JPS6171867A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
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- JPS6171867A JPS6171867A JP19550784A JP19550784A JPS6171867A JP S6171867 A JPS6171867 A JP S6171867A JP 19550784 A JP19550784 A JP 19550784A JP 19550784 A JP19550784 A JP 19550784A JP S6171867 A JPS6171867 A JP S6171867A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はハロゲン化銀写真感光材料(以後写真材料と略
称する)の製造方法に関し、更に詳しくは写真材料の写
真層塗膜(例えば感jt性ハロゲン化銀乳剤層)の塗布
方法に関する。史に具体的には塗布工程に於る不良塗膜
部分の除去に関する。
称する)の製造方法に関し、更に詳しくは写真材料の写
真層塗膜(例えば感jt性ハロゲン化銀乳剤層)の塗布
方法に関する。史に具体的には塗布工程に於る不良塗膜
部分の除去に関する。
(従来技術)
写真材料は一般にハロゲン化銀粒子を懸l蜀し及び/ま
たは写真特性、生産性を整える添加剤を含有した親水性
コロイド(例えばゼラチン)を、エチレンテレフタレー
ト或はバライタ紙の如き可撓性の長尺ウェッブに連続的
に塗設、乾燥して製造される。
たは写真特性、生産性を整える添加剤を含有した親水性
コロイド(例えばゼラチン)を、エチレンテレフタレー
ト或はバライタ紙の如き可撓性の長尺ウェッブに連続的
に塗設、乾燥して製造される。
写真材料を構成する写真層をウェッブに塗設する方法と
して初期的には浸漬法、ダブルロール法、エアドクタ法
等が用いられ、多重同時高速塗布の要請の下にカーテン
塗布法及びスライドホッパー法等が開発され、現在スラ
イドホッパー法が主流を占めるに到っている。
して初期的には浸漬法、ダブルロール法、エアドクタ法
等が用いられ、多重同時高速塗布の要請の下にカーテン
塗布法及びスライドホッパー法等が開発され、現在スラ
イドホッパー法が主流を占めるに到っている。
前記スライドホッパー法については、米国特許λ681
,294号、同2,761,419号、同2,761,
791号及び英国特許837,095号に開示されてい
る。
,294号、同2,761,419号、同2,761,
791号及び英国特許837,095号に開示されてい
る。
スライドホッパー法は前記特許に記載の如く、l液以上
の塗布液を塗布液流延供給台(ダイス)に設けられたス
リットから連続した幅広リボンとして押出し、ダイスの
塗布液流延面(スライド面)の終縁に近接して走行する
ウェッブ面に前記塗布7友の単層もしくは積層リボンを
差渡してヒートな形成し、@血液の流延速度と該リボン
なビードより持去るウェッブの走行速度とを整合させて
ウェッブ上に単層もしくは積層の塗膜を塗設するもので
ある。尚一般に走行するウェッブはダイス端(スライド
面終縁)に近接して設けられた塗布ローラに張架される
。
の塗布液を塗布液流延供給台(ダイス)に設けられたス
リットから連続した幅広リボンとして押出し、ダイスの
塗布液流延面(スライド面)の終縁に近接して走行する
ウェッブ面に前記塗布7友の単層もしくは積層リボンを
差渡してヒートな形成し、@血液の流延速度と該リボン
なビードより持去るウェッブの走行速度とを整合させて
ウェッブ上に単層もしくは積層の塗膜を塗設するもので
ある。尚一般に走行するウェッブはダイス端(スライド
面終縁)に近接して設けられた塗布ローラに張架される
。
従ってこの様に構成されたスライドホッパー法では塗布
液供給−とウェッブの走行速e<塗布速度)とは完全に
腟会していることが必須条件であるが終始に亘って必ず
しも満足させることは困難であり、更にウェッブとダイ
ス端間に差渡される塗布液ビードの形成方法は塗膜の均
一性、乾燥仕上りに大きな影響を及ぼす。
液供給−とウェッブの走行速e<塗布速度)とは完全に
腟会していることが必須条件であるが終始に亘って必ず
しも満足させることは困難であり、更にウェッブとダイ
ス端間に差渡される塗布液ビードの形成方法は塗膜の均
一性、乾燥仕上りに大きな影響を及ぼす。
即ちウェッブ上に塗設された塗膜はウェッブ塗膜全域に
亘って観察すると塗布液の表面張力、比重、粘度或はウ
ェッブの吸水性、表面粗さ、平面性lこよって様々な膜
厚に関するパターンft現出し、夫々のパターンに対し
て夫々の技術的対策が必要である。特に共通パターンと
して定常的に現出し易い膜厚パターンは、塗布初期即ち
塗布液の単層もしくは積層リボンを差渡してヒートを形
成した時点からの若干のウェッブ区間及びウェッブの接
合部分に生じる厚膜部分、塗布終了時即ち塗布液ビード
なウェッブから引離した塗膜終端部及び該終端部からの
紐状尾側の厚膜部分、またウェッブの両端(耳と称され
る)に連続した畝状の厚膜部分を生ずるパターンである
。
亘って観察すると塗布液の表面張力、比重、粘度或はウ
ェッブの吸水性、表面粗さ、平面性lこよって様々な膜
厚に関するパターンft現出し、夫々のパターンに対し
て夫々の技術的対策が必要である。特に共通パターンと
して定常的に現出し易い膜厚パターンは、塗布初期即ち
塗布液の単層もしくは積層リボンを差渡してヒートを形
成した時点からの若干のウェッブ区間及びウェッブの接
合部分に生じる厚膜部分、塗布終了時即ち塗布液ビード
なウェッブから引離した塗膜終端部及び該終端部からの
紐状尾側の厚膜部分、またウェッブの両端(耳と称され
る)に連続した畝状の厚膜部分を生ずるパターンである
。
前記共通且つ定常的に現出する厚膜部分は製品化に不適
合なロス部分であり製品収率の面で問題となる。しかも
該厚膜部分は一般に製品設計上の正規の厚みの1.5〜
3倍に及び乾燥に於て余分の乾燥エネルギーと時間を要
し大さく生産性を低下させる。
合なロス部分であり製品収率の面で問題となる。しかも
該厚膜部分は一般に製品設計上の正規の厚みの1.5〜
3倍に及び乾燥に於て余分の乾燥エネルギーと時間を要
し大さく生産性を低下させる。
而も該厚膜部分の充分な乾燥を怠ると、ウェッブを巻取
った場合正常製品部分とくっつきを起し該正常製品部分
を損傷しロスを拡げる。一方に於て該厚膜部分に充分な
乾燥を施す場合には前記生埋性の低下或は乾燥装置の長
大化による設備投資の増大を招き、且つ正常製品部分に
対し乾燥過度となりウェッブのカーリング或は写真特性
上乾燥圧かぶりその他の好ましからざる障害を生ずる。
った場合正常製品部分とくっつきを起し該正常製品部分
を損傷しロスを拡げる。一方に於て該厚膜部分に充分な
乾燥を施す場合には前記生埋性の低下或は乾燥装置の長
大化による設備投資の増大を招き、且つ正常製品部分に
対し乾燥過度となりウェッブのカーリング或は写真特性
上乾燥圧かぶりその他の好ましからざる障害を生ずる。
このよ5な泥棒に追銭的な不部会′?:断つために従来
多くの検討がなされた。
多くの検討がなされた。
その一つとして塗布液の表面張力、粘度或は含水率等の
物性面からの検討があり、前記耳部分の紐状厚膜部分或
はディッピング塗布法に於る塗布初期区間に対しては効
果が認められたが、塗布速度、ウェッブ素地面等によっ
て効果が定まらず且つ近来−膜化したスライドホンパー
法の初期区間の厚膜部分の排除には効果が及ばない。
物性面からの検討があり、前記耳部分の紐状厚膜部分或
はディッピング塗布法に於る塗布初期区間に対しては効
果が認められたが、塗布速度、ウェッブ素地面等によっ
て効果が定まらず且つ近来−膜化したスライドホンパー
法の初期区間の厚膜部分の排除には効果が及ばない。
また塗布、乾燥条件の面からも検討が行なわれており、
例えば米国特許3.220,877号にはスライドホッ
パーを用いる塗布態様に於て、ダイス端(スライド面終
縁)からウェッブにビードを差渡すに先立って、減圧チ
ェンバの減圧度を高めることによって接近したダイス端
とウェッブ間の空気流を速めてダイス端に溜った余分の
塗・血液な削ぎ取り、塗布初期な正常ビード状態からは
じめる方法が開示されている。Lかし減圧度を亮めた後
遺症として18時塗布の不安定を招き且つ塗布筋が発生
し易くなり、特に高速及び/またはig+塗布の場合不
安定さが増大し、必ずしも満足すべき結果を与えない。
例えば米国特許3.220,877号にはスライドホッ
パーを用いる塗布態様に於て、ダイス端(スライド面終
縁)からウェッブにビードを差渡すに先立って、減圧チ
ェンバの減圧度を高めることによって接近したダイス端
とウェッブ間の空気流を速めてダイス端に溜った余分の
塗・血液な削ぎ取り、塗布初期な正常ビード状態からは
じめる方法が開示されている。Lかし減圧度を亮めた後
遺症として18時塗布の不安定を招き且つ塗布筋が発生
し易くなり、特に高速及び/またはig+塗布の場合不
安定さが増大し、必ずしも満足すべき結果を与えない。
また乾燥態様の面からは、例えば特開昭52−1532
0号に於て、正常膜厚部分の乾燥に引銑いて塗布初期の
厚膜部分にマイクロ波を照射し正常部分に損傷を与える
ことなく速乾する方法が開示されている。該方法は乾燥
態様としては有用であるが高価なマイクロ波発生装置及
びその周辺機器の設備投資な要し、少なくとも製品とし
て不適合なliI膜部分に対しても乾燥エネルギーを投
入しており、また乾燥トンネルの長大を招く。更に乾燥
後固く泣かれたウェッブに於て正常膜厚の数倍に及ぶ厚
膜部分は、間怠に捲かれた正常部分にその凹凸をうつし
平面性?:損い、且つ感光性ハロゲン化銀粒子に圧力心
ぶりもしくは圧力減感を生ずる恐れがある。
0号に於て、正常膜厚部分の乾燥に引銑いて塗布初期の
厚膜部分にマイクロ波を照射し正常部分に損傷を与える
ことなく速乾する方法が開示されている。該方法は乾燥
態様としては有用であるが高価なマイクロ波発生装置及
びその周辺機器の設備投資な要し、少なくとも製品とし
て不適合なliI膜部分に対しても乾燥エネルギーを投
入しており、また乾燥トンネルの長大を招く。更に乾燥
後固く泣かれたウェッブに於て正常膜厚の数倍に及ぶ厚
膜部分は、間怠に捲かれた正常部分にその凹凸をうつし
平面性?:損い、且つ感光性ハロゲン化銀粒子に圧力心
ぶりもしくは圧力減感を生ずる恐れがある。
更に塗布液を塗設するウェッブに加工する手段が提案さ
れている。例えば特開昭52−31727号、同55−
119470号及び同55−121865号にはウェッ
ブの塗布初期区間に塗布、gjtM rcより液薄膜を
形成し、塗布液のウェッブ面に於る拡がりを助ける方法
や特開昭50−92328号及び同55−142565
号にはウェッブ面の粗面化或はコロナ放電による接着活
性化によって塗設された塗布液の垂延を防止する方法が
開示されている。しかし厚いなりに膜厚の均一化が図ら
れ乾燥条件を有利に専くことはあるが、ビード形成に先
立ちダイス端に溜った余分の塗布液による厚膜部分の形
成は避け5べくbない。
れている。例えば特開昭52−31727号、同55−
119470号及び同55−121865号にはウェッ
ブの塗布初期区間に塗布、gjtM rcより液薄膜を
形成し、塗布液のウェッブ面に於る拡がりを助ける方法
や特開昭50−92328号及び同55−142565
号にはウェッブ面の粗面化或はコロナ放電による接着活
性化によって塗設された塗布液の垂延を防止する方法が
開示されている。しかし厚いなりに膜厚の均一化が図ら
れ乾燥条件を有利に専くことはあるが、ビード形成に先
立ちダイス端に溜った余分の塗布液による厚膜部分の形
成は避け5べくbない。
一方に於て高速薄膜塗布の要BF7は益々強く、ひいて
品質損傷の恐れの少ないコンパクト、廉価で操作簡易で
あり膜厚に係るロスの少ない塗布乾燥装置が要望されて
いる。
品質損傷の恐れの少ないコンパクト、廉価で操作簡易で
あり膜厚に係るロスの少ない塗布乾燥装置が要望されて
いる。
(発明が解決しようとする問題点)
長尺ウニシブをその長さ方向に走行させながら塗布液な
塗布する塗布方法、特にスライドホッパー或は押出しホ
ッパー塗布方法に於て定常的及び定形的に出現し製品収
率を不可避的に低下させる厚膜部分は、更に本来投入す
べきでない製品化ロスとして廃棄される該厚膜部分のた
めの乾燥に係るエネルギー、時間及び設備投資の浪費を
強いており、生産性上及び資源的にも甚だ大きな問題で
ある。
塗布する塗布方法、特にスライドホッパー或は押出しホ
ッパー塗布方法に於て定常的及び定形的に出現し製品収
率を不可避的に低下させる厚膜部分は、更に本来投入す
べきでない製品化ロスとして廃棄される該厚膜部分のた
めの乾燥に係るエネルギー、時間及び設備投資の浪費を
強いており、生産性上及び資源的にも甚だ大きな問題で
ある。
(問題点を解決するための手段)
前肥厚膜部分の排除に関し種々検討した結果、長尺ウェ
ッブをその長さ方向に走行させながら塗布液を塗布する
塗布方法に於て、塗布された塗膜の未乾燥時に該塗膜に
回転している少なくとも一基の塗膜削成り部材な当接し
て、該当接された未乾燥塗膜部分をウェッブから除去す
ることを特徴とする塗布方法によって前記問題点は解決
される。
ッブをその長さ方向に走行させながら塗布液を塗布する
塗布方法に於て、塗布された塗膜の未乾燥時に該塗膜に
回転している少なくとも一基の塗膜削成り部材な当接し
て、該当接された未乾燥塗膜部分をウェッブから除去す
ることを特徴とする塗布方法によって前記問題点は解決
される。
次ζζ本発明を具体的詳細に説明する。
不発明に係る塗膜削成り部材(以後リムーバと称す)は
平面走行もしくは曲面折返し走行する塗布液を塗設され
たウェッブ(以後塗膜ウェッブと称する)面に線接触も
しくは面接触して当接する形状が与えられる。線接触の
形状としては円筒ローラ、円弧折返し点に於ては一葉双
曲面等の線織面を有するローラも使用可能である。面接
触の形状としては少なくとも2つの回転軸間に張架され
て周航するエンドレスベルトが挙げられる。
平面走行もしくは曲面折返し走行する塗布液を塗設され
たウェッブ(以後塗膜ウェッブと称する)面に線接触も
しくは面接触して当接する形状が与えられる。線接触の
形状としては円筒ローラ、円弧折返し点に於ては一葉双
曲面等の線織面を有するローラも使用可能である。面接
触の形状としては少なくとも2つの回転軸間に張架され
て周航するエンドレスベルトが挙げられる。
またリムーバは塗膜ウェッブの幅方向に複数個に分割さ
れていてもよく、分割される長さは任意である。例えば
塗膜ウェッブの両端に夫々狭幅の、また中面部分に広幅
の3個のリムーバを配し塗膜ウェッブの全幅をカバーす
るようにしてもよい。
れていてもよく、分割される長さは任意である。例えば
塗膜ウェッブの両端に夫々狭幅の、また中面部分に広幅
の3個のリムーバを配し塗膜ウェッブの全幅をカバーす
るようにしてもよい。
史に必要ならば塗膜ウェッブの走性方向にリムーバを多
重配置してもよい。
重配置してもよい。
尚リムーバの回転軸と塗膜ウェッブの走行方向とのなす
角θは、0°くθ≦90’に採られる。
角θは、0°くθ≦90’に採られる。
塗膜ウェッブに線または面接触で当接するリムーバ面の
当接面に於る回転円周速度もしくは回転周航速度(一括
して円周速度と称す)はベクトル的に分解して塗膜ウェ
ッブ走行方向に平行な成分へ〃トル祷を取出すことがで
きる。該成分ベクトルrの向きは塗膜ウェッブの走行ベ
クトル蒐の向きに対し順逆いいずでもよい。
当接面に於る回転円周速度もしくは回転周航速度(一括
して円周速度と称す)はベクトル的に分解して塗膜ウェ
ッブ走行方向に平行な成分へ〃トル祷を取出すことがで
きる。該成分ベクトルrの向きは塗膜ウェッブの走行ベ
クトル蒐の向きに対し順逆いいずでもよい。
しかし逆向ぎの場合、塗膜ウェッブに対する走行抵抗を
生じ、更に塗膜の硬さ厚さによっては塗膜に当接する点
に於る力の合成ヘクトルによってリムーバ面を浮上らせ
る場合があり、順な向きを選んでその6 ’&避は削取
り効果を上げ汎用性を憎子ことが好ましい。
生じ、更に塗膜の硬さ厚さによっては塗膜に当接する点
に於る力の合成ヘクトルによってリムーバ面を浮上らせ
る場合があり、順な向きを選んでその6 ’&避は削取
り効果を上げ汎用性を憎子ことが好ましい。
更に前記成分ベクトルV、は塗膜ウェッブの走行ベクト
ルゐより大きく少なくとも1,5倍以上であることが好
ましい。その上限は塗膜の物性、リムーバ稼動経費等の
面から実用的に定めればよい。
ルゐより大きく少なくとも1,5倍以上であることが好
ましい。その上限は塗膜の物性、リムーバ稼動経費等の
面から実用的に定めればよい。
リムーバを塗膜ウェッブに当接する際には均一に当接す
ることが好ましく、当接せしめる圧接力は大きい必要は
なく当接な維持できる程度の圧接力でよい。
ることが好ましく、当接せしめる圧接力は大きい必要は
なく当接な維持できる程度の圧接力でよい。
また当接を行ない塗膜の削ぎ増りを行なう時期は、塗膜
の物性即ち冷却固化成は硬膜剤による硬化による塗膜の
硬さ弾性等の度合によって異なるけれども塗膜物性の整
わぬ早い時期の方が好ましい。尚塗膜の削ぎ取り効果は
リムーバの円周速展を速めることによって上げることが
できる。
の物性即ち冷却固化成は硬膜剤による硬化による塗膜の
硬さ弾性等の度合によって異なるけれども塗膜物性の整
わぬ早い時期の方が好ましい。尚塗膜の削ぎ取り効果は
リムーバの円周速展を速めることによって上げることが
できる。
更に削ぎ取り効果を上げるために塗膜ウェッブに当接す
るリムーバ面に表面加工を施すことができる。例えは軸
方向に平行な直ぞ4溝、軸の周りをめぐる螺旋7み或は
全面に施される微小凹凸などである。
るリムーバ面に表面加工を施すことができる。例えは軸
方向に平行な直ぞ4溝、軸の周りをめぐる螺旋7み或は
全面に施される微小凹凸などである。
更にリムーバで削ぎ取られリムーバ面に付着する塗膜は
塗膜除去部材(例えばブレード等のクリーナ)をリムー
バ面に当)Iして除去することが好ましい。
塗膜除去部材(例えばブレード等のクリーナ)をリムー
バ面に当)Iして除去することが好ましい。
前記したリムーバ面及びクリーナに用いる素材としては
、金机、プラスチック或はゴム等が挙げられる。
、金机、プラスチック或はゴム等が挙げられる。
またリムーバの塗膜ウェッブへの当接、離脱は*膜セン
サー或はタイミング機構に連動させたエアシリンター、
ソレノイド等を用いて走行している塗膜ウェッブの厚膜
部分に対し充分に迅速、着実に作動させることができる
。
サー或はタイミング機構に連動させたエアシリンター、
ソレノイド等を用いて走行している塗膜ウェッブの厚膜
部分に対し充分に迅速、着実に作動させることができる
。
次に図を用いて本発明の実施態様を説明する。
第1図はリムーバとして円筒ロールを用い、塗膜ウエッ
7が平面走行している部分に於て走行方向に対し円筒ロ
ール軸を直角に順回転で当接せしめる態様を示す側面図
である。同図に於て1は塗膜ウェッブ、11はeM部分
、12は正常M厚部分である。2は円筒ロールのリムー
バ、3はクリーナ、4はクリーナ3でリムーバ2の面か
ら掻落された塗膜を収容するキャッチパンである。5及
び51は堕膜ウェッブのカイトロールである。リムーバ
2及びクリーナ3はセットとしてタイミングb&’tに
制御されたソレノイド(図示せず)によってタイムリー
に塗膜ウェッブに袋矢印の向きに当接、離脱を行なう。
7が平面走行している部分に於て走行方向に対し円筒ロ
ール軸を直角に順回転で当接せしめる態様を示す側面図
である。同図に於て1は塗膜ウェッブ、11はeM部分
、12は正常M厚部分である。2は円筒ロールのリムー
バ、3はクリーナ、4はクリーナ3でリムーバ2の面か
ら掻落された塗膜を収容するキャッチパンである。5及
び51は堕膜ウェッブのカイトロールである。リムーバ
2及びクリーナ3はセットとしてタイミングb&’tに
制御されたソレノイド(図示せず)によってタイムリー
に塗膜ウェッブに袋矢印の向きに当接、離脱を行なう。
第2図はエアフロータ6の曲面折返し走行部分に於てリ
ムーバを当接する態様の側面図である。
ムーバを当接する態様の側面図である。
第1図に用いた記号と同記号は前記と同義である(以下
同じ)。
同じ)。
第3図は複数個のリムーバを用いた態様の1例を示す底
面図である。リムーバ2は塗膜ウェッブ1の走行方向に
直角に当接する中央円筒ロール21と若干の角度をもっ
て当接する両端の短円筒ロール22及び22’から構成
される。13は塗布液の物性、塗布条件によって塗膜ウ
ェッブの両端に発生する連続した畝状の厚膜部分である
。前記短円筒ロール22及び221は塗膜ウェッブの走
行中室に当接して1!、1.r漠部分13の削き取りを
行なう。但し該厚膜部分13がウェッブの両端に一般に
施され製品化の際裁ら洛されるナーリング14部分幅内
に止まりその厚みが59・容跪囲にある時には中央円筒
ロール21と当接、1ζ:L脱の挙動を共にしてもよい
。
面図である。リムーバ2は塗膜ウェッブ1の走行方向に
直角に当接する中央円筒ロール21と若干の角度をもっ
て当接する両端の短円筒ロール22及び22’から構成
される。13は塗布液の物性、塗布条件によって塗膜ウ
ェッブの両端に発生する連続した畝状の厚膜部分である
。前記短円筒ロール22及び221は塗膜ウェッブの走
行中室に当接して1!、1.r漠部分13の削き取りを
行なう。但し該厚膜部分13がウェッブの両端に一般に
施され製品化の際裁ら洛されるナーリング14部分幅内
に止まりその厚みが59・容跪囲にある時には中央円筒
ロール21と当接、1ζ:L脱の挙動を共にしてもよい
。
(実施例)
次に実施例によって本発明を説明する。
実施例1
スライドホッパー塗布機によって、厚み180μmの下
引済エチレンテレフタ/−トウニップに5%セラチント
液を40m/mで塗布膜厚100μmに塗設し、冷却ン
ーン?:通しく6’Q、5分)、乾燥ゾーン(22°C
15分)?:通し比較試料の乾燥塗膜ウニラフft:作
成した。
引済エチレンテレフタ/−トウニップに5%セラチント
液を40m/mで塗布膜厚100μmに塗設し、冷却ン
ーン?:通しく6’Q、5分)、乾燥ゾーン(22°C
15分)?:通し比較試料の乾燥塗膜ウニラフft:作
成した。
次いで本発明に係るリムーバをmf記耐冷却ゾーン乾燥
ゾーンの間に介入設置し塗膜ウニノアの塗布初期区間の
厚膜部分を削ぎ取り乾燥ゾーンに尋人し同様な乾燥塗膜
ウェッブを作成した。
ゾーンの間に介入設置し塗膜ウニノアの塗布初期区間の
厚膜部分を削ぎ取り乾燥ゾーンに尋人し同様な乾燥塗膜
ウェッブを作成した。
本実施例で用いたリムーバは前記第1図に示した態様に
於て用い、リムーバは表面にクロームメッキを施したア
ルミ製円筒ロールであり、ノ負回転、円周速度80m/
廟で用いた。且つ該円筒ロール面にはクリーナとしてポ
リエチレン製のプレードな当接した。
於て用い、リムーバは表面にクロームメッキを施したア
ルミ製円筒ロールであり、ノ負回転、円周速度80m/
廟で用いた。且つ該円筒ロール面にはクリーナとしてポ
リエチレン製のプレードな当接した。
前記比較試料の塗布初期区間の厚膜部分は正常膜厚の2
.2倍を示し、−力木発明に係るリムーバを適用した本
発明の試料の当接部分の厚みは正常膜厚の115以下と
なった。
.2倍を示し、−力木発明に係るリムーバを適用した本
発明の試料の当接部分の厚みは正常膜厚の115以下と
なった。
厚膜部分の削ぎ取りによって乾燥負荷は比較試料の場合
に比べ40%の節減が可能であった。
に比べ40%の節減が可能であった。
尚不発明に係るリムーバは厚膜部分のみならず正常膜厚
の塗膜の削ぎ取りも可能であった。また円筒ロールを逆
回転8Q y(/ mの円周速度を与えた場合には既に
塗膜の固化、硬化が進んでいたためもあって、前記厚膜
先頭部分が100程度削ぎ取られたに過ぎなかった。
の塗膜の削ぎ取りも可能であった。また円筒ロールを逆
回転8Q y(/ mの円周速度を与えた場合には既に
塗膜の固化、硬化が進んでいたためもあって、前記厚膜
先頭部分が100程度削ぎ取られたに過ぎなかった。
実施例2
前記実施例1と同一の塗布液、塗布条件に於て、第2図
に示した態様により、エアフロータ円孤折返走行部に於
て実施例1に用いたリムーバを適用し、実施例1と同様
の結果かえられた。
に示した態様により、エアフロータ円孤折返走行部に於
て実施例1に用いたリムーバを適用し、実施例1と同様
の結果かえられた。
(発明の効果)
本発明によれば塗布乾燥の形態を変えることなく乾燥負
荷の大幅な軽減を図ることができる。
荷の大幅な軽減を図ることができる。
史に本発明によれば、塗布初期区間のみならず塗膜ウェ
ッブの両耳部分、塗布終端部或は液垂れ部分、塗布むら
部分等いずれの部分に対しても任意且つ簡便、安価に適
用可能であり生産性に寄与する所が犬ざい。
ッブの両耳部分、塗布終端部或は液垂れ部分、塗布むら
部分等いずれの部分に対しても任意且つ簡便、安価に適
用可能であり生産性に寄与する所が犬ざい。
第1図及び第2図は本発明に係るリムーバを走行する塗
膜ウェッブに当接する態様な示す側面図である。 第3図は複数個から成る本発、明に係るリムーバを当接
する態様を示す底面図である。 1 ・・・塗膜ウェッブ 11・・・・・厚膜部分1
2 ・・正常膜厚部分 2 ・・ リムーバ3 ・
・・クリーナ 4 ・・・キャッチパン代理人
弁理士 野 1)義 親 第1図 第2図
膜ウェッブに当接する態様な示す側面図である。 第3図は複数個から成る本発、明に係るリムーバを当接
する態様を示す底面図である。 1 ・・・塗膜ウェッブ 11・・・・・厚膜部分1
2 ・・正常膜厚部分 2 ・・ リムーバ3 ・
・・クリーナ 4 ・・・キャッチパン代理人
弁理士 野 1)義 親 第1図 第2図
Claims (1)
- 長尺ウエッブをその長さ方向に走行させながら塗布液を
塗布する塗布方法に於て、塗布された塗膜の未乾燥時に
該塗膜に回転している少なくとも一基の塗膜削取り部材
を当接して、該当接された未乾燥塗膜部分をウエッブか
ら除去することを特徴とする塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59195507A JPH0685907B2 (ja) | 1984-09-17 | 1984-09-17 | 塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59195507A JPH0685907B2 (ja) | 1984-09-17 | 1984-09-17 | 塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6171867A true JPS6171867A (ja) | 1986-04-12 |
| JPH0685907B2 JPH0685907B2 (ja) | 1994-11-02 |
Family
ID=16342229
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59195507A Expired - Lifetime JPH0685907B2 (ja) | 1984-09-17 | 1984-09-17 | 塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0685907B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02141124U (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-27 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5120238A (ja) * | 1974-08-10 | 1976-02-18 | Konishiroku Photo Ind | Ryomendojitofuhoho |
| JPS5322543A (en) * | 1976-08-12 | 1978-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method for coating |
| JPS5579067A (en) * | 1978-12-11 | 1980-06-14 | Toshiba Corp | Coating method and apparatus for photosensitive liquid |
| JPS58202077A (ja) * | 1982-05-19 | 1983-11-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布液のメタリング方法及び装置 |
-
1984
- 1984-09-17 JP JP59195507A patent/JPH0685907B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5120238A (ja) * | 1974-08-10 | 1976-02-18 | Konishiroku Photo Ind | Ryomendojitofuhoho |
| JPS5322543A (en) * | 1976-08-12 | 1978-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method for coating |
| JPS5579067A (en) * | 1978-12-11 | 1980-06-14 | Toshiba Corp | Coating method and apparatus for photosensitive liquid |
| JPS58202077A (ja) * | 1982-05-19 | 1983-11-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布液のメタリング方法及び装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02141124U (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-27 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0685907B2 (ja) | 1994-11-02 |
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