JPS6180745A - 電子顕微鏡による結晶試料観察方法 - Google Patents
電子顕微鏡による結晶試料観察方法Info
- Publication number
- JPS6180745A JPS6180745A JP59203318A JP20331884A JPS6180745A JP S6180745 A JPS6180745 A JP S6180745A JP 59203318 A JP59203318 A JP 59203318A JP 20331884 A JP20331884 A JP 20331884A JP S6180745 A JPS6180745 A JP S6180745A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- objective lens
- sample
- electron beam
- electron microscope
- crystal sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/295—Electron or ion diffraction tubes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、電子顕微鏡による結晶試料観察方法に関し、
更に詳しくは試料照射電子線の加速電圧変化に伴なう顕
微鏡像の変化を抑える観察方法に関する。
更に詳しくは試料照射電子線の加速電圧変化に伴なう顕
微鏡像の変化を抑える観察方法に関する。
［従来技術］
電子顕微鏡を用いた結晶試料観察方法には種々あるが、
その一つとして特定方向に回折された電子線による電子
顕微鏡像を観察する方法がある。
その一つとして特定方向に回折された電子線による電子
顕微鏡像を観察する方法がある。
第１図は、このような観察における対物レンズの光軸近
傍を表わしたものである。第１図中、対物レンズ磁極片
（図示せず）の間に挿入される結晶試料１は、光軸２に
沿って平行に入射する電子線３によって照射される。結
晶試料１で回折された透過電子線４は、対物レンズ磁場
５によってその後焦点面６に回折パターンを形成する。
傍を表わしたものである。第１図中、対物レンズ磁極片
（図示せず）の間に挿入される結晶試料１は、光軸２に
沿って平行に入射する電子線３によって照射される。結
晶試料１で回折された透過電子線４は、対物レンズ磁場
５によってその後焦点面６に回折パターンを形成する。
後焦点面６内には、光軸２と直交する方向に移動可能な
対物レンズ絞り板７が挿入されており、光軸方向から眺
めた対物レンズ絞り板７と回折パターンの関係を第２図
に表わす。第２図中、破線Ａ、Ｂ及びＣで示すように、
対物レンズ絞り板７の絞り穴の径を切り換えたり、後焦
点面内における位置を変化させることによって対物レン
ズ絞り穴が任意の回折スポットのみを通過させるように
調整した後、中間レンズ等から構成される結像レンズ系
に導き、蛍光板上に顕微鏡像を結像させる。
対物レンズ絞り板７が挿入されており、光軸方向から眺
めた対物レンズ絞り板７と回折パターンの関係を第２図
に表わす。第２図中、破線Ａ、Ｂ及びＣで示すように、
対物レンズ絞り板７の絞り穴の径を切り換えたり、後焦
点面内における位置を変化させることによって対物レン
ズ絞り穴が任意の回折スポットのみを通過させるように
調整した後、中間レンズ等から構成される結像レンズ系
に導き、蛍光板上に顕微鏡像を結像させる。
［発明が解決しようとする問題点］
ところが、この観察中に観察条件の一つである試料照射
電子線の加速電圧を切り換えようとすると像観察に支障
が生じる。即ち、最近の電子顕微鏡は電子線の加速電圧
を変化させた場合には相対論補正を行なって、電子線に
対する焦点距離が一定となるように各電子レンズの励磁
を自動調整しているが、このような自動調整を行なって
も、回折パターンのａ察においては電子線の波長変化の
ために結晶試料における回折角θが変化するため、第１
図に示す対物レンズ絞り板７の位置調整によって取込ん
でいた特定の回折スポットの位置が移動してしまい観察
条件を一定に保つことができなくなり、再調整を行なう
ことが必要になる。
電子線の加速電圧を切り換えようとすると像観察に支障
が生じる。即ち、最近の電子顕微鏡は電子線の加速電圧
を変化させた場合には相対論補正を行なって、電子線に
対する焦点距離が一定となるように各電子レンズの励磁
を自動調整しているが、このような自動調整を行なって
も、回折パターンのａ察においては電子線の波長変化の
ために結晶試料における回折角θが変化するため、第１
図に示す対物レンズ絞り板７の位置調整によって取込ん
でいた特定の回折スポットの位置が移動してしまい観察
条件を一定に保つことができなくなり、再調整を行なう
ことが必要になる。
［問題点を解決する発明方法の構成］
本発明は、このような問題を解決することを目的とする
もので、試料照射電子線の波長をλとし、試料照射電子
線に対する対物レンズの焦点距離をｆとするとき、試料
照射電子線の加速電圧の変化に拘わらずｆ・λが一定と
なるように試料の光軸方向の位置と対物レンズの励磁を
制御することを特徴としている。
もので、試料照射電子線の波長をλとし、試料照射電子
線に対する対物レンズの焦点距離をｆとするとき、試料
照射電子線の加速電圧の変化に拘わらずｆ・λが一定と
なるように試料の光軸方向の位置と対物レンズの励磁を
制御することを特徴としている。
［発明の作用］
第１図中、８は対物レンズによる像面位置を表わしてお
り、通常この像面位置が変化しないように対物レンズの
励磁調整を行なう。今、対物レンズの電子線に対する焦
点距離をｆ、試料１と対物レンズ主面の間の距離をａ（
この距離は対物レンズの焦点距離ｆよりも僅かに長いが
通常ｆに等しいと見做して差支えない。）、対物レンズ
主面と像面の間の距離をｂ、とすると次の（１）式が成
り立つ。
り、通常この像面位置が変化しないように対物レンズの
励磁調整を行なう。今、対物レンズの電子線に対する焦
点距離をｆ、試料１と対物レンズ主面の間の距離をａ（
この距離は対物レンズの焦点距離ｆよりも僅かに長いが
通常ｆに等しいと見做して差支えない。）、対物レンズ
主面と像面の間の距離をｂ、とすると次の（１）式が成
り立つ。
第３図は、回折パターンの形成される後焦点面６におけ
る一つの回折スポットの光軸２がらの距離Ｒとその回折
角２θの関係を示す略図であり、この図に示される関係
から、次の第（２）式が成り立つ。
る一つの回折スポットの光軸２がらの距離Ｒとその回折
角２θの関係を示す略図であり、この図に示される関係
から、次の第（２）式が成り立つ。
Ｒ＝−ｚｆｔ帆２θ・ （２）また、試料
結晶の面間隔をｄとするとブラッグの式から次の第（３
）式が成り立つ。
結晶の面間隔をｄとするとブラッグの式から次の第（３
）式が成り立つ。
λｄ−紐ρ＝入 （３）
θべ１であるので、ｓｉｎθ＝θ、ｔａｎ２θ＝２０と
なって、（２）及び（３）式から次の（４）式が導かれ
る。
なって、（２）及び（３）式から次の（４）式が導かれ
る。
回折パターンと対物絞り板の位置関係が電子線の加速電
圧変化によって変化しないようにするためには、（４）
式におけるＲの値が一定であることが必要となる。とこ
ろが、格子面間隔ｄは常に一定であるからＲを一定に保
つためには、ｆ・λを一定に保てばよいことが分かる。
圧変化によって変化しないようにするためには、（４）
式におけるＲの値が一定であることが必要となる。とこ
ろが、格子面間隔ｄは常に一定であるからＲを一定に保
つためには、ｆ・λを一定に保てばよいことが分かる。
［実施例１
今、加速電圧をある値から変化させたときの電子線の波
長をλ′ とすると、この波長変化に対応した焦点距離
での値ｆ′が決まる。従って、このｆ′に合わせて対物
レンズの励磁強度を調整することが必要になる。更に、
（１）式におけるｆをｆ′に置き換えたときのａの値ａ
′を満足するように試料の挿入位置を光軸に沿って移動
する必要がある。尚、焦点距離を変化させることに伴な
って後焦点面に設置されるべき対物レンズ絞り板７の位
置も変化するが、この移動沿は微小なので実用下心ずし
も変化させる必要はない。
長をλ′ とすると、この波長変化に対応した焦点距離
での値ｆ′が決まる。従って、このｆ′に合わせて対物
レンズの励磁強度を調整することが必要になる。更に、
（１）式におけるｆをｆ′に置き換えたときのａの値ａ
′を満足するように試料の挿入位置を光軸に沿って移動
する必要がある。尚、焦点距離を変化させることに伴な
って後焦点面に設置されるべき対物レンズ絞り板７の位
置も変化するが、この移動沿は微小なので実用下心ずし
も変化させる必要はない。
以上の説明は原理的なものであるが、実際の装置に実施
するためには、各装置について予めステップ変化するい
くつかの加速電圧値に対してｆ・λが一定という条件を
満足する試料位置と対物レンズ励磁強度を実験によって
求めて記録しておくとよい。そして、加速電圧の切換の
際には、試料移動機構に組込まれた上下移動機構と対物
レンズ励磁調整手段を操作して、予め記録された試料位
置と対物レンズ強度を記録された値に合わせるように調
整すれば、本発明方法を容易に実施することができる。
するためには、各装置について予めステップ変化するい
くつかの加速電圧値に対してｆ・λが一定という条件を
満足する試料位置と対物レンズ励磁強度を実験によって
求めて記録しておくとよい。そして、加速電圧の切換の
際には、試料移動機構に組込まれた上下移動機構と対物
レンズ励磁調整手段を操作して、予め記録された試料位
置と対物レンズ強度を記録された値に合わせるように調
整すれば、本発明方法を容易に実施することができる。
［効果コ
以上のように本発明方法によれば、特定の回折電子線に
よる電子顕微鏡像の観察が容易となり、電子顕微鏡によ
る結晶試料の研究に大きな効果が期待される。
よる電子顕微鏡像の観察が容易となり、電子顕微鏡によ
る結晶試料の研究に大きな効果が期待される。
【図面の簡単な説明】
第１図は対物レンズ近傍における結晶試料と電子線経路
を説明するための略図、第２図は電子線回折パターンと
対物絞り板の関係を示す略図、第３図は電子線の回折を
説明するための略図である。 １：試料、２：光軸、３：試料照射電子線、４：対物レ
ンズ、５：試料透過電子線、６：復焦点面、７：対物レ
ンズ絞り板、８：対物レンズ像面。
を説明するための略図、第２図は電子線回折パターンと
対物絞り板の関係を示す略図、第３図は電子線の回折を
説明するための略図である。 １：試料、２：光軸、３：試料照射電子線、４：対物レ
ンズ、５：試料透過電子線、６：復焦点面、７：対物レ
ンズ絞り板、８：対物レンズ像面。
Claims (1)
- 試料照射電子線の波長をλとし、試料照射電子線に対す
る対物レンズの焦点距離をｆとするとき、試料照射電子
線の加速電圧の変化に拘わらずｆ・λが一定となるよう
に試料の光軸方向の位置と対物レンズの励磁を制御する
ことを特徴とする電子顕微鏡による結晶試料観察方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59203318A JPS6180745A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 電子顕微鏡による結晶試料観察方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59203318A JPS6180745A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 電子顕微鏡による結晶試料観察方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6180745A true JPS6180745A (ja) | 1986-04-24 |
| JPH0515029B2 JPH0515029B2 (ja) | 1993-02-26 |
Family
ID=16472033
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59203318A Granted JPS6180745A (ja) | 1984-09-28 | 1984-09-28 | 電子顕微鏡による結晶試料観察方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6180745A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62271338A (ja) * | 1986-05-16 | 1987-11-25 | Jeol Ltd | 収束電子線回折装置 |
-
1984
- 1984-09-28 JP JP59203318A patent/JPS6180745A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62271338A (ja) * | 1986-05-16 | 1987-11-25 | Jeol Ltd | 収束電子線回折装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0515029B2 (ja) | 1993-02-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6173862B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
| US9129774B2 (en) | Method of using a phase plate in a transmission electron microscope | |
| JP4502416B2 (ja) | エネルギフィルタ及び電子顕微鏡 | |
| JPH0594798A (ja) | 焦点深度切り換え可能な電子顕微鏡等の電子光学観察装置 | |
| DE3915642C2 (de) | Repetier-Projektions-Belichtungsvorrichtung | |
| GB2161018A (en) | Electron microscope lenses | |
| US5393985A (en) | Apparatus for focusing an ion beam | |
| US4316087A (en) | Method of photographing electron microscope images on a single photographic plate and apparatus therefor | |
| US4934799A (en) | Multi-lens focussing arrangement for laser graphics imaging apparatus | |
| US5920073A (en) | Optical system | |
| JPH0515029B2 (ja) | ||
| US2627589A (en) | Focusing of electron optical apparatus | |
| JPS5727551A (en) | Electron microscope | |
| JP2011243540A (ja) | 透過電子顕微鏡の制限視野絞りプレート、制限視野絞りプレートの製造方法及び制限視野電子回折像の観察方法 | |
| JPS626300B2 (ja) | ||
| JPH0793119B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
| JPH07105209B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
| JPS60193248A (ja) | 電子線装置の電子線照射方法 | |
| JPH0760656B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
| JPS58214257A (ja) | 電子顕微鏡等の磁区観察装置 | |
| JP2007080724A (ja) | 電子顕微鏡の磁場印加装置 | |
| JPH0232738B2 (ja) | ||
| JPS6029187B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
| JPS6161251B2 (ja) | ||
| JPH0757676A (ja) | 荷電ビーム装置及びビーム電流制限絞り機構 |