JPS6180513A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS6180513A JPS6180513A JP20319284A JP20319284A JPS6180513A JP S6180513 A JPS6180513 A JP S6180513A JP 20319284 A JP20319284 A JP 20319284A JP 20319284 A JP20319284 A JP 20319284A JP S6180513 A JPS6180513 A JP S6180513A
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 51
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 3
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 17
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003271 Ni-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-dione;diazide Chemical compound [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ｐ業上の利用分野
この発明は、Ｎ摸磁気ヘッドの上部コア形成技術に関す
るもので、段差のある面に薄膜を形成する必要があるエ
レクトロニクス素子製作に利用できるものである。
るもので、段差のある面に薄膜を形成する必要があるエ
レクトロニクス素子製作に利用できるものである。
従来の技術
Ｒ近り、ｈ Ｔ、 （デジタル・オーディオ脅テープレ
コーダ）を初め磁気記録装置は、高記録密度化が要求さ
れているが１．線記録密度は限界に近づきつつあり、今
後これを飛躍的に改善することは期待できないため、ト
ラック密度を上げることによって高記録密度化を達成す
ることが考えられている。そこで、従来のバルク・ヘッ
ドに代り、高トラツク密度化の容易な薄膜ヘッドが賞用
され始めた。しかしながら、薄膜ヘッドの形成技術は、
未だ確立しておらず、次に述べる上部コアの磁束孔れを
惹起する欠点があった。すなわち、薄膜ヘッドは、一般
に第１０図に示すように、下部コアとなる基板ｌ上に、
磁気ギヤツプを形成するための非磁性陣薄欣２を形成し
ておき、その薄膜２上に数回巻回する導電コイルパター
ン３と、薄＠２以外で基板１と直接接合し、かつ絶縁層
４を介して導電フィルパターン３」へ乗り上げて鎖交す
る上部コアとなる強磁性体薄膜５とを設けている。
コーダ）を初め磁気記録装置は、高記録密度化が要求さ
れているが１．線記録密度は限界に近づきつつあり、今
後これを飛躍的に改善することは期待できないため、ト
ラック密度を上げることによって高記録密度化を達成す
ることが考えられている。そこで、従来のバルク・ヘッ
ドに代り、高トラツク密度化の容易な薄膜ヘッドが賞用
され始めた。しかしながら、薄膜ヘッドの形成技術は、
未だ確立しておらず、次に述べる上部コアの磁束孔れを
惹起する欠点があった。すなわち、薄膜ヘッドは、一般
に第１０図に示すように、下部コアとなる基板ｌ上に、
磁気ギヤツプを形成するための非磁性陣薄欣２を形成し
ておき、その薄膜２上に数回巻回する導電コイルパター
ン３と、薄＠２以外で基板１と直接接合し、かつ絶縁層
４を介して導電フィルパターン３」へ乗り上げて鎖交す
る上部コアとなる強磁性体薄膜５とを設けている。
発明が解決りようとする問題点
七ころが、強磁性体薄膜５を形成する場合には、従来よ
り導電コイルパターン３、絶縁層４を形成後に、スパン
タリング手段等により、基板１との直接接合するリア部
６から絶縁層４土へ乗り上げｆ） ７ ｏント部７まで
全面被着させ、フォトリソグラフィ技術によるエツチン
グ処理を施して不要部分を除去しτいる。すると、基板
１と絶縁層４との段差りが約１０μｍ程度と大きいリア
部６の底部６′においては、フォトレジストの残存や目
ずれが生じがちとなり、上部コアである強磁性体Ｎ＠５
における磁気回路を乱れさせ不都合な磁束漏洩と招いた
りして、ヘッドの記録・再生効率を劣化させる欠点があ
った。
り導電コイルパターン３、絶縁層４を形成後に、スパン
タリング手段等により、基板１との直接接合するリア部
６から絶縁層４土へ乗り上げｆ） ７ ｏント部７まで
全面被着させ、フォトリソグラフィ技術によるエツチン
グ処理を施して不要部分を除去しτいる。すると、基板
１と絶縁層４との段差りが約１０μｍ程度と大きいリア
部６の底部６′においては、フォトレジストの残存や目
ずれが生じがちとなり、上部コアである強磁性体Ｎ＠５
における磁気回路を乱れさせ不都合な磁束漏洩と招いた
りして、ヘッドの記録・再生効率を劣化させる欠点があ
った。
そこで、この欠点を解消しようとすれば、一般に段差解
消材４′を用いなければならず、それでも確実な解決策
とは限らなかった。
消材４′を用いなければならず、それでも確実な解決策
とは限らなかった。
この発明は、上記従来の上部コアとなる強磁性体薄膜形
成に起因する欠点を除去することを目的として提案する
ものである。
成に起因する欠点を除去することを目的として提案する
ものである。
問題点を解決するための手段
この発明は、下部コアとなる強磁性体基板等の上に、磁
気ギャップ形成用非磁性体膜、導電コイルパターン、絶
縁層を形成してから、上部コアとなる強磁性体薄膜を形
成するに際して、予め導電コイルパターンと絶縁層を設
けておき、導電フィルパターンと絶縁層とが形成されて
おらず、基板との直接接合部上に、リア磁極部のみを埋
め込み形成してほぼ平坦化し、その後フロント磁極部を
形成することを特徴としている。したがって、この発明
に、従来のこの種薄膜磁気ヘッドが、その上部コアを形
成する場合に、リア磁極部とフロント磁極部とを同時に
形成するのに対して、まずリア磁極部、それからフロン
ト磁極部と形成する方法である。よってこの発明に、構
成が、後述する実施例から明らかなように、極めて簡単
である。
気ギャップ形成用非磁性体膜、導電コイルパターン、絶
縁層を形成してから、上部コアとなる強磁性体薄膜を形
成するに際して、予め導電コイルパターンと絶縁層を設
けておき、導電フィルパターンと絶縁層とが形成されて
おらず、基板との直接接合部上に、リア磁極部のみを埋
め込み形成してほぼ平坦化し、その後フロント磁極部を
形成することを特徴としている。したがって、この発明
に、従来のこの種薄膜磁気ヘッドが、その上部コアを形
成する場合に、リア磁極部とフロント磁極部とを同時に
形成するのに対して、まずリア磁極部、それからフロン
ト磁極部と形成する方法である。よってこの発明に、構
成が、後述する実施例から明らかなように、極めて簡単
である。
作用
この発明は、上述の手段を採ることによって、リア磁極
部が形成７されると、製作中のヘッド上面がほぼ平坦化
するので、フロント磁極部形成の時には、段差によるフ
ォトレジストの残存や目ずれを生じることがなくなる。
部が形成７されると、製作中のヘッド上面がほぼ平坦化
するので、フロント磁極部形成の時には、段差によるフ
ォトレジストの残存や目ずれを生じることがなくなる。
しかも、この発明では、従来のように導電コイルパター
ン形成後に絶縁層を形成する場合に使用される段差解消
材は、最終的：こは除去でさ、へ゛ノド製作作業が容易
となる。
ン形成後に絶縁層を形成する場合に使用される段差解消
材は、最終的：こは除去でさ、へ゛ノド製作作業が容易
となる。
またこの発明では、リア磁極部を直接接合させる部分は
、導電コイルパターン、絶縁層形成後、直ちに強磁性体
と付着して埋め込み形成でさることになる。
、導電コイルパターン、絶縁層形成後、直ちに強磁性体
と付着して埋め込み形成でさることになる。
実施例
第１図に、この発明の一実施例に関する薄膜へ７ドの断
面図で、まず１０は、Ｍ ｎ −Ｚ ｎ単結晶フェライ
ト基板、１１は、絶縁性で非磁性体のＳｉＯ□騰、ｌ、
２は公知のフォトリングラフィ技術によって、Ｃｕをス
パイラル状に形成した導電コイルパターン、１３は導電
コイルパターン１２を絶縁被覆するＳ ｌ ０２やＡｌ
２Ｏ３の絶縁層である。そして１４け、この薄膜ヘッド
の最も著しい特徴を表している上部コアのリア磁極部で
ある。
面図で、まず１０は、Ｍ ｎ −Ｚ ｎ単結晶フェライ
ト基板、１１は、絶縁性で非磁性体のＳｉＯ□騰、ｌ、
２は公知のフォトリングラフィ技術によって、Ｃｕをス
パイラル状に形成した導電コイルパターン、１３は導電
コイルパターン１２を絶縁被覆するＳ ｌ ０２やＡｌ
２Ｏ３の絶縁層である。そして１４け、この薄膜ヘッド
の最も著しい特徴を表している上部コアのリア磁極部で
ある。
さて、この実施例では、上述した薄膜ヘッドを予め形成
するには次の工程を経る。まず、第２図に示すように、
基板１０上に従来面りに５１０２膜１１、導電フィルパ
ターン１２、絶縁層１３を形成しておく。つき゛に第３
図のように、基板１０の上部コア直接接合部１５を形成
するための窓部１５′をエツチングにより設ける。それ
から窓部１５′及び絶縁層１３の全面に、上部コア材と
なるＮｉ−Ｆｅ合金１４′を、スパンタリング付着させ
る。その後、さらにＮｉ−Ｆｅ合金１４’上に、ナフト
キノンジアジドスルホン酸とフェノール性ＯＨ基会持つ
ポリマー又はモノマーとのエステルとアルカリ可溶性の
７ボラツク樹脂から成るレジスト１６、例えばンブレイ
社製ＡＺ−１３７５を全面塗布しておく。そして、イオ
ンミリング技術を用いて、レジスト１６及びｙｉ−Ｆｅ
合金１４７をエツチングＬながら、Ｎ↓−Ｆθ合金１４
’が窓１５’の犬ささにほぼ等りくなるまで除去ブる。
するには次の工程を経る。まず、第２図に示すように、
基板１０上に従来面りに５１０２膜１１、導電フィルパ
ターン１２、絶縁層１３を形成しておく。つき゛に第３
図のように、基板１０の上部コア直接接合部１５を形成
するための窓部１５′をエツチングにより設ける。それ
から窓部１５′及び絶縁層１３の全面に、上部コア材と
なるＮｉ−Ｆｅ合金１４′を、スパンタリング付着させ
る。その後、さらにＮｉ−Ｆｅ合金１４’上に、ナフト
キノンジアジドスルホン酸とフェノール性ＯＨ基会持つ
ポリマー又はモノマーとのエステルとアルカリ可溶性の
７ボラツク樹脂から成るレジスト１６、例えばンブレイ
社製ＡＺ−１３７５を全面塗布しておく。そして、イオ
ンミリング技術を用いて、レジスト１６及びｙｉ−Ｆｅ
合金１４７をエツチングＬながら、Ｎ↓−Ｆθ合金１４
’が窓１５’の犬ささにほぼ等りくなるまで除去ブる。
すると、第１図の通りに薄膜ヘッドの上面が平坦に整形
されて、リア磁極部１４が形成される。
されて、リア磁極部１４が形成される。
それから、ざらに第５図のように、 Ｃｕのバイアス
コイル１７、導電コイル中央部終端導出リード１２’を
、ｔ々スパッタリング被着させる。ついで第６図の通り
、磁気ギャップ形成のために先端部の絶縁層１３をエツ
チング除去する。この場合には、通常ＳｉＯ□膜１１も
供に除去されるので、基板１０の先端部１０／が露出す
る。その後磁気ギャップスペーサ兼の絶縁被憶膜１８を
第７図のように全面付着させ、第８図の通り、リア磁極
部１４のみを露出させる。すると、この時点で、先端部
１０’以外の絶縁被覆膜１日及びリア磁極部１４は、は
ぼ平坦に形成される。そこで第９図の通り、先端部ｌ□
／からバイアスフィル１７にかけての絶縁被覆膜１８、
並びに、リア磁極部１４上に、Ｎ↓−ｐｅ金合金スパン
タリング付着させてフロント磁極部１９を形成すると、
上部コア２０が完成する。
コイル１７、導電コイル中央部終端導出リード１２’を
、ｔ々スパッタリング被着させる。ついで第６図の通り
、磁気ギャップ形成のために先端部の絶縁層１３をエツ
チング除去する。この場合には、通常ＳｉＯ□膜１１も
供に除去されるので、基板１０の先端部１０／が露出す
る。その後磁気ギャップスペーサ兼の絶縁被憶膜１８を
第７図のように全面付着させ、第８図の通り、リア磁極
部１４のみを露出させる。すると、この時点で、先端部
１０’以外の絶縁被覆膜１日及びリア磁極部１４は、は
ぼ平坦に形成される。そこで第９図の通り、先端部ｌ□
／からバイアスフィル１７にかけての絶縁被覆膜１８、
並びに、リア磁極部１４上に、Ｎ↓−ｐｅ金合金スパン
タリング付着させてフロント磁極部１９を形成すると、
上部コア２０が完成する。
尚、その後の製作工程は、全〈従来通りでよく説明を省
く。
く。
発明の効果
この発明によれば、上部コアを形成する際に。
レジストの残存や目ずれに起因する磁気回路の乱れがな
くなるので、著しく良好な記録・再生特性を備えた薄膜
磁気ヘッドが得られる。しかも、上部コアの寸法形状全
、設計通りに形成できるので。
くなるので、著しく良好な記録・再生特性を備えた薄膜
磁気ヘッドが得られる。しかも、上部コアの寸法形状全
、設計通りに形成できるので。
従来よりも精密な閉磁路が作れ、特にＤＡＴ 等のよ
うにマルチヘッドを要求されるものに好適となる。また
、従来のような、段差解消材は不要であり、材料費低減
にも貢献でさ、量産性も十分期待できる。
うにマルチヘッドを要求されるものに好適となる。また
、従来のような、段差解消材は不要であり、材料費低減
にも貢献でさ、量産性も十分期待できる。
第１図は、この発明の一実施例に関する薄膜磁気ヘッド
のリア磁極部を形成する工程での断面図、第２図〜第９
図は、その実施例を説明するための薄膜磁気ヘッドの他
の製作工程での断面図、第１Ｏ図は、従来の一般的な薄
膜磁気ヘッドの断面図である。 １０・・・基板（下部コア）、 １１．１８・・・非磁性体薄膜、 １２・拳・導電コイルパターン、 １３・・・絶縁層、 １４・・・リア磁極部、 １９・・・フロント磁極部、 ２０・・・上部コア。 第５図 第６図
のリア磁極部を形成する工程での断面図、第２図〜第９
図は、その実施例を説明するための薄膜磁気ヘッドの他
の製作工程での断面図、第１Ｏ図は、従来の一般的な薄
膜磁気ヘッドの断面図である。 １０・・・基板（下部コア）、 １１．１８・・・非磁性体薄膜、 １２・拳・導電コイルパターン、 １３・・・絶縁層、 １４・・・リア磁極部、 １９・・・フロント磁極部、 ２０・・・上部コア。 第５図 第６図
Claims (1)
- 下部コアとなる強磁性体基板上に、磁気ギヤツプ形成用
の非磁性体薄膜を形成し、上記非磁性体薄膜上に導電コ
イルパターンを設け、さらに非磁性体薄膜以外で基板と
直接接合し、かつ絶縁層を介して導電コイルパターン上
へ乗り上げて鎖交する上部コアとなる強磁性体薄膜を形
成する方法において、前記上部コアとなる強磁性体薄膜
を形成するに際して、予め導電コイルパターンと絶縁層
を設けておき、導電コイルパターンと絶縁層とが形成さ
れておらず、基板との直接接合部上に、リア磁極部のみ
を埋め込み形成してほぼ平坦化し、その後フロント磁極
部を形成することを特徴とする薄膜磁気ヘツドの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20319284A JPS6180513A (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20319284A JPS6180513A (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6180513A true JPS6180513A (ja) | 1986-04-24 |
Family
ID=16469986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20319284A Pending JPS6180513A (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6180513A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63195816A (ja) * | 1987-02-09 | 1988-08-12 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 薄膜ヘツドの製造方法 |
| JPS63195815A (ja) * | 1987-02-09 | 1988-08-12 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッドの製造方法 |
-
1984
- 1984-09-27 JP JP20319284A patent/JPS6180513A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63195816A (ja) * | 1987-02-09 | 1988-08-12 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 薄膜ヘツドの製造方法 |
| JPS63195815A (ja) * | 1987-02-09 | 1988-08-12 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 垂直磁気記録再生薄膜ヘッドの製造方法 |
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