JPS616817A - シ−トコイルの製造方法 - Google Patents
シ−トコイルの製造方法Info
- Publication number
- JPS616817A JPS616817A JP59126974A JP12697484A JPS616817A JP S616817 A JPS616817 A JP S616817A JP 59126974 A JP59126974 A JP 59126974A JP 12697484 A JP12697484 A JP 12697484A JP S616817 A JPS616817 A JP S616817A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- metal layer
- etching
- base material
- photosensitive material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F5/00—Coils
- H01F5/003—Printed circuit coils
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/16—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistors, capacitors or inductors
- H05K1/165—Printed circuits incorporating printed electric components, e.g. printed resistors, capacitors or inductors incorporating printed inductors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/05—Patterning and lithography; Masks; Details of resist
- H05K2203/0562—Details of resist
- H05K2203/0571—Dual purpose resist, e.g. etch resist used as solder resist, solder resist used as plating resist
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/05—Patterning and lithography; Masks; Details of resist
- H05K2203/0562—Details of resist
- H05K2203/0597—Resist applied over the edges or sides of conductors, e.g. for protection during etching or plating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/11—Treatments characterised by their effect, e.g. heating, cooling, roughening
- H05K2203/1184—Underetching, e.g. etching of substrate under conductors or etching of conductor under dielectrics; Means for allowing or controlling underetching
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
- H05K3/061—Etching masks
- H05K3/064—Photoresists
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/20—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by affixing prefabricated conductor pattern
- H05K3/202—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern by affixing prefabricated conductor pattern using self-supporting metal foil pattern
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/24—Reinforcing of the conductive pattern
- H05K3/244—Finish plating of conductors, especially of copper conductors, e.g. for pads or lands
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
従来、コイルを製造する方法としては、巻き線方式が多
用されてきた。しかしながら、この方法で製造されるコ
イルについては導体の占有率が低いため、小型化、薄型
化することが困難であり、かつ組立て精度に問題がある
ため、このコイルを使用して製造されるモーターの回転
精度を上げるには限界があった。
用されてきた。しかしながら、この方法で製造されるコ
イルについては導体の占有率が低いため、小型化、薄型
化することが困難であり、かつ組立て精度に問題がある
ため、このコイルを使用して製造されるモーターの回転
精度を上げるには限界があった。
また、銅箔を厚料として、フォトエツチング法によりシ
ートコイルを製造する方法も知られているか、この方法
に゛よれば、一般にコイルの導体間の間隔は、コイルの
導体厚の2倍以上となり、導体の占有率が高い精密コイ
ルを製造するKはやはり限界があった。
ートコイルを製造する方法も知られているか、この方法
に゛よれば、一般にコイルの導体間の間隔は、コイルの
導体厚の2倍以上となり、導体の占有率が高い精密コイ
ルを製造するKはやはり限界があった。
更にフォトエツチング法を利用した別の方法としては、
エツチングを行ない、次に感光レジストを剥離し、金属
メッキを析出する方法かあるが)この方法では金属の析
出は導体ギャップを狭めると同時に導体厚を厚(してし
まい、積層後シートコイルとしての駆動力が低下する一
方、析出厚が平滑でない為、表面凹凸が増加し、積層後
上下シート間のリークの問題が多発するという問題があ
った。
エツチングを行ない、次に感光レジストを剥離し、金属
メッキを析出する方法かあるが)この方法では金属の析
出は導体ギャップを狭めると同時に導体厚を厚(してし
まい、積層後シートコイルとしての駆動力が低下する一
方、析出厚が平滑でない為、表面凹凸が増加し、積層後
上下シート間のリークの問題が多発するという問題があ
った。
更ニ、フォトエツチング法を応用したフォトエレクトロ
フォーミング法によりシートコイルを製造する方法も知
られて(・る。このフォトエレクトロフオーミング法に
よるシートコイルの製造に於(・ては、絶縁基材上に金
属層を積層したベース材料を使用し、その上に渦巻き状
の凹部を有する感光性+tJ脂パターンを形成し、この
凹部内にメッキにより金属メッキ層を析出させ、次いで
感光性樹脂パターンを除去し、感光性樹脂パターンで覆
われていた部分の絶縁性基材上の金屑層をエツチング除
去することによりシートコイルを製造するのが一般的で
あった。しかしながら、この方法によれば、エツチング
除去すべき金属層とシートコイルの導体の主体となる金
属メッキ層とが同じ材質であるため、このエツチング工
程で金属層のみならず金属メッキ層もほぼ均等にエツチ
ング除去されることから、導体厚、導体幅の精度を維持
することは難かしく、精密シートコイルを製造するには
やはり限界があった。
フォーミング法によりシートコイルを製造する方法も知
られて(・る。このフォトエレクトロフオーミング法に
よるシートコイルの製造に於(・ては、絶縁基材上に金
属層を積層したベース材料を使用し、その上に渦巻き状
の凹部を有する感光性+tJ脂パターンを形成し、この
凹部内にメッキにより金属メッキ層を析出させ、次いで
感光性樹脂パターンを除去し、感光性樹脂パターンで覆
われていた部分の絶縁性基材上の金屑層をエツチング除
去することによりシートコイルを製造するのが一般的で
あった。しかしながら、この方法によれば、エツチング
除去すべき金属層とシートコイルの導体の主体となる金
属メッキ層とが同じ材質であるため、このエツチング工
程で金属層のみならず金属メッキ層もほぼ均等にエツチ
ング除去されることから、導体厚、導体幅の精度を維持
することは難かしく、精密シートコイルを製造するには
やはり限界があった。
而して本発明は、導体幅の精度を高めると共に、導体間
隔を狭めて導体占有率の高く、また導体厚精度が良好な
ノートコイルの製造方法を提供することを主たる目的と
する。
隔を狭めて導体占有率の高く、また導体厚精度が良好な
ノートコイルの製造方法を提供することを主たる目的と
する。
本発明によるシートコイルの製造方法は、絶縁性基板上
に金属層を積層してなるベース材上に感光性材料を用い
てパターンを形成後、感光性材料で被覆されていない金
属層をエツチング除去し、次いで感光材料を残した状態
で金屑メッキ処理を施して金属層のエツチング幅を狭め
ることを特徴−とするものである。
に金属層を積層してなるベース材上に感光性材料を用い
てパターンを形成後、感光性材料で被覆されていない金
属層をエツチング除去し、次いで感光材料を残した状態
で金屑メッキ処理を施して金属層のエツチング幅を狭め
ることを特徴−とするものである。
本発明によるシートコイルの製造方法の基本的な構造工
程は第1図〜第6図に示される。
程は第1図〜第6図に示される。
第1図は、パターンの形成工程を示すものであり、絶縁
基材1上に銅箔などの金属層2が形成されているペース
材上に感光性材料を用いて、渦巻き状などの所定パター
ン5を形成した状態のNiC面を示している。
基材1上に銅箔などの金属層2が形成されているペース
材上に感光性材料を用いて、渦巻き状などの所定パター
ン5を形成した状態のNiC面を示している。
第2図は、感光性材料で被覆されていない部分の金属層
2をエツチング除去する工程を示すものであり、金属層
がサイドエツチングされている状態の断面を示す。第6
図は金属メッキ処理によりサイドエツチングされた部分
に金属を析出させて補修金属部4を形成させる工程を示
している。このようにして、サイドエツチングにより溶
解された感光性材料下部の金属層を補修析出する事によ
り導体間隙を狭め導体占有率の高くかつ導体厚が精度良
く維持されたシートコイルが製造できるものである。
2をエツチング除去する工程を示すものであり、金属層
がサイドエツチングされている状態の断面を示す。第6
図は金属メッキ処理によりサイドエツチングされた部分
に金属を析出させて補修金属部4を形成させる工程を示
している。このようにして、サイドエツチングにより溶
解された感光性材料下部の金属層を補修析出する事によ
り導体間隙を狭め導体占有率の高くかつ導体厚が精度良
く維持されたシートコイルが製造できるものである。
本発明のシートコイルを構成する絶縁性基拐としては、
例えばアクリル系、ポリアミド系、ポリエステル系等の
熱可塑性樹脂又はフェノール系、エポキシ系、ポリイミ
ド系等の熱硬化性樹脂からなるフィルム若しくは、板を
挙げる事ができ、できるだけ絶縁性の優れたものである
事が好ましい。
例えばアクリル系、ポリアミド系、ポリエステル系等の
熱可塑性樹脂又はフェノール系、エポキシ系、ポリイミ
ド系等の熱硬化性樹脂からなるフィルム若しくは、板を
挙げる事ができ、できるだけ絶縁性の優れたものである
事が好ましい。
また絶縁性基材の厚さはできるだけ薄いものである事が
好ましく2〜100μn]程度のものが望ましい。
好ましく2〜100μn]程度のものが望ましい。
本発明のシートコイルの製造方法に於いては上記絶縁性
基材はその上に金属層を積層し、ベース材料としてシー
トコイルの製造に供される。この金属層の厚さは要求さ
れるシートコイルの特性により決まるものであり、実用
的には5μ以上である。
基材はその上に金属層を積層し、ベース材料としてシー
トコイルの製造に供される。この金属層の厚さは要求さ
れるシートコイルの特性により決まるものであり、実用
的には5μ以上である。
このようなペース材料上にシートコイルとして例えば渦
巻き状導体を形成するには、感光性樹脂の未露光皮膜を
基板上に積層する。感光性樹脂皮膜としては液体レジス
ト、ドライフィルムどちらでも使用できるが、次工程の
エツチング・金属メッキ時に於て薄いと感光性皮膜が割
れ又はクラックが発生し感光性皮膜を乗り越えて銅が析
出してしまい、シートコイル多層積層時にショート、平
面性低下等の不都合が生ずる為、皮膜厚さは2μ以上、
または2.5μ以上が望ましい。
巻き状導体を形成するには、感光性樹脂の未露光皮膜を
基板上に積層する。感光性樹脂皮膜としては液体レジス
ト、ドライフィルムどちらでも使用できるが、次工程の
エツチング・金属メッキ時に於て薄いと感光性皮膜が割
れ又はクラックが発生し感光性皮膜を乗り越えて銅が析
出してしまい、シートコイル多層積層時にショート、平
面性低下等の不都合が生ずる為、皮膜厚さは2μ以上、
または2.5μ以上が望ましい。
使用する感光性材料はドライフィルムではデュポン社製
のT1010(25μ厚)、旭化成社與のDFR25(
25μ厚)、液体レジストでは東京応化社製のOMR−
83,コダック社製の747(いずれも商品名)等を挙
げる事が出来る。
のT1010(25μ厚)、旭化成社與のDFR25(
25μ厚)、液体レジストでは東京応化社製のOMR−
83,コダック社製の747(いずれも商品名)等を挙
げる事が出来る。
次に感光性樹脂皮膜に対してマスクを介在し、露光し、
所定の液にて現像する。その後、金属層をエツチングす
るが、エツチング方式はスプレ一方式がパターン精度を
向上するには望ましく、エツチング液は市販の塩化第二
鉄又はアンモニアアルカリエツチャント、塩化第2銅液
等を用いることが出来る。
所定の液にて現像する。その後、金属層をエツチングす
るが、エツチング方式はスプレ一方式がパターン精度を
向上するには望ましく、エツチング液は市販の塩化第二
鉄又はアンモニアアルカリエツチャント、塩化第2銅液
等を用いることが出来る。
その後上記感光性材料からなるパターンを残したままで
基月をメッキ法を用いて、サイドエツチングにより溶解
除去された金属を、必要厚さ迄析出補修する。この際析
出金属の最大厚さは、サイドエツチングにより溶解され
た厚さ迄が望ましい。
基月をメッキ法を用いて、サイドエツチングにより溶解
除去された金属を、必要厚さ迄析出補修する。この際析
出金属の最大厚さは、サイドエツチングにより溶解され
た厚さ迄が望ましい。
もつとも、析出金属表面の平滑さを損なわない程度であ
れば、ギヤラグが接触する直前まで可能である。
れば、ギヤラグが接触する直前まで可能である。
しかし、感光性材料よりはみ出して盛り上って析出を始
めた場合、シートコイル層を多層に積層して使用すると
き、層間のショート等の問題を生ずる原因になる場合も
ある。金属メッキ液としては、硫酸鋼、ビロリン酸銅、
シアン化銅等が使用できる。金属メッキ111 メッキ
液に浸漬して行ってもよいが、メッキ液を噴流させて行
うのが、金属の析出速度の点で有効である。噴流状態を
得るに(1、ポンプ、モーターUt拌、エヤー超音波等
が使用されるが、噴流状態が強力である程析出を高速で
行う事が出来経済性の点からいって望ましい。
めた場合、シートコイル層を多層に積層して使用すると
き、層間のショート等の問題を生ずる原因になる場合も
ある。金属メッキ液としては、硫酸鋼、ビロリン酸銅、
シアン化銅等が使用できる。金属メッキ111 メッキ
液に浸漬して行ってもよいが、メッキ液を噴流させて行
うのが、金属の析出速度の点で有効である。噴流状態を
得るに(1、ポンプ、モーターUt拌、エヤー超音波等
が使用されるが、噴流状態が強力である程析出を高速で
行う事が出来経済性の点からいって望ましい。
以上本発明のシートコイル製造方法により簡便な手段に
より従来技術に比して渦巻き状導体厚、導体幅の精度を
精密に維持した高い信頼性を有するシートコイルを製造
する事が可能である。
より従来技術に比して渦巻き状導体厚、導体幅の精度を
精密に維持した高い信頼性を有するシートコイルを製造
する事が可能である。
また、金属層および金属メッキの金属としては、銅、ア
ルミ、ニッケル、銀、金など、任意の金属を用いること
ができる。
ルミ、ニッケル、銀、金など、任意の金属を用いること
ができる。
以下本発明を実施例に従ってより具体的に説明する。
実施例−1
厚さ20μmの接着剤付きポリエステルフィルム上に7
0μの銅箔を加熱圧着により接着してペース材料となし
、この上に東京応化社製の液体レジストOMR−83(
商品名)粘度450CPをスピンナーを用いて5μの感
光層を′形成し、次いで渦巻き状のパターンを有するマ
スクを用いて露光し、現像液(東京応化社製OMI’t
・現像液)にてスプレー現像し、銅露出部50μ、感光
層被覆部400μのパターンが作成された。次にスプレ
一方式によす什]エツチング液(上相工業社製、商品名
:アルファイン)を用いてエツチング処理をした。この
エツチングによるサイドエツチングの為I感光層下片(
1i’1100μ鋼が溶解した。
0μの銅箔を加熱圧着により接着してペース材料となし
、この上に東京応化社製の液体レジストOMR−83(
商品名)粘度450CPをスピンナーを用いて5μの感
光層を′形成し、次いで渦巻き状のパターンを有するマ
スクを用いて露光し、現像液(東京応化社製OMI’t
・現像液)にてスプレー現像し、銅露出部50μ、感光
層被覆部400μのパターンが作成された。次にスプレ
一方式によす什]エツチング液(上相工業社製、商品名
:アルファイン)を用いてエツチング処理をした。この
エツチングによるサイドエツチングの為I感光層下片(
1i’1100μ鋼が溶解した。
次にポンプ1て強制用(Af、をしている銅メッキ液(
■i↓jll・°1η」桑丁¥E′f]!11ハ商品名
:ルチナ81)で2() A/dm、5分間メッキを行
ないW)光層下片側90μの銅を析出さしす、70μの
銅厚、7oギヤツプのシートコイルを形成することがで
きた。
■i↓jll・°1η」桑丁¥E′f]!11ハ商品名
:ルチナ81)で2() A/dm、5分間メッキを行
ないW)光層下片側90μの銅を析出さしす、70μの
銅厚、7oギヤツプのシートコイルを形成することがで
きた。
実施例−2
厚さ10ノ+mの接着剤付きポリアミドフィルム上に厚
さ140μの銅箔を加熱圧着により接着してペース材料
となし、この上にデュポン社製のドライフィルムT10
10(商品名)をラミネーターにより感光層形成し、次
いで渦巻き状のパターンを治するマスクを用いて露光し
、現像液(トリクレン)にてスプレー現像し、銅露出部
50μ、感光層下片側500μのパターンが作成された
。
さ140μの銅箔を加熱圧着により接着してペース材料
となし、この上にデュポン社製のドライフィルムT10
10(商品名)をラミネーターにより感光層形成し、次
いで渦巻き状のパターンを治するマスクを用いて露光し
、現像液(トリクレン)にてスプレー現像し、銅露出部
50μ、感光層下片側500μのパターンが作成された
。
次にスプレ一方式によシ銅エツチング(塩化第2゜銅の
エツチング液)を行った。エツチングにょるサイドエツ
チングの為、感光層F片側150μ銅が溶解した。次に
超音波で強制噴流をしている銅メッキ液(上材工業社製
、商品名:スルカッグAC)で1[IA/dm で2
0分間メッキを行ない感光層下片側120μの銅を析出
させ、140μの銅厚、110μギヤツプのシートコイ
ルを形成することができた。
エツチング液)を行った。エツチングにょるサイドエツ
チングの為、感光層F片側150μ銅が溶解した。次に
超音波で強制噴流をしている銅メッキ液(上材工業社製
、商品名:スルカッグAC)で1[IA/dm で2
0分間メッキを行ない感光層下片側120μの銅を析出
させ、140μの銅厚、110μギヤツプのシートコイ
ルを形成することができた。
第1図は金属上に感光性相料からなるパターンを形成さ
せたものの断面図である。 嬉2図はエツチングにより金属層がサイドエツチングさ
れた状態の断面図である。 第6図は金属メッキによりサイドエツチング部分が補修
された状態の断面図である。 1・・・絶縁基材 2・・・金属層 6・・・パターン 4・・・金属部
せたものの断面図である。 嬉2図はエツチングにより金属層がサイドエツチングさ
れた状態の断面図である。 第6図は金属メッキによりサイドエツチング部分が補修
された状態の断面図である。 1・・・絶縁基材 2・・・金属層 6・・・パターン 4・・・金属部
Claims (2)
- (1)絶縁性基板上に金属層を積層してなるベース材上
に感光性材料を用いてパターンを形成後、感光性材料で
被覆されていない金属層をエッチング除去し、次いで感
光材料を残した状態で金属メッキ処理を施して金属層の
エッチング幅を狭めることを特徴とするシートコイルの
製造方法。 - (2)金属メッキ処理をメッキ液を噴流させて行う特許
請求の範囲第1項記載のシートコイルの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59126974A JPS616817A (ja) | 1984-06-20 | 1984-06-20 | シ−トコイルの製造方法 |
| US06/745,625 US4709221A (en) | 1984-06-20 | 1985-06-17 | Sheet coil |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59126974A JPS616817A (ja) | 1984-06-20 | 1984-06-20 | シ−トコイルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS616817A true JPS616817A (ja) | 1986-01-13 |
Family
ID=14948501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59126974A Pending JPS616817A (ja) | 1984-06-20 | 1984-06-20 | シ−トコイルの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4709221A (ja) |
| JP (1) | JPS616817A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE68925171T2 (de) | 1988-09-30 | 1996-06-05 | Toshiba Kawasaki Kk | Planar-Induktivität |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54155473A (en) * | 1978-05-29 | 1979-12-07 | Hitachi Electronics | Method of plating printed circuit board |
| JPS58137908A (ja) * | 1982-02-09 | 1983-08-16 | 富士通株式会社 | 透明電極の形成方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4005452A (en) * | 1974-11-15 | 1977-01-25 | International Telephone And Telegraph Corporation | Method for providing electrical isolating material in selected regions of a semiconductive material and the product produced thereby |
| JPS5219759A (en) * | 1975-08-08 | 1977-02-15 | Kubota Ltd | Injection molding machine |
| JPS5678342A (en) * | 1979-11-26 | 1981-06-27 | Kangiyou Denki Kiki Kk | Printed circuit |
| JPS5827993A (ja) * | 1981-08-10 | 1983-02-18 | Sonitsukusu:Kk | 微小部分メツキ方法及びその装置 |
| JPS58204176A (ja) * | 1982-05-24 | 1983-11-28 | Kangiyou Denki Kiki Kk | 化学的蝕刻方法 |
-
1984
- 1984-06-20 JP JP59126974A patent/JPS616817A/ja active Pending
-
1985
- 1985-06-17 US US06/745,625 patent/US4709221A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54155473A (en) * | 1978-05-29 | 1979-12-07 | Hitachi Electronics | Method of plating printed circuit board |
| JPS58137908A (ja) * | 1982-02-09 | 1983-08-16 | 富士通株式会社 | 透明電極の形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4709221A (en) | 1987-11-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5664325A (en) | Fabrication process of wiring board | |
| US6606792B1 (en) | Process to manufacturing tight tolerance embedded elements for printed circuit boards | |
| JP2001267166A (ja) | 平面コイルの製造方法、平面コイルおよびトランス | |
| JPH08503174A (ja) | プリント回路基板の製造法およびその使用部材 | |
| JPS61124117A (ja) | プリントコイルの製造方法 | |
| JP2001111201A (ja) | 配線板の製造方法およびそれを用いて製造された配線板 | |
| JP2003082135A (ja) | ポリイミド層を含む積層体のエッチング方法 | |
| JPS616817A (ja) | シ−トコイルの製造方法 | |
| JP2002111185A (ja) | バンプ付き配線回路基板及びその製造方法 | |
| JPH11145205A (ja) | Tab用テープの製造方法 | |
| JPS60216573A (ja) | フレキシブル印刷配線板の製造方法 | |
| EP0426665B1 (en) | Method for manufacturing printed circuit boards | |
| JP3935558B2 (ja) | パターン形成方法 | |
| JPS614212A (ja) | シ−トコイルの製造方法 | |
| JPS62123935A (ja) | プリントコイルの製造方法 | |
| JP3469620B2 (ja) | 多層プリント配線板およびその製造方法 | |
| JPH0918119A (ja) | 配線パターン層およびその製造方法 | |
| JP4153602B2 (ja) | 回路基板の製造方法、回路基板及び磁気ヘッドサスペンション | |
| EP0415659B1 (en) | Process for making a two-layer film carrier | |
| JPS61247245A (ja) | 両面フアインパタ−ン回路 | |
| JPS6392005A (ja) | 微細パタ−ンコイル | |
| JPS62291089A (ja) | 回路基板の製造方法 | |
| JP3425807B2 (ja) | 多層配線基板の製造方法 | |
| JPS60167307A (ja) | プリントコイルの製造方法 | |
| JPH0964536A (ja) | 薄膜配線基板およびその作製方法 |