JPS6169963A - 蒸着用電子銃装置 - Google Patents
蒸着用電子銃装置Info
- Publication number
- JPS6169963A JPS6169963A JP19312584A JP19312584A JPS6169963A JP S6169963 A JPS6169963 A JP S6169963A JP 19312584 A JP19312584 A JP 19312584A JP 19312584 A JP19312584 A JP 19312584A JP S6169963 A JPS6169963 A JP S6169963A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hearth
- vacuum
- fixed
- block
- electron gun
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- Granted
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、ルツボ交゛換機能を備えた、真空蒸着用の多
連型電子銃に関するものである。
連型電子銃に関するものである。
（従来技術とその問題点）
真空蒸着用の多連型電子銃を用いる多層膜作成に於いて
は、数種類の蒸発物を同一ハースブーツク上に形成され
た別々のルツボに装填し、必要なルツボな電子ビーム照
射位置に移動させる事を繰り返して、複数蒸発物の多層
の蒸着を行なっている。第２図により従来技術を説明す
ると、第２図（ａ）、はハースブロックの平面図、第２
図伽）はその正面断面図である。通常、電子ビーム源１
から発生する電子ビーム２は、紙面に垂直な磁場３によ
り偏向され、ハースブロック４上のルツボ５ Ａ （（
ａ）図参照）の蒸発物６０表面上の点Ｐに照射されるよ
５構成されている。従来は、このビーム照射位置を固定
してこの位置に他のルツボ５Ｂ、５Ｃ。
は、数種類の蒸発物を同一ハースブーツク上に形成され
た別々のルツボに装填し、必要なルツボな電子ビーム照
射位置に移動させる事を繰り返して、複数蒸発物の多層
の蒸着を行なっている。第２図により従来技術を説明す
ると、第２図（ａ）、はハースブロックの平面図、第２
図伽）はその正面断面図である。通常、電子ビーム源１
から発生する電子ビーム２は、紙面に垂直な磁場３によ
り偏向され、ハースブロック４上のルツボ５ Ａ （（
ａ）図参照）の蒸発物６０表面上の点Ｐに照射されるよ
５構成されている。従来は、このビーム照射位置を固定
してこの位置に他のルツボ５Ｂ、５Ｃ。
５Ｄを移動させる構成をとり、＊功孟劫；これら複数の
ルツボ５八〜５Ｄを同一円周５０上に配置し、円形のハ
ース４の全体を円５０の中心軸４００周りに回転させて
いた。ルツボ５Ａ、５Ｂ、５Ｃ，５Ｄは電子ビーム２で
加熱されて高温となる蒸発物６と融合する可能性がある
ので、それを避ける為に冷却する必要があり、冷却水等
を冷却体通路７に通して、真空外部からこの回転するハ
ースブロック４内に導入しなげればならない。前記大気
等が 冷却体通路７から冷却水或い％回転するバースズロック
４と固定軸８とがつくる隙間から真空中に漏れ出すのを
防止するために、この隙間にはＯリングガスケツ）９Ａ
、９Ｂが用いられている。
ルツボ５八〜５Ｄを同一円周５０上に配置し、円形のハ
ース４の全体を円５０の中心軸４００周りに回転させて
いた。ルツボ５Ａ、５Ｂ、５Ｃ，５Ｄは電子ビーム２で
加熱されて高温となる蒸発物６と融合する可能性がある
ので、それを避ける為に冷却する必要があり、冷却水等
を冷却体通路７に通して、真空外部からこの回転するハ
ースブロック４内に導入しなげればならない。前記大気
等が 冷却体通路７から冷却水或い％回転するバースズロック
４と固定軸８とがつくる隙間から真空中に漏れ出すのを
防止するために、この隙間にはＯリングガスケツ）９Ａ
、９Ｂが用いられている。
従来のこの第２図装置の利点は、Ｏリングガスケット９
Ａ、９Ｂを用いることＫより、回転するバースゲｐ２り
４と軸８に設けられた冷却体通路７を分離することが出
来、ハースグロック４が簡澤になり、装置全体をコンパ
クトに構成出来る点である。
Ａ、９Ｂを用いることＫより、回転するバースゲｐ２り
４と軸８に設けられた冷却体通路７を分離することが出
来、ハースグロック４が簡澤になり、装置全体をコンパ
クトに構成出来る点である。
一方この装置の欠点は、ハースブーツ２４０回転時に、
０リングガスケ、）９Ａ、９Ｂの摺動部から突発的なリ
ーク（矢印１０）が発生することである。これは冷却体
通路７から導入された冷却水や大気等が０リング９Ａ、
９Ｂの両側の圧力差により摺動時に真空側へ漏れ出すも
ので、多層膜作成においては多層膜の眉間に不純物の混
入を発生し、多くの場合デバイス作成上の重大な支障と
なる。更に、この装置の欠点として、Ｏリングガスケ、
トの耐熱限界の低いこと、及び真空中で摺動部の摩擦抵
抗の大きいことが問題を生じ、ベーキングを必要とする
超高真空中での蒸着には不向きである。またハースブー
ツクの回転駆動機構を真空側に設ける必要があるため、
ビーム照射位置に所望のルツボ中心が移動したことを検
知するルツボ位置検出用スイッチも真空側に設置する必
要があり、この点も信頼性上問題となる。
０リングガスケ、）９Ａ、９Ｂの摺動部から突発的なリ
ーク（矢印１０）が発生することである。これは冷却体
通路７から導入された冷却水や大気等が０リング９Ａ、
９Ｂの両側の圧力差により摺動時に真空側へ漏れ出すも
ので、多層膜作成においては多層膜の眉間に不純物の混
入を発生し、多くの場合デバイス作成上の重大な支障と
なる。更に、この装置の欠点として、Ｏリングガスケ、
トの耐熱限界の低いこと、及び真空中で摺動部の摩擦抵
抗の大きいことが問題を生じ、ベーキングを必要とする
超高真空中での蒸着には不向きである。またハースブー
ツクの回転駆動機構を真空側に設ける必要があるため、
ビーム照射位置に所望のルツボ中心が移動したことを検
知するルツボ位置検出用スイッチも真空側に設置する必
要があり、この点も信頼性上問題となる。
従来技術の別の例を第３図に示す。ｔｓａ図ではバース
ゲｐ２り４に冷却管７が固定されこれがハース支持体を
兼ねており、直線上に配置された複数のルツボ５Ａ、５
Ｂ、５Ｃ，５Ｄのうちの所望のものをビーム四射位置点
Ｐに移動するようになっている。ハースブロック４の結
合部の真空な保つ為に、べｑ−ズ１２を用いて前記直線
方向のべμｍズ１２の伸縮運動が利用されている。この
装置の利点は、シール部にベローズ１２を用いる為、ル
ツボ移動時のリークが皆無である点と、ベーカブルであ
る点とであ１す、先の例であげた欠点は解消されている
。しかしその反面ベローズの伸縮方向に複数のルツボ５
Ａ、５Ｂ、５Ｃ，５Ｄが直線上に配置される結果、電子
銃長手方向の寸法１３が大ぎくなり、この装置を真空装
置に取り付けようとするとき種々の構造的な制約を受け
る欠点がある。
ゲｐ２り４に冷却管７が固定されこれがハース支持体を
兼ねており、直線上に配置された複数のルツボ５Ａ、５
Ｂ、５Ｃ，５Ｄのうちの所望のものをビーム四射位置点
Ｐに移動するようになっている。ハースブロック４の結
合部の真空な保つ為に、べｑ−ズ１２を用いて前記直線
方向のべμｍズ１２の伸縮運動が利用されている。この
装置の利点は、シール部にベローズ１２を用いる為、ル
ツボ移動時のリークが皆無である点と、ベーカブルであ
る点とであ１す、先の例であげた欠点は解消されている
。しかしその反面ベローズの伸縮方向に複数のルツボ５
Ａ、５Ｂ、５Ｃ，５Ｄが直線上に配置される結果、電子
銃長手方向の寸法１３が大ぎくなり、この装置を真空装
置に取り付けようとするとき種々の構造的な制約を受け
る欠点がある。
（発明の目的）
本発明は上述した従来装置の欠点を解消し、装置全体を
コンパクトな形状、にして真空室に取り付は易くし、リ
ークタイトでかつベーカプルな蒸着用−子銃装匁を提供
せんとするものである。
コンパクトな形状、にして真空室に取り付は易くし、リ
ークタイトでかつベーカプルな蒸着用−子銃装匁を提供
せんとするものである。
（発明の構成）
本発明は、後端部を真空室壁に気密に固定するベローズ
の前端部を挾んで、真空側にはノーースズ口、りを気密
に固定し、大気側には７Ｍ−スズ口。
の前端部を挾んで、真空側にはノーースズ口、りを気密
に固定し、大気側には７Ｍ−スズ口。
り内の冷却室に通じる一対の冷却体通路及びハース支持
体の遊端を固定し、前記ハース支持体の他端をハース回
転装置に固定することで、前記バースズロックをハース
回転装置の回転軸の回りに未帰切会＃所定角度だけ回転
可能に支持し、前記目的を達成するものである。
体の遊端を固定し、前記ハース支持体の他端をハース回
転装置に固定することで、前記バースズロックをハース
回転装置の回転軸の回りに未帰切会＃所定角度だけ回転
可能に支持し、前記目的を達成するものである。
（実施例）
第１図は本発明の実施例で、（ａｌは平面図、（ｂ）は
正虱断面図である。軸６０を中心とする円弧１４上に複
数のルツボ５Ａ、５Ｂ、５Ｃ，５Ｄを配置するハースプ
ジ、り４には、後端部１７を真空室へ２２に気密に固定
するベローズ１２の前端部２１を気密に貫通して冷却体
通路７が往９．２本のパイプ状外観をなして固定され、
バースゲｐ、り４の冷却室２３に連通している。この前
端部２１にはハース支持体７０ｆ）遊端もまた固定され
ていて、このハース支持体７０はベローズ１２の内部を
通りヰ空室外の小室１５内で下方に折れ曲がり、他端を
大気側のハース回転装置１６１Ｃ固定されている。ハー
ス回転装置１６は図示しな℃・駆動装置で、ａｉＩ６０
のまわりに、行４・述の角度θだけ回転可能である。
正虱断面図である。軸６０を中心とする円弧１４上に複
数のルツボ５Ａ、５Ｂ、５Ｃ，５Ｄを配置するハースプ
ジ、り４には、後端部１７を真空室へ２２に気密に固定
するベローズ１２の前端部２１を気密に貫通して冷却体
通路７が往９．２本のパイプ状外観をなして固定され、
バースゲｐ、り４の冷却室２３に連通している。この前
端部２１にはハース支持体７０ｆ）遊端もまた固定され
ていて、このハース支持体７０はベローズ１２の内部を
通りヰ空室外の小室１５内で下方に折れ曲がり、他端を
大気側のハース回転装置１６１Ｃ固定されている。ハー
ス回転装置１６は図示しな℃・駆動装置で、ａｉＩ６０
のまわりに、行４・述の角度θだけ回転可能である。
第１図の（ａ）図で所望のルツボ中心をビーム照射点２
付餉に移動させるには、前記ハース回転装置１６を１１
１１６０のまわりに、角θの範囲内の所定角だけ、水平
に回転さセればよい。この角θは、両端部のルツボ５Ｃ
，５ＤがｆＨ： ’６０に対して張る角である。ベロー
ズ１２は真空を砿ることなくこの水平首宍回伝を可能に
する。
付餉に移動させるには、前記ハース回転装置１６を１１
１１６０のまわりに、角θの範囲内の所定角だけ、水平
に回転さセればよい。この角θは、両端部のルツボ５Ｃ
，５ＤがｆＨ： ’６０に対して張る角である。ベロー
ズ１２は真空を砿ることなくこの水平首宍回伝を可能に
する。
第４図はハース支持体７０を一対の中空パイプで樗成し
、これ自体を冷却水通路に兼用した本発明の別の実施例
である。
、これ自体を冷却水通路に兼用した本発明の別の実施例
である。
これら詰１図、第４図の′＃、施伊Ｊの蒸着用電子銃装
置には以下の効果がある。
置には以下の効果がある。
Ｗべｐ−ズを用いた首振り運動のため、ベーカプルかつ
リークタイトでありしかも、電子銃装置全体をコンパク
トに構成することが出来る。
リークタイトでありしかも、電子銃装置全体をコンパク
トに構成することが出来る。
冷却水パイプをそのままハース支持体として使用するこ
とや、ハース支持体を第１図（ｂｌの様に下方に曲げる
などの構成は一層コンパクト化に貢献する。
とや、ハース支持体を第１図（ｂｌの様に下方に曲げる
などの構成は一層コンパクト化に貢献する。
ＣＢｌハース回転装置１６を大気側に設置出来る為、ル
ツボの位置検出スイッチ１１を大気側に取り付けること
が可能となり、信類性が面上する。
ツボの位置検出スイッチ１１を大気側に取り付けること
が可能となり、信類性が面上する。
尚ルツボの首撮り半径を大きくすることで、ルツボ数を
増加させることは容易である。
増加させることは容易である。
（発明の効果）
本発明の蒸着用電子銃装置、は、従来のＯリング方式の
回転体ハースブロックの有するコンパクト性と、直線運
動ベローズ方式の有するリークタイトかつベーカプルの
特徴を併せもつものであり、多層膜蒸着や、超高真空領
域での蒸着に著効を有し、半導体デバイスの製造等に寄
与する所は犬である。
回転体ハースブロックの有するコンパクト性と、直線運
動ベローズ方式の有するリークタイトかつベーカプルの
特徴を併せもつものであり、多層膜蒸着や、超高真空領
域での蒸着に著効を有し、半導体デバイスの製造等に寄
与する所は犬である。
第１図は、本発明の蒸着用電子銃装置の実施例の図であ
り、 （ａｌは平面図、（ｂ）はその正面断面図である
。第２図（ａ） 、 （ｂｌは従来の装置の同様の図。 第３図は別の従来装五の平面断面図である。 第４図は本発明の別の実施例の正面断面図である。 １・・・電子ビーム源、２・・・電子ビーム、３・・・
偏向磁場。 ４・・・ハースブロック、５Ａ、５Ｂ、５Ｃ，５Ｄ・・
・ルツボ。 ６・・・蒸 宛 物、 ７・−・冷却体通路、８・・・
軸。 ９Ａ、９Ｂ・・・０リング、１０・−・ガスリーク。 １１・・・ルツボ位置検出用スイッチ、１２・・・ぺρ
−ズ。 １３・・・電子銃寸法、１４・・・円 弧、１５・・−
外気室。 １６・・・ハース回転装置、１７・・・ベシーズ後端部
。 ２１・・・べｐ−ズ前端部、２２・・・真空室析、。 ４０・・・円形状ハース中心軸、５０・・・円 周。 ６０・・・首振り中心軸、７０・・・ハース支持体。
り、 （ａｌは平面図、（ｂ）はその正面断面図である
。第２図（ａ） 、 （ｂｌは従来の装置の同様の図。 第３図は別の従来装五の平面断面図である。 第４図は本発明の別の実施例の正面断面図である。 １・・・電子ビーム源、２・・・電子ビーム、３・・・
偏向磁場。 ４・・・ハースブロック、５Ａ、５Ｂ、５Ｃ，５Ｄ・・
・ルツボ。 ６・・・蒸 宛 物、 ７・−・冷却体通路、８・・・
軸。 ９Ａ、９Ｂ・・・０リング、１０・−・ガスリーク。 １１・・・ルツボ位置検出用スイッチ、１２・・・ぺρ
−ズ。 １３・・・電子銃寸法、１４・・・円 弧、１５・・−
外気室。 １６・・・ハース回転装置、１７・・・ベシーズ後端部
。 ２１・・・べｐ−ズ前端部、２２・・・真空室析、。 ４０・・・円形状ハース中心軸、５０・・・円 周。 ６０・・・首振り中心軸、７０・・・ハース支持体。
Claims (2)
- （１）真空中のハースブロック上に設けられた複数のル
ツボに複数種類の蒸発物を装填し、ルツボを選んで電子
銃より電子ビームを照射して真空蒸着を行なう蒸着用電
子銃装置において、後端部を真空室壁に気密に固定する
ベローズの前端部を挾んで、真空側にはハースブロック
を気密に固定し、大気側にはハースブロック内の冷却室
に通じる冷却体通路及びハース支持体の遊端を固定し、
該ハース支持体の他端をハース回転装置に固定すること
で、該ハースブロックを該ハース回転装置の回転軸の回
りに所定角度だけ回転可能に支持し たことを特徴とする蒸着用電子銃装置。 - （２）特許請求の範囲第１項に記載された蒸着用電子銃
装置に於いて、前記ハース支持体を中空パイプ状としこ
れ自身を冷却水通路としたことを特徴とする蒸着用電子
銃装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19312584A JPS6169963A (ja) | 1984-09-14 | 1984-09-14 | 蒸着用電子銃装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19312584A JPS6169963A (ja) | 1984-09-14 | 1984-09-14 | 蒸着用電子銃装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6169963A true JPS6169963A (ja) | 1986-04-10 |
| JPS6360114B2 JPS6360114B2 (ja) | 1988-11-22 |
Family
ID=16302676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19312584A Granted JPS6169963A (ja) | 1984-09-14 | 1984-09-14 | 蒸着用電子銃装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6169963A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63290265A (ja) * | 1987-05-21 | 1988-11-28 | Anelva Corp | 電子銃装置 |
| KR100646502B1 (ko) * | 2004-12-13 | 2006-11-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기물 증착 장치 |
| KR100847684B1 (ko) | 2005-07-06 | 2008-07-23 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 허스 기구 및 성막장치 |
-
1984
- 1984-09-14 JP JP19312584A patent/JPS6169963A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63290265A (ja) * | 1987-05-21 | 1988-11-28 | Anelva Corp | 電子銃装置 |
| KR100646502B1 (ko) * | 2004-12-13 | 2006-11-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기물 증착 장치 |
| KR100847684B1 (ko) | 2005-07-06 | 2008-07-23 | 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 | 허스 기구 및 성막장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6360114B2 (ja) | 1988-11-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |