JPS614212A - シ−トコイルの製造方法 - Google Patents

シ−トコイルの製造方法

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JPS614212A
JPS614212A JP59124950A JP12495084A JPS614212A JP S614212 A JPS614212 A JP S614212A JP 59124950 A JP59124950 A JP 59124950A JP 12495084 A JP12495084 A JP 12495084A JP S614212 A JPS614212 A JP S614212A
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sheet coil
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Susumu Sumikura
角倉 進
Ippei Sawayama
一平 沢山
Tomoaki Kato
友昭 加藤
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
    • H01F41/04Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing coils
    • H01F41/041Printed circuit coils

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
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  • Manufacture Of Motors, Generators (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は小型で、薄型で、かつ高い信頼性を有するシー
トコイルの製造方法に関する。
従来、コイルを製造する方法としては、巻き線方式が多
用されてきた。しかしながら、この方法で製造されるコ
イルについては導体の占有率が低いため、小型化、薄型
化することが困難であり、かつ組立て精度に問題がある
ため、このコイルを使用して製造されるモーターの回転
精度を上けるには限界があった。
また、銅箔を原料として、フォトエツチング法によりシ
ートコイルを製造する方法も知られているが、この方法
によれば、一般的にコイルの導体間の間隔は、コイルの
導体厚の2倍以上となり、導体の占有率が高い精密コイ
ルを製造するにはやはり限界があった。
更にフォトエツチング法を利用した別の方法としては、
エツチングを行ない次に感光レジストを剥離し、金属メ
ッキを析出する方法があるシートコイルとしての駆動力
が低下する一方、析出厚が平滑でない為、表面凹凸が増
加し積層後上下シート間のリークの間Mが多発するとい
う問題があった。
更に、フォトエツチング法を応用したフォトエレクトロ
フォーミング法ニよυシートコイルを製造する方法も知
られている。このフォトエレクト胃7オーミング法によ
るシートコイルの製造に於いては、絶縁性基村上に金属
層を積層したベース材料を使用し、その上に渦巻き状の
四部を有する感光性樹脂パターンマスクを形成し、この
凹部内にメッキにょシ金属メッキ層を析出させ、次いで
感光性樹脂パターンマスクを除去し、感光性樹脂パター
ンで覆われていた部#    G ’ F *″E a
 # 10 針i M k −1−7f 7 / f@
’ * fることによりシートコイルを製造するのが一
般的であった。しかしながら、この方法によればエツチ
ング除去すべき金属層とシートコイルの導体の主体とな
る金属メッキ層とが同じ材質であるため、このエツチン
グ工程で金利層のみならず金属メッキ層も/”ffi?
!均等にエツチング除去されることから、導体厚、導体
幅の精度を維持することは難かしく、精密シートコイル
を製造するには、やは夛限界があった。
また、感光性材料からなるレジストパターンマス“りを
用いる方法に於いては、従来、金属層の表面上に感光性
材料を塗布またはラミネートする前の処理として、感光
性材料層と金属層との密着性を確保するために、感光性
材料層が積J@てれる金属層表面の整面、化学的エツチ
ング処理等による粗面化が行なわれていた。
ところが、感光性材料層と金属層表面との誓M性は、こ
のような粗面化によって充分には改善されず1例えばパ
ターンn先後の:@像時に、あるいはエツチング若しく
は電鋳等の工程に於いて、感光性材料層が金属層表面か
ら剥離してしまうといり問題は残されていた。
而して本発BAは、導体幅の精度を高めると共に、導体
間隔を狭めて導体占有率の〆++<、また、導体厚精度
が良好なシートコイルの製造方法を提供することを主た
る目的とする。
また、本発明の他の目的は、上述したような感光性材料
層と金属層表面との剥離を起さない程度に充分な感光性
材料層と金m6Jilx表面との密着性が確保された状
態でよυオ°n度の高いシートコイルを作る製造方法を
提供することにある。
本発明によるシートコイルの製造方法は、絶縁性基板上
に金8層および着色被膜層を積層してなるベース材上に
感光性材料を用いてパターンマスクを形成後、感光性材
料で被覆されていない金属屑をエツチング除去し、次層
でパターンマスクを残した状態で金属メッキ処理を施し
て金属層のエツチング幅を狭めることを特徴とするもの
である。
本発明によるシートコイルの製造方法の基本的な製造工
程は第1図〜第3図に示される。
第1図は、パターンの形成工程を示すものであり、絶縁
基材1上に銅箔などの金属、1il12および着色被膜
M3が形成されているペース材上に感光性材料を用いて
、渦巻き状などの所定のパターンマスク4を形成した状
態の断面を示している。第2図は、パターンマスクで被
覆されていない部分の金属F!52および着色被膜層6
をエツチング除去する工程を示すものであシ、金利層か
サイドエツチングされている状態の断面を示す。第3図
は金属メッキ処理によりサイドエツチングされた部分に
金利を析出させて補修金属部5を形成させる工程を示し
ている。このようにして、サイドエツチングにょカ溶解
されたパターンマスクの下部の金属層を補修析出する事
により導体間隙を狭め導体占有率の高くかつ導体厚が精
度良く維持されたシートコイルが製造できるものである
本発明のシートコイルを構成する絶縁性基材としては、
例えばアクリル系、ポリアミド系、ポリエステル系等の
熱可塑性樹脂又はフェノール系エポキシ系、ポリイミド
系等の熱硬化性樹脂からなるフィルム若しくは板を挙げ
る事ができ、できるだけ絶縁性の優れ″たものである事
が好ましい。また絶縁性基材の厚さはできるだけ薄いも
のであることが好ましく2〜100μms度のものが望
ましい。
本発明のシートコイルの製造方法に於いては上記絶縁性
基材はその上に金P4層を積層し、ベース材料としてシ
ートコイルの製造に供される。
この金属層の厚さは要求されるシートコイルの特性によ
り決まるものであるが、一般には5μ以上が好適である
。メッキ、蒸着ラミネート等により形成される金属層の
表面に着色被穆屑が設けられる。
この着色被膜層を金属層表面に設けることによって、こ
の着色被膜層の下層に位置する金F%層表面と、更に該
着色被膜層上に積層される感光性材料層との密着性を、
該着色被膜層を介することによって高め、かつパターン
露光時に於けζ     る光の金属層表面での乱反射
を押え、パターン露光に於ける解像度を高めることがで
きる、この着色被月り層は、被膜層形成後に感光性材料
層との良好な密着性を与えるのに好適な微小な凹凸をそ
の表面に有し、更に該層の表面は、パターン露光時に於
ける光の乱反射を押える効果のある黒色若しくは黒によ
り近い色を呈していることが好ましい。
7゛ このような着色被膜層としては、ブラックニッケルメッ
キ若しくはブラッククロームメッキ等の黒色電着被膜層
または前記金馬材の酸化物、水酸化物若しくは硫化物等
からなる着色変成被膜層を挙げることができる。
ブラックニッケルメッキ若しくはブラッククロームメッ
キ等の黒色電着被膜層は、ブラックニッケル、ブラック
クローム等を金8層表面上に電着法等によシ積層して形
成することができる。
また金FA層表面を形成している金属の酸化物若しくは
硫化物等からなる着色変成被膜層は、金属層表面を、酸
化剤あるいは硫化物を含む水溶液と接触させる、あるい
は100℃以上の高温で酸素を含む気体と接触させる等
の方法により形成することができる。例えば、硫酸銅+
塩素酸カリウム混液、塩化銅十酢酸銅十ミョウバン混液
等に銅メツキ層が形成されたペース材料を浸漬すること
によってmの酸化物層を形成できる。銅の硫化物層を形
成する方法としては、硫化カリウム+塩化アンモニウム
混液、次亜硫酸ソーダ+酢酸鉛混液等に浸漬する方法が
挙げられる。銅の水酸化物層を形成する方法゛としては
、硝酸銅十塩化アンモニウム+酢酵混液等に゛ 浸漬す
る方法が挙げられる。また酸化物層の1つである銅の亜
酸化物層を形成する方法と(7ては、硫酸銅+塩化ナト
リウム混液、硫酸銅+塩化アンモニウム混液等に浸漬す
る方法が挙げられる。
着色被膜層が形成されたベース材料上にシートコイルと
して例えば渦巻き導体を形成するには感光性樹脂の未露
光皮膜を基板上に積層する、感光性樹脂皮膜としては液
体レジストドライフィルムどちらでも使用できるが、次
工程のエツチング、銅メツキ時に薄いとパターンマスク
に割れ又はクラックが生じ、パターンマスクを乗り越え
て銅が析出してしまいシートコイル多層積層時にショー
ト、平面性低下等の不都合が生ずる為皮j!iHさは2
.5μ以上が望ましい。
使用する感光性材料はドライフィルムではデュポン社製
の71010 (25μ厚)旭化成社製のDFR25(
25μ厚)、液体レジストでは東京応化社製のOMR−
83、コダック社製の747(Inずれも商品名)等を
挙げる事が出来る。次に感光性樹脂皮膜に対してマスク
を介在し、露光し、所定の液にて現像する。その後金属
層をエツチングするが、エツチング方法はスプレ一方式
がパターン精度を向上するには望ましくエツチング数社
市販の塩化第二鉄液又はアンモニアアルカリエッチイン
ド、塩化第2銅液等を用いることが出来る。
その後上記感光性材料からなるパターンを残したままで
基材をメッキ法を用いて、サイドエツチングにより溶解
除去された金属を、必要厚さ迄析出補修する。この際析
出金属の最大厚さ“は1.茗イ゛ドエッチングにより溶
解された厚さ迄が望ましい。もつとも、析出金属表面の
平滑さを損なわない程度であれば、ギャップが接触する
直前まで可能である。しかし、感光性材料よりはみ出し
て盛υ上って析出を初めだ場合、シートコイル層を多層
に積層して使用するとき層間のショート等の問題を生ず
る原因になる場合もある。金属メッキ液としては、硫酸
銅、ビロリン酸銅、シアン化銅等が使用できる。金属メ
ッキは、メッキ浴に浸漬して行ってもよいが、メッキ液
を噴流させて行なうのが、金属の析出速度の点で有効で
ある。噴流状態を得るには、ポンプ、モーター撹拌、エ
ヤー超音波等が使用されるが、噴流状態が強力である程
析出を高速で行なう事が出来、経済性の点からいって望
ましい。
以上本発明のシートコイル製造方法により簡−便な手段
により従来技術に比して渦巻き状導体の導体厚、導体幅
の精度を精密に維持した高い信頼性を有するシートコイ
ルを製造する事が可能である。
また、金飄層および金属メッキの金属としては、銅、ア
ルミ、ニッケル、銀、金など、任意の金属を用いること
ができる。
以下本発明を実施例に従ってより具体的に説明する。
実施例1 厚さ20μの接着剤付きポリエステルフィルム上に70
μの銅箔を加熱圧着により接着してベース材料となし、
ブラッククロームメッキ液(F憑品名:ネロスクープロ
セス、荏原ニージーライト社製)にて20A/dm2,
5分間型着させ1μのブラッククローム皮膜を得た。次
に東京応化社製のネガ形液体レジスト(商品名: OM
R−83)粘度4500Fをスピンナーを用いて5μの
感光性材料層を形成し、次いで渦巻き状で透明部500
μ、不透明部30μのパタ一ンを有するマスクを用いて
露光し、現像する(東京応化社製、商品名: OMHの
現像液)。次すで50’〜60℃50%塩酸溶液にて1
分浸漬し、露出したブラッククローム皮膜を除去する。
以上により銅露出部30μ、パターンマスク被覆部50
0μのパターンマスクと忠実なパターンが作成された。
次にスプレ一方式により銅エツチング液バクーンマスク
下jDOμの銅が均一に溶解した70次にポンプで強制
噴流をしている銅メッキ液(奥野製錫工業社製、商品名
:ルチナ81)で20A/dm2で5分メッキを行ない
パターンマスク下片側90μの銅を析出させ70μの銅
厚50μギヤツプのシャープなノートフィルを形成する
ことができた。なお、本実施例でブラッククローム皮膜
を形成しないで同様にシートコイルを製造した場合には
、剰司エツチング処理によって、パターンマスク下の銅
のサイドエツチング量は100〜120μで場所により
異っていた。
実施例2 厚さ10μmの接着剤付きポリアミドフィルム上に厚さ
140μの銅箔を加熱圧着によシ接着してベース材料と
なし、次いで100〜110℃エボノールCスペシャル
(商品名、ジャパンメタルフィニツシユ社製)液5分間
浸漬させ銅表面に黒色酸化物層を形成した。次いでデュ
ポン社製のドライフィルムT 1010をラミネーター
によシ感光性材料層を形成し、次いで渦巻き状で透明部
400μ、不透明部60μのパターンを有するマスクを
用いて露光し、その後1:1トリクレン液にて現像し、
黒色皮膜露出部60μ、パターンマスク被覆部400μ
のマスクに忠実なパターンマスクが作成された。次に塩
化鉄エラチン下150μの均一な線の仕上りで銅が溶解
した。
次に超音波で強制対流している銅メッキ液(上村工秦社
製、商品名:スルカップAC)で10A/ am2 で
20分メッキを行ないパターンマスク下片側130μの
銅を析出させ150μの銅厚で100μギヤツプのシャ
ープシートコイルを形成することができた。
【図面の簡単な説明】
第1図はベース材料上に感光性材料からなるパターンマ
スクを形成させたものの断面図である。 第2図はエツチングにより金属層がサイドエツチングさ
れた状態の断面図である。 第3図は金属メッキに゛よりサイドエツチング部分が補
修された状態の断面図である。 1・・・絶縁基材 2・・・金属層 5・・・着色被膜層 4 ・・・パターンマスク 5・・・補修金屑部

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)絶縁性基板上に金属層および着色被膜層を積層し
    てなるベース材上に感光性材料を用いてパターンマスク
    を形成後、感光性材料で被覆されていない金属層をエッ
    チング除去し、次いでパターンマスクを残した状態で金
    属メッキ処理を施して金属層のエッチング幅を狭めるこ
    とを特徴とするシートコイルの製造方法。
  2. (2)金属メッキ処理をメッキ液を噴流させて行う特許
    請求の範囲第1項記載のシートコイルの製造方法。
  3. (3)前記着色被膜層がブラックニッケルメッキ若しく
    はブラッククロームメッキ等の黒色電着被膜層または前
    記金属層表面を形成している金属の酸化物、水酸化物若
    しくは硫化物等からなる着色変成被膜層である特許請求
    の範囲第1項記載のシートコイルの製造方法。
JP59124950A 1984-06-18 1984-06-18 シ−トコイルの製造方法 Granted JPS614212A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6392005A (ja) * 1986-10-06 1988-04-22 Canon Inc 微細パタ−ンコイル

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58137908A (ja) * 1982-02-09 1983-08-16 富士通株式会社 透明電極の形成方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58137908A (ja) * 1982-02-09 1983-08-16 富士通株式会社 透明電極の形成方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6392005A (ja) * 1986-10-06 1988-04-22 Canon Inc 微細パタ−ンコイル

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