達す
るまで第１の曲り点１２４から第２４縁１００に向って
拡がる。第３部分１２０は、第２の曲り点１２６から第
１端縁９８に向って拡がり、かつ第１端縁９８から約０
．０３ｃｍ（約０．０１インチ）の距離をもって終る。

第３の曲り点１２８は、第１端縁９８から約０．０３６
ｒＩＬ（約０．０１インチ）の距離をもっており、第１
切り溝１１４の第４部分１２２は、第３の曲り点から第
２＝、［１００に向って拡がる。

第４部分１２２は、第２電極１０８が実質的に第１電極
１０６から完全に電気絶縁されるような程度に第３電極
１１０に接触する。しかしながら、電流は、第１直極１
０６と、第３電極１１０との間をなお流れることができ
る。第１切り溝１１４は、前記と同様に、被膜抵抗体８
８を上部領域１３０と下部領域１３２とに分割し、付加
的な切り溝１３４は、必要に応じて抵抗被膜９２中に切
り込むことができる。第３図、珍魚。

本発明による形成のなお他の実施態様は、第４図に示さ
れている。基板１３８、抵抗被膜１４０、ならびに第１
端子１４２及び第２端子１４４を有する被膜抵抗体１３
６が示しである。

しかし、第２図に示した基板４４とは異なり、基板１３
８は、不規則な形状を有する。それにも拘らず、第４図
に示した被膜抵抗体１３６の製造及び使用に関する基本
的な原理は、第２図に示した被膜抵抗体１０に関するも
のと同じである。

第１端子１４２は第１′「に極１４６を包含する。

第２端子１４４は、−気的に４ｎ互１８続している第２
及び第３の成極１４８，１５０全包含する。

第１屈ポ１４６と第２゛藏極１４８は、それぞれ互いに
接近しており、第１切り溝１５２は、増大させる（抵抗
被膜１４０の方形の数を増大させる）。

しかし、第４図の被膜抵抗体１３６の場合には、第２図
ね被膜抵抗体１０とは異なり、渠１切り溝１５２は、そ
れが実質的に４Ｚ２１Ｍ、極１４８を第１電極１４６か
ら完全に１４気絶縁するまで拡がる。更に、第１切り＠
１５２は、被膜抵抗体１３６を上部領域１５４と下部領
域１５６とに分割し、前記と同様に、付加的な切妙溝１
５８は、上部領域１５４中に切り込むことができ、第１
成礪１４６．！：、第、３電極１５０との間の抵抗、ひ
いては＄Ｊ１・端子１４２と、第２端子１４４との間の
抵抗を増大させる。

本発明の好ましい実施嘘様は、前記したものである。し
かし、変更及び変更態様は、本発明の真正の範囲及び精
神から逸５況することなしに構成することができる。従
って、例えば本発明は、被膜抵抗体１０を製造するため
に使用される工程順序又は材料が先に記載したものと異
なっていてもなお使用することができる。本発明の真正
の範囲及び精神は、先行する明細書に徴して理解するこ
とができる、特許請求の範囲の記載によって限定される
。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明よりも先に一般に使用されている心気
的被膜抵抗体の略示乎面図、第２図は、第１図に示した
電気的被膜抵抗体とは区別される、磁気的波膜砥抗体の
１つの好ましい実施嶺様を示す略示平面図、第３図は、
第２図に示した実施！環様の場合よりも遥かに基板中に
拡がる４を卓を示す、本発明の第２の好ましい実施態様
を示す略示・ト面図、かつ第４図は、第２図に示した実
楕＋ｍ様の場合よりも不規則な形状を有する基板を示す
、本発明の第３の好ましい実施態様を示す略示平面図で
ある。 １２．１０，８８，１３６・・・被膜抵抗体、１４．４
４，９０．１３８・・・非導電性基板、１６．４６．９
２．１４０・・・電気的抵抗被膜、１８．４８，９４，
１４２・・・第１端子、２０゜５０．９６．１４４・・
・第２端子、３６．３８・・・単位方形、６０，１０６
．１４６・・・第１′成極、６２．１０８．１４８・・
・第２電極、６４，１１０゜１５０・・・第３電極 Ｚｏ、　！ｉ　ｏ、　’ｉ６．１４４−　Ｖ　Ｚ　論）
手続補正、書（自発） 昭和６０年６　月１３日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、被膜抵抗体において、 非導電性基板； この基板に塗布された、領域のそれぞれの 単位方形に対して実質的に予め定められた電気抵抗を生
   じかつ予め定められたパターンで基板から選択的に除去
   することができる電気的抵抗被膜； この抵抗被膜と接触して基板に塗布された、第１電極を
   包含する第１端子；及び 抵抗被膜と接触して基板に塗布された第２ 端子からなり、 この第２端子が 第１電極と、抵抗被膜に接触して基板に塗 布された第２電極との間の電気抵抗が予め定められたパ
   ターンで抵抗被膜を基板から選択的に除去することによ
   つて増大することができるような、第１電極からの第１
   に予め定められた距離をもつて置かれた第２電極及び 第１に予め定められた距離よりも大きい第 １電極からの第２に予め定められた距離をもつて置かれ
   た、第２電極と電気的に相互接続している、抵抗材料と
   接触して基板に塗布された第３電極を包含し、 その際抵抗被膜は、第２電極が実質的に第 １電極から電気的に絶縁されるまで第１電極と第２電極
   との間で基板から選択的に除去することができ、その後
   に第１端子と第２端子との間の抵抗は、予め定められた
   パターンで第１電極と第３電極との間で基板から抵抗被
   膜を選択的に除去することによつてさらに増大させるこ
   とができることを特徴とする、被膜抵抗体。 ２、第１端子及び第２端子を有する被膜抵抗体の製造法
   において、 第１電極を非導電性基板に配置し、その際 第１電極は第１端子を限定し； 第２電極を基板に第１電極からの第１に予 め定められた距離をもつて配置し； 第３電極を基板に第１電極からの第２に予 め定められた距離をもつて配置し、その際第２に予め定
   められた距離は、第１に予め定められた距離よりも大き
   く、第２電極と第３電極は、電気的に相互接続されかつ
   協力し合つて第２端子を形成し； 電気的抵抗被膜を非導電性基板に塗布し、 この場合この抵抗被膜は、第１、第２及び第３の電極と
   接触しており； 予め定められたパターンで抵抗被膜を基板 から第１電極と第２電極との間で選択的に除去し、それ
   によつて第１端子と第２端子との間の電気抵抗を、第２
   電極が実質的に第１電極から電気絶縁されるまで次第に
   増大させ；予め定められたパターンで抵抗被膜を基板 から第１電極と第３電極との間で選択的に除去し、それ
   によつて第１端子と第２端子との間の電気抵抗をさらに
   連続的に増大させることを特徴とする、被膜抵抗体の製
   造法。 ６、第１端子及び第２端子を有する被膜抵抗体の製造法
   において、第１端子と第２端子との間の電気抵抗を監視
   し、予め定められたパターンでの基板からの抵抗被膜の
   選択的な除去を、第１端子と第２端子との間の電気抵抗
   が予め定められた水準に達したときに中断することを特
   徴とする、被膜抵抗体の製造法。