JPS6170332A - クリ−ンベンチ清浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、垂直気流型クリーンベンチの空気清浄度を
更に高める清浄装置に関する。

〔従来の技術〕

一般に、半導体ウェハーなどの処理には、極めて清浄な
環境下での作業を要求されるため、クリーンルーム内に
おいてクリーンベンチと称する作業装置が使用され、清
浄空気の吹き出される方向によって区別される垂直気流
型と水平気流型との二種類のあることが知られている。

ところで従来の垂直気流型作業装置としては、例えば特
開昭５３−７３０７６号により公開された第３図に示す
ようなものがある。

このクリーンペンチ２１は、筐体２２の中部前面を開放
して三方を壁で取り囲んだ立方体状の空間を作業室２３
として形成したもので、該作業室２３の上部にはフィル
タ２４が設けてあり、送られて来る気体を清浄する。そ
して該フィルタ２４の気体吹出口付近に整流板２５を任
意の手段により上下の位置移動と回転可能となるように
設置しており、更に、該整流板２５に適宜数の通孔２６
を穿設するとともに、摺動可能に設けた可動板２７によ
って前記通孔２６の大きさを適宜に調節できるようにし
である。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、このような従来のクリーンペンチにおい
ては、整流板の位置と角度とを適宜に調整し、気体の流
通方向、流通速度及び最大流通速度の位置等を任意に得
ることができ、また、通孔の大きさを可動板の摺動によ
り調節することにより渦流や循環流等の発生をほぼ完全
に防止し得るといっても、上方から垂直方向へ吹き降り
る気流は、作業台に当たれば当然前方へ方向変換しなけ
ればならず、したがって後壁の下部と作業台とが接する
隅付近は申すまでもなく、特に該隅の両端部において渦
流や循環流の発生を回避することは不可能であり、また
、作業台上に半導体などの被処理品が載置された場合、
その周辺にも渦流や循環流が発生するが、これらの排除
も困難である。

そのため、使用時間の経過に伴なって渦流発生部位に塵
埃が滞留し、作業室内が汚染され、作業環境は悪化する
という問題点がある。

また、作業室内に可動可能な整流板や摺動可能な可動板
を設けることは、これらの動作による塵の発生もあるば
かりか、作業用の空間を縮小させるという欠点もある。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明は、叙上の間蓋点に鑑みてなされたもので、整
流板や可動板を必要とせず、作業室の後壁下部に流量調
節可能な空気吹出口を横幅−ばいに増設し、清浄空気を
前方へ向けて水平に、垂直吹出しの空気量に対して所要
の割合をもって吹き出すことにより、これらの問題点を
解決したものである。

〔作　用〕

作業室の上方から垂直に吹き降ろされる清浄空気の主流
に対し、適当な割合をもって後壁下部から清浄空気を水
平方向に吹き出すので、作業合奏の隅部はもちろんのこ
と、載置された被処理品の周辺に対しても渦流°や循環
流の発生を完全に防止することができる。

〔実施例〕

以下、この発明の一実施例を第１図及び第２図に基づい
て説明する。

まず、構成を述べる。

このクリーンベンチ１は、第１図に示すように、筐体２
の中部前面に開口３ｋをもって外部へ開放された作業室
３が両側壁３Ｓ、３Ｓ及び後壁３ａに三方全敗り囲まれ
て形成されており、底面は作業台３ｄとなっている。

ファンボックス４に関しては筐体２の下部において、中
天に横向きに空気取入口（プレフィルタ付）５が開口し
ており、更に奥まった位置に送風機６が内設されている
。そして送風ダクト７は、筐体２の背面外壁２ａに沿っ
て筐体２の上部に導かれている。

作業室３へ主たる清浄空気の垂直降下気流を送るため、
ＨＥＰＡフィルタ８と吹出口（ルーバー付）９とが、ダ
クトを兼ねた蛍光灯１０用のボックス１１の上下に位置
して作業室３の上に設置されている。

一方、前記フィルタ８の１／６の大きさのＨＥＰＡフィ
ルタ１２を載置したダクト１３が前記後壁３ａの背面に
接して付設され、該後壁３ａの下部に横幅全体に亘り第
２図に示すような多数の縦型スリットによる吹出口１４
が開口していて、作業台３ｄに沿い前方へ水平方向に補
助的な清浄空気を吹き出すようになっている。なお、吹
出０１４の開度を任意の手段により微調節できるＨＳグ
リル１５がダクト１３側に設けられている。

なお、１６は、クリーンペンチ１の移動用のキャスタで
ある。

次に作用を述べる。

送風機６を起動すると、クリーンルーム内ノ空気は、空
気取入口（プレフィルタ付）５から吸入され、−次濾過
されて送風機６に入り送風ダクト７を通って筐体２内の
上部に進む。そして大部分の空気は、ＨＥＰＡフィルタ
８を通って二次濾過され、清浄度を高めて吹出口（ルー
パル付）９から作業室３内へ垂直降下気流として吹き出
される。

一方、一部の空気はＨＥＰＡフィルタ１２を通って同様
に二次濾過され、清浄度を高めて奥壁３ａの吹出口１４
から作業台３ｄの表面全幅に亘り、水平方向気流として
前記垂直降下気流とほぼ同じ風速金もって吹き出される
ので、垂直降下気流も円滑に前方への方向変Ｆｌ”ｌｉ
−助長され、開口３ｋからクリーンルームへ排出する。

したがって、尚流や循環流の発生箇所が皆無となり、半
導体ウェハーなどの被処理品を作業台３ｄ上に載置した
場合、その周辺に渦流などが発生することがあっても水
平方向気流により、直ちに吹き飛ばされ消滅するため、
塵埃の滞溜することがなく作業室３内の清浄度は高度に
維持され、優良な環境下において作業を行うことかでき
る。

〔発明の効果〕

以上説明してきたように、この発明は、クリーンベンチ
の前方に開口した作業室に、北方から主流の垂直降下気
流と、後方から作業台に沿って所望の割合の流量をもっ
た水平方向気流とを、それぞれ清浄度を高めた清浄空気
により吹き出す構我とし、しかも水平方向気流の流量を
適切に調節できるようにしたため、渦流や循環流の発生
、又は滞溜を完全に防止することができるという効果が
ある。

また、渦流や循環流の発生防止手段を作業室内に存在さ
せないので、作業空間を挟めることなく広々と使用する
ことができ、作業効率を向上し得るばかりか、水平方向
の吹出口流量調節機構も作業室外に設置し、動作部分も
蜜閉可能であるため、該調節機構の動作に基因する塵が
万一発生しても作業室へ侵入することはないという利点
もある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明の一実施例を示すクリーンベンチの
図で、図Ｉは正面図、図［［は縦断面図、第２図は、水
平方向の空気の吹出口を示す一部断面拡大斜視図、第３
図は、従来のクリーンベンチの縦断面図、第４図は、同
じく整涼板の斜視図である。 １・・・・・・・・・クリーンベンチ ３・・・・・・・・・作業室 ３Ｓ・・・・・・側　壁 ３ａ・・・・・・後　壁 ４・・・・・・・・・ファンボックス ８・・・・・・・・・）（ＥＰＡフィルタ９・・・・・
・・・・吹出口（ルーバー付）１２・・・・・・ＨＥＰ
Ａフィルタ １４・・・・・・吹出口 １５．１７・・・・・・Ｉ（Ｓグリル 第１図　　− 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 両側壁及び後壁により三方を取り囲まれ、前面を外部へ
   開放した作業室に対し、上面に装備されたルーバー付き
   吹出口から垂直降下気流を、また、前記後壁下部に開口
   された流量調節可能な吹出口から前記垂直降下気流に対
   する所望の流量割合をもつて水平方向気流を、それぞれ
   フィルタを介し清浄度を高めた清浄空気により、吹き出
   す構成としたことを特徴とするクリーンベンチ清浄装置
   。