JPS6180158A - 感光体 - Google Patents
感光体Info
- Publication number
- JPS6180158A JPS6180158A JP59202766A JP20276684A JPS6180158A JP S6180158 A JPS6180158 A JP S6180158A JP 59202766 A JP59202766 A JP 59202766A JP 20276684 A JP20276684 A JP 20276684A JP S6180158 A JPS6180158 A JP S6180158A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- undercoat layer
- weight
- photoreceptor
- parts
- resin
- Prior art date
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0622—Heterocyclic compounds
- G03G5/0644—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings
- G03G5/0661—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings in different ring systems, each system containing at least one hetero ring
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ｆ業主の利用分野
本発明は導電性基体上に下引き層と光導電層を有する感
光体に関する。
光体に関する。
」粗へ交ｉ
感光体の一般的な摺電として導電性基体上に光導電層を
形成したもの、あるいは更にその上に電荷輸送層を積層
したもの等が広く知られている。
形成したもの、あるいは更にその上に電荷輸送層を積層
したもの等が広く知られている。
そしてこの様な感光体においては、基本と光導電層の接
着性の改善、光導電層の塗工性向上、基体の保護、基体
上の欠陥の被覆、光導電層の電気的破壊に対する保護、
基体から光導電層への電荷注入性改善等のために基体と
光導電層間に下引き層を設けることが有効である。その
−例として特開昭５８−３０７５７号、特開昭５８−９
５７４４号ではポリイミドムｆ脂を開いて下引き層とし
た感光体が提案されている。
着性の改善、光導電層の塗工性向上、基体の保護、基体
上の欠陥の被覆、光導電層の電気的破壊に対する保護、
基体から光導電層への電荷注入性改善等のために基体と
光導電層間に下引き層を設けることが有効である。その
−例として特開昭５８−３０７５７号、特開昭５８−９
５７４４号ではポリイミドムｆ脂を開いて下引き層とし
た感光体が提案されている。
ところで、下引き層に要求される特性として、まず第一
に電気的特性が挙げられる。電子写真感光体に用いるの
であるから、電子写真特性に影響を与えないことが重要
で、このためには電気抵抗が低いことが重要である。電
気抵抗が高いと、下引き層に帯電電位が印加され、いわ
ゆる残留電位として、画像にかぶりが発生する。従って
下引き層を樹脂でのみ構成するだけでは、残留電位の上
昇を招きカブリが生じるという弊害を起こす。
に電気的特性が挙げられる。電子写真感光体に用いるの
であるから、電子写真特性に影響を与えないことが重要
で、このためには電気抵抗が低いことが重要である。電
気抵抗が高いと、下引き層に帯電電位が印加され、いわ
ゆる残留電位として、画像にかぶりが発生する。従って
下引き層を樹脂でのみ構成するだけでは、残留電位の上
昇を招きカブリが生じるという弊害を起こす。
更に下引き層はその電気抵抗が、外部の環境の変化、特
に大気中の湿度の変化によって影響を受けないことも必
要である。例えば、低湿度になって電気抵抗が上昇する
と、かぶりを生ずるようになる。下引き層にはこのよう
ないろいろな特性が要求されるが、単一樹脂層だけの場
合には従来は良好なものが得難いものであった。そのた
め、樹脂層の膜厚を非常に薄くするのが、あるいは必要
に応じて導電性粉末にッケル、銅や銀等の金属粉など）
を■（脂に分散させている。しかし、樹脂層の膜厚を薄
くすることは、下引き層としての性能が十分でなくなる
欠点をを有しており、一方金属粉を分散させた下引き層
では、金属粒子が荒いため、下引き屑の表面性が低下す
る欠点があった。
に大気中の湿度の変化によって影響を受けないことも必
要である。例えば、低湿度になって電気抵抗が上昇する
と、かぶりを生ずるようになる。下引き層にはこのよう
ないろいろな特性が要求されるが、単一樹脂層だけの場
合には従来は良好なものが得難いものであった。そのた
め、樹脂層の膜厚を非常に薄くするのが、あるいは必要
に応じて導電性粉末にッケル、銅や銀等の金属粉など）
を■（脂に分散させている。しかし、樹脂層の膜厚を薄
くすることは、下引き層としての性能が十分でなくなる
欠点をを有しており、一方金属粉を分散させた下引き層
では、金属粒子が荒いため、下引き屑の表面性が低下す
る欠点があった。
−明が〒 しようとする問題ヴ
前述した如く、従来提案されている下引き層では電気抵
抗の特性が不十分で残留電位の上昇を生じる。このため
、下引き層の膜厚を薄くすることが考えられるが、逆に
下引き層そのものの性能が低下する。また導電性粉末を
分散しても下引き層の表面性が低下するという欠点があ
った。
抗の特性が不十分で残留電位の上昇を生じる。このため
、下引き層の膜厚を薄くすることが考えられるが、逆に
下引き層そのものの性能が低下する。また導電性粉末を
分散しても下引き層の表面性が低下するという欠点があ
った。
本発明は上記欠点を解消した感光体を提供することを目
的とし、具体的には平滑な表面性を有し且つ肉厚に形成
可能な下引き層を有し、電子写真特性全般に優れた感光
体を提供することを目的とする。
的とし、具体的には平滑な表面性を有し且つ肉厚に形成
可能な下引き層を有し、電子写真特性全般に優れた感光
体を提供することを目的とする。
０ σを するための手を
本発明は導電性基体上に下引き層を有する感光体におい
て、前記下引き層を樹脂で摺電するとともに下記一般式
（１）で示されるヒドラゾン化合物を含有することを要
旨とする。
て、前記下引き層を樹脂で摺電するとともに下記一般式
（１）で示されるヒドラゾン化合物を含有することを要
旨とする。
〔式中、Ｒ５は水素、メチル基またはフェニル基、Ｒ２
、Ｒ１はアルキル基、アラルキル基またはアリール基を
示し、Ｒ２、Ｒ３は一体となって環を形成してもよい。
、Ｒ１はアルキル基、アラルキル基またはアリール基を
示し、Ｒ２、Ｒ３は一体となって環を形成してもよい。
ｎは１または２の数、Ａは置換基を有してもよい芳香族
炭化水素基または芳香族複素環基を表わす。〕 上記ヒドラゾン化合物の具体例としては、次のものを用
いることができる。
炭化水素基または芳香族複素環基を表わす。〕 上記ヒドラゾン化合物の具体例としては、次のものを用
いることができる。
Ｎ−Ｎ
一方、下引き層を摺電する樹脂として従来より公知のポ
リビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ
−Ｎ−ビニシイミグゾール、エチルセルロース、メチル
セルロース、エチレン−アクリル酸フボリマー、カゼイ
ン、ゼラチン、ポリアミド等を用いることに加え、一般
的なポリエステル樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂
、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール
樹脂等の熱可塑性樹脂又はアルキッド樹脂、メラミン樹
脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、７
エ７−ル樹脂等の熱硬化性樹脂のいずれでもよく、基体
との密着性やヒドラゾンとの相溶性などを考慮して選択
される。これらの中でも、特にポリエステル樹脂、ポリ
ビニルブチ２−ル樹脂が接着性の点でより好ましい。
リビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ
−Ｎ−ビニシイミグゾール、エチルセルロース、メチル
セルロース、エチレン−アクリル酸フボリマー、カゼイ
ン、ゼラチン、ポリアミド等を用いることに加え、一般
的なポリエステル樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂
、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール
樹脂等の熱可塑性樹脂又はアルキッド樹脂、メラミン樹
脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、７
エ７−ル樹脂等の熱硬化性樹脂のいずれでもよく、基体
との密着性やヒドラゾンとの相溶性などを考慮して選択
される。これらの中でも、特にポリエステル樹脂、ポリ
ビニルブチ２−ル樹脂が接着性の点でより好ましい。
上記樹脂とともにヒドラゾン化合物を含有してなる下引
き層は、表面平滑性に優れ、その屑自体の膜厚にかなり
の自由度を与える。即ち、上記ヒドラゾン化合物の含有
により下引き層の膜厚は約０．１〜２０μ、好ましくは
１〜１５μとすることができる。ヒドラゾン化合物は下
引き層中に０．１〜７０％、好ましくは１〜５０％の重
量割り合いで含有することができ、単独あるいは２ｆ！
１以上のヒドラゾン化合物を併用してもよい。ヒドラゾ
ン化合物の含有は上述の如く下引き層のｎＱ ｊ’７に
自由度を与えるのみならず、感光体としての電荷保持能
の向上、繰り返し特性と耐刷性に優れた効果を示す。
き層は、表面平滑性に優れ、その屑自体の膜厚にかなり
の自由度を与える。即ち、上記ヒドラゾン化合物の含有
により下引き層の膜厚は約０．１〜２０μ、好ましくは
１〜１５μとすることができる。ヒドラゾン化合物は下
引き層中に０．１〜７０％、好ましくは１〜５０％の重
量割り合いで含有することができ、単独あるいは２ｆ！
１以上のヒドラゾン化合物を併用してもよい。ヒドラゾ
ン化合物の含有は上述の如く下引き層のｎＱ ｊ’７に
自由度を与えるのみならず、感光体としての電荷保持能
の向上、繰り返し特性と耐刷性に優れた効果を示す。
具体的に上記下引き屑は導電性基体上にヒドラゾン化合
物の単独または２種以上を結着樹脂溶液に溶解または分
散させて塗布することにより形成される。塗布方法は、
浸漬コーティング法、スプレーコーティング法、スピン
ナーコーティング法、ビードコーティング法、ワイヤー
バーコーティング法、フレードコーチインク法、ローラ
ーコーティング法、カーテンコーティング法などのコー
ティング法を用いて行なうことができる。また、導電性
基体としては、銅、アルミニウム、銀、鉄、ニッケル等
の箔ないしは板をシート状又はドラム状にしたものが使
用され、あるいはこれらの金属を、プラスチックフィル
ム等に真空蒸着、無電解メッキしたもの、あるいは導電
性ポリマー、酸化インジウム、酸化スズなどの導電性化
合物の層を同じく紙あるいはプラスチックフィルムなど
の支持体上に塗布もしくは蒸着によって設けられたもの
が用いられる。
物の単独または２種以上を結着樹脂溶液に溶解または分
散させて塗布することにより形成される。塗布方法は、
浸漬コーティング法、スプレーコーティング法、スピン
ナーコーティング法、ビードコーティング法、ワイヤー
バーコーティング法、フレードコーチインク法、ローラ
ーコーティング法、カーテンコーティング法などのコー
ティング法を用いて行なうことができる。また、導電性
基体としては、銅、アルミニウム、銀、鉄、ニッケル等
の箔ないしは板をシート状又はドラム状にしたものが使
用され、あるいはこれらの金属を、プラスチックフィル
ム等に真空蒸着、無電解メッキしたもの、あるいは導電
性ポリマー、酸化インジウム、酸化スズなどの導電性化
合物の層を同じく紙あるいはプラスチックフィルムなど
の支持体上に塗布もしくは蒸着によって設けられたもの
が用いられる。
下引き層は前述した如く、０．１〜２０μ、特に１〜１
５μ程度の膜厚とするのが望ましく、膜厚が薄すぎると
所望の効果を得ることができず、また逆に厚すぎると抵
抗が高くなり、残留電位が蓄積される。またヒドラゾン
化合物の含有量を０．１〜７０ｗｔ％ とするのは、０
．１％以下では残留電位の上昇が避けられず、７０％以
上では塗膜自体が均質とならず結晶化等を起こす可能性
が有るためである。
５μ程度の膜厚とするのが望ましく、膜厚が薄すぎると
所望の効果を得ることができず、また逆に厚すぎると抵
抗が高くなり、残留電位が蓄積される。またヒドラゾン
化合物の含有量を０．１〜７０ｗｔ％ とするのは、０
．１％以下では残留電位の上昇が避けられず、７０％以
上では塗膜自体が均質とならず結晶化等を起こす可能性
が有るためである。
本発明の下引き層には、さらに必要に応じて電子受容性
物質や低抵抗物質を添加させたとき全ての面でさらに特
性が向上する。添加する電子受容性物質としては、トリ
ニトロアントラセン、トリニトロフルオレノン、ジニト
ロアクリジン、テトラシア／ピレン等の多環ないしは複
素環ニトロ化合物無水７タル酸、無水トリメＩＪ ）酸
、無水テトラクロル７タル酸等の酸無水物ジニトロクロ
ルベンゼン、トリシアノベンゼン、クロクロル、ブロマ
ロル、テトラシアノエチレン、テトラシアフキ／ジメタ
ン、ベンゾキノン、ジニトロビフェニル等の電子吸引性
基置換化合物である。低抵抗物質として有効なものは、
酸化亜鉛、酸化スズ、酸化チタン等の金属酸化物、カー
ボンブラック、７エロセン等の有機導電性物質である。
物質や低抵抗物質を添加させたとき全ての面でさらに特
性が向上する。添加する電子受容性物質としては、トリ
ニトロアントラセン、トリニトロフルオレノン、ジニト
ロアクリジン、テトラシア／ピレン等の多環ないしは複
素環ニトロ化合物無水７タル酸、無水トリメＩＪ ）酸
、無水テトラクロル７タル酸等の酸無水物ジニトロクロ
ルベンゼン、トリシアノベンゼン、クロクロル、ブロマ
ロル、テトラシアノエチレン、テトラシアフキ／ジメタ
ン、ベンゾキノン、ジニトロビフェニル等の電子吸引性
基置換化合物である。低抵抗物質として有効なものは、
酸化亜鉛、酸化スズ、酸化チタン等の金属酸化物、カー
ボンブラック、７エロセン等の有機導電性物質である。
下引き層上には光導電層が形成されるが、ＳｅやＣｄＳ
を蒸着したもの、ＣｄＳ、ＺｎＯ，ＴｉＯ２と絶縁性バ
イングー樹脂の混合物を塗布したもの、ポリビニルカル
バゾール、アントラセン１．７りロシアニン等の有機光
導電性材料をそれ自体乃至は絶縁性バイング樹脂との混
合で塗布したもの等を用いることができる。また光導電
層上には保護層あるいは電荷輸送層を形成してもよい。
を蒸着したもの、ＣｄＳ、ＺｎＯ，ＴｉＯ２と絶縁性バ
イングー樹脂の混合物を塗布したもの、ポリビニルカル
バゾール、アントラセン１．７りロシアニン等の有機光
導電性材料をそれ自体乃至は絶縁性バイング樹脂との混
合で塗布したもの等を用いることができる。また光導電
層上には保護層あるいは電荷輸送層を形成してもよい。
発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明の感光体によれ
ば、下引き屑の表面平滑性が優れ且つかなりの自由度を
ちって膜厚設定することができる。
ば、下引き屑の表面平滑性が優れ且つかなりの自由度を
ちって膜厚設定することができる。
これにより感光体の電荷保持能、繰り返し特性、耐刷性
の優れた効果を示し、カブリのない良好な画像が得られ
るものである。
の優れた効果を示し、カブリのない良好な画像が得られ
るものである。
以下、実施例について説明する。
友艶乱Ｌ
ポリエステル樹脂バイロン２００ （東洋紡（株）？
！り１０重量部とヒドラゾン化合物例（１）６重量部を
テトラヒドロ７ラン５０重量部に溶解させた溶液をアル
ミニウム基体上に約３μになるように塗布し、乾燥させ
て、下引き層を形成した。次に、ε型銅フタロシアニン
２０重呈部、Ｎ−エチルカルバゾール−３−アルデヒド
−メチルフェニルヒドラゾン４０重量部、ポリエステル
樹脂（バイロン２００ ：東洋紡（抹）製）４０重量
部およびポリカーボネット樹脂（パンライトに１３００
：量大化成（株）製）４０重量部をトルエン／テトラヒ
ドロ７ラン（１： ９）１００重量部とともにポールミ
ルボットに入れ、４８時間混線して光導電性塗料をＴＩ
！４整し、この塗料を上記下引き層の上に塗布、乾燥さ
せて１０μ厚の光導電層を有する感光体を作製した。
！り１０重量部とヒドラゾン化合物例（１）６重量部を
テトラヒドロ７ラン５０重量部に溶解させた溶液をアル
ミニウム基体上に約３μになるように塗布し、乾燥させ
て、下引き層を形成した。次に、ε型銅フタロシアニン
２０重呈部、Ｎ−エチルカルバゾール−３−アルデヒド
−メチルフェニルヒドラゾン４０重量部、ポリエステル
樹脂（バイロン２００ ：東洋紡（抹）製）４０重量
部およびポリカーボネット樹脂（パンライトに１３００
：量大化成（株）製）４０重量部をトルエン／テトラヒ
ドロ７ラン（１： ９）１００重量部とともにポールミ
ルボットに入れ、４８時間混線して光導電性塗料をＴＩ
！４整し、この塗料を上記下引き層の上に塗布、乾燥さ
せて１０μ厚の光導電層を有する感光体を作製した。
実施例２
ポリエステル樹脂、バイロン３００ （東洋紡（株）製
）１０重量部とヒドラゾン化合物例（２）５重量部をテ
トラヒドロ７ラン５０重量邪に溶解させた溶液をアルミ
ニウム基本上に約５μになるよう、に塗布し、乾燥させ
て下引き屑を形成した。この下引き層の上に系内真空度
ｌＸ１０’Ｌｏｎで常法によりＳｃを蒸着させ６０μ
厚の光導電層を有する感光体を作製した。
）１０重量部とヒドラゾン化合物例（２）５重量部をテ
トラヒドロ７ラン５０重量邪に溶解させた溶液をアルミ
ニウム基本上に約５μになるよう、に塗布し、乾燥させ
て下引き屑を形成した。この下引き層の上に系内真空度
ｌＸ１０’Ｌｏｎで常法によりＳｃを蒸着させ６０μ
厚の光導電層を有する感光体を作製した。
実施例３
ポリスチレン壱脂 ダイヤレックス３０フ三更モンサン
ト化成（株）製）１０重量部とヒドラゾン化合物例（３
）１０重量部をキシレン５０重量部に溶解させた溶液を
アルミニウム基体上に約５μになるように塗布し、乾燥
させて、下引き層を形成したにの下引き屑の上に系内真
空度 １×１０５ｔｏｎで常法により Ａｓ２Ｓｅ：＋
を蒸着させ６０μ厚の光導電層を有する感光体を作製し
た。
ト化成（株）製）１０重量部とヒドラゾン化合物例（３
）１０重量部をキシレン５０重量部に溶解させた溶液を
アルミニウム基体上に約５μになるように塗布し、乾燥
させて、下引き層を形成したにの下引き屑の上に系内真
空度 １×１０５ｔｏｎで常法により Ａｓ２Ｓｅ：＋
を蒸着させ６０μ厚の光導電層を有する感光体を作製し
た。
実施例４
アクリル樹脂Ａ４０５ （大日本インキ（株）製）１
０重量部とヒドラゾン化合物例（４）５重量部、酸化チ
タン３重量部をメチルエチルケトン５０重量部とともに
ボールミルポットに入れて２４時間混練し、得られた組
成物をアルミニウム基体上に約５μになるように塗布し
、乾燥させて下引き層を形成した。
０重量部とヒドラゾン化合物例（４）５重量部、酸化チ
タン３重量部をメチルエチルケトン５０重量部とともに
ボールミルポットに入れて２４時間混練し、得られた組
成物をアルミニウム基体上に約５μになるように塗布し
、乾燥させて下引き層を形成した。
銅フタロシアニン５０重量部とテトラニトロ銅７タロシ
アニン０．２重量部を９８％濃硫酸５００重量部に充分
攪拌しながら溶解させ、これを水３０００重量部にあけ
、銅７りロシアニンとテトラニトロ銅フタロシアニンの
光導電性材料組成物を析出させた後、口過、水洗し、減
圧下１２０℃で乾燥した。この光導電性材料組成物１５
重量部、ポリエステル樹脂２０重量部、ポリカーボネッ
ト樹脂２０重量部およびｐ−ノエチルアミノベンズアル
デヒドージフェニルヒドラゾン２０ Ｔｕｔ ａ、テト
ラヒドロ７ラン１００重量部ととも１こボールミルポッ
トに入れ４８時間混練して光導電性塗料を調整し、下引
き層の上に乾燥後１０μになるように塗布し感光体を作
製した。
アニン０．２重量部を９８％濃硫酸５００重量部に充分
攪拌しながら溶解させ、これを水３０００重量部にあけ
、銅７りロシアニンとテトラニトロ銅フタロシアニンの
光導電性材料組成物を析出させた後、口過、水洗し、減
圧下１２０℃で乾燥した。この光導電性材料組成物１５
重量部、ポリエステル樹脂２０重量部、ポリカーボネッ
ト樹脂２０重量部およびｐ−ノエチルアミノベンズアル
デヒドージフェニルヒドラゾン２０ Ｔｕｔ ａ、テト
ラヒドロ７ラン１００重量部ととも１こボールミルポッ
トに入れ４８時間混練して光導電性塗料を調整し、下引
き層の上に乾燥後１０μになるように塗布し感光体を作
製した。
Ｕ阿」一
実施例４において、下引き層にポリビニルブチラールに
２０００（電気化学（株）５！り１０重量部、酸化亜鉛
３重量部、ヒドラゾン化合物例（１６）６重量部をテト
ラヒドロ７ラン６０重量部とともにボールミルボットに
入れて２４時間混練し、得られた組成物をアルミニウム
基体上に約５μになるよう塗布したものにかえた以外は
実施例４と全く同様の処方で感光体を作製した。
２０００（電気化学（株）５！り１０重量部、酸化亜鉛
３重量部、ヒドラゾン化合物例（１６）６重量部をテト
ラヒドロ７ラン６０重量部とともにボールミルボットに
入れて２４時間混練し、得られた組成物をアルミニウム
基体上に約５μになるよう塗布したものにかえた以外は
実施例４と全く同様の処方で感光体を作製した。
側丸隨り
下引き層を設けないこと以外は実施例１と全く同様の処
方で感光体を作製した。
方で感光体を作製した。
比較例２
下引き層にヒドラゾン化合物を含有しないこと以外は実
施例１と全く同様の処方で感光体を作製した。
施例１と全く同様の処方で感光体を作製した。
前期の如く作製された７種類の各感光体を市販の粉像転
写型電子写真複写礪（ミ／ルタカ〆う（抹）製Ｅ Ｐ
−３５０Ｚ ）の感光体として組み込み＋６ＫＶのコロ
ナ放電で初期表面電位（Ｖｏ）、初期表面電位が１／２
になるのに要する露光量（Ｅｌ／２（Ｌ ｕｘ ５ｅｃ
）） （Ｖ ｏ）に帯電して暗中で１秒後に減衰する率
（Ｄ Ｄ Ｒ、（％））と、複写物の画像品質を調べた
。その結果は第１表に示す通りで、本発明の感光体は電
荷保持能が向上し、感度低下もなく良好な画像が得られ
るものである。
写型電子写真複写礪（ミ／ルタカ〆う（抹）製Ｅ Ｐ
−３５０Ｚ ）の感光体として組み込み＋６ＫＶのコロ
ナ放電で初期表面電位（Ｖｏ）、初期表面電位が１／２
になるのに要する露光量（Ｅｌ／２（Ｌ ｕｘ ５ｅｃ
）） （Ｖ ｏ）に帯電して暗中で１秒後に減衰する率
（Ｄ Ｄ Ｒ、（％））と、複写物の画像品質を調べた
。その結果は第１表に示す通りで、本発明の感光体は電
荷保持能が向上し、感度低下もなく良好な画像が得られ
るものである。
表 １ 表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、導電性基体上に下引き層を有する感光体において、
前記下引き層は下記一般式［ I ］で示されるヒドラゾ
ン化合物を含む樹脂層であることを特徴とする感光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼［ I ］ 〔式中、Ｒ＿１は水素、メチル基またはフェニル基、Ｒ
＿２、Ｒ＿３はアルキル基、アラルキル基またはアリー
ル基を示し、Ｒ＿２、Ｒ＿３は一体となって環を形成し
てもよい。ｎは１または２の数、Ａは置換基を有しても
よい。芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表わす
。〕 ２、前記下引き層の樹脂はポリエステルまたはポリビニ
ルブチラールであることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59202766A JPH0658538B2 (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | 感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59202766A JPH0658538B2 (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | 感光体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6180158A true JPS6180158A (ja) | 1986-04-23 |
| JPH0658538B2 JPH0658538B2 (ja) | 1994-08-03 |
Family
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Cited By (7)
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|---|---|---|---|---|
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-
1984
- 1984-09-27 JP JP59202766A patent/JPH0658538B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
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| US7561828B2 (en) | 2004-07-16 | 2009-07-14 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Image-forming apparatus including an electrophotographic photoreceptor having an undercoat layer |
| US7592112B2 (en) | 2004-07-16 | 2009-09-22 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor, process cartridge and electrophotographic apparatus |
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