JPS6183029A - Transparent synthetic resin body having permeability resistance - Google Patents

Transparent synthetic resin body having permeability resistance

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JPS6183029A
JPS6183029A JP20540584A JP20540584A JPS6183029A JP S6183029 A JPS6183029 A JP S6183029A JP 20540584 A JP20540584 A JP 20540584A JP 20540584 A JP20540584 A JP 20540584A JP S6183029 A JPS6183029 A JP S6183029A
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Japan
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transparent
synthetic resin
film layer
thin film
transparent thin
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一郎 中村
福本 義行
山中 計
河合 重征
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Sekisui Chemical Co Ltd
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Sekisui Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、耐透湿性を有する透明合成樹脂体に関する。[Detailed description of the invention] (Industrial application field) The present invention relates to a transparent synthetic resin body having moisture permeability resistance.

(従来の技術) 従来より、食品や薬品、化学製品の包装において内容物
の変質を避けるために、また、エレクトロニクス分野で
はKL素子の保護などのために耐透湿性を有する透明合
成樹脂体が使用されている。
(Conventional technology) Moisture-resistant transparent synthetic resin bodies have traditionally been used in the packaging of food, medicine, and chemical products to avoid deterioration of the contents, and in the electronics field to protect KL elements. has been done.

たとえば、特開昭51−114483号公報ではポリエ
ステルフィルムπ金属アルミニツムが蒸着されたものが
提案されているが、アルミニクムを蒸着すれは当然透明
性が損われてしまい、密着強度も比較的小さいので、限
られた用途にしか使用できない。また、特公昭53−1
2953号公報でViSilOyの薄膜層を設けて透明
性を保持したものが提案されているが、耐透湿性は不充
分なものであった。
For example, JP-A No. 51-114483 proposes a polyester film on which π metal aluminum is vapor-deposited, but when aluminum is vapor-deposited, the transparency is naturally impaired and the adhesion strength is relatively low. Can only be used for limited purposes. Also, special public service 53-1
Japanese Patent No. 2953 proposes that a thin film layer of ViSilOy is provided to maintain transparency, but the moisture permeability resistance is insufficient.

(発明が解決しようとする問題点) 本発明は、上記従来の欠点を解消し、透明性を損わず、
しかも耐透湿性が栖めて良好な透明合e、樹脂体を提供
することを目的としてなされたものである。
(Problems to be Solved by the Invention) The present invention solves the above-mentioned conventional drawbacks, does not impair transparency,
Furthermore, the invention was made for the purpose of providing a transparent resin body with good moisture permeability.

(問題を解決するための手段) 本発明の要旨は、透明合成樹脂体の少なくとも片面に、
5i02 、 AI!203 、 MO(R(FiCa
 、 Sr 。
(Means for Solving the Problems) The gist of the present invention is that on at least one side of a transparent synthetic resin body,
5i02, AI! 203, MO(R(FiCa
, Sr.

Baなどのアルカリ土類金属族を示す)がモル比で、(
SiO2) : (AI!z03) : (MO) =
 2〜9:1〜5:1〜5となされた組成物の透明薄膜
層が形成され、該透IIJ′1簿膜層上にマグネシウム
酸化物の透明薄膜層が形成されてなる耐透湿性を有する
透明合成樹脂体に存する。
represents an alkaline earth metal group such as Ba) is the molar ratio, (
SiO2) : (AI!z03) : (MO) =
A transparent thin film layer of a composition having a ratio of 2 to 9:1 to 5:1 to 5 is formed, and a transparent thin film layer of magnesium oxide is formed on the transparent IIJ'1 film layer. It consists of a transparent synthetic resin body.

第1図に図示する如き、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム等の透明台ft、樹脂基板1の片面K 、 5i
02 、 AI!203 、 MOからなる組成物の透
明薄膜層2が形成され、該層2上にマグネシウム酸化物
の透明薄膜層3が形成され、必要に6じ該層3上にヒー
トシール可能な合成樹脂フィルム4がラミネートされて
、本発明耐透湿性を存する透明合成樹脂体が形成されて
いる。
As shown in FIG. 1, a transparent base ft such as a polyethylene terephthalate film, one side K, 5i of a resin substrate 1,
02, AI! 203, a transparent thin film layer 2 of a composition made of MO is formed, a transparent thin film layer 3 of magnesium oxide is formed on the layer 2, and if necessary, a heat-sealable synthetic resin film 4 is formed on the layer 3. are laminated to form a transparent synthetic resin body having moisture permeability resistance according to the present invention.

尚、透明合成樹脂体の用途に応じ、基体1の片面のみ々
らず、適宜両面に透明薄膜層2,3が形成されてもよい
。
Note that, depending on the use of the transparent synthetic resin body, the transparent thin film layers 2 and 3 may be formed not only on one side of the base 1 but also on both sides as appropriate.

本発明において、基体の透明合成樹脂としては、ポリ塩
化ビニル、ポリスチレン、ポリエステル、ポリビニルブ
チラール、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド
、セロファンなどが使用される。
In the present invention, polyvinyl chloride, polystyrene, polyester, polyvinyl butyral, polyethylene, polypropylene, polyamide, cellophane, etc. are used as the transparent synthetic resin of the base.

また、透明合成樹脂体は柔軟性のあるフィルム状体であ
る方が、包装あるいは積層して使用するために都合が良
い。しかしながら、本発明は基体がフィルム状体である
ものだ限られるのではなく、たとえば、板状体、レンズ
体のような合成樹脂成型品に適用され、水分の吸収だよ
る合成樹脂体の変質、劣化変形を防止することができる
。
Furthermore, it is convenient for the transparent synthetic resin body to be a flexible film-like body for use in packaging or stacking. However, the present invention is not limited to those in which the substrate is a film-like body, but can be applied to, for example, synthetic resin molded products such as plate-like bodies and lens bodies. Deterioration and deformation can be prevented.

透明合e、樹脂体は、5〜300μmの柔軟性を有する
フィルム状体であることが好ましく、さらに好ましい厚
みは5〜100μmでちる。フィルム状の透明合成樹脂
体に1酸化物組成物を蒸着する妬け、通常冷却ロールを
介した巻き取り工程が必要であるが、フィルム状の透明
合成樹脂体の厚みが5μm未満であると、しわや亀裂の
発生が生じやすくなり、厚みが300μmを越えると柔
軟性が乏しくなって連続巻き取りが困難になってしまう
。
The transparent resin body is preferably a film-like body having flexibility of 5 to 300 μm, and more preferably has a thickness of 5 to 100 μm. When depositing a monooxide composition on a film-like transparent synthetic resin body, a winding process using a cooling roll is usually required, but if the thickness of the film-like transparent synthetic resin body is less than 5 μm, Wrinkles and cracks are likely to occur, and if the thickness exceeds 300 μm, flexibility becomes poor and continuous winding becomes difficult.

透明合成樹脂体の少なくとも片面には透明薄膜層が形成
される。該透明薄膜層は、5i02 。
A transparent thin film layer is formed on at least one side of the transparent synthetic resin body. The transparent thin film layer is 5i02.

Al2O3、MO(MはCa 、 Sr 、 Baなど
のアルカリ土類金属族を示す)がモル比で、(SiO2
) : (AlzOa):(八(O)=2〜9:1〜5
:1〜5となされた組成物の透明薄膜層を形成し、その
上にマグネシウム酸化物の透E!A薄膜層を形成して々
る。5i02゜Alzos 、 MOからなる組成物の
透明薄膜層のモル比が、上記の範囲を外れると相分離を
起しやすくなり、耐湿性が低下する。上記組成物の中に
不純物としてPbO、Na2O、B2O3などの酸化物
は5重量%以下であれば、耐透湿性に極端な悪化はみら
れず、本発明耐透湿性を有する透明合成樹脂体を製造す
る場合VC#−i上記の範囲にすることが望ましい。
The molar ratio of Al2O3, MO (M represents an alkaline earth metal group such as Ca, Sr, Ba, etc.), (SiO2
): (AlzOa): (8(O)=2~9:1~5
: A transparent thin film layer of the compositions 1 to 5 is formed, and a transparent thin film layer of magnesium oxide is formed thereon. A thin film layer is formed. If the molar ratio of the transparent thin film layer of the composition consisting of 5i02° Alzos and MO is out of the above range, phase separation tends to occur and moisture resistance decreases. If the content of oxides such as PbO, Na2O, and B2O3 as impurities in the composition is 5% by weight or less, no extreme deterioration in moisture permeability will be observed, and the transparent synthetic resin body having moisture permeability of the present invention will not be significantly deteriorated. When manufacturing, it is desirable that VC#-i be within the above range.

上記基体への、!3i03 、 Al2O3、Noから
なる組成物の透明薄膜層の形成、及びその上へのマグネ
シウム酸化物の透明薄膜層の形e、は、既知の真空蒸着
法、イオンプレーティング法、スパッタリング法などの
方法で行えばよい。以下その形成方法について詳しく説
明する。
To the above substrate! The formation of a transparent thin film layer of a composition consisting of 3i03, Al2O3, and No, and the formation of a transparent thin film layer of magnesium oxide thereon, can be carried out using known methods such as vacuum evaporation, ion plating, and sputtering. You can do it with The formation method will be explained in detail below.

5i02 、 A/203 、 MOからなる組成物の
透明薄膜層を上記基体上に形成する方法として最も好ま
しいのは、スパッタリングであ^、スパッタリングのタ
ーゲットを上記組成の透明薄膜層を形成することができ
る。
The most preferred method for forming a transparent thin film layer of a composition consisting of 5i02, A/203, MO on the above substrate is sputtering, and the sputtering target can be used to form a transparent thin film layer of the above composition. .

また、真空蒸着法、イオンプレーティング法によっても
、上記の組成の透り1薄膜を形成することができる。真
空蒸着法の場合は、蒸気圧の異なる混合物質をそのまま
の組成で薄膜層を形成することは困難であるとされてい
る。しかし、本発明者らは上記組成物を予め@低炉で熔
融し固化したものを蒸発材として使用し、電子銃加熱方
式で蒸発させれば、略同じ組成の蒸着膜が得られる仁と
を確認した。
Further, a transparent thin film having the above composition can also be formed by a vacuum evaporation method or an ion plating method. In the case of vacuum evaporation, it is said to be difficult to form a thin film layer using mixed substances having different vapor pressures with the same composition. However, the present inventors have found that if the above composition is melted and solidified in advance in a low furnace as an evaporation material and evaporated using an electron gun heating method, a deposited film having approximately the same composition can be obtained. confirmed.

また、一般に混合物を真空蒸着する時に用いられる7ラ
ツシユ蒸着法によっても、上記の組成の蒸!!膜を形成
することができる。
In addition, the above composition can also be vaporized by the 7-lash vapor deposition method, which is generally used when vacuum vaporizing a mixture. ! A film can be formed.

マグネシウム酸化物の蒸着Ktl、真空蒸着やマグネシ
ウムの反応蒸着が適用できる。真空蒸着の場合には、蒸
着物質として酸化マグネシウムが採用され、これを電子
銃で加熱蒸発させる。
Vapor deposition KTL of magnesium oxide, vacuum vapor deposition, and reactive vapor deposition of magnesium can be applied. In the case of vacuum deposition, magnesium oxide is used as the deposition material, and is heated and evaporated with an electron gun.

反応蒸着の場合にけ、真空槽内VcW!素ガスを導入し
ながら金属マグネシウム酸化物*mを形成する。いずれ
の場合にも、防湿性能を向上させる意味でH2Oなどの
ガスを微量導入することも可能である。
In the case of reactive vapor deposition, VcW in the vacuum chamber! Metallic magnesium oxide *m is formed while introducing elementary gas. In either case, it is also possible to introduce a small amount of gas such as H2O in order to improve the moisture-proof performance.

真空蒸着法、イオンプレーティング法により透明薄膜層
を形成するには、通常2 X 1O−3torr以下の
真空雰囲気下で行われるが、不純物の混入による性能低
下をさけるだめにはI X 10  torr以下の雰
囲気下で行うのが好ましい。
Forming a transparent thin film layer by vacuum evaporation method or ion plating method is usually carried out under a vacuum atmosphere of 2 X 1O-3 torr or less, but in order to avoid performance deterioration due to contamination of impurities, it is necessary to create a transparent thin film layer under I X 10 torr or less. It is preferable to carry out the process under an atmosphere of

5i02 、 Af203 、 MOからなる組成物の
透明#膜層及びマグネシウム酸化物の透明薄膜層は、透
明性、柔軟性、膜連続性及び接着性を良好なものとする
ために、厚みを、それぞれ、0.05〜α5μm及び+
101−(15μmの範囲罠するのがよい。膜厚が薄す
ぎると一様な連続pxKなりにくく、膜厚が厚すぎると
透明合成樹脂体のカールが問題になったり、透明膜の亀
裂や剥離が生じやすくなることがある。
The transparent film layer of the composition consisting of 5i02, Af203, and MO and the transparent thin film layer of magnesium oxide have a thickness of, respectively, in order to obtain good transparency, flexibility, film continuity, and adhesion. 0.05~α5μm and +
101-(It is best to keep it in the range of 15 μm. If the film thickness is too thin, it will be difficult to obtain a uniform continuous pxK, and if the film thickness is too thick, curling of the transparent synthetic resin body may become a problem, or cracks or peeling of the transparent film may occur. may be more likely to occur.

透明合成樹脂体が、マグネシウム酸化物の透明薄膜上に
ヒートシール性を有する合成樹脂フィルムがラミネート
されたものであれは、これを包装体として使用する場合
、ヒートシール性    □を有しており好ましい。
If the transparent synthetic resin body is one in which a synthetic resin film with heat sealability is laminated on a transparent thin film of magnesium oxide, when this is used as a packaging body, it is preferable because it has heat sealability □. .

ヒートシール性を有する合成樹脂フィルムとしては、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重
合体、エチレン系アイオノマー等が挙げられ、透明性を
うしなわないものである。
Examples of the synthetic resin film having heat-sealability include polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-based ionomer, etc., which do not sacrifice transparency.

ヒートシール性を有する合成樹脂フィルムを復層するに
汀、接着剤を用いる法(ドライラミネート法)、合成樹
脂をフィルム状に溶融押出して基材に圧着する法(エク
ストルージョンラミネート法)とがある。
There are two methods for layering a synthetic resin film with heat-sealing properties: a method that uses glue or an adhesive (dry lamination method), and a method that melts and extrudes a synthetic resin into a film and presses it onto a substrate (extrusion lamination method). .

ドライラミネート法においては合成樹脂フィルムによっ
て使用する接着剤が変ってくるが、一般にインシアネー
ト系の接着剤が好適に使用される。
In the dry lamination method, the adhesive used varies depending on the synthetic resin film, but generally, incyanate adhesives are preferably used.

エクストルージョンラミネート法においては、5i02
 、 AJ?203 、λ(0からなる組成物の透明薄
膜層及びマグネシウム酸化物の透明薄膜層にアンカー効
果が発現されるため、通常行われる有機チクネート系、
インシアネート系、ポリエチンイミ゛ン系のアンカー剤
によるアンカー処理が不要となる。従って、従来の有a
溶剤を使用する必要がなくなり、製造作業環境を悪化さ
せたり、製品中に有機溶剤が伐存することもなくなる。
In extrusion lamination method, 5i02
, AJ? Since an anchoring effect is expressed in the transparent thin film layer of the composition consisting of 203, λ(0 and the transparent thin film layer of magnesium oxide, the organic chicknate system that is usually used,
Anchor treatment using incyanate-based or polyethylene imine-based anchoring agents is no longer necessary. Therefore, the conventional
There is no need to use solvents, and there is no need to degrade the manufacturing work environment or leave organic solvents in the product.

(実施例) 以下に本発明の実施例を示す。(Example) Examples of the present invention are shown below.

〈実施例1〉 5i02 、 A/203 、 CaOのモル比を2:
1:1とした酸化物の混合物を電気炉で溶融固化したも
のを5 x 10  torrの真空下で電子銃加熱方
式で加熱蒸発させ、〆リエチレンテレ7クレ一ト(PE
T)フィルム(15μm厚)上にα05μmの透明薄膜
層(以下1層目の透明薄!lX履という)を形成した。
<Example 1> The molar ratio of 5i02, A/203, and CaO was 2:
A 1:1 mixture of oxides was melted and solidified in an electric furnace, then heated and evaporated using an electron gun heating method under a vacuum of 5 x 10 torr to form a mixture of polyethylenetere 7crete (PE).
T) A transparent thin film layer of α05 μm (hereinafter referred to as the first layer of transparent thin!lX shoes) was formed on a film (15 μm thick).

成膜速度は約100八 @/ see Kなるように水晶発信式膜厚計でモニタ
ーしながら蒸着した。
The deposition was performed while monitoring with a crystal film thickness meter so that the film formation rate was about 1008@/see K.

真空槽内の真空度を5xlOtorrK排気した状態で
、純度99.9%の酸化マグネシウムを電子ビーム加熱
方式により、1層目の透明W!i膜層上に膜厚が0.1
μmになるように蒸着した。酸化マグネシウムの成膜速
度は約100ery’sec Kなるように水晶発信式
膜厚計で七二クーしながら蒸着した。
With the vacuum in the vacuum chamber evacuated to 5 x lOtorrK, magnesium oxide with a purity of 99.9% is heated using an electron beam heating method to form the first layer of transparent W! The film thickness is 0.1 on the i film layer.
It was deposited to a thickness of μm. Magnesium oxide was deposited at a rate of about 100 sec K using a crystal oscillator film thickness meter at 72 degrees.

酸化マグネシウムの透明簿膜層上に、エチレン酢酸ビニ
ル共重合体をエクストル−シコンラミネート法でラミネ
ートして透明薄膜体を形成した。
A transparent thin film body was formed by laminating an ethylene vinyl acetate copolymer on a transparent film layer of magnesium oxide by an extrusion lamination method.

各透F3+1薄股層の組成は、X脈マイクロアナライザ
ーで分析したところ、当初の混合物の組成と略同等であ
った。
The composition of each transparent F3+1 thin layer was analyzed using an X-vein microanalyzer and was found to be approximately the same as the composition of the original mixture.

形成された透明薄g!層の密着性#1JIS D020
2でw1認したが非常に良好であった。
The formed transparent thin g! Layer adhesion #1 JIS D020
2 was recognized as w1, which was very good.

透明薄膜体の光線透過率は未蒸着フィルムと略同等であ
り、透明性は良好であった。
The light transmittance of the transparent thin film was approximately the same as that of the undeposited film, and the transparency was good.

透湿度は、ラミネートした合成樹脂フィルム面を内側に
して袋状にし、内部K CaCl2を入れ密封し、その
状想で40℃、90%中で放置した後の重量増加(グ/
ゴ・24hr)を測定して求めた。
Moisture permeability is determined by the weight increase (G/
24 hours).

これらの結果を!1IJ1表に示す。These results! Shown in Table 1IJ1.

〈実施例2〉 実施例Iにおいて、1層目の透明薄膜層の厚みを0.1
μm1酸化マグネシウムの透#4薄g層の厚みをQ、0
5μmとした以外は実施例1と同様である。
<Example 2> In Example I, the thickness of the first transparent thin film layer was set to 0.1
The thickness of transparent #4 thin g layer of μm1 magnesium oxide is Q, 0
The same as in Example 1 except that the thickness was 5 μm.

〈実施例3〉 実施例1において、1層目の透明薄!lX層の5i02
 : A/203 : CaOのモル比を9:5:5と
した以外は実施例1と同様である。
<Example 3> In Example 1, the first layer is transparent and thin! 5i02 of lX layer
: A/203 : Same as Example 1 except that the molar ratio of CaO was 9:5:5.

く実施例4〉 実施例3において、11@目の透明薄膜層の厚みを0.
1μm1酸化マグネシウムの透明薄膜層の厚みをa、0
5μmとした以外は実施例3と同様である。
Example 4 In Example 3, the thickness of the 11th transparent thin film layer was set to 0.
The thickness of the transparent thin film layer of 1μm1 magnesium oxide is a, 0
The same as in Example 3 except that the thickness was 5 μm.

〈実施例5〉 実施例1の混合組成物中のCaOK代えて、SrOを使
用して、1層目の透明薄膜層を形成した以外は実施例1
と同様である。
<Example 5> Example 1 except that SrO was used instead of CaOK in the mixed composition of Example 1 to form the first transparent thin film layer.
It is similar to

〈実施例6〉 実施例2の混合組成物中のCaOVcP?、えて、Sr
Oを使用して1層目の透明薄膜層を形成した以外は実施
例2と同様である。
<Example 6> CaOVcP in the mixed composition of Example 2? , er, Sr.
The procedure was the same as in Example 2 except that O was used to form the first transparent thin film layer.

〈実施例7〉 実施例3の混合組成物中のCaOvc代えて、SrOを
使用して1層目の透FTAlvg1層を形成した以外は
実施例3と同様である。
<Example 7> The same as Example 3 except that CaOvc in the mixed composition of Example 3 was replaced with SrO to form a first transparent FTA Alvg layer.

〈実施例8〉 実施例4の混合物組成中のCaOK代えて、SrOを使
用して1層目の透明薄膜層を形成した以外Vi実施例4
と同様である。
<Example 8> Vi Example 4 except that the first transparent thin film layer was formed using SrO instead of CaOK in the mixture composition of Example 4.
It is similar to

〈実施例9〉 実施例1の混合物組成中のCaOK代えて、BaOを使
用して1層目の透明薄膜層を形成した以外は実施例1と
同様である。
<Example 9> The same as Example 1 except that the first transparent thin film layer was formed using BaO instead of CaOK in the mixture composition of Example 1.

〈実施例10) 実施例2の混合物組成中のCaOK代えて、BaOを使
用して1層目の透#4薄WX層を形成した以外は実施例
2と同様である。
<Example 10> The same as Example 2 except that the first transparent #4 thin WX layer was formed using BaO instead of CaOK in the mixture composition of Example 2.

〈実施例11) 実施例3の混合物組成中のCaOK代えて、BaOを使
用して1層目の透明WIj膜層を形成した以外は実施例
3と同様でちる。
Example 11 The procedure was the same as in Example 3 except that BaO was used instead of CaOK in the mixture composition of Example 3 to form the first transparent WIj film layer.

〈実施例12〉 実施例4の混合物組成中のCaOVC代えて、BaOを
使用して111m目の透明薄膜層を形成した以外Vip
施例4と同様でちる。
<Example 12> Vip except that BaO was used instead of CaOVC in the mixture composition of Example 4 to form the 111mth transparent thin film layer.
Same as Example 4.

〈比較例1〉 ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(15
μm厚)のみの密着性、透明性、透湿度を実施例1と同
様に測定した。
<Comparative Example 1> Polyethylene terephthalate (PET) film (15
The adhesion, transparency, and moisture permeability of the film (μm thickness) were measured in the same manner as in Example 1.

〈比較例2〉 ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(15
μm厚)上に0.15μmの酸化マグネシウムの透明薄
膜層のみを形成した以外は実施例1と同様である。
<Comparative Example 2> Polyethylene terephthalate (PET) film (15
The process is the same as in Example 1 except that only a 0.15 μm transparent thin film layer of magnesium oxide was formed on the 0.15 μm thick transparent thin film layer.

〈比較例3〉 ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(15
/(m厚)上1c 5i02 : A/203 : C
aOのモル比を2:1:1とした組成物の透#4ril
膜M(α15μm厚)のみを形成した以外は実施例1と
同様である。
<Comparative Example 3> Polyethylene terephthalate (PET) film (15
/(m thickness) Upper 1c 5i02: A/203: C
Transparent #4ril composition with aO molar ratio of 2:1:1
It is the same as Example 1 except that only the film M (α15 μm thick) was formed.

〈比較例4〉 実施例1において、5i02 : AI!203 : 
CaOのモル比を1ニアニアとした以外は実施例1と同
様である。
<Comparative Example 4> In Example 1, 5i02: AI! 203:
It is the same as Example 1 except that the molar ratio of CaO was set to 1N.

第1表 傘かっこ内tiMoのM5!分を示す。Table 1 tiMo's M5 in the umbrella brackets! Indicates the minute.

斡、−◎印は良好であることを示す。斡、-◎mark indicates good condition.

(発明の効果) 以上詳述した通り、本発明耐透湿性を有する合成樹脂体
は、透明性を損わず、従来得られなかった極めて良好な
耐透湿性を得ることができ、食品や薬品の包装体として
、EL素子の保護体として使用することができる。
(Effects of the Invention) As detailed above, the synthetic resin body having moisture permeability of the present invention does not impair transparency and can obtain extremely good moisture permeability that was previously unobtainable. It can be used as a protective body for an EL element.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一例を示す断面図である。 符号の説明 1・・・合成樹脂基体、2・・・5i02 、 A/2
03 、 MOからなる組成物の透明薄膜層、3・・・
マグネシウム酸化物の透明薄膜層、4・・・合rc樹脂
フィルム0
FIG. 1 is a sectional view showing an example of the present invention. Explanation of symbols 1...Synthetic resin base, 2...5i02, A/2
03, transparent thin film layer of composition consisting of MO, 3...
Transparent thin film layer of magnesium oxide, 4... composite rc resin film 0

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、透明合成樹脂基板の少なくとも片面に、SiO_2
、Al_2O_3、MO(MはCa、Sr、Baなどの
アルカリ土類金属族を示す)がモル比で、(SiO_2
):(Al_2O_3):(MO)=2〜9:1〜5:
1〜5となされた組成物の透明薄膜層が形成され、該透
明薄膜層上にマグネシウム酸化物の透明薄膜層が形成さ
れてなる耐透湿性を有する透明合成樹脂体。 2、透明合成樹脂体が厚み5〜300μmの柔軟性を有
するフィルム状体であり、SiO_2、Al_2O_3
、MOからなる組成物の透明薄膜層が0.05〜0.5
μmであり、マグネシウム酸化物の透明薄膜層が厚み0
.01〜0.5μmである特許請求の範囲第1項記載の
耐透湿性を有する透明合成樹脂体。 3、マグネシウム酸化物の透明膜層及びSiO_2、A
l_2O_3、MOからなる組成物の透明薄膜層が真空
蒸着法、イオンプレーティング法またはスパッタリング
法によって形成されている特許請求の範囲第1項又は第
2項記載の耐透湿性を有する透明合成樹脂体。 4、透明合成樹脂体が、マグネシウム酸化物の透明薄膜
層上にヒートシール性を有する合成樹脂フィルムがラミ
ネートされたものである特許請求の範囲第1項、第2項
又は第3項記載の耐透湿性を有する透明合成樹脂体。
[Claims] 1. SiO_2 on at least one side of the transparent synthetic resin substrate
, Al_2O_3, MO (M represents an alkaline earth metal group such as Ca, Sr, Ba, etc.) in molar ratio, (SiO_2
):(Al_2O_3):(MO)=2~9:1~5:
1. A transparent synthetic resin body having moisture permeability resistance, comprising a transparent thin film layer of a composition according to Nos. 1 to 5, and a transparent thin film layer of magnesium oxide formed on the transparent thin film layer. 2. The transparent synthetic resin body is a flexible film-like body with a thickness of 5 to 300 μm, and contains SiO_2, Al_2O_3
, the transparent thin film layer of the composition consisting of MO is 0.05 to 0.5
μm, and the transparent thin film layer of magnesium oxide has a thickness of 0.
.. A transparent synthetic resin body having moisture permeability resistance according to claim 1, which has a moisture permeability of 01 to 0.5 μm. 3. Transparent film layer of magnesium oxide and SiO_2,A
The transparent synthetic resin body having moisture permeability resistance according to claim 1 or 2, wherein the transparent thin film layer of the composition consisting of l_2O_3 and MO is formed by a vacuum deposition method, an ion plating method, or a sputtering method. . 4. The durable material according to claim 1, 2 or 3, wherein the transparent synthetic resin body is obtained by laminating a synthetic resin film having heat sealability on a transparent thin film layer of magnesium oxide. Transparent synthetic resin body with moisture permeability.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0258023A (en) * 1988-08-24 1990-02-27 Mitsubishi Monsanto Chem Co Package film for backlighting of liquid crystal display
US5107791A (en) * 1987-12-17 1992-04-28 Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Process for the manufacture of deposition films and apparatus therefor
US5230923A (en) * 1987-12-17 1993-07-27 Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Process and apparatus for the substantially continuous manufacture of a silicon oxide deposition film on a flexible plastic film

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