JPS6178100A - 導波管真空窓 - Google Patents
導波管真空窓Info
- Publication number
- JPS6178100A JPS6178100A JP59200080A JP20008084A JPS6178100A JP S6178100 A JPS6178100 A JP S6178100A JP 59200080 A JP59200080 A JP 59200080A JP 20008084 A JP20008084 A JP 20008084A JP S6178100 A JPS6178100 A JP S6178100A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cylinder
- kovar
- waveguide
- frequency
- high frequency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Non-Reversible Transmitting Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の技術分野)
本発明は、核融合装置のプラズマを2次加熱するイオン
サイクロトロン周波数帯高周波加熱装置に圓する。
サイクロトロン周波数帯高周波加熱装置に圓する。
(発明の技術的背型)
一般に、核融合装置におけるプラズマ加熱手段は、プラ
ズマ中に電流を通して加熱するジュール加熱のほかに、
第2段(2次加熱)加熱として中性粒子入射加熱手段や
高周波加熱手段が採用されている。
ズマ中に電流を通して加熱するジュール加熱のほかに、
第2段(2次加熱)加熱として中性粒子入射加熱手段や
高周波加熱手段が採用されている。
特に、この高周波加熱手段には、高周波発振器(マグネ
トロン)による高周波によってトカマク装置内のプラズ
マを加熱W4するイオンサイクロトロン周波数帯高周波
加熱袋ff1(ICRFともいう)がある。
トロン)による高周波によってトカマク装置内のプラズ
マを加熱W4するイオンサイクロトロン周波数帯高周波
加熱袋ff1(ICRFともいう)がある。
即ち、このイオンサイクロトロン周波数帯高周波加熱装
置は、第4図乃至第6図に示されるように構成されてい
る。
置は、第4図乃至第6図に示されるように構成されてい
る。
第4図において、ドーナツ管体8なすトカマク装δ1の
一側開口部1aには、支持部材2で固定された真空容器
3がベローズ4を介して連結されており、この真空容器
3内には、ファラデーシールド5を喝えた導波管6が上
記トカマク装置1のプラズマ7に支持するようにして水
平に配設されている。又、この導波管6の一端部には、
高周波伝送管8が接続されており、この高周波伝送管8
の他端部は、上記真空容器3を貫通して高周波発振器(
マグネトロン)9に接続されている。
一側開口部1aには、支持部材2で固定された真空容器
3がベローズ4を介して連結されており、この真空容器
3内には、ファラデーシールド5を喝えた導波管6が上
記トカマク装置1のプラズマ7に支持するようにして水
平に配設されている。又、この導波管6の一端部には、
高周波伝送管8が接続されており、この高周波伝送管8
の他端部は、上記真空容器3を貫通して高周波発振器(
マグネトロン)9に接続されている。
従って、上述した高周波加熱装置は、上記高周波発振器
9からの高周波(電波)を、上記高周波伝送管8及び導
波管6を通してトカマク装置1のプラズマ7を照射して
二次加熱するようになっている。
9からの高周波(電波)を、上記高周波伝送管8及び導
波管6を通してトカマク装置1のプラズマ7を照射して
二次加熱するようになっている。
特に、上記導波管6は、第5図及び第6図に示されるよ
うに、二重管体を形成する外側コバール筒体10と内側
コバール筒体11との間に輪板状をなす一対のセラミッ
クス部材12を設け、上記外側コバール固体10の一端
部10aに上記高周波伝送管8及び冷媒(冷却媒体)の
供給口13を付設し、上記外側コバール固体10と内側
コバール筒体11の他端部とを冷媒通路14で連通ずる
ように構成したものである。
うに、二重管体を形成する外側コバール筒体10と内側
コバール筒体11との間に輪板状をなす一対のセラミッ
クス部材12を設け、上記外側コバール固体10の一端
部10aに上記高周波伝送管8及び冷媒(冷却媒体)の
供給口13を付設し、上記外側コバール固体10と内側
コバール筒体11の他端部とを冷媒通路14で連通ずる
ように構成したものである。
従って、上記冷媒は、外側コバール筒体10の一端部か
ら流入し、上記冷媒通路14を通して上記内側コバール
筒体11へ圧送され、これによって、昇温した導波@6
全体を冷却するようになっている。
ら流入し、上記冷媒通路14を通して上記内側コバール
筒体11へ圧送され、これによって、昇温した導波@6
全体を冷却するようになっている。
又一方、上記内・外コバール1llilio、1iとセ
ラミックス部材12とは、ロー付けによって接合して固
着されている。
ラミックス部材12とは、ロー付けによって接合して固
着されている。
従って、上述した高周波加熱装置では、プラズマの二次
加熱時、上記高周波発振器9からの一部の高周波が、上
記導波管6内で、誘電体損や表皮熱抵抗による熱伝導損
失して導波管6を構成する内・外コパール筒体10.1
1及びセラミックス部材12を加熱するため、熱変形や
熱膨張によって上記セラミックス部材12のローNけさ
れた各接合部を損傷するおそれがある。
加熱時、上記高周波発振器9からの一部の高周波が、上
記導波管6内で、誘電体損や表皮熱抵抗による熱伝導損
失して導波管6を構成する内・外コパール筒体10.1
1及びセラミックス部材12を加熱するため、熱変形や
熱膨張によって上記セラミックス部材12のローNけさ
れた各接合部を損傷するおそれがある。
次に、第7図に示されるグラフは、上記高周波加熱装置
における高周波発振器9からの高周波を一定時間ごとに
発振して上記導波管6における温度特性曲線を示したも
のであって、この第7図のグラフの曲IIは、上記内側
コベール筒体11の温度特性であり、曲線■は、上記外
側コベール筒体10の温度特性であり、さらに曲線■は
、上記外側コベール筒体12と上記セラミックス部材1
2との接合部の温度特性を示したものである。
における高周波発振器9からの高周波を一定時間ごとに
発振して上記導波管6における温度特性曲線を示したも
のであって、この第7図のグラフの曲IIは、上記内側
コベール筒体11の温度特性であり、曲線■は、上記外
側コベール筒体10の温度特性であり、さらに曲線■は
、上記外側コベール筒体12と上記セラミックス部材1
2との接合部の温度特性を示したものである。
このように、上記特性曲線からも明かなようにセラミッ
クス部材12の接合部の線膨張率の違いによる熱応力は
、上記接合部のロー付けの接合部1mを越えて破損して
分離するおそれがある。
クス部材12の接合部の線膨張率の違いによる熱応力は
、上記接合部のロー付けの接合部1mを越えて破損して
分離するおそれがある。
又一方、上記1き合部は、過冷却すると、内・外コバー
ル筒体io、’zとセラミックス部012との熱収縮量
の違いから、半径方向の引張応力を1し、これに起因し
て、接合破壊や導波管6自体に不均一な変形を起すおそ
れがある。
ル筒体io、’zとセラミックス部012との熱収縮量
の違いから、半径方向の引張応力を1し、これに起因し
て、接合破壊や導波管6自体に不均一な変形を起すおそ
れがある。
(発明の目的)
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであって
、二1筒体を構成する導波管の外側コバール筒体と内側
コバール同体との間にセラミックス部材を介装し、この
セラミックス部材の位置する上記内側コバール筒体内に
セラミックスリングを嵌装し、導波管の強度を補強して
熱応力による変形や損傷を防止して信頼性の向上を図る
ようにしたことを目的とする高周波伝送管こを提供する
ものである。
、二1筒体を構成する導波管の外側コバール筒体と内側
コバール同体との間にセラミックス部材を介装し、この
セラミックス部材の位置する上記内側コバール筒体内に
セラミックスリングを嵌装し、導波管の強度を補強して
熱応力による変形や損傷を防止して信頼性の向上を図る
ようにしたことを目的とする高周波伝送管こを提供する
ものである。
(発明の概要)
本発明は、トカマク装置のプラズマを高周波発振器で二
次加熱する高周波加熱装置において、上記トカマク装置
に接続される真空容器内に二重筒体を構成する導波管を
配設し、この導波管の内側コバール筒体と外側コバール
筒体との間にセラミックス部材を介装し、このセラミッ
クス部材の位置する上記内側コバール筒体内にセラミッ
クスリングを嵌装して熱応力による変形を防止するよう
に構成したものである。
次加熱する高周波加熱装置において、上記トカマク装置
に接続される真空容器内に二重筒体を構成する導波管を
配設し、この導波管の内側コバール筒体と外側コバール
筒体との間にセラミックス部材を介装し、このセラミッ
クス部材の位置する上記内側コバール筒体内にセラミッ
クスリングを嵌装して熱応力による変形を防止するよう
に構成したものである。
(発明の実施例)
以下、本発明を1−カマク装置のプラズマを高周波発振
器で二次加熱する高周波加熱装置に)Ω用しtこ図示の
一実施例について説明する。
器で二次加熱する高周波加熱装置に)Ω用しtこ図示の
一実施例について説明する。
なJ5、本発明は、上述した具体例と同一構成部材には
、同じ符号を付して説明する。
、同じ符号を付して説明する。
第1図及び第2図において、符号6は、トカマク装置1
に接続される真空容器3内に二重筒体を(を成して配設
された導波管であって、この二重筒体をなす導波管6は
、外側コバール筒体10と内側コバール筒体11との間
に輪板状をなす一対のセラミックス部材12を設けて構
成されている。
に接続される真空容器3内に二重筒体を(を成して配設
された導波管であって、この二重筒体をなす導波管6は
、外側コバール筒体10と内側コバール筒体11との間
に輪板状をなす一対のセラミックス部材12を設けて構
成されている。
又、上記外側コバール筒体10の一端部10aには、高
周波伝送管8及び冷媒の供給口13が付設8れており、
この外側コバール筒体10と内側コバール筒体11の他
端部とは、冷媒通路(第5図参照)14で連通ずるよう
に構成されている。
周波伝送管8及び冷媒の供給口13が付設8れており、
この外側コバール筒体10と内側コバール筒体11の他
端部とは、冷媒通路(第5図参照)14で連通ずるよう
に構成されている。
一方、上記セラミックス部材12の位置する上記内側コ
バール筒体12内にはセラミックスリング15が嵌装さ
れている。従って、このセラミックスリング15は、導
波管6の強度を補強して熱応力による変形やallを防
止するようになっている。
バール筒体12内にはセラミックスリング15が嵌装さ
れている。従って、このセラミックスリング15は、導
波管6の強度を補強して熱応力による変形やallを防
止するようになっている。
次に、第3図(A)、(B)に示される本発明の他の実
施例は、セラミックスリング15の内周に複数の放熱突
出!ff115aを形成し、この各放熱突出部15aに
角孔又は丸孔による放熱孔15bを形成して冷媒の熱の
交換効率を向上するようにしたものである。又一方、第
3図(C)に示される本発明の他の実施例は、セラミッ
クスリング15の内周に複数の放熱突出部15aを形成
し、この各放熱突出部15aに放熱溝15Cを形成しこ
れによって冷媒の熱交換効率の向上を図るように構成し
たものである。
施例は、セラミックスリング15の内周に複数の放熱突
出!ff115aを形成し、この各放熱突出部15aに
角孔又は丸孔による放熱孔15bを形成して冷媒の熱の
交換効率を向上するようにしたものである。又一方、第
3図(C)に示される本発明の他の実施例は、セラミッ
クスリング15の内周に複数の放熱突出部15aを形成
し、この各放熱突出部15aに放熱溝15Cを形成しこ
れによって冷媒の熱交換効率の向上を図るように構成し
たものである。
囚に、上記セラミックスリング15は、外側コバール筒
体10にも、第1図のIlmで示すように嵌装してもよ
いこと勿論である。
体10にも、第1図のIlmで示すように嵌装してもよ
いこと勿論である。
(発明の効果)
以上述べたように本発明によれば、トカマク装置1のプ
ラズマ7を高周波発振器9で二次加熱する高周波加熱装
置において、上記トカマク装置1に接続される真空容器
3内に二重筒体を構成する導波管6を配設し、この導波
管6の内側コバール筒体10と外側コバール筒体11と
の間にセラミックス部材12を介装し、このセラミック
ス部材12の位置する上記内側コバール筒体1コ内にセ
ラミックスリング15を表装しであるので、熱応力に対
して補強することができるばかりでなく、熱的変形や熱
酸t!a3に対しても、接合部を損傷するおそれはなく
なり、信頼性の向上を図ることができる。
ラズマ7を高周波発振器9で二次加熱する高周波加熱装
置において、上記トカマク装置1に接続される真空容器
3内に二重筒体を構成する導波管6を配設し、この導波
管6の内側コバール筒体10と外側コバール筒体11と
の間にセラミックス部材12を介装し、このセラミック
ス部材12の位置する上記内側コバール筒体1コ内にセ
ラミックスリング15を表装しであるので、熱応力に対
して補強することができるばかりでなく、熱的変形や熱
酸t!a3に対しても、接合部を損傷するおそれはなく
なり、信頼性の向上を図ることができる。
第1図は、本発明による高周波加熱装置の要部を示すI
gi面図、第2図は、第1図中の鎖11!A−Aに沿う
断面図、第3図、(△)、(B)、(C)は、本発明の
他の実施例を示す図、第4図は、既に11示されている
高周波加熱装置を籠えたトカマク装置のね図、第5図は
、上記高周波加熱装置に組込まれる導波管の一部を省略
して示す断面図、第6図は、第5図中の鎖円B部の拡大
断面図、第7図は、温度とショット11イクルとの関係
を示寸グラフである。 1・・・トカマク装置、3・・・真空容器、6・・・導
Il管7・・・プラズマ、8・・・高周波伝送管、9・
・・高周波発振器、1o・・・外側コバール筒体、11
・・・内側コバール筒体、12・・・セラミックス部材
、15・・・セラミックスリング。
gi面図、第2図は、第1図中の鎖11!A−Aに沿う
断面図、第3図、(△)、(B)、(C)は、本発明の
他の実施例を示す図、第4図は、既に11示されている
高周波加熱装置を籠えたトカマク装置のね図、第5図は
、上記高周波加熱装置に組込まれる導波管の一部を省略
して示す断面図、第6図は、第5図中の鎖円B部の拡大
断面図、第7図は、温度とショット11イクルとの関係
を示寸グラフである。 1・・・トカマク装置、3・・・真空容器、6・・・導
Il管7・・・プラズマ、8・・・高周波伝送管、9・
・・高周波発振器、1o・・・外側コバール筒体、11
・・・内側コバール筒体、12・・・セラミックス部材
、15・・・セラミックスリング。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、トカマク装置のプラズマを高周波発振器で二次加熱
する高周波加熱装置において、上記トカマク装置に接続
される真空容器内に二重筒体を構成する導波管を配設し
、この導波管の内側コバール筒体と外側コバール筒体と
の間にセラミックス部材を介装し、このセラミックス部
材の位置する上記内側コバール筒体内にセラミックスリ
ングを嵌装したことを特徴とする高周波加熱装置。 2、セラミックスリングの内周に複数の放熱突出部を形
成したことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の高
周波加熱装置。 3、各放熱突出部に放熱孔若しくは放熱溝を形成したこ
とを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の高周波加熱
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59200080A JPS6178100A (ja) | 1984-09-25 | 1984-09-25 | 導波管真空窓 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59200080A JPS6178100A (ja) | 1984-09-25 | 1984-09-25 | 導波管真空窓 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6178100A true JPS6178100A (ja) | 1986-04-21 |
| JPH0548435B2 JPH0548435B2 (ja) | 1993-07-21 |
Family
ID=16418517
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59200080A Granted JPS6178100A (ja) | 1984-09-25 | 1984-09-25 | 導波管真空窓 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6178100A (ja) |
-
1984
- 1984-09-25 JP JP59200080A patent/JPS6178100A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0548435B2 (ja) | 1993-07-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |