JPS6168465A - 光学活性３−アジド−アゼチジン−２−オン−１−イル酢酸誘導体 - Google Patents
光学活性３−アジド−アゼチジン−２−オン−１−イル酢酸誘導体Info
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- JPS6168465A JPS6168465A JP59190059A JP19005984A JPS6168465A JP S6168465 A JPS6168465 A JP S6168465A JP 59190059 A JP59190059 A JP 59190059A JP 19005984 A JP19005984 A JP 19005984A JP S6168465 A JPS6168465 A JP S6168465A
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- azetidin
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は抗菌性β−ラクタム化合物の合成中間体となる
新規な光学活性３−アジド−アゼチジン−２−オン−１
−イル酢酸誘導体に関する。
新規な光学活性３−アジド−アゼチジン−２−オン−１
−イル酢酸誘導体に関する。
（従来の技術）
近年、β−ラクタム抗生物質の開発研究では従来のペニ
シリンやセファロスポリンの骨格を化学的に修飾して、
より有効な抗菌剤を合成しようとする研究が活発に行な
われている。この種の化合物としては多様な構造式をも
つものが考えられるが、最も重要なことは抗菌活性の発
現に必須とされている特定の立体配置をもつ光学活性体
をいかに効率よく合成するかである。
シリンやセファロスポリンの骨格を化学的に修飾して、
より有効な抗菌剤を合成しようとする研究が活発に行な
われている。この種の化合物としては多様な構造式をも
つものが考えられるが、最も重要なことは抗菌活性の発
現に必須とされている特定の立体配置をもつ光学活性体
をいかに効率よく合成するかである。
この種の化合物の従来の合成法としては、カナディアン
・ジャーナル・オン・ケミストリー５５巻４６８頁（１
９７７年）および「リーセント・アドバンス・イン・ザ
拳ケミストリー・オン・β−ラクタム・アンティバイオ
ティクス」ローヤル・ソサイエティ・オン・ケミストリ
ー・スペシャル・バプリケーション Ｎｏ、 ３８ 、
８０頁（１９８０）に記載された方法が知られている。
・ジャーナル・オン・ケミストリー５５巻４６８頁（１
９７７年）および「リーセント・アドバンス・イン・ザ
拳ケミストリー・オン・β−ラクタム・アンティバイオ
ティクス」ローヤル・ソサイエティ・オン・ケミストリ
ー・スペシャル・バプリケーション Ｎｏ、 ３８ 、
８０頁（１９８０）に記載された方法が知られている。
その方法によれば、シンナミルアルデヒドとα−アミノ
酸エステル類から得られるシッフの塩基にアジド酢酸ク
ロリドのような酸塩化物を作用させ、いわゆるケテン−
イミン環化付加反応を用いて合成されている。
酸エステル類から得られるシッフの塩基にアジド酢酸ク
ロリドのような酸塩化物を作用させ、いわゆるケテン−
イミン環化付加反応を用いて合成されている。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、上記の方法では光学活性体を得ることが
極めて困難である。
極めて困難である。
（問題点を解決するための手段）
本発明者らは、上記の困難を克服するため鋭意研究を重
ねた結果、種々のペニシリンやセファロスポリン骨格異
性体を合成するための重要な中間体となり得る下記一般
式（Ｉ）で表わされる光学活性なβ−ラクタム化合物が
容易に合成できることを見出した。
ねた結果、種々のペニシリンやセファロスポリン骨格異
性体を合成するための重要な中間体となり得る下記一般
式（Ｉ）で表わされる光学活性なβ−ラクタム化合物が
容易に合成できることを見出した。
本発明は、次の式
〔式中、Ｘは水酸基、ハロゲン、アルキルもしくはアリ
ールスルホニルオキシ基またはハロゲン化低級アルキル
スルホニルオキシ基：Ｙは酸素またはＮＨ基、 Ｒ１は
水素、炭素数１−６個のアルキル基、ジ低級アルコキシ
アルキル基、フェニル基；低級アルキル基、水酸基、−
ＯＲ” −ＳＲ３および−ＧＯＯＲ”（式中 Ｒ３は低
級アルキル基、ベンジル基もしくはニトロベンジル基を
表わす）よりなる群から選ばれた１−４個の基で置換さ
れたフエニ護されまたはされない水酸基を表わす）、ト
リチル基、ベンジル基、メトキシベンジル基、ニトロベ
ンジル基、ベンジルオキシカルボニル基、低級アルコキ
シアルキル基、テトラヒドロピラニル基またはトリ低級
アルキルシリル基、 Ｒ２はエステル化もしくはアミド
化されまたはされないカルボキシル基もしくはその塩、
炭素数１−１０のアルキル基、シクロアルキル基、フェ
ニル基；低級アルキル基、ハロゲン、シアノ基およびニ
トロ基よりなる詳から選ばれた１−４個の基で置換され
たフェニル基、ジフェニルメチル基、ヘンシル基、ニト
ロベンジル基またはメトキシベンジル基を表わす〕 で示きれる光学活性３−アジド−アゼチジン−２−オン
−１−イル酢酸誘導体である。
ールスルホニルオキシ基またはハロゲン化低級アルキル
スルホニルオキシ基：Ｙは酸素またはＮＨ基、 Ｒ１は
水素、炭素数１−６個のアルキル基、ジ低級アルコキシ
アルキル基、フェニル基；低級アルキル基、水酸基、−
ＯＲ” −ＳＲ３および−ＧＯＯＲ”（式中 Ｒ３は低
級アルキル基、ベンジル基もしくはニトロベンジル基を
表わす）よりなる群から選ばれた１−４個の基で置換さ
れたフエニ護されまたはされない水酸基を表わす）、ト
リチル基、ベンジル基、メトキシベンジル基、ニトロベ
ンジル基、ベンジルオキシカルボニル基、低級アルコキ
シアルキル基、テトラヒドロピラニル基またはトリ低級
アルキルシリル基、 Ｒ２はエステル化もしくはアミド
化されまたはされないカルボキシル基もしくはその塩、
炭素数１−１０のアルキル基、シクロアルキル基、フェ
ニル基；低級アルキル基、ハロゲン、シアノ基およびニ
トロ基よりなる詳から選ばれた１−４個の基で置換され
たフェニル基、ジフェニルメチル基、ヘンシル基、ニト
ロベンジル基またはメトキシベンジル基を表わす〕 で示きれる光学活性３−アジド−アゼチジン−２−オン
−１−イル酢酸誘導体である。
本発明の誘導体は次式の反応経路によって合成すること
ができる。
ができる。
（式中、Ｒｉ 、 Ｒ２は前記と同義、Ｒは保護ＥＸ”
はハロゲン、アルキルもしくはアリールスルホニルオキ
シ基またはハロゲン化低級アルキルスルホニルオキシ基
を表わす） 上記の式から明かなように、本発明の誘導体〔Ｉ〕は上
記反応式における化合物［４］ 、 （５）および〔６
〕を包含する。
はハロゲン、アルキルもしくはアリールスルホニルオキ
シ基またはハロゲン化低級アルキルスルホニルオキシ基
を表わす） 上記の式から明かなように、本発明の誘導体〔Ｉ〕は上
記反応式における化合物［４］ 、 （５）および〔６
〕を包含する。
誘導体〔Ｉ〕の式中、Ｘで表わされるハロゲンとしては
、クロル、ブロム、ヨウ素など、アルキルスルホニルオ
キシ基のアルキル基としては炭素数１−１０の直鎖もし
くは分校状アルキル基、アリールスルホニルオキシ基の
アリール基としてはトリル基、ナフチル基などが挙げら
れる。へロゲン化低級アルキルスルホニルオキシ基の好
ましい例はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基であ
る。
、クロル、ブロム、ヨウ素など、アルキルスルホニルオ
キシ基のアルキル基としては炭素数１−１０の直鎖もし
くは分校状アルキル基、アリールスルホニルオキシ基の
アリール基としてはトリル基、ナフチル基などが挙げら
れる。へロゲン化低級アルキルスルホニルオキシ基の好
ましい例はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基であ
る。
３（Ｓ）−Ｎ−保護−３−アミノ−４−ブタノリド〔１
〕はＮ−保護−Ｌ−アスパラギン酸より公知の方法によ
り、その酸無水物を還元することによって得られる。還
元はテトラヒドロン・レタース ２４巻２７３３（１９
８３年）に記載の方法、すなわちＴＨＦ中−２０°から
室温において１当量のＮａＢＨ４を用いて実施されつる
。溶媒としてはジエチルエーテル、ジオキサン、１，２
−ジメトキシエタン等が使用されうる。
〕はＮ−保護−Ｌ−アスパラギン酸より公知の方法によ
り、その酸無水物を還元することによって得られる。還
元はテトラヒドロン・レタース ２４巻２７３３（１９
８３年）に記載の方法、すなわちＴＨＦ中−２０°から
室温において１当量のＮａＢＨ４を用いて実施されつる
。溶媒としてはジエチルエーテル、ジオキサン、１，２
−ジメトキシエタン等が使用されうる。
ＮａＢＨ４の他に使用し得る還元剤としては、ＬｉＡｌ
Ｈ４，リチウムトリ（低級）アルコキシハイドライド＋
ＬＩＢＨ４＋ ＮａＡ ＩＨ４＋ ＮａＢ （ＣＮ
） Ｒ３等の金属ハライド還元剤が挙げられる。
Ｈ４，リチウムトリ（低級）アルコキシハイドライド＋
ＬＩＢＨ４＋ ＮａＡ ＩＨ４＋ ＮａＢ （ＣＮ
） Ｒ３等の金属ハライド還元剤が挙げられる。
還元物は、一般に〔１〕および〔１〕のラクトン環が加
水分解を受けた化合物の混合物として得られるが、この
粗製物をトルエンの如き芳香族溶剤、酢酸エチル、また
ＣＨ，ＣＩ□の如きハロゲン化アルキル溶剤中でディー
ジ・スタークの装置を用い脱水しながら１−１０時間加
熱還流すると、この混合物は単一の生成物〔１〕に変換
される。この際、触媒量の硫酸トルエンスルホン酸のよ
うな酸を添加すると、加熱時間を短縮することができる
。
水分解を受けた化合物の混合物として得られるが、この
粗製物をトルエンの如き芳香族溶剤、酢酸エチル、また
ＣＨ，ＣＩ□の如きハロゲン化アルキル溶剤中でディー
ジ・スタークの装置を用い脱水しながら１−１０時間加
熱還流すると、この混合物は単一の生成物〔１〕に変換
される。この際、触媒量の硫酸トルエンスルホン酸のよ
うな酸を添加すると、加熱時間を短縮することができる
。
保護基Ｒとしてはアミ７基の保護基を適宜選択すればよ
く、例えば、低級アルキルアシル基、ベンゾイル基、ベ
ンジルオキシカルボニル基、ｐ位にニトロ基、メトキシ
基、クロル、ブロム等のノＸロゲンの置換したベンジル
オキシカルボニル基。
く、例えば、低級アルキルアシル基、ベンゾイル基、ベ
ンジルオキシカルボニル基、ｐ位にニトロ基、メトキシ
基、クロル、ブロム等のノＸロゲンの置換したベンジル
オキシカルボニル基。
ｔ−ブチルオキシカルボニルで代表される低級アルコキ
シカルボニル基、トリチル基が挙げられる。
シカルボニル基、トリチル基が挙げられる。
化合物〔１〕から〔２〕への反応は、たとえば、まずジ
エチルエーテル、ＴＨＦ、１．２−ジメトキシエタン、
ジグリム等の乾燥溶媒中、−７８℃から０℃の温度で、
リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス（トリメ
チルシリル）アミド、リチウムＮ−ｔ・ブチルシクロへ
キシルアミド、リチウム２，２，６．６−チトラメチル
ピペリジドのようなリチウム化剤の 好ましくは、２な
いし２．５倍量と約３０分から３時間処理した後、トル
エンスルホニルアジド、ナフタレンスルホニルアジド等
の芳香族スルホニルアジドの１当量を加えて、−７８°
Ｃ〜０°Ｃで約３０分ないし２時間反応させることによ
って行いつる。反応後の処理は、たとえば、酢酸、硫酸
のような酸を加えるか、トリメチルシリルクロリドを添
加した後、−７８℃〜０°Ｃで３時間から１０時間処理
して行われる。目的物の単離精製は結晶化あるいはカラ
ムクロマトクラフィーで行いつる。
エチルエーテル、ＴＨＦ、１．２−ジメトキシエタン、
ジグリム等の乾燥溶媒中、−７８℃から０℃の温度で、
リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス（トリメ
チルシリル）アミド、リチウムＮ−ｔ・ブチルシクロへ
キシルアミド、リチウム２，２，６．６−チトラメチル
ピペリジドのようなリチウム化剤の 好ましくは、２な
いし２．５倍量と約３０分から３時間処理した後、トル
エンスルホニルアジド、ナフタレンスルホニルアジド等
の芳香族スルホニルアジドの１当量を加えて、−７８°
Ｃ〜０°Ｃで約３０分ないし２時間反応させることによ
って行いつる。反応後の処理は、たとえば、酢酸、硫酸
のような酸を加えるか、トリメチルシリルクロリドを添
加した後、−７８℃〜０°Ｃで３時間から１０時間処理
して行われる。目的物の単離精製は結晶化あるいはカラ
ムクロマトクラフィーで行いつる。
化合物〔２〕から〔３〕への反応におけるＮ−保護基の
除去は酸性条件下で行うのが望ましい。例えば、ＨＢｒ
−酢酸とＯ℃〜６０℃で１〜１０時間処理してもよく、
あるいは１０〜３６％塩酸と０℃〜１００℃で１〜１０
時間処理してもよい。
除去は酸性条件下で行うのが望ましい。例えば、ＨＢｒ
−酢酸とＯ℃〜６０℃で１〜１０時間処理してもよく、
あるいは１０〜３６％塩酸と０℃〜１００℃で１〜１０
時間処理してもよい。
保！、Ｍがｔ−ブトキシカルボニルあるいはｐ−メトキ
シベンジルオキシカルボニル基の場合はＣＨ２ＣｌＩ２
７のようなハロゲン化アルキル溶剤、酢酸エチルのよう
な溶剤、トルエンのような芳香族溶剤中かあるいは溶剤
なしで、トリフロオロ酢酸と０℃−４０℃で１０分〜２
時間処理することにより目的の反応を行うことができる
。
シベンジルオキシカルボニル基の場合はＣＨ２ＣｌＩ２
７のようなハロゲン化アルキル溶剤、酢酸エチルのよう
な溶剤、トルエンのような芳香族溶剤中かあるいは溶剤
なしで、トリフロオロ酢酸と０℃−４０℃で１０分〜２
時間処理することにより目的の反応を行うことができる
。
生成物の単離は、いずれの場合も溶剤を留去した後、得
られるアミン塩を水あるいは含水低級アルコール＋含水
ジオキサン、含水ＴＨＦ中トＩＪエチルアミン、ピリジ
ン、ジアルキルアニリンのような弱有機塩基と処理する
か、あるいは弱塩基性イオン交換樹脂と処理することに
よって所望のアミノ酸〔３〕を得ることができる。
られるアミン塩を水あるいは含水低級アルコール＋含水
ジオキサン、含水ＴＨＦ中トＩＪエチルアミン、ピリジ
ン、ジアルキルアニリンのような弱有機塩基と処理する
か、あるいは弱塩基性イオン交換樹脂と処理することに
よって所望のアミノ酸〔３〕を得ることができる。
化合物〔３〕から〔４〕への反応は、化合物〔３〕、お
よびアルデヒドＲ”−ＣＨｏ （Ｒ”は前記と同義）と
イソニトリルＲ２−ＮＣ（Ｒ２は前記と同義）の当量混
合物を無水あるいは１−６０％の水を含む有機溶剤、す
なわち低級アルコール、ジオキサン。
よびアルデヒドＲ”−ＣＨｏ （Ｒ”は前記と同義）と
イソニトリルＲ２−ＮＣ（Ｒ２は前記と同義）の当量混
合物を無水あるいは１−６０％の水を含む有機溶剤、す
なわち低級アルコール、ジオキサン。
ＴＨＦ 、アセトニトリル、ＤＭＦ 、ＤＭＳＯ等中０
°Ｃ〜１００℃の温度で１〜４８時間処理することによ
り達成されつる。
°Ｃ〜１００℃の温度で１〜４８時間処理することによ
り達成されつる。
化合物〔４〕から〔５〕への反応は、たとえば、次のよ
うに行われうる。
うに行われうる。
酢酸エチルのような溶媒、トルエンのような芳香族溶媒
、ジエチルエーテル、ＴＨＦ 、ジオキサンのような溶
媒、ＣＨ２Ｃｌ２ のような溶媒、ＤＭＦ等中、トリエ
チルアミン、ピリジン、コリジン。
、ジエチルエーテル、ＴＨＦ 、ジオキサンのような溶
媒、ＣＨ２Ｃｌ２ のような溶媒、ＤＭＦ等中、トリエ
チルアミン、ピリジン、コリジン。
４−ジメチルアミノピリジンのような有機弱塩基１〜３
倍量の存在下、メタンスルホニルクロリドの如き低級ア
ルキルスルホニルクロリド、あるいはトルエンスルホニ
ルクロリドで代表される芳香族スルホニルクロリド、ト
リフルオロメタンスルホニルクロリド、あるいは五塩化
リン、三塩化リン、チオニルクロリド、ホスゲン、三臭
化リンのようなハロゲン化試薬と０℃−１００℃で１−
１５時間処理することによって式〔５〕の化合物群が得
られる。また式〔５〕の化合物中、塩化物（Ｘ＝ＣＩ）
をアセトニトリルまたはアセトン中ＮａＩあるいはＫｌ
と２０℃−８０℃の温度で１−１５時間処理すると
ヨウ化物（Ｘ＝Ｉ）に変換することができる。
倍量の存在下、メタンスルホニルクロリドの如き低級ア
ルキルスルホニルクロリド、あるいはトルエンスルホニ
ルクロリドで代表される芳香族スルホニルクロリド、ト
リフルオロメタンスルホニルクロリド、あるいは五塩化
リン、三塩化リン、チオニルクロリド、ホスゲン、三臭
化リンのようなハロゲン化試薬と０℃−１００℃で１−
１５時間処理することによって式〔５〕の化合物群が得
られる。また式〔５〕の化合物中、塩化物（Ｘ＝ＣＩ）
をアセトニトリルまたはアセトン中ＮａＩあるいはＫｌ
と２０℃−８０℃の温度で１−１５時間処理すると
ヨウ化物（Ｘ＝Ｉ）に変換することができる。
アミド化合物〔５〕からエステル化合物〔６〕への変換
は以下の２通りの方法で行いうる。
は以下の２通りの方法で行いうる。
１）イミノエーテルを経る方法：化合物〔５〕をゴミ／
ハロゲン化反応、ついでイミノエーテル化反応に付し、
加水分解する。この三つの段階は好ましくは、１パツチ
システムで行なわれる。
ハロゲン化反応、ついでイミノエーテル化反応に付し、
加水分解する。この三つの段階は好ましくは、１パツチ
システムで行なわれる。
この反応は最終段階の加水分解を除いて、好ましくは無
水溶媒中で行なわれる。適当な溶媒としては、ジクロロ
メタンのようなハロゲン化アルキル、トルエンのような
芳香族溶媒、ジエチルエーテ／Ｌ’＋ＴＨＦが挙げられ
る。イミノハロゲン化剤としては、五塩化リン、ホスゲ
ン、塩化チオニル、三塩化リン、三臭化リン、オキシ塩
化リン、トリフェニルホスフィンジクロリドが含まれ、
この反応は通常−２０℃〜１００℃の温度で行なわれる
。
水溶媒中で行なわれる。適当な溶媒としては、ジクロロ
メタンのようなハロゲン化アルキル、トルエンのような
芳香族溶媒、ジエチルエーテ／Ｌ’＋ＴＨＦが挙げられ
る。イミノハロゲン化剤としては、五塩化リン、ホスゲ
ン、塩化チオニル、三塩化リン、三臭化リン、オキシ塩
化リン、トリフェニルホスフィンジクロリドが含まれ、
この反応は通常−２０℃〜１００℃の温度で行なわれる
。
ゴミ７エーテル化剤の適当な例としては、低級アルコー
ル（メタノール、エタノール、プロパツール、インプロ
パツール等）あるいはアルカリ金属、アルカリ土類金属
のアルコキサイド（たとえば、ナトリウムメトキサイド
）が挙げられる。
ル（メタノール、エタノール、プロパツール、インプロ
パツール等）あるいはアルカリ金属、アルカリ土類金属
のアルコキサイド（たとえば、ナトリウムメトキサイド
）が挙げられる。
加水分解は、常温または冷却下で、反応混合物を水、ま
たは水を含むアルコール（たとえばメタノール、エタノ
ール）に注ぐだけで進行するが、好ましくは適当な酸ま
たは塩基を加えてｐＨ２，０付近に調整するのがよい。
たは水を含むアルコール（たとえばメタノール、エタノ
ール）に注ぐだけで進行するが、好ましくは適当な酸ま
たは塩基を加えてｐＨ２，０付近に調整するのがよい。
＋＋）二）ロソ化を経る方法：化合物〔５〕をＮ−ニト
ロン化し、ついで転位反応に付して口約を達することが
できる。
ロン化し、ついで転位反応に付して口約を達することが
できる。
ニトロソ化剤の適当な例としては、アルカリ金属亜硝０
塩（たとえば、亜硝酸ナトリウムなど）、亜硝酸アルキ
ル（たとえば、亜硝酸アミルなど）、塩化ニトロシル、
四酸化二窒素などが挙げられる。ニトロソ化反応は、通
常、水、ぎ酸、酢酸、テトラヒドロフラン、ジクロロメ
タン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、クロロベン
ゼンなど、またはこれらの混合物中で行なわれ、必要な
場合には酢酸ナトリウム、ぎ酸ナトリウム、炭酸ソーダ
ー等の塩基を添加する。反応温度は一般に一２０℃−１
００℃が適当である。
塩（たとえば、亜硝酸ナトリウムなど）、亜硝酸アルキ
ル（たとえば、亜硝酸アミルなど）、塩化ニトロシル、
四酸化二窒素などが挙げられる。ニトロソ化反応は、通
常、水、ぎ酸、酢酸、テトラヒドロフラン、ジクロロメ
タン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、クロロベン
ゼンなど、またはこれらの混合物中で行なわれ、必要な
場合には酢酸ナトリウム、ぎ酸ナトリウム、炭酸ソーダ
ー等の塩基を添加する。反応温度は一般に一２０℃−１
００℃が適当である。
エステルへの転位反応は、上記反応条件下でそのまま放
置するか、あるいは、Ｎ−二）ロソ化物を単離した後、
適当な溶媒（たとえば、酢酸エチル″、四塩化炭素、ジ
クロロエタン、ジオキサン。
置するか、あるいは、Ｎ−二）ロソ化物を単離した後、
適当な溶媒（たとえば、酢酸エチル″、四塩化炭素、ジ
クロロエタン、ジオキサン。
クロロベンゼン、トルエンなど）中加温することによっ
て達成されうる。
て達成されうる。
（発明の効果）
本発明の誘導体は、本発明者らの開発した方法により原
料として入手しやすいし一アスパラギン酸より出発して
純粋な光学活性体として効率よく得ることができる。さ
らに、β−ラクタム環の構築にイソニトリルを縮合剤と
して用いる４成分縮合反応を利用することによって、他
のβ−ラクタム環合成法に比べて極めて簡便な反応操作
と単離操作で収率よく得られることがわかった。
料として入手しやすいし一アスパラギン酸より出発して
純粋な光学活性体として効率よく得ることができる。さ
らに、β−ラクタム環の構築にイソニトリルを縮合剤と
して用いる４成分縮合反応を利用することによって、他
のβ−ラクタム環合成法に比べて極めて簡便な反応操作
と単離操作で収率よく得られることがわかった。
また、本発明の誘導体は新規であり、種々の病原性微生
物に対して高い抗菌力を示すβ−ラクタム化合物の光学
活性体の製造中間体として有用である。
物に対して高い抗菌力を示すβ−ラクタム化合物の光学
活性体の製造中間体として有用である。
たとえば、参考例に示すように、文献力ナデイヤン・ジ
ャーナル・オブ・ケミストリー５５巻。
ャーナル・オブ・ケミストリー５５巻。
４８４（１９７７年）、および同誌５５巻２８７３（１
９７７年）に記載の方法に準じて、２−イソオキサセフ
ェム、２−インセフェム骨格をもつ化合物の光学活性体
を製造することができる。
９７７年）に記載の方法に準じて、２−イソオキサセフ
ェム、２−インセフェム骨格をもつ化合物の光学活性体
を製造することができる。
実施例１（３３）−３−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ
−４−ブタノリドの製造 無水ＴＨＦ １００−にＮａＢＨ４１２，４９をけん濁
し０℃に冷却した。これにＬ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボ
ニルアスパラギン酸無水物７０１をＴＨＦ ３５０ｎ４
に溶かした溶液を１．５時間かけて滴下した。さらに水
冷下２時間攪拌した後、２０％塩酸９０−をゆっくり滴
下した。反応液を氷水２０〇−に注ぎ、酢酸エチルで抽
出し、抽出液をＭｇＳＯ４で乾燥後減圧下に濃縮した。
−４−ブタノリドの製造 無水ＴＨＦ １００−にＮａＢＨ４１２，４９をけん濁
し０℃に冷却した。これにＬ−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボ
ニルアスパラギン酸無水物７０１をＴＨＦ ３５０ｎ４
に溶かした溶液を１．５時間かけて滴下した。さらに水
冷下２時間攪拌した後、２０％塩酸９０−をゆっくり滴
下した。反応液を氷水２０〇−に注ぎ、酢酸エチルで抽
出し、抽出液をＭｇＳＯ４で乾燥後減圧下に濃縮した。
残査をベンゼン５０〇−に溶解し、Ｄｅａｎ −５ｔａ
ｒｋ装置を用いて３時間加熱還流下に脱水した。ベンゼ
ン溶液を重曹水で洗浄、ついでＭｇＳＯ４で乾燥後減圧
下に濃縮すると目的物５０ｙ（７６％）が結晶として得
られた。
ｒｋ装置を用いて３時間加熱還流下に脱水した。ベンゼ
ン溶液を重曹水で洗浄、ついでＭｇＳＯ４で乾燥後減圧
下に濃縮すると目的物５０ｙ（７６％）が結晶として得
られた。
ｍｐ、１０８℃
元素分析値 Ｃ，Ｈｌ、Ｎｏ４として理論値： Ｃ，
５３，７０； Ｈ，７，５２； Ｎ、 ６．９６実験値
： Ｃ，５３，４７； Ｈ、？、２３ ； Ｎ、 ６．
９６〔α）Ｄ−６１° （ｃ ＝ １ 、 ＥｔＯＨ）
ＩＲ（ＫＢｒ） １７７０，１６８０ＣＩｎ−１実
施例２ （２Ｓ、３Ｓ）−２−アジド−３−を−ブト
キシカルボニルアミ７−４−ブタノリドの製造 無水ＴＨＦ １００−にジイソプロピルアミン７゜３５
．７を加え、−７８℃に冷却した。これにＮ２気流下１
．５Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液３５ｉを滴下
し、同温度で１０分間、０℃で１５分間攪拌した。再び
一７８℃に冷却し、（３Ｓ）−３−ｔ−ブトキシカルボ
ニルアミノ−４−ブタノリド５９を無水ＴＨＦ ３０ｉ
に溶かした溶液をゆっくり滴下した。２時間攪拌した後
、ｐ−１ルエンスルホニルアジド５．９１のＴＨＦ （
３ｏｒｎｌ）溶液を滴下し、さらに１時間同温度で攪拌
を続けた。ついで、クロロトリメチルシラン９．５ｒｎ
ｌを滴下し、０°Ｃまで除々に昇温した。反応液を減圧
下に濃縮し、残香に氷水１００ｍ／を加え重曹で中和し
た後酢酸エチルで抽出した。抽出液をＭｇＳＯ４で乾燥
後溶媒を減圧下に留去し、残香をシリカゲルのカラムク
ロマトグラフィーで精製すると、ベンゼン−酢酸エチル
１４：ｌ溶出部より目的物の結晶３ｇ（５０％）が得ら
れた。
５３，７０； Ｈ，７，５２； Ｎ、 ６．９６実験値
： Ｃ，５３，４７； Ｈ、？、２３ ； Ｎ、 ６．
９６〔α）Ｄ−６１° （ｃ ＝ １ 、 ＥｔＯＨ）
ＩＲ（ＫＢｒ） １７７０，１６８０ＣＩｎ−１実
施例２ （２Ｓ、３Ｓ）−２−アジド−３−を−ブト
キシカルボニルアミ７−４−ブタノリドの製造 無水ＴＨＦ １００−にジイソプロピルアミン７゜３５
．７を加え、−７８℃に冷却した。これにＮ２気流下１
．５Ｍｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液３５ｉを滴下
し、同温度で１０分間、０℃で１５分間攪拌した。再び
一７８℃に冷却し、（３Ｓ）−３−ｔ−ブトキシカルボ
ニルアミノ−４−ブタノリド５９を無水ＴＨＦ ３０ｉ
に溶かした溶液をゆっくり滴下した。２時間攪拌した後
、ｐ−１ルエンスルホニルアジド５．９１のＴＨＦ （
３ｏｒｎｌ）溶液を滴下し、さらに１時間同温度で攪拌
を続けた。ついで、クロロトリメチルシラン９．５ｒｎ
ｌを滴下し、０°Ｃまで除々に昇温した。反応液を減圧
下に濃縮し、残香に氷水１００ｍ／を加え重曹で中和し
た後酢酸エチルで抽出した。抽出液をＭｇＳＯ４で乾燥
後溶媒を減圧下に留去し、残香をシリカゲルのカラムク
ロマトグラフィーで精製すると、ベンゼン−酢酸エチル
１４：ｌ溶出部より目的物の結晶３ｇ（５０％）が得ら
れた。
ｍｐ、 １１０−１１１°Ｃ
元素分析 Ｃ０Ｈ８４Ｎ４０４として理論値： Ｃ，
４４，６０；Ｈ，５，８２；Ｎ、２３．１４実験値：
Ｃ，４４，６５；Ｈ，５，７６；Ｎ、 ２３．４０〔α
］Ｄ −６９° （、ｃ ＝ ｌ 、 ＥｔＯＨ）ＩＲ
（ＫＢｒ） ２１００，１７８０．．１６８０ｃｍ
−’実施例３ （２３，３Ｓ１３−アミ／−２−アジ
ド−４−ヒドロキシブタン酸の製造 （２Ｓ、３Ｓ）−２−アジド−３−ｔ−ブトキシカルボ
ニルアミノ−４−ブタノリド５ｇに、水冷下、トリフル
オロ酢酸１０−を加えて溶解させ、３０分間水冷下に放
置した後減圧下に濃縮乾固させた。残香を水５０−に溶
かし、アンバーライトＩＲＡ−４５を加えてｐＨ６に調
整した後、ろ過し、ろ液を減圧下に濃縮すると目的物の
結晶２．５ｇ（７６％）が得られた。
４４，６０；Ｈ，５，８２；Ｎ、２３．１４実験値：
Ｃ，４４，６５；Ｈ，５，７６；Ｎ、 ２３．４０〔α
］Ｄ −６９° （、ｃ ＝ ｌ 、 ＥｔＯＨ）ＩＲ
（ＫＢｒ） ２１００，１７８０．．１６８０ｃｍ
−’実施例３ （２３，３Ｓ１３−アミ／−２−アジ
ド−４−ヒドロキシブタン酸の製造 （２Ｓ、３Ｓ）−２−アジド−３−ｔ−ブトキシカルボ
ニルアミノ−４−ブタノリド５ｇに、水冷下、トリフル
オロ酢酸１０−を加えて溶解させ、３０分間水冷下に放
置した後減圧下に濃縮乾固させた。残香を水５０−に溶
かし、アンバーライトＩＲＡ−４５を加えてｐＨ６に調
整した後、ろ過し、ろ液を減圧下に濃縮すると目的物の
結晶２．５ｇ（７６％）が得られた。
Ｉｐ、１３５−１３７℃（分解）
元素分析値 Ｃ４Ｈ，Ｎ４０３として理論値： Ｃ，
３０，００；）ｉ、 ５．０３；Ｎ、 ３４．９９実験
値： Ｃ，３０，２３；Ｈ，４，９８；Ｎ、３５．０３
〔α）Ｄ−１４９° （ｃ ＝１ 、 Ｈ２０）実施例
４ （３５，４Ｓ）−３−アジド〜１−〔（Ｒ，５）
−２，２−ジェトキシ−１−ｐ−ニトロベンジルカルバ
モイルエチル〕−４−ヒドロキシメチル−アゼチジン−
２−オンの製造（２Ｓ、３Ｓ）−３−アミノ−２−アジ
ド−４−ヒドロキシブタン酸０．６７ｆ、ｐ−二トロベ
ンジルイソシアニド０．７９およびジェトキシアセトア
ルデヒドｏ、ｓｇをメタ／−ル１５０−に溶解し、室温
で一夜攪拌した。溶媒を減圧下に留去し、残香をベンゼ
ン−酢酸エチル１：１に溶かしてシリカゲルの短いカラ
ムを通して精製すると目的物１゜’１（９３％）が油状
物として得られた。
３０，００；）ｉ、 ５．０３；Ｎ、 ３４．９９実験
値： Ｃ，３０，２３；Ｈ，４，９８；Ｎ、３５．０３
〔α）Ｄ−１４９° （ｃ ＝１ 、 Ｈ２０）実施例
４ （３５，４Ｓ）−３−アジド〜１−〔（Ｒ，５）
−２，２−ジェトキシ−１−ｐ−ニトロベンジルカルバ
モイルエチル〕−４−ヒドロキシメチル−アゼチジン−
２−オンの製造（２Ｓ、３Ｓ）−３−アミノ−２−アジ
ド−４−ヒドロキシブタン酸０．６７ｆ、ｐ−二トロベ
ンジルイソシアニド０．７９およびジェトキシアセトア
ルデヒドｏ、ｓｇをメタ／−ル１５０−に溶解し、室温
で一夜攪拌した。溶媒を減圧下に留去し、残香をベンゼ
ン−酢酸エチル１：１に溶かしてシリカゲルの短いカラ
ムを通して精製すると目的物１゜’１（９３％）が油状
物として得られた。
ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１□） ２１００．１７６０．１６７
０ｃｍ−１ＮＭＲ（ＣＩ）Ｃ１３） δ１．０９−１．
２９（６Ｈ，ｍ） 、 ３．４０−４．０５＜８Ｈ，ｍ
） 、 ４．２７−４．７２（４Ｈ，ｍ）。
０ｃｍ−１ＮＭＲ（ＣＩ）Ｃ１３） δ１．０９−１．
２９（６Ｈ，ｍ） 、 ３．４０−４．０５＜８Ｈ，ｍ
） 、 ４．２７−４．７２（４Ｈ，ｍ）。
４．７７（１／２Ｈ，ｄ；Ｊ＝５．４Ｈｚ）、４．８６
（１／２Ｈ，ｄ 、 Ｊ＝５．５Ｈｚ ）、、 ４．
９２ （１／２Ｈ。
（１／２Ｈ，ｄ 、 Ｊ＝５．５Ｈｚ ）、、 ４．
９２ （１／２Ｈ。
ｄ、Ｊ＝５．３Ｈｚ）、５．０４（１／２Ｈ，ｄ、Ｊ＝
３．５Ｈｚ ） 、 ７．４２ （２Ｈ，ｄ 、 Ｊ＝
８．９Ｈｚ ） 。
３．５Ｈｚ ） 、 ７．４２ （２Ｈ，ｄ 、 Ｊ＝
８．９Ｈｚ ） 。
８．１６（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．９Ｈｚ）実施例５ （
３Ｓ、４３）−３−アジド−４−ヒドロキシメチル−１
−ｐ−二トロベンジル力ルバモイルメチルーアゼチジン
−２−オンの製造（２Ｓ、３Ｓ）−３−アミノ−２−ア
ジド−４−ヒドロキシブタン酸０．０５ｆ、ｐ−二トロ
ベンジルイソシアニド０．０５３ｇおよび３５％ホルマ
リン水溶液０．０２８９をメタノール１２ｒｎｌに溶解
し、３０°−４０℃に加温して１２時間攪拌した。
３Ｓ、４３）−３−アジド−４−ヒドロキシメチル−１
−ｐ−二トロベンジル力ルバモイルメチルーアゼチジン
−２−オンの製造（２Ｓ、３Ｓ）−３−アミノ−２−ア
ジド−４−ヒドロキシブタン酸０．０５ｆ、ｐ−二トロ
ベンジルイソシアニド０．０５３ｇおよび３５％ホルマ
リン水溶液０．０２８９をメタノール１２ｒｎｌに溶解
し、３０°−４０℃に加温して１２時間攪拌した。
溶媒を減圧下に留去し、残香を酢酸エチルに溶かし、重
曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥後溶
媒を留去すると、目的物０．１ｆ（９６％）が油状物と
して得られた。
曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥後溶
媒を留去すると、目的物０．１ｆ（９６％）が油状物と
して得られた。
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−δ６） δ３．８４（ＩＨ，ｍ）
、３．８８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、３．９６
（ＩＨ，ｍ）。
、３．８８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、３．９６
（ＩＨ，ｍ）。
４．２２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１６．８Ｈｚ）、４．５０（
２Ｈ、ｄ、 Ｊ＝５．９Ｈ２）、 ４．７８（ＩＨ，ｄ
、 Ｊ＝５．１Ｈｚ）、４．９１（ＩＨ，ｍ）、７．４
８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．４Ｈｚ）、 ８．１８（２Ｈ，
ｄ、 Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
２Ｈ、ｄ、 Ｊ＝５．９Ｈ２）、 ４．７８（ＩＨ，ｄ
、 Ｊ＝５．１Ｈｚ）、４．９１（ＩＨ，ｍ）、７．４
８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．４Ｈｚ）、 ８．１８（２Ｈ，
ｄ、 Ｊ＝８．４Ｈｚ）。
８．６６（ＩＨ，ｍ）
実施例６ （３Ｓ、４Ｓ）−３−アジド−１−〔（Ｒ
，５）−２，２−ジェトキシ−１−ｐ−ニトロベンジル
カルバモイルエチル〕−４−メタンスルホニルオキシメ
チル−アゼチジン−２−オンの製造 （３５，４５）−３−アジド−１−［（Ｒ，５）−２，
２−ジェトキシ−１−ｐ−ニトロベンジルカルバモイル
エチル］−４−ヒドロキシメチル−アゼチジン−２−オ
ン１．７ｇを無水ＴＨＦ ２０−に溶かし、水冷下トリ
エチルアミン０．６１ｎｌを加え、ついでメタンスルホ
ニルクロリド０．５ノを無水ＴＨＦ ５ｒｎｌに溶かし
た溶液をゆっくり滴下した。
，５）−２，２−ジェトキシ−１−ｐ−ニトロベンジル
カルバモイルエチル〕−４−メタンスルホニルオキシメ
チル−アゼチジン−２−オンの製造 （３５，４５）−３−アジド−１−［（Ｒ，５）−２，
２−ジェトキシ−１−ｐ−ニトロベンジルカルバモイル
エチル］−４−ヒドロキシメチル−アゼチジン−２−オ
ン１．７ｇを無水ＴＨＦ ２０−に溶かし、水冷下トリ
エチルアミン０．６１ｎｌを加え、ついでメタンスルホ
ニルクロリド０．５ノを無水ＴＨＦ ５ｒｎｌに溶かし
た溶液をゆっくり滴下した。
滴下終了後、室温で１時間攪拌した後、氷水２〇−中に
注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液をＭｇＳＯ４で乾
燥後減圧下に濃縮すると、目的物１．８ｆが油状物とし
て得られた。
注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液をＭｇＳＯ４で乾
燥後減圧下に濃縮すると、目的物１．８ｆが油状物とし
て得られた。
ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２） ２１２０，１７７５．１６８
５０１１−’実施例７ （３Ｓ、４Ｓ）−３−アジド
−１−〔（ＩＨ３，２Ｒ５）−３−ｔ−ブトキシカルボ
ニル−２−テトラヒドロピラニルオキシ−１−ｐ−ニト
ロベンジルカルバモイルプロビル〕−４−ヒドロキシメ
チル−アゼチジノン−２−オンの製造 実施例４と同様にして、ジェトキシアセトアルデヒドの
代わりに、ｔ−ブチル ４−オキソ−３−テトラヒドロ
ビラニルオキシーブタノエートを用い目的物を５７％の
収率で得た。
５０１１−’実施例７ （３Ｓ、４Ｓ）−３−アジド
−１−〔（ＩＨ３，２Ｒ５）−３−ｔ−ブトキシカルボ
ニル−２−テトラヒドロピラニルオキシ−１−ｐ−ニト
ロベンジルカルバモイルプロビル〕−４−ヒドロキシメ
チル−アゼチジノン−２−オンの製造 実施例４と同様にして、ジェトキシアセトアルデヒドの
代わりに、ｔ−ブチル ４−オキソ−３−テトラヒドロ
ビラニルオキシーブタノエートを用い目的物を５７％の
収率で得た。
ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２） ２１２０，１７８０．１７１
５．１６７０ｏｆ’実施例８ （３Ｓ、４５）−３−
アジド−４−ヒドロキシメチル−１−［（Ｒ，Ｓ）−α
−ｐ−二トロベンジル力ルバモイル−３，４−ジメトキ
シベンジルコ−アゼチジン−２−オンの製造実施例４と
同様にして、ジェトキシアセトアルデヒドの代わりに、
３，４−ジメトキシベンズアルデヒドを用いて５０℃で
２日間反応させて、目的物を６５％の収率で得た。
５．１６７０ｏｆ’実施例８ （３Ｓ、４５）−３−
アジド−４−ヒドロキシメチル−１−［（Ｒ，Ｓ）−α
−ｐ−二トロベンジル力ルバモイル−３，４−ジメトキ
シベンジルコ−アゼチジン−２−オンの製造実施例４と
同様にして、ジェトキシアセトアルデヒドの代わりに、
３，４−ジメトキシベンズアルデヒドを用いて５０℃で
２日間反応させて、目的物を６５％の収率で得た。
ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２） ２１２０．１７６０．１６７
５ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）６３．８１（３Ｈ，ｓ
）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、 ３．７０−４．３０（３
Ｈ，ｍ） 、 ４．４５−４．８０（３Ｈ，ｍ）、５．
６６（ＩＨ，ｓ）、６．８３（２Ｈ，ｓ）。
５ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）６３．８１（３Ｈ，ｓ
）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、 ３．７０−４．３０（３
Ｈ，ｍ） 、 ４．４５−４．８０（３Ｈ，ｍ）、５．
６６（ＩＨ，ｓ）、６．８３（２Ｈ，ｓ）。
７．４２ （２Ｈ，ｄ 、 Ｊ＝８．８Ｈｚ ） 、
８．１５ （２Ｈ。
８．１５ （２Ｈ。
ｄ 、 Ｊ−８，８Ｈｚ ）
実施例９ （３Ｓ、４Ｓ）−３−アジド−１−〔（Ｒ
，５）−２，２−ジメトキシ−１−ｐ−ニトロベンジル
カルバモイルエチル〕−４−ヒドロキシメチル−アゼチ
ジン−２−オンの製造実施例４と同様にして、ジェトキ
シアセトアル、デヒドの代わりに、ジメトキシアセトア
ルデヒドを用いて目的物を９５％の収率で得た。
，５）−２，２−ジメトキシ−１−ｐ−ニトロベンジル
カルバモイルエチル〕−４−ヒドロキシメチル−アゼチ
ジン−２−オンの製造実施例４と同様にして、ジェトキ
シアセトアル、デヒドの代わりに、ジメトキシアセトア
ルデヒドを用いて目的物を９５％の収率で得た。
ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２） ２１５０．１７７０．１６７
３ＣＩ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５）δ３．２０−４．００
（３Ｈ，ｍ）、３．４５（６Ｈ，ｓ）、 ４．１５−４
．７０（４Ｈ，ｍ） 、 ４．７５−４．９９（２Ｈ，
ｍ）、７．４５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．７Ｈｚ）、８．１
９（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．７Ｈｚ）実施例１０ （３５
，４５）−３−アジド−１−（（Ｒ，５）−２，２−ジ
メトキシ−１−ｐ−二トロベンジル力ルバモイルエチル
）−４−ｐ−トルエンスルホニルオキシメチル−アゼチ
ジン−２−オンの製造 実施例６と同様にして、（３Ｓ、４ｓ）−３−アジド−
１−［（Ｒ，５）−２，２−ジメトキシ−１−ｐ−ニト
ロベンジルカルバモイルエチル］−４−ヒドロキシメチ
ル−アゼチジン−２−オンにｐ−）ルエンスルホニルク
ロリドを反応すせて目的物を得た。
３ＣＩ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５）δ３．２０−４．００
（３Ｈ，ｍ）、３．４５（６Ｈ，ｓ）、 ４．１５−４
．７０（４Ｈ，ｍ） 、 ４．７５−４．９９（２Ｈ，
ｍ）、７．４５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．７Ｈｚ）、８．１
９（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．７Ｈｚ）実施例１０ （３５
，４５）−３−アジド−１−（（Ｒ，５）−２，２−ジ
メトキシ−１−ｐ−二トロベンジル力ルバモイルエチル
）−４−ｐ−トルエンスルホニルオキシメチル−アゼチ
ジン−２−オンの製造 実施例６と同様にして、（３Ｓ、４ｓ）−３−アジド−
１−［（Ｒ，５）−２，２−ジメトキシ−１−ｐ−ニト
ロベンジルカルバモイルエチル］−４−ヒドロキシメチ
ル−アゼチジン−２−オンにｐ−）ルエンスルホニルク
ロリドを反応すせて目的物を得た。
ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２） ２１１０，１７７５．１６８
５０１１−”ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ２．４６（３
Ｈ，ｓ）、３．４５（２Ｈ。
５０１１−”ＮＭＲ（ＣＤＣＩ、） δ２．４６（３
Ｈ，ｓ）、３．４５（２Ｈ。
ｓ）、３．４７（４Ｈ，ｓ）、４．１９−５．００（８
Ｈ。
Ｈ。
ｍ）、７．４１（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．４
７Ｃ２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．８８（２Ｈ，ｄ
、Ｊ＝８．７Ｈｚ ） 、 ８．２６ （２Ｈ，ｄ 、
Ｊ＝８．７Ｈｚ ）実施例１１ （３Ｓ、４Ｓ）−
３−アジド−１−ｐ−ニトロベンジルカルバモイルメチ
ル−４−ｐ−）ルエンスルホニルオキシメチルーアゼチ
ジン−２−オンの製造 実施例６と同様にして、（３５，４５）−３−アジド−
４−ヒドロキシメチル−１−ｐ−二トロペンジル力ルバ
モイルメチルーアゼチジン−２−オンにｐ−トルエンス
ルホニルクロリドを反応させて目的物を得た。
７Ｃ２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．８８（２Ｈ，ｄ
、Ｊ＝８．７Ｈｚ ） 、 ８．２６ （２Ｈ，ｄ 、
Ｊ＝８．７Ｈｚ ）実施例１１ （３Ｓ、４Ｓ）−
３−アジド−１−ｐ−ニトロベンジルカルバモイルメチ
ル−４−ｐ−）ルエンスルホニルオキシメチルーアゼチ
ジン−２−オンの製造 実施例６と同様にして、（３５，４５）−３−アジド−
４−ヒドロキシメチル−１−ｐ−二トロペンジル力ルバ
モイルメチルーアゼチジン−２−オンにｐ−トルエンス
ルホニルクロリドを反応させて目的物を得た。
ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２） ２１２０．１７７７．１６９
０Ｃ８ｌ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５） ６２．４４（３
Ｈ，ｓ）、４．１２（２Ｈ。
０Ｃ８ｌ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５） ６２．４４（３
Ｈ，ｓ）、４．１２（２Ｈ。
ＡＢｑ）、４．２２（２Ｈ，ｓ）、４．５１（２Ｈ，ｄ
。
。
Ｊ＝６．５Ｈｚ）、 ４．９１（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５Ｈ
ｚ）。
ｚ）。
７．０５（ＩＨ，ｍ）、７．４２（２Ｈ，ｄ 、Ｊ＝８
．９Ｈｚ）、７．４５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．２Ｈ２）、
７．８０（２Ｈ、ｄ 、 Ｊ＝８．２Ｈ２） 、 ８．
１４ （２Ｈ、ｄ 、 Ｊ＝８．９Ｈｚ） 実施例１２ （３５，−４５）−３−アジド−４−ヨ
ードメチル−１−１）−二トロベンジル力ルバモイルメ
チルーアゼチジンー２−オンの製造（３Ｓ、４Ｓ）−３
−アジド−１−ｐ−二トロベンジル力ルバモイルメチル
−４−ｐ−トルエンスルホニルオキシメチル−アゼチジ
ン−２−オン０．１７５９．およびＮａＩ Ｏ，０８３
９をアセトン１〇−中２日間還流下に加熱した。溶媒を
留去し残香をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーで
精製し、ベンゼン−酢酸エチル（２：１）溶出部より目
的物０．１２５ｇを油状物として得た。
．９Ｈｚ）、７．４５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．２Ｈ２）、
７．８０（２Ｈ、ｄ 、 Ｊ＝８．２Ｈ２） 、 ８．
１４ （２Ｈ、ｄ 、 Ｊ＝８．９Ｈｚ） 実施例１２ （３５，−４５）−３−アジド−４−ヨ
ードメチル−１−１）−二トロベンジル力ルバモイルメ
チルーアゼチジンー２−オンの製造（３Ｓ、４Ｓ）−３
−アジド−１−ｐ−二トロベンジル力ルバモイルメチル
−４−ｐ−トルエンスルホニルオキシメチル−アゼチジ
ン−２−オン０．１７５９．およびＮａＩ Ｏ，０８３
９をアセトン１〇−中２日間還流下に加熱した。溶媒を
留去し残香をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーで
精製し、ベンゼン−酢酸エチル（２：１）溶出部より目
的物０．１２５ｇを油状物として得た。
ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２） ２１１０，１７７５．１６９
０ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ ３） ６３．２５ （
２ｆ（、ｍ） 、 ４．０４ （２Ｈ、ｓ）、４．２１
（ＩＨ，ｍ）、４．５２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．０Ｈｚ
） 、 ４．９０ （ＩＨ，ｄ 、 Ｊ＝５．５Ｈｚ
） 。
０ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ ３） ６３．２５ （
２ｆ（、ｍ） 、 ４．０４ （２Ｈ、ｓ）、４．２１
（ＩＨ，ｍ）、４．５２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．０Ｈｚ
） 、 ４．９０ （ＩＨ，ｄ 、 Ｊ＝５．５Ｈｚ
） 。
７．０５（ＩＨ，ｍ）、７．４６（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．
７Ｈ２） 、 ８．６６ （２Ｈ，ｄ 、 Ｊ＝８．７
Ｈｚ ＞実施例１３ （３５，４３ｉ３−アジド−４
−ヒドロキシメチル−１−（（ＩＨ３，２Ｒ５）−２，
３−エポキシ−１−ｐ−ニトロベンジルカルバモイルプ
ロビル〕−アゼチジン−２−オンの製造 実施例４と同様にして、ジェトキシアセトアルデヒドの
代わりにグリシドアルデヒドを用いて目的物を９６％の
収率で得た。
７Ｈ２） 、 ８．６６ （２Ｈ，ｄ 、 Ｊ＝８．７
Ｈｚ ＞実施例１３ （３５，４３ｉ３−アジド−４
−ヒドロキシメチル−１−（（ＩＨ３，２Ｒ５）−２，
３−エポキシ−１−ｐ−ニトロベンジルカルバモイルプ
ロビル〕−アゼチジン−２−オンの製造 実施例４と同様にして、ジェトキシアセトアルデヒドの
代わりにグリシドアルデヒドを用いて目的物を９６％の
収率で得た。
Ｉ Ｒ（ＣＨ２Ｃｌ□） ２１２０，１７７０．１
６７５ＣＩ１１−”ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５） δ２．９
２（２Ｈ，ｍ）、３．４５（２Ｈ。
６７５ＣＩ１１−”ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５） δ２．９
２（２Ｈ，ｍ）、３．４５（２Ｈ。
ｍ）、３．９５（２Ｈ，ｍ）、４．１０−４．３２（３
Ｈ。
Ｈ。
ｍ）、４．０４（２Ｈ，ｄ、Ｊ−６，０Ｈｚ）、４．８
６（ＩＨ，ｄ 、 Ｊ＝＝５．９Ｈｚ ） 、 ７．４
６ （２Ｈ，ｄ 、 Ｊ＝８．０Ｈｚ ） 、 ８．１
８ （２Ｈ，ｄ 、 Ｊ＝８．０Ｈｚ ）参考例１
（３Ｓ、４３）−３−アジド−１−（（Ｒ，５）−２，
２−ジェトキシ−１−ｐ−二トロベンジルオキシ力ルポ
ニルエチル）−４−メタンスルホニルオキシメチル−ア
ゼチジン−２−オンの製造 無水酢酸ナトリウム１．１ｆＭを無水クロロホルム１０
ｒｎｌにけん濁し、氷冷した。これに２゜３ＭＮ２０４
−クロロホルム溶液４．５．ｎ／を滴下し５分間攪拌し
た。ついで（３Ｓ、４Ｓ）−３−アジド−１−Ｃ（Ｒ，
５）−２，２−ジェトキシ−１−ｐ−二トロベンジル力
ルバモイルエチル］−４−メタンスルホニルオキシメチ
ル−アゼチジン−２−オン１．８ｇをクロロホルム１０
−に溶かした溶液を滴下し、さらに１時間水冷の＝！＼
攪拌した。飽和重曹水５祠を加え、クロロホルム層を分
ｍし、ＭｇＳＯ４で乾燥後減圧下に留去した。残香に四
塩化炭素５〇−を加え、４時間還流下に加熱した。溶媒
を減圧下に留去し、残香をシリカゲルのカラムクロマト
グラフィーで精１し、目的物１．０２９ （５７％）を
油状物として得た。
６（ＩＨ，ｄ 、 Ｊ＝＝５．９Ｈｚ ） 、 ７．４
６ （２Ｈ，ｄ 、 Ｊ＝８．０Ｈｚ ） 、 ８．１
８ （２Ｈ，ｄ 、 Ｊ＝８．０Ｈｚ ）参考例１
（３Ｓ、４３）−３−アジド−１−（（Ｒ，５）−２，
２−ジェトキシ−１−ｐ−二トロベンジルオキシ力ルポ
ニルエチル）−４−メタンスルホニルオキシメチル−ア
ゼチジン−２−オンの製造 無水酢酸ナトリウム１．１ｆＭを無水クロロホルム１０
ｒｎｌにけん濁し、氷冷した。これに２゜３ＭＮ２０４
−クロロホルム溶液４．５．ｎ／を滴下し５分間攪拌し
た。ついで（３Ｓ、４Ｓ）−３−アジド−１−Ｃ（Ｒ，
５）−２，２−ジェトキシ−１−ｐ−二トロベンジル力
ルバモイルエチル］−４−メタンスルホニルオキシメチ
ル−アゼチジン−２−オン１．８ｇをクロロホルム１０
−に溶かした溶液を滴下し、さらに１時間水冷の＝！＼
攪拌した。飽和重曹水５祠を加え、クロロホルム層を分
ｍし、ＭｇＳＯ４で乾燥後減圧下に留去した。残香に四
塩化炭素５〇−を加え、４時間還流下に加熱した。溶媒
を減圧下に留去し、残香をシリカゲルのカラムクロマト
グラフィーで精１し、目的物１．０２９ （５７％）を
油状物として得た。
ＩＲ（ＣＨ２Ｃ１２） ２１２０．１７７５．１７５
５ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５） δ １．１０−１
．３０（６Ｈ，ｍ） 、３．０５（３／２Ｈ，ｓ ）
＋’ ３．０８ （３／２Ｈ，ｓ ） 、 ３．３５−
３．８５（５Ｈ，ｍ）、４．２３−４．３７（ＩＨ，ｍ
）。
５ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５） δ １．１０−１
．３０（６Ｈ，ｍ） 、３．０５（３／２Ｈ，ｓ ）
＋’ ３．０８ （３／２Ｈ，ｓ ） 、 ３．３５−
３．８５（５Ｈ，ｍ）、４．２３−４．３７（ＩＨ，ｍ
）。
４．４８ （ＩＨ，ｍ） 、 ４．６６−４．９６ （
ｍ、 ４Ｈ） 。
ｍ、 ４Ｈ） 。
５．２５（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝１３Ｈｚ）、５．３１（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝１３Ｈｚ＞、５．３４（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１３
Ｈｚ）、７−５１（ＩＨ１ｄ＋Ｊ＝８．８Ｈｚ）１，７
．５２＜ＩＨ、ｄ 、 Ｊ＝８．８Ｈｚ ） 、 ８．
２５ （２Ｈ，ｄ 、 Ｊ＝８．８２Ｈｚ） 参考例２ （３５，４Ｓ）−３−アジド−１−（２−
ヒドロキシ−１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
ビニル）−４−メタンスルホニルオキシメチル−アゼチ
ジン−２−オンの製造（３５，４Ｓ）−３−アジド−ｘ
−Ｃ（Ｒ，５）−２，２−ジェトキシ−１−ｐ−二トロ
ペンジルオキシ力ルポニルエチル〕−４−メタンスルホ
ニルオキシメチル−アゼチジン−２−オン１．０ｇを９
５％含水トリフルオロ酢酸５−に溶かし、５０℃に１時
間加温した。減圧下に濃縮し、残香を酢酸エチルで抽出
し、水洗の後溶媒を留去すると、 ゛目的物０．６
８ｇ（８１％）が得られた。
，ｄ、Ｊ＝１３Ｈｚ＞、５．３４（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１３
Ｈｚ）、７−５１（ＩＨ１ｄ＋Ｊ＝８．８Ｈｚ）１，７
．５２＜ＩＨ、ｄ 、 Ｊ＝８．８Ｈｚ ） 、 ８．
２５ （２Ｈ，ｄ 、 Ｊ＝８．８２Ｈｚ） 参考例２ （３５，４Ｓ）−３−アジド−１−（２−
ヒドロキシ−１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
ビニル）−４−メタンスルホニルオキシメチル−アゼチ
ジン−２−オンの製造（３５，４Ｓ）−３−アジド−ｘ
−Ｃ（Ｒ，５）−２，２−ジェトキシ−１−ｐ−二トロ
ペンジルオキシ力ルポニルエチル〕−４−メタンスルホ
ニルオキシメチル−アゼチジン−２−オン１．０ｇを９
５％含水トリフルオロ酢酸５−に溶かし、５０℃に１時
間加温した。減圧下に濃縮し、残香を酢酸エチルで抽出
し、水洗の後溶媒を留去すると、 ゛目的物０．６
８ｇ（８１％）が得られた。
ＩＲ（ニー）） ２１００．１７６０．１７１０Ｇ
−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６） δ３，１０ （３Ｈ
，ｓ ） 、 ４．２−４．５（３Ｈ，ｂｒｏａｄ ｓ
）、５．１０（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５．１Ｎ２）、５．
３５（２’Ｈ，３）、７．６２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．８
Ｈｚ）、７．７５（１／２Ｈ，ｓ）、７．９０（１／２
Ｈ，ｓ）、８．２８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．８Ｈｚ）参考
例３ （６Ｓ、７Ｓ）−７−アジド−８−オキソ−４
−オキサ−１−アザビシクロ［４，２，０］オクト−２
−エン−２−カル゛ボン酸の製造 （３Ｓ、４Ｓ）−３−アジド−１−（２−ヒドロキシ−
１−ｐ−二トロベンジルオキシ力ルポニルビニル）−４
−メタンスルホニルオキシメチル−アゼチジン−２−オ
ン０．４ｇを塩化メチレン１〇−に溶かし、これにトリ
エチルアミン０．１２ｍ／を加えて３時間加熱還流した
。反応液を氷冷した後、５％塩酸、重曹水、水で順次洗
浄しＭｇＳＯ４で乾燥後、溶媒を減圧下に留去すると、
目的物０．３９（９４％）が結晶として得られた。
−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６） δ３，１０ （３Ｈ
，ｓ ） 、 ４．２−４．５（３Ｈ，ｂｒｏａｄ ｓ
）、５．１０（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝５．１Ｎ２）、５．
３５（２’Ｈ，３）、７．６２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．８
Ｈｚ）、７．７５（１／２Ｈ，ｓ）、７．９０（１／２
Ｈ，ｓ）、８．２８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．８Ｈｚ）参考
例３ （６Ｓ、７Ｓ）−７−アジド−８−オキソ−４
−オキサ−１−アザビシクロ［４，２，０］オクト−２
−エン−２−カル゛ボン酸の製造 （３Ｓ、４Ｓ）−３−アジド−１−（２−ヒドロキシ−
１−ｐ−二トロベンジルオキシ力ルポニルビニル）−４
−メタンスルホニルオキシメチル−アゼチジン−２−オ
ン０．４ｇを塩化メチレン１〇−に溶かし、これにトリ
エチルアミン０．１２ｍ／を加えて３時間加熱還流した
。反応液を氷冷した後、５％塩酸、重曹水、水で順次洗
浄しＭｇＳＯ４で乾燥後、溶媒を減圧下に留去すると、
目的物０．３９（９４％）が結晶として得られた。
ｍｐ、１４９−１５０℃
〔α）、−３４，２°（ｃ＝１． ＥｔＯＨ）［Ｖ （
ＥｔＱＨ） λｍｉｘ ２６９ （’ １６，６５
０）ＩＲ（ＫＢｒ） ２１００，１７７０．１７００
ｃｍ−”ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５） δ３．７９（ＩＨ，
ｍ）、３．９４（ＩＨ、ｄｄ、Ｊ＝９．５，１１．３Ｈ
ｚ）、４．６０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝３．７，１１．３Ｈ
ｚ）、５．２７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５．２Ｈｚ）、５．２
８（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１３．５Ｈｚ）。
ＥｔＱＨ） λｍｉｘ ２６９ （’ １６，６５
０）ＩＲ（ＫＢｒ） ２１００，１７７０．１７００
ｃｍ−”ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５） δ３．７９（ＩＨ，
ｍ）、３．９４（ＩＨ、ｄｄ、Ｊ＝９．５，１１．３Ｈ
ｚ）、４．６０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝３．７，１１．３Ｈ
ｚ）、５．２７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５．２Ｈｚ）、５．２
８（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１３．５Ｈｚ）。
５．４３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１３．５Ｈｚ）、７．４０（
ＩＨ。
ＩＨ。
ｓ）、７．６０（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．９Ｈｚ）、８．２
３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．９Ｈｚ） 参考例４ （６５，７Ｓ）−７−アジド−８−オキソ
−４−チア−１−アザビシクロ［４、２。
３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．９Ｈｚ） 参考例４ （６５，７Ｓ）−７−アジド−８−オキソ
−４−チア−１−アザビシクロ［４、２。
０］オクト−２−エン−カルボン酸の製造（３５，４５
）−３−アジド−１−（２−ヒドロキシ−１−ｐ−二ト
ロベンジルオキシ力ルポニルビニル）−４−メシルオキ
シメチル−アゼチジン−２−オン０．１７！を無水ＴＨ
Ｆ １０ｉに溶かし、水冷下トリエチルアミンＱ、０５
５ｍ／一ついでメタンスルホニルクロリド０．０４５９
を滴下した。
）−３−アジド−１−（２−ヒドロキシ−１−ｐ−二ト
ロベンジルオキシ力ルポニルビニル）−４−メシルオキ
シメチル−アゼチジン−２−オン０．１７！を無水ＴＨ
Ｆ １０ｉに溶かし、水冷下トリエチルアミンＱ、０５
５ｍ／一ついでメタンスルホニルクロリド０．０４５９
を滴下した。
１時間攪拌後、減圧下に濃縮した。残香に酢酸エチル２
０ｒｎｌを加え、５％塩酸、重曹水、水で順次洗浄した
後、酢酸エチル層をＭｇＳＯ４で乾燥し、減圧下濃縮し
た。油状残有を塩化メチレン５ｄに溶かし、水冷下３分
間硫化水素を通じ、ついでトリエチルアミン０．１３４
を含む塩化メチレン溶液５−を氷冷下にゆっくり滴下し
た。Ｎ２ガスを通じて硫化水素を追い出し、５％塩酸、
重曹水、水で順次洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥した。溶媒
を減圧下に留去し、残香にエーテルを加えると、目的物
０゜０７ｙ（５０％）が結晶として得られた。
０ｒｎｌを加え、５％塩酸、重曹水、水で順次洗浄した
後、酢酸エチル層をＭｇＳＯ４で乾燥し、減圧下濃縮し
た。油状残有を塩化メチレン５ｄに溶かし、水冷下３分
間硫化水素を通じ、ついでトリエチルアミン０．１３４
を含む塩化メチレン溶液５−を氷冷下にゆっくり滴下し
た。Ｎ２ガスを通じて硫化水素を追い出し、５％塩酸、
重曹水、水で順次洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥した。溶媒
を減圧下に留去し、残香にエーテルを加えると、目的物
０゜０７ｙ（５０％）が結晶として得られた。
ｍｐ、 １４７−１４８℃
〔α］Ｄ−４６．６° （ｃ ＝ ０．５ 、 ｄ １
ｏｘａｎｅ ）λＥｔ”Ｈ３０２ｎｍ （６１３，２
００）ａｘ ＩＲ（ＫＢｒ） ２１００，１７６０．１７００ｃ
ｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５） δ ３．０３−３．１
６（２Ｈ，ｍ）。
ｏｘａｎｅ ）λＥｔ”Ｈ３０２ｎｍ （６１３，２
００）ａｘ ＩＲ（ＫＢｒ） ２１００，１７６０．１７００ｃ
ｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５） δ ３．０３−３．１
６（２Ｈ，ｍ）。
３．９４（ＩＨ，ｍ）、５．２２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５．
１Ｈｚ）、５．２９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１３．３Ｈｚ）、
５．４１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１３．３Ｈｚ）、７．１３（
ＩＨ，ｓ）。
１Ｈｚ）、５．２９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１３．３Ｈｚ）、
５．４１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１３．３Ｈｚ）、７．１３（
ＩＨ，ｓ）。
７．６０ （２Ｈ，ｄ 、 Ｊ＝８．８Ｈｚ ） 、
８．２４ （２Ｈ，ｄ、 Ｊ＝８．８Ｈｚ ）
８．２４ （２Ｈ，ｄ、 Ｊ＝８．８Ｈｚ ）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 次の式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｘは水酸基、ハロゲン、アルキルもしくはアリ
ールスルホニルオキシ基またはハロゲン化低級アルキル
スルホニルオキシ基：Ｙは酸素またはＮＨ基：Ｒ＾１は
水素、炭素数１−６個のアルキル基、ジ低級アルコキシ
アルキル基、フェニル基；低級アルキル基、水酸基、−
ＯＲ＾３、−ＳＲ＾３および−ＣＯＯＲ＾３（式中、Ｒ
＾３は低級アルキル基、ベンジル基もしくはニトロベン
ジル基を表わす）よりなる群から選ばれた１−４個の基
で置換されたフェニル基、式▲数式、化学式、表等があ
ります▼、▲数式、化学式、表等があります▼もし くは▲数式、化学式、表等があります▼で示される基（
式中、−ＯＲ＾４は保護されまたはされない水酸基を表
わす）、トリチル基、ベンジル基、メトキシベンジル基
、ニトロベンジル基、ベンジルオキシカルボニル基、低
級アルコキシアルキル基、テトラヒドロピラニル基また
はトリ低級アルキルシリル基：Ｒ＾２はエステル化もし
くはアミド化されまたはされないカルボキシル基もしく
はその塩、炭素数１−１０のアルキル基、シクロアルキ
ル基、フェニル基；低級アルキル基、ハロゲン、シアノ
基およびニトロ基よりなる群から選ばれた１−４個の基
で置換されたフェニル基、ジフェニルメチル基、ベンジ
ル基、ニトロベンジル基またはメトキシベンジル基を表
わす〕 で示される光学活性３−アジド−アゼチジン−２−オン
−１−イル酢酸誘導体
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59190059A JPS6168465A (ja) | 1984-09-10 | 1984-09-10 | 光学活性３−アジド−アゼチジン−２−オン−１−イル酢酸誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59190059A JPS6168465A (ja) | 1984-09-10 | 1984-09-10 | 光学活性３−アジド−アゼチジン−２−オン−１−イル酢酸誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6168465A true JPS6168465A (ja) | 1986-04-08 |
Family
ID=16251658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59190059A Pending JPS6168465A (ja) | 1984-09-10 | 1984-09-10 | 光学活性３−アジド−アゼチジン−２−オン−１−イル酢酸誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6168465A (ja) |
-
1984
- 1984-09-10 JP JP59190059A patent/JPS6168465A/ja active Pending
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