JPS6183188A - ペニシリンの製造法 - Google Patents
ペニシリンの製造法Info
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- JPS6183188A JPS6183188A JP60189329A JP18932985A JPS6183188A JP S6183188 A JPS6183188 A JP S6183188A JP 60189329 A JP60189329 A JP 60189329A JP 18932985 A JP18932985 A JP 18932985A JP S6183188 A JPS6183188 A JP S6183188A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1896—Compounds having one or more Si-O-acyl linkages
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明の方法は、ふつう半合成ペニシリンと呼ばれる一
群(class)の抗菌剤、好ましくはアンピシリンお
よびアモキシシリンのように6−位のアシル側鎖上のα
−アミノ基を特徴としている一群の抗菌剤の新規な製造
方法に関する。
群(class)の抗菌剤、好ましくはアンピシリンお
よびアモキシシリンのように6−位のアシル側鎖上のα
−アミノ基を特徴としている一群の抗菌剤の新規な製造
方法に関する。
6−アシルアミノ側鎖上にα−アミノ基を有する最初の
商業的ペニシリンは、6−(D−α−アミノ−α−フェ
ニルアセトアミド)ペニシラン酸すなわちアンピシリン
であった(米国特許第2.985,648号参照)。
商業的ペニシリンは、6−(D−α−アミノ−α−フェ
ニルアセトアミド)ペニシラン酸すなわちアンピシリン
であった(米国特許第2.985,648号参照)。
また、アモキシシリンは人間の治療に使われる抗菌剤で
あり、遊離酸(すなわち双性イオン)の三水和物として
市販されている。しがしてこのものはたとえば英国特許
第978.178号J、 Chem、 Soc。
あり、遊離酸(すなわち双性イオン)の三水和物として
市販されている。しがしてこのものはたとえば英国特許
第978.178号J、 Chem、 Soc。
(ロンドン)1920〜1922頁1971年、「殺菌
剤および化学療法−1970年」407〜430頁(1
971年)に記載されている。その化学名は6−〔D−
α−アミノ−α−(p−ヒドロキシフェニル)アセトア
ミド〕ペニシラン酸である。
剤および化学療法−1970年」407〜430頁(1
971年)に記載されている。その化学名は6−〔D−
α−アミノ−α−(p−ヒドロキシフェニル)アセトア
ミド〕ペニシラン酸である。
上記ペニシリンをつくるためアミノ酸塩化物塩酸塩を使
うことは1、無水条件下では特許文献たとえば英国特許
第938,321号および英国特許第959.853号
に明らかにされており(後者は英国特許第1.008.
468号、米国特許第3.249.622号にも明らか
にされているように6−アミノペニシラン酸のカルボキ
シル基のアシル化中シリル基による保護を利用する)、
また冷水性アセトン中では英国特許第962.779号
に明らかにされている。これらのペニシリン類は、両性
アミノ酸であり、そこでその単離には(たとえば米国特
許第3,157,640号、米国特許第3,271,3
89号に明らかにされているように)ある種の脂肪族不
斉側鎖第2級アミン(しばしば液体アミン樹脂と呼ばれ
る)を使用し、上記アミン類は以前両性アミノ酸である
6−アミノペニシラン酸の単離に使われた(米国特許第
3、008.956号参照)。これらのペニシリン類の
単離、精製の改良法は、たとえばβ−ナフタレンスルホ
ン酸塩による方法が米国特許第3.180,862号に
、中間物を車離しついでヘタシリンの容易な加水分解に
よる方法が米国特許第3,198,804号に明らかに
されている。
うことは1、無水条件下では特許文献たとえば英国特許
第938,321号および英国特許第959.853号
に明らかにされており(後者は英国特許第1.008.
468号、米国特許第3.249.622号にも明らか
にされているように6−アミノペニシラン酸のカルボキ
シル基のアシル化中シリル基による保護を利用する)、
また冷水性アセトン中では英国特許第962.779号
に明らかにされている。これらのペニシリン類は、両性
アミノ酸であり、そこでその単離には(たとえば米国特
許第3,157,640号、米国特許第3,271,3
89号に明らかにされているように)ある種の脂肪族不
斉側鎖第2級アミン(しばしば液体アミン樹脂と呼ばれ
る)を使用し、上記アミン類は以前両性アミノ酸である
6−アミノペニシラン酸の単離に使われた(米国特許第
3、008.956号参照)。これらのペニシリン類の
単離、精製の改良法は、たとえばβ−ナフタレンスルホ
ン酸塩による方法が米国特許第3.180,862号に
、中間物を車離しついでヘタシリンの容易な加水分解に
よる方法が米国特許第3,198,804号に明らかに
されている。
6−アミノペニシラン酸への化学的開裂中天然ペニシリ
ンのカルボキシル基の保護のためシリル基を使うことは
米国特許第3,499,909号に明らかにされている
。アミノ酸塩化物塩酸塩による無水アシル化中にシリル
化6−アミノペニシラン酸を使うことは、多数の特許た
とえば米国特許第3.479.018号、米国特許第3
,595.855号、米国特許第3,654,266号
、米国特許第3.479,338号、米国特許第3,4
87,073号に明らかにされている。これらの特許の
若干は液体アミン樹脂の使用も明らかにしている。米国
特許第3.912.719号、第3.980.637号
、第4,128.547号も参照。
ンのカルボキシル基の保護のためシリル基を使うことは
米国特許第3,499,909号に明らかにされている
。アミノ酸塩化物塩酸塩による無水アシル化中にシリル
化6−アミノペニシラン酸を使うことは、多数の特許た
とえば米国特許第3.479.018号、米国特許第3
,595.855号、米国特許第3,654,266号
、米国特許第3.479,338号、米国特許第3,4
87,073号に明らかにされている。これらの特許の
若干は液体アミン樹脂の使用も明らかにしている。米国
特許第3.912.719号、第3.980.637号
、第4,128.547号も参照。
英国特許第1,339,605号は6−アミノペニシラ
ン酸のシリル化誘導体とアミノ基が保護されているD−
(−)−α−アミノ−p−ヒドロキシフェニル酢酸の反
応性誘導体(塩化物塩酸塩を含む)とを反応させ、その
後加水分解またはアルコーリシスによりシリル基を除去
、その後可能な場合には通常結晶性三水和物としてアモ
キシシリンを回収することによりアモキシシリンを製造
する種々の特別の詳細な実施例を含んでいる。こうして
、実施例1において水溶液からたとえばpH4,7で等
電性IE5i(isoelectric precip
itation)により結晶性アモキシシリンが得られ
た。おそらくこの実施例では、粗製品(等電性殿前の)
を1.0のような酸性pHの水(たとえば塩酸水溶液)
にメチルイソブチルケトン(4−メチルペンタン−2−
オン)のような水と混ざらない有機溶剤の存在で溶かす
ことにより精製が行なわれた。同一の操作が米国特許第
3.674.7’76号で使用された。
ン酸のシリル化誘導体とアミノ基が保護されているD−
(−)−α−アミノ−p−ヒドロキシフェニル酢酸の反
応性誘導体(塩化物塩酸塩を含む)とを反応させ、その
後加水分解またはアルコーリシスによりシリル基を除去
、その後可能な場合には通常結晶性三水和物としてアモ
キシシリンを回収することによりアモキシシリンを製造
する種々の特別の詳細な実施例を含んでいる。こうして
、実施例1において水溶液からたとえばpH4,7で等
電性IE5i(isoelectric precip
itation)により結晶性アモキシシリンが得られ
た。おそらくこの実施例では、粗製品(等電性殿前の)
を1.0のような酸性pHの水(たとえば塩酸水溶液)
にメチルイソブチルケトン(4−メチルペンタン−2−
オン)のような水と混ざらない有機溶剤の存在で溶かす
ことにより精製が行なわれた。同一の操作が米国特許第
3.674.7’76号で使用された。
更に次の構造式
(ただし、Bはトリアルキルシリル基である)の化合物
を無水不活性有機溶剤中で、好ましくは塩 ゛化メチレ
ン中で、好ましくはプロピレンオキサイドである弱塩基
の存在で、好ましくは一10℃以上の温度で、さらに好
ましくは一8〜20℃の範囲で、さらに好ましくは0〜
20°Cの範囲で、最も好ましくは約20℃で、約当量
の酸塩化物または塩化物塩酸塩と反応させ(後者を前者
の溶液に少量ずつ添加するのが好ましい)、ついで、所
望ならば、B基を水素に変換することからなる通常のペ
ニシリンの製造法が本発明者等により提供された。
を無水不活性有機溶剤中で、好ましくは塩 ゛化メチレ
ン中で、好ましくはプロピレンオキサイドである弱塩基
の存在で、好ましくは一10℃以上の温度で、さらに好
ましくは一8〜20℃の範囲で、さらに好ましくは0〜
20°Cの範囲で、最も好ましくは約20℃で、約当量
の酸塩化物または塩化物塩酸塩と反応させ(後者を前者
の溶液に少量ずつ添加するのが好ましい)、ついで、所
望ならば、B基を水素に変換することからなる通常のペ
ニシリンの製造法が本発明者等により提供された。
本明細書中で定義される通常のペニシリンは特許または
文献(それらの要約も含めて)に既に記載されたもので
ある。
文献(それらの要約も含めて)に既に記載されたもので
ある。
また本発明に従って、
ガスとして乾燥二酸化炭素を
(ただしBはトリアルキルシリル基である)を有する化
合物の無水不活性有機溶媒、好ましくは塩化メチレンの
溶液に室温またはO℃〜100℃の範囲の温度で反応完
結まで添加することからなる式 (ただしBは上と同じである) の化合物の製造法が提供される。
合物の無水不活性有機溶媒、好ましくは塩化メチレンの
溶液に室温またはO℃〜100℃の範囲の温度で反応完
結まで添加することからなる式 (ただしBは上と同じである) の化合物の製造法が提供される。
I
の化合物を、無水不活性有機溶媒、好ましくは塩化メチ
レン中好ましくはプロピレンオキサイドである弱塩基の
好ましくは存在下で、好ましくは−10℃以上、更に好
ましくは一8℃〜20℃の範囲、より好ましくはO℃〜
20°Cの範囲、最も好ましくは約20℃の温度で、約
等モル量のD−(−)−α〜ルアミノアリールアセチル
クロライド酸塩、好ましくはD−(−)−2−フェニル
グリシルクロライド塩酸塩またはD−(−)−2−p−
ヒドロキシフェニルグリシルクロライド塩酸塩の夫々と
反応させる(後者は好ましくは前者の溶液に少量ずつ添
加される)ことからなる本発明の好ましい具体例として
の6−α−アミノアリールアセトアミドペニシラン酸、
好ましくはアンピシリンまたはアモキシシリンの製造法
が提供される。
レン中好ましくはプロピレンオキサイドである弱塩基の
好ましくは存在下で、好ましくは−10℃以上、更に好
ましくは一8℃〜20℃の範囲、より好ましくはO℃〜
20°Cの範囲、最も好ましくは約20℃の温度で、約
等モル量のD−(−)−α〜ルアミノアリールアセチル
クロライド酸塩、好ましくはD−(−)−2−フェニル
グリシルクロライド塩酸塩またはD−(−)−2−p−
ヒドロキシフェニルグリシルクロライド塩酸塩の夫々と
反応させる(後者は好ましくは前者の溶液に少量ずつ添
加される)ことからなる本発明の好ましい具体例として
の6−α−アミノアリールアセトアミドペニシラン酸、
好ましくはアンピシリンまたはアモキシシリンの製造法
が提供される。
この新方法の驚くべき特徴の一つは、無水アシル化溶液
の安定性である。当該ペニシリン分子の認め得る分解な
しに、室温でさえも長時間上記を維持できる。これは従
来記載の方法のアシル化溶液の挙動と対照的である。こ
の安定性の利点は、ふつうは0℃以下、典型的には約−
10℃であるアンピシリン製造にふつう使われる温度よ
りもはるかに高温(本発明者は室温を使った)で、アシ
ル化反応の実施を許す。
の安定性である。当該ペニシリン分子の認め得る分解な
しに、室温でさえも長時間上記を維持できる。これは従
来記載の方法のアシル化溶液の挙動と対照的である。こ
の安定性の利点は、ふつうは0℃以下、典型的には約−
10℃であるアンピシリン製造にふつう使われる温度よ
りもはるかに高温(本発明者は室温を使った)で、アシ
ル化反応の実施を許す。
ガスとして乾燥、二酸化炭素を無水不活性有機溶剤、好
ましくは塩化メチレン中の6−ドリメチルシリルアミノ
ベニシラン酸トリメチルシリルの溶液に室温で、または
0〜IOθ℃の範囲で、反応完結まで添加することから
なる次式 の化合物の製造法も、好ましい具体例として提供される
。
ましくは塩化メチレン中の6−ドリメチルシリルアミノ
ベニシラン酸トリメチルシリルの溶液に室温で、または
0〜IOθ℃の範囲で、反応完結まで添加することから
なる次式 の化合物の製造法も、好ましい具体例として提供される
。
弐
(ただし、Bはトリアルキルシリル基である)を有する
化合物が本発明の具体例としてまた提供される。
化合物が本発明の具体例としてまた提供される。
を有する化合物が好ましい具体例として提供される。こ
の化合物は、6−APAのビスシリル化力/L/ ハ?
−ト、SCA、6−ドリメチルシリルオキシカルボニル
ペニシラン酸TMSエステル、TMSO□C−APA・
TMSのような種々の通称によって呼ばれる。
の化合物は、6−APAのビスシリル化力/L/ ハ?
−ト、SCA、6−ドリメチルシリルオキシカルボニル
ペニシラン酸TMSエステル、TMSO□C−APA・
TMSのような種々の通称によって呼ばれる。
たとえば米国特許第3,225,033号に明らかにさ
れているように、6−APAと二酸化炭素との反応は6
−APAを破壊し、8−ヒドロキシペニシラン酸を生成
するよく知られた事実からして、上記化合物が存在する
ことは驚くべきことである。
れているように、6−APAと二酸化炭素との反応は6
−APAを破壊し、8−ヒドロキシペニシラン酸を生成
するよく知られた事実からして、上記化合物が存在する
ことは驚くべきことである。
6−ドリメチルシリルオキシカルボニルアミノベニシラ
ン酸トリメチルシリルエステル(TMS(hC・AP^
・TMS)を定量的に得るかぎは、まず第1に6−AP
AビスTMS前駆物質を完全に合成することにある。こ
れは次の模式的概要のように6−APAとヘキサメチル
ジシラザン(HMDS)を反応させることにより達成さ
れる。
ン酸トリメチルシリルエステル(TMS(hC・AP^
・TMS)を定量的に得るかぎは、まず第1に6−AP
AビスTMS前駆物質を完全に合成することにある。こ
れは次の模式的概要のように6−APAとヘキサメチル
ジシラザン(HMDS)を反応させることにより達成さ
れる。
1モル 1. tモル 3〜5モル% 6〜8時間
ビストリメチルシリル化反応の完結は、NMRを使って
容易に追跡できる。3−トリメチルシ!Jルオキシカル
ボニル基は0.31ppm(テトラメチルシラン=0)
にメチルシリル単一線を示し、一方6−トリメチルシリ
ルアミン基は0.09pp+*にメチルシリル単一線を
示す。
ビストリメチルシリル化反応の完結は、NMRを使って
容易に追跡できる。3−トリメチルシ!Jルオキシカル
ボニル基は0.31ppm(テトラメチルシラン=0)
にメチルシリル単一線を示し、一方6−トリメチルシリ
ルアミン基は0.09pp+*にメチルシリル単一線を
示す。
6−APA)リメチルシリル化反応は今まで4ま塩化メ
チレン中でのみ実施されてきた。し力)し、他の溶剤た
とえばアセトニトリル、ジメチルホルムアミド 乾燥Cotを反応溶液にノ\プルすることによって、ト
リメチルシリルアミノ基のトリメチルシリルオキシカル
ボニルアミノ基への転換は容易に達成される。トリメチ
ルシリルオキシカルボニルアミノ基の新しい単一線が0
.27pp−にあられれるのにつれて0.09ppmの
トリメチルシリルアミノの単一線は衰えるので、上記転
換を容易に追跡できる。
チレン中でのみ実施されてきた。し力)し、他の溶剤た
とえばアセトニトリル、ジメチルホルムアミド 乾燥Cotを反応溶液にノ\プルすることによって、ト
リメチルシリルアミノ基のトリメチルシリルオキシカル
ボニルアミノ基への転換は容易に達成される。トリメチ
ルシリルオキシカルボニルアミノ基の新しい単一線が0
.27pp−にあられれるのにつれて0.09ppmの
トリメチルシリルアミノの単一線は衰えるので、上記転
換を容易に追跡できる。
本性をアンピシリン、アンピシリン無水物、アンピシリ
ン三水和物、アモキシシリン、アモキシシリン三水和物
の製造に使う場合、米国特許第3、912,719号、
第3,980.637号、第4,128.547号およ
び他の特許およびそこに引用されている公表物により例
示されているように当該技術でよく知られた常法によっ
て、最終生成物は単離、精製される。
ン三水和物、アモキシシリン、アモキシシリン三水和物
の製造に使う場合、米国特許第3、912,719号、
第3,980.637号、第4,128.547号およ
び他の特許およびそこに引用されている公表物により例
示されているように当該技術でよく知られた常法によっ
て、最終生成物は単離、精製される。
以下の実施例に使用される酸塩化物は、他の種々の酸塩
化物に置換でき通常のペニシリンを生成できる。
化物に置換でき通常のペニシリンを生成できる。
かくて酸塩化物は当業に公知のように、例えば米国特許
第3.741.959号のように6−アミノ位でいずれ
かの所望のアシル基を導入するのに選ばれうる。か(て
以下の一般式に特定されるものを包含する(これに限定
されるものではないが)特定のアシル基を導入すること
ができる。
第3.741.959号のように6−アミノ位でいずれ
かの所望のアシル基を導入するのに選ばれうる。か(て
以下の一般式に特定されるものを包含する(これに限定
されるものではないが)特定のアシル基を導入すること
ができる。
(i) R’C.H.、CO−
ただしRuは了りール(カルボキシリックまたは複素環
式)、シクロアルキル、置換アリール、置換シクロアル
キル、または非芳香族あるいはメソイオン複素環基であ
り、かつnは1〜4の整数である。この基の例はフェニ
ルアセチル、置換フェニルアセチJv、例えばフルオロ
フェニルアセチル、ニトロフェニルアセチル、アミノフ
ェニルアセチル、アセトキシフェニルアセチル、メトキ
シフェニルアセチル、メチルフェニルアセチル、または
ヒドロキシフェニルアセチル;N,N−ビス(210ロ
エチル)アミノフェニルプロピオニル;チェソー3−ア
セチル;4−イソオキサシリル及び置換4−イソオキサ
シリルアセチル:ピリジルアセチル;テトラゾリルアセ
チルまたはシトノンアセチル基を包含する。置換4−イ
ソオキサシリル基は3−アリール−5−メチルイソオキ
サゾール−4−イル基であってもよく、該アリールは例
えばフエニノ1またはハロフェニル、例えばクロロフェ
ニルまたはブロモフェニルである。この種のアシル基は
3−o−クロロフェニル−5−メチルイソオキサゾール
−4−イル−アセチルである。
式)、シクロアルキル、置換アリール、置換シクロアル
キル、または非芳香族あるいはメソイオン複素環基であ
り、かつnは1〜4の整数である。この基の例はフェニ
ルアセチル、置換フェニルアセチJv、例えばフルオロ
フェニルアセチル、ニトロフェニルアセチル、アミノフ
ェニルアセチル、アセトキシフェニルアセチル、メトキ
シフェニルアセチル、メチルフェニルアセチル、または
ヒドロキシフェニルアセチル;N,N−ビス(210ロ
エチル)アミノフェニルプロピオニル;チェソー3−ア
セチル;4−イソオキサシリル及び置換4−イソオキサ
シリルアセチル:ピリジルアセチル;テトラゾリルアセ
チルまたはシトノンアセチル基を包含する。置換4−イ
ソオキサシリル基は3−アリール−5−メチルイソオキ
サゾール−4−イル基であってもよく、該アリールは例
えばフエニノ1またはハロフェニル、例えばクロロフェ
ニルまたはブロモフェニルである。この種のアシル基は
3−o−クロロフェニル−5−メチルイソオキサゾール
−4−イル−アセチルである。
(II ) CnHzn*+ C O−ただしnは
1〜7の整数である。アルキル基は直鎖または分類でも
よく、所望ならば、酸素または硫黄原子を介してもよく
また例えばシアノ基で置換されてもよい.このような基
の例はシアノアセチル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、
オクタノイル及びブチルチオアセチルを包含する。
1〜7の整数である。アルキル基は直鎖または分類でも
よく、所望ならば、酸素または硫黄原子を介してもよく
また例えばシアノ基で置換されてもよい.このような基
の例はシアノアセチル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、
オクタノイル及びブチルチオアセチルを包含する。
( iii ) C 、lH z□1C〇−ただし
nは2〜7の整数である。この基は直鎖または分類でも
よく、所望ならば、酸素または硫黄原子を介入してもよ
い。このような基の例はアリルチオアセチルである。
nは2〜7の整数である。この基は直鎖または分類でも
よく、所望ならば、酸素または硫黄原子を介入してもよ
い。このような基の例はアリルチオアセチルである。
( iv )
v
R’S − C − C O −
R′
ただしR’は(i)で定義した意味であり更にベンジル
であってもよく、RvおよびR’は同一または異なって
もよく、夫々水素、フェニル、ヘンシル、フェネチルま
たは低級アルキルであってもよい。このような基の例は
フェノキシアセチル、2−フェノキシ−2−フェニルア
セチル、2−フェノキシプロピオニル、2−フェノキシ
ブチリル、ヘンシルオキシカルボニル、2−メチル−2
−フェノキシプロピオニル、p−タレジキシアセチル及
びp−メチルチオフェノキシアセチルを包含する。
であってもよく、RvおよびR’は同一または異なって
もよく、夫々水素、フェニル、ヘンシル、フェネチルま
たは低級アルキルであってもよい。このような基の例は
フェノキシアセチル、2−フェノキシ−2−フェニルア
セチル、2−フェノキシプロピオニル、2−フェノキシ
ブチリル、ヘンシルオキシカルボニル、2−メチル−2
−フェノキシプロピオニル、p−タレジキシアセチル及
びp−メチルチオフェノキシアセチルを包含する。
(v)
Rv
■
−Ru5−C−C0
R’
ただしR″は(i)で定義された意味であり、更にベン
ジルであってもよく、Rv及びR’は(iv)で定義さ
れた意味である。このような基の例はS−フェニルチオ
アセチル、S−クロロフェニルチオアセチル、S−フル
オロフェニルチオアセチル、ピリジルチオアセチJ呟及
びS−ベンジルチオアセチルを包含する。
ジルであってもよく、Rv及びR’は(iv)で定義さ
れた意味である。このような基の例はS−フェニルチオ
アセチル、S−クロロフェニルチオアセチル、S−フル
オロフェニルチオアセチル、ピリジルチオアセチJ呟及
びS−ベンジルチオアセチルを包含する。
(vi) R’Z (CHI)、CO−ただしR・
は(1)で定義された意味であり、更にベンジルであっ
てもよく、Zは酸素または硫黄原子であり、かつmは2
〜5の整数である。このような基の例はS−ヘンシルチ
オプロピオニルである。
は(1)で定義された意味であり、更にベンジルであっ
てもよく、Zは酸素または硫黄原子であり、かつmは2
〜5の整数である。このような基の例はS−ヘンシルチ
オプロピオニルである。
(vi ) R’ C○−
ただしR’は(i)で定義された意味である。このよう
な基の例はベンゾイル、置換ベンゾイル(例えばアミノ
ベンゾイル)、4−イソオキサシリル及び置換4−イソ
オキサシリルカルボニル、シクロペンクンカルボニル、
シドンカルボニル、ナフトイル及び置換ナフトイル(例
えば2−エトキシナフトイル)キノザリニルカルボニル
及び置換キノザリニルカルポニル(例えば3−カルボキ
シ−2−キノザリニルカルボニル)を包含する。
な基の例はベンゾイル、置換ベンゾイル(例えばアミノ
ベンゾイル)、4−イソオキサシリル及び置換4−イソ
オキサシリルカルボニル、シクロペンクンカルボニル、
シドンカルボニル、ナフトイル及び置換ナフトイル(例
えば2−エトキシナフトイル)キノザリニルカルボニル
及び置換キノザリニルカルポニル(例えば3−カルボキ
シ−2−キノザリニルカルボニル)を包含する。
ベンゾイルに関する他の可能な置換体はアルキル、アル
コキシ、フェニルまたはカルボキシ、アルキルアミド、
シクロアルキルアミド、アリルアミド、フェニル(低級
)−アルキルアミド、モルホリノカルボニル、ピロリジ
ノカルボニル、ピペリジノカルボニル、テトラヒドロピ
ロリジノ、フルフリルアミドまたはN−アルキル−N−
アニリノで置換されたフェニル、またはこれらの誘導体
を包含し、このような置換基は2−または2−及び6−
位であってもよい。このような置換ベンゾイル基ノ例は
2.6−シメトキシベンゾイル、2−ビフェニルカルボ
ニル、2−メチルアミドベンゾイル及び2−カルボキシ
ベンゾイルである。R’基が置換4−イソオキサゾイル
基を表わす場合は、置換% (i )で上記したとおり
のものであってもよい。このような4−イソオキサシリ
ル基の例は3−フェニル−5−メチル−イソオキサゾー
ル−4−イソカルボニル、3−o−クロロフェニル−5
−メチルーイソオキザゾールー4−イルカルボニル及び
3− (2,6−ジクロロフェニル)−5−メチルイソ
オキザブ−ルー4−イソカルボニルである。
コキシ、フェニルまたはカルボキシ、アルキルアミド、
シクロアルキルアミド、アリルアミド、フェニル(低級
)−アルキルアミド、モルホリノカルボニル、ピロリジ
ノカルボニル、ピペリジノカルボニル、テトラヒドロピ
ロリジノ、フルフリルアミドまたはN−アルキル−N−
アニリノで置換されたフェニル、またはこれらの誘導体
を包含し、このような置換基は2−または2−及び6−
位であってもよい。このような置換ベンゾイル基ノ例は
2.6−シメトキシベンゾイル、2−ビフェニルカルボ
ニル、2−メチルアミドベンゾイル及び2−カルボキシ
ベンゾイルである。R’基が置換4−イソオキサゾイル
基を表わす場合は、置換% (i )で上記したとおり
のものであってもよい。このような4−イソオキサシリ
ル基の例は3−フェニル−5−メチル−イソオキサゾー
ル−4−イソカルボニル、3−o−クロロフェニル−5
−メチルーイソオキザゾールー4−イルカルボニル及び
3− (2,6−ジクロロフェニル)−5−メチルイソ
オキザブ−ルー4−イソカルボニルである。
(viii) R’ CH−Co −?
ただしRuは(i)で定義した意味であり、Xはアミノ
、置換アミノ (例えばアシルアミドまたは7−側鎖の
アミノ基及び/または基をアルデヒドまたはケトン、例
えばアセトン、メチルエチルケトンまたはエチルアセト
アセテートと反応させることにより得られる基)、ヒド
ロキシ、カルボキシ、エステル化カルボキシ、トリアゾ
リル、テトラゾリル、シアノ、ハロゲノ、アシルオキシ
(例えばホルミルオキシまたは低級アルカノイルオキシ
)またはエーテル化ヒドロキシ基である。このようなア
シル基の例はα−アミノフェニルアセチル、α−カルボ
キシフェニルアセチル及び2.2−ジメチル−5−オキ
ソ−4−フェニル−1−イミダゾリジニルである。
、置換アミノ (例えばアシルアミドまたは7−側鎖の
アミノ基及び/または基をアルデヒドまたはケトン、例
えばアセトン、メチルエチルケトンまたはエチルアセト
アセテートと反応させることにより得られる基)、ヒド
ロキシ、カルボキシ、エステル化カルボキシ、トリアゾ
リル、テトラゾリル、シアノ、ハロゲノ、アシルオキシ
(例えばホルミルオキシまたは低級アルカノイルオキシ
)またはエーテル化ヒドロキシ基である。このようなア
シル基の例はα−アミノフェニルアセチル、α−カルボ
キシフェニルアセチル及び2.2−ジメチル−5−オキ
ソ−4−フェニル−1−イミダゾリジニルである。
(ix) RX
R’−C−CO−
Rま
ただしRX、R’ 1.及びR”は同一または異なって
いでもよく、各々低級アルキル、フェニルまたは置換フ
ェニルを表わす。このようなアシル基の例はトリフェニ
ルカルボニルである。
いでもよく、各々低級アルキル、フェニルまたは置換フ
ェニルを表わす。このようなアシル基の例はトリフェニ
ルカルボニルである。
(x) ’/
R’−NH−C−
ただしR”は(i)で定義した意味であり、更に水素、
低級アルキルまたはハロゲン置換低級アルキルであって
もよく、がっYは酸素または硫黄を表わす。このような
基の例はCI (C1h) tNIICOである。
低級アルキルまたはハロゲン置換低級アルキルであって
もよく、がっYは酸素または硫黄を表わす。このような
基の例はCI (C1h) tNIICOである。
(xi)
ただしXは(vii )で定義した意味であり、nは1
〜4の整数である。このようなアシル基の例はl−アミ
ノ−シクロヘキサンカルボニルである。
〜4の整数である。このようなアシル基の例はl−アミ
ノ−シクロヘキサンカルボニルである。
(xii)7ミノアシル、例えばR’CH(Nu、)
−(CI(2)nCO−(ただしnは1〜1oの整数
である)またはNHzC,1llzJr(C1lz)+
++CO−(ただしmは0または1〜10の整数であり
、nは0.lまたは2であり、R’は水素原子またはア
ルキル、アラルキルまたはカルボキシル基または上でR
’で定義したような基であり、かつArはアリーレン基
、例えばp−フェニレンまたは1.4−ナフタレンであ
る。)このような基の例は英国特許第1.054.80
6号に開示されている。この種の基はp−アミノフェニ
ルアセチル基である。この種の他のアシル基は天然産ア
ミノ酸から誘導されるδ−アミノアジポイル及びその誘
導体、例えばNヘンシイルーδ−アミノアジポイルを包
含する。
−(CI(2)nCO−(ただしnは1〜1oの整数
である)またはNHzC,1llzJr(C1lz)+
++CO−(ただしmは0または1〜10の整数であり
、nは0.lまたは2であり、R’は水素原子またはア
ルキル、アラルキルまたはカルボキシル基または上でR
’で定義したような基であり、かつArはアリーレン基
、例えばp−フェニレンまたは1.4−ナフタレンであ
る。)このような基の例は英国特許第1.054.80
6号に開示されている。この種の基はp−アミノフェニ
ルアセチル基である。この種の他のアシル基は天然産ア
ミノ酸から誘導されるδ−アミノアジポイル及びその誘
導体、例えばNヘンシイルーδ−アミノアジポイルを包
含する。
(x iii )式R’−CO・CO−の置換グリオキ
シリル基ただしR’は脂肪族、アルアリファチックまた
は芳香族基、例えばチェニル基、フェニル基、またはモ
ノ−、ジーまたトリー置換フェニル基であり、置換基は
例えば1種またはそれ以上のハロゲン原子(F、Cf、
Br、または■)、メトキシ基、メチル基、またはアミ
ノ基、または融合ベンゼン環である。
シリル基ただしR’は脂肪族、アルアリファチックまた
は芳香族基、例えばチェニル基、フェニル基、またはモ
ノ−、ジーまたトリー置換フェニル基であり、置換基は
例えば1種またはそれ以上のハロゲン原子(F、Cf、
Br、または■)、メトキシ基、メチル基、またはアミ
ノ基、または融合ベンゼン環である。
導入されるアシル基がアミノ基を含有する時、種々の反
応段階中これを保護することが必要なことがある。保護
基は分子の残部、特にラクタム及び7−アミド結合に影
響することなく加水分解によ、り除去できるものが都合
がよい。アミン保護基及び4− COOH位でのエステ
ル化基は同じ試薬を使用して除去できる。有利な操作は
工程の最終段階で両者を除去することである。保護され
たアミノ基はウレタン、アリールメチル(例えばトリチ
ル)アミノ、アリールメチレンアミノ、スルフェニルア
ミノまたはエナミン型を包含する。エナミンブロッキン
グ基は0−アミノーメチルフエニ、ル酢酸の場合に特に
有用である。このような基は一般に希鉱酸、例えば希塩
酸、濃有機酸、例えば濃酢酸、トリフルオロ酢酸及び極
低温、例えば−80℃の液体臭化水素から選ばれた一種
またはそれ以上の試薬により除去できる。都合のよい保
護基はt−フトキシカルボニル基であり、これは希鉱酸
、例えば希塩酸で、あるいは好ましくは強有機酸(例え
ばギ酸またはトリフルオロ酢酸)で、例えば0〜4℃の
温度、好ましくは室温(15〜25°C)で加水分解に
より容易に除去される。別の都合のよい保護基は2,2
.2−1−リクロロエトキシ力ルボニル基であり、これ
は亜鉛/酢酸、亜鉛/ギ酸、亜鉛/低級アルコールまた
は亜鉛/ピリジンの如き試薬で開裂しうる。
応段階中これを保護することが必要なことがある。保護
基は分子の残部、特にラクタム及び7−アミド結合に影
響することなく加水分解によ、り除去できるものが都合
がよい。アミン保護基及び4− COOH位でのエステ
ル化基は同じ試薬を使用して除去できる。有利な操作は
工程の最終段階で両者を除去することである。保護され
たアミノ基はウレタン、アリールメチル(例えばトリチ
ル)アミノ、アリールメチレンアミノ、スルフェニルア
ミノまたはエナミン型を包含する。エナミンブロッキン
グ基は0−アミノーメチルフエニ、ル酢酸の場合に特に
有用である。このような基は一般に希鉱酸、例えば希塩
酸、濃有機酸、例えば濃酢酸、トリフルオロ酢酸及び極
低温、例えば−80℃の液体臭化水素から選ばれた一種
またはそれ以上の試薬により除去できる。都合のよい保
護基はt−フトキシカルボニル基であり、これは希鉱酸
、例えば希塩酸で、あるいは好ましくは強有機酸(例え
ばギ酸またはトリフルオロ酢酸)で、例えば0〜4℃の
温度、好ましくは室温(15〜25°C)で加水分解に
より容易に除去される。別の都合のよい保護基は2,2
.2−1−リクロロエトキシ力ルボニル基であり、これ
は亜鉛/酢酸、亜鉛/ギ酸、亜鉛/低級アルコールまた
は亜鉛/ピリジンの如き試薬で開裂しうる。
アミノ基がプロトン化されたままの条件下で酸付加塩と
してアミノ酸塩化物を使用することによりNH,基はN
H3”として保護しうる。
してアミノ酸塩化物を使用することによりNH,基はN
H3”として保護しうる。
酸付加塩を形成するために使用する酸は、好ましくはX
+lのpka(25℃の水で)を有するものである(た
だしXはアミノ酸のカルボキシル基のpka値(25℃
の水で)である、酸は好ましくは一価である。実際酸H
Q(以下参照)は一般には3未満、好ましくは1未満の
pkaを有する。
+lのpka(25℃の水で)を有するものである(た
だしXはアミノ酸のカルボキシル基のpka値(25℃
の水で)である、酸は好ましくは一価である。実際酸H
Q(以下参照)は一般には3未満、好ましくは1未満の
pkaを有する。
酸塩化物がアミノ酸塩化物の塩である時、特別有利な結
果が本発明に従う方法から得られることが判った。アミ
ノ酸塩化物は、 式IIJ −R+ −C0Fla1 (ただし、R2は二価の有機基であり、Halは塩素ま
たは臭素である)を有する。このようなアミノ酸塩化物
の塩は、 弐 C)I3N−R′−COOIIal) ’ Q
−(ただし、R′およびHalは上記と同じであり、
Q−は酸のアニオンであり、HQは上記のpkaを有す
る)を有する。酸HQは好ましくは強鉱酸、例えば塩酸
または臭化水素酸の如きハロゲン化水素酸である。それ
から誘導される群を含をする貴重なペニシリン抗生物質
の理由から、重要なアシル塩化物はD−N〜(α−クロ
ロカルボニル−α−フェニル)−メチルアンモニウム塩
化物、D−(PhCH(NHi)COCl) ” C1
−テあり、これは便宜上D−α−フェニルグリシル塩化
物塩酸塩として本明細書中称される。
果が本発明に従う方法から得られることが判った。アミ
ノ酸塩化物は、 式IIJ −R+ −C0Fla1 (ただし、R2は二価の有機基であり、Halは塩素ま
たは臭素である)を有する。このようなアミノ酸塩化物
の塩は、 弐 C)I3N−R′−COOIIal) ’ Q
−(ただし、R′およびHalは上記と同じであり、
Q−は酸のアニオンであり、HQは上記のpkaを有す
る)を有する。酸HQは好ましくは強鉱酸、例えば塩酸
または臭化水素酸の如きハロゲン化水素酸である。それ
から誘導される群を含をする貴重なペニシリン抗生物質
の理由から、重要なアシル塩化物はD−N〜(α−クロ
ロカルボニル−α−フェニル)−メチルアンモニウム塩
化物、D−(PhCH(NHi)COCl) ” C1
−テあり、これは便宜上D−α−フェニルグリシル塩化
物塩酸塩として本明細書中称される。
末法により得られ、かつアシルアミド基R’CI(N)
lz)CONII−(りf、ニジRuハ上記ト同し;テ
アル)を有するペニシリンはケトンR”COR5(ただ
し、R2及びR3は低級アルキル基(c、〜Ca )で
ある)と反応でき、基 を含有すると考えられる化合物を生じる。この種の化合
物はへタシリン、サルピシリン、P−ヒドロキシへタリ
シン及びサルピシリンを包含する。
lz)CONII−(りf、ニジRuハ上記ト同し;テ
アル)を有するペニシリンはケトンR”COR5(ただ
し、R2及びR3は低級アルキル基(c、〜Ca )で
ある)と反応でき、基 を含有すると考えられる化合物を生じる。この種の化合
物はへタシリン、サルピシリン、P−ヒドロキシへタリ
シン及びサルピシリンを包含する。
米国特許g4,813,648 号7〜20 frAを
含めて記載のアシル基もまた本明細書中に包含され参考
として十分に組み込まれる。
含めて記載のアシル基もまた本明細書中に包含され参考
として十分に組み込まれる。
末法のアシル化法がペニシリンを生成するのに使用され
る時、最終生成物が5業に公知の常法に従って単離、精
製される。
る時、最終生成物が5業に公知の常法に従って単離、精
製される。
式
%式%
(ただし、Aはトリアルキルシリル基である)を有する
化合物をアシル化するのに末法で使用される、好ましい
アシル塩化物は以下のものを包含する。
化合物をアシル化するのに末法で使用される、好ましい
アシル塩化物は以下のものを包含する。
fa) Q
A−C)12C−(1!
(ただしAは
を表わし、Rは水素、ヒドロキシまたはメトキシであり
、R′は水素またはメチルであり、アミノ基は必要なら
ば特にプロトン化を包含する常用のプロンキング基によ
り保護される);(b)0 B−CH−C−CIl−HC(! NH。
、R′は水素またはメチルであり、アミノ基は必要なら
ば特にプロトン化を包含する常用のプロンキング基によ
り保護される);(b)0 B−CH−C−CIl−HC(! NH。
(ただし、Bは
を表わし、R1は水素、ヒドロキシまたはアセトキシで
あり、RzはR′がヒドロキシの場合水素、クロロまた
はヒドロキシであり、R2はR1が水素またはアセトキ
シの場合水素である);(ただし、Rはフェニル、4−
ヒドロキシフェニル、3.4−ジヒドロキシフェニルま
たはシクロヘキサ−1,4−ジエン−1−イルである) (ただし、Rはフェニル、4−ヒドロキシフェニル、3
,4−ジヒドロキシフェニルまたはシクロヘキサ−1,
4−ジエン−1−イルである); 1置 (ただし、Rはフェニル、4−ヒドロキシフェニル、3
,4−ジヒドロキシフェニルまたはシクロへキサジエン
−1−イルである);(ただし、R’ はフェニル、4
−ヒドロキシフェニル、3,4−ジヒドロキシフェニル
またはシクロへキサジエン−1−イル−でありR2は水
素またはヒドロキシである);fj) Ff
fc S CHzCC1;(ρ ++) NC−CH2C−cl iH,N N=CCHz S CHz CC1!HN
OCHz (ただし、Rはフェニル、4−ヒドロキシフェニル、3
.4−ジヒドロキシフェニルまたは、シクロへキサジエ
ン−1−イルである); (ただし、Aは水素または1〜4個の炭素原子のアルキ
ルまたはCIh5O□−であり、Xは酸素または硫黄で
あり、Rはフェニル、4−ヒドロキシフェニル、3.4
−ジヒドロキシフェニルまたはシクロヘキサ−1゜4−
ジエン−1−イルである); (ただし、Rは水素またはメチルである);(ただし、
R1及びR2の各々は水素、クロロまたはフルオロであ
る); 昌 C=NH H2 (ただし、Bは であり、R1は水素、ヒドロキシまたはアセトキシであ
り、R2はR1がヒドロキシの場合水素、クロロまたは
ヒドロキシでありR2はR1が水素またはアセトキシの
場合水素である); B−CH−C−C1 (ee) NH C=0 ■ IIR (ただし、Bは を表わし、R1は水素、ヒドロキシまたはアセトキシで
あり、R2はR1がヒドロキシの場合水素、クロロまた
はヒドロキシであり、R2&よR1が水素またはアセト
キシの場合水素であり、Rは水素またはシアノメチルで
ある):(gg) Cf1z=CHCHz
S CHI CC1B−CH−C−CI (ii) l N1( (ただし、Bは を表わし、R1は水素、ヒドロキシまたはアセトキシで
あり、R2はR1がヒドロキシの場合水素、クロロまた
はヒトじJキシであすR2はR1が水素またはアセトキ
ンの場合水素である);(ただしRは水素またはメチル
である)及びアミノ基は、所望ならば、特にプロトン化
を包含する常用のブロッキング基で保護される; NH。
あり、RzはR′がヒドロキシの場合水素、クロロまた
はヒドロキシであり、R2はR1が水素またはアセトキ
シの場合水素である);(ただし、Rはフェニル、4−
ヒドロキシフェニル、3.4−ジヒドロキシフェニルま
たはシクロヘキサ−1,4−ジエン−1−イルである) (ただし、Rはフェニル、4−ヒドロキシフェニル、3
,4−ジヒドロキシフェニルまたはシクロヘキサ−1,
4−ジエン−1−イルである); 1置 (ただし、Rはフェニル、4−ヒドロキシフェニル、3
,4−ジヒドロキシフェニルまたはシクロへキサジエン
−1−イルである);(ただし、R’ はフェニル、4
−ヒドロキシフェニル、3,4−ジヒドロキシフェニル
またはシクロへキサジエン−1−イル−でありR2は水
素またはヒドロキシである);fj) Ff
fc S CHzCC1;(ρ ++) NC−CH2C−cl iH,N N=CCHz S CHz CC1!HN
OCHz (ただし、Rはフェニル、4−ヒドロキシフェニル、3
.4−ジヒドロキシフェニルまたは、シクロへキサジエ
ン−1−イルである); (ただし、Aは水素または1〜4個の炭素原子のアルキ
ルまたはCIh5O□−であり、Xは酸素または硫黄で
あり、Rはフェニル、4−ヒドロキシフェニル、3.4
−ジヒドロキシフェニルまたはシクロヘキサ−1゜4−
ジエン−1−イルである); (ただし、Rは水素またはメチルである);(ただし、
R1及びR2の各々は水素、クロロまたはフルオロであ
る); 昌 C=NH H2 (ただし、Bは であり、R1は水素、ヒドロキシまたはアセトキシであ
り、R2はR1がヒドロキシの場合水素、クロロまたは
ヒドロキシでありR2はR1が水素またはアセトキシの
場合水素である); B−CH−C−C1 (ee) NH C=0 ■ IIR (ただし、Bは を表わし、R1は水素、ヒドロキシまたはアセトキシで
あり、R2はR1がヒドロキシの場合水素、クロロまた
はヒドロキシであり、R2&よR1が水素またはアセト
キシの場合水素であり、Rは水素またはシアノメチルで
ある):(gg) Cf1z=CHCHz
S CHI CC1B−CH−C−CI (ii) l N1( (ただし、Bは を表わし、R1は水素、ヒドロキシまたはアセトキシで
あり、R2はR1がヒドロキシの場合水素、クロロまた
はヒトじJキシであすR2はR1が水素またはアセトキ
ンの場合水素である);(ただしRは水素またはメチル
である)及びアミノ基は、所望ならば、特にプロトン化
を包含する常用のブロッキング基で保護される; NH。
(所望なら塩として)
(ただし、Bは
であり、R1は水素、ヒドロキシまたはアセトキシであ
りR2はR’がヒドロキシの場合水素、クロロまたはヒ
ドロキシでありR2はR1が水素またはアセトキシの場
合水素である); I B −Cl1−C−CI (ただし、Bは を表わし、R1は水素、ヒドロキシまたはアセトキシで
ありR2はR1がヒドロキシの場合水素、クロロまたは
ヒドロキシでありR2はR1が水素またはアセトキシの
場合水素である); (ただし、Bは を表わし、R1は水素、ヒドロキシまたはアセトキシで
ありRtはR1がヒドロキシの場合水素、クロロまたは
ヒドロキシでありR2はR1が水素またはアセトキシの
場合水素である); (ww) B−CI−C−CCH C=0 薯 HsCCC1l:I ■ (ただし、Bは を表わし、R1は水素、ヒドロキシまたはアセトキシで
ありR2はR1がヒドロキシの場合水素、クロロまたは
ヒドロキシでありR2はR1が水素またはアセトキシの
場合水素である):酸塩化物は還流上塩化チオニルでの
酸の処理によるような、激しい条件下で通常製造される
が、感受性(5en5itive )保護基を包含する
感受性基が存在する時、塩化オキサリルと酸の塩との反
応により実際上中性条件で酸塩化物は製造することがで
きる。
りR2はR’がヒドロキシの場合水素、クロロまたはヒ
ドロキシでありR2はR1が水素またはアセトキシの場
合水素である); I B −Cl1−C−CI (ただし、Bは を表わし、R1は水素、ヒドロキシまたはアセトキシで
ありR2はR1がヒドロキシの場合水素、クロロまたは
ヒドロキシでありR2はR1が水素またはアセトキシの
場合水素である); (ただし、Bは を表わし、R1は水素、ヒドロキシまたはアセトキシで
ありRtはR1がヒドロキシの場合水素、クロロまたは
ヒドロキシでありR2はR1が水素またはアセトキシの
場合水素である); (ww) B−CI−C−CCH C=0 薯 HsCCC1l:I ■ (ただし、Bは を表わし、R1は水素、ヒドロキシまたはアセトキシで
ありR2はR1がヒドロキシの場合水素、クロロまたは
ヒドロキシでありR2はR1が水素またはアセトキシの
場合水素である):酸塩化物は還流上塩化チオニルでの
酸の処理によるような、激しい条件下で通常製造される
が、感受性(5en5itive )保護基を包含する
感受性基が存在する時、塩化オキサリルと酸の塩との反
応により実際上中性条件で酸塩化物は製造することがで
きる。
実施例1
6−アミノペニシラン酸(6−APA)およびCDZC
N z 10 m lおよびトリメチルクロロシラン
1.13m1の混合物に25〜27℃で、30分にわた
りトリエチルアミン1.23mj+を滴下した。
N z 10 m lおよびトリメチルクロロシラン
1.13m1の混合物に25〜27℃で、30分にわた
りトリエチルアミン1.23mj+を滴下した。
さらに2時間かきまぜを続けた。ついで乾燥二酸化炭素
ガスを混合物に約3時間バブルした。この時間の終りに
、NMR(核磁気共鳴)で次の構造0
C−0−5i (C113) 3を有するシリル化カル
ボキシ6−APA (SCA)60%の存在がわかった
。
ガスを混合物に約3時間バブルした。この時間の終りに
、NMR(核磁気共鳴)で次の構造0
C−0−5i (C113) 3を有するシリル化カル
ボキシ6−APA (SCA)60%の存在がわかった
。
この混合物を冷蔵庫に二夜保った。翌日N、 N−ジメ
チルアニリン0.11m1を加え、1昆金物を=8℃に
冷した。ついで次の割合でI)−(−) −p−ヒドロ
キシ−2−フェニルグリシルりロIJド塩酸塩(′4@
4l9%)1.2gを加えた。
チルアニリン0.11m1を加え、1昆金物を=8℃に
冷した。ついで次の割合でI)−(−) −p−ヒドロ
キシ−2−フェニルグリシルりロIJド塩酸塩(′4@
4l9%)1.2gを加えた。
臣皿」立し ム皮ユニし 添凱ユニ瓦0
−8 0.30 20 −4 0.30 40 −4 0.30 60 −4 0.30 120 +3 220 +15 310 +20 310分の反応の終りに、酢酸エチJし60%、酢酸2
0%、水20%の溶剤系を使(\反応1昆合物試料につ
き行なった薄層クロマトグラフイー(TI、C)はアモ
キシシリンの存在を示した。
−8 0.30 20 −4 0.30 40 −4 0.30 60 −4 0.30 120 +3 220 +15 310 +20 310分の反応の終りに、酢酸エチJし60%、酢酸2
0%、水20%の溶剤系を使(\反応1昆合物試料につ
き行なった薄層クロマトグラフイー(TI、C)はアモ
キシシリンの存在を示した。
最終反応混合物の冷試料’1mlに0□01.Omfを
加えた。遠心分離により分離後、水相はNMRによりア
モキシシリン78%と6−APA約20%を含むことが
わかった。アモキシシリンの存在はTLCによっても確
認された。
加えた。遠心分離により分離後、水相はNMRによりア
モキシシリン78%と6−APA約20%を含むことが
わかった。アモキシシリンの存在はTLCによっても確
認された。
実施例2
CIl□C(lz40ml中の6−アミツベニシラン酸
5.4 g (0,025モル)および93%へキサメ
チルジシラザン6゜2ml (HMDS、0.0275
モル)およびイミダゾール0.07g(約o、ootモ
ル)の混合物を窒素パージ下約17.5時間還流した。
5.4 g (0,025モル)および93%へキサメ
チルジシラザン6゜2ml (HMDS、0.0275
モル)およびイミダゾール0.07g(約o、ootモ
ル)の混合物を窒素パージ下約17.5時間還流した。
この時間の終りに、トリメチルクロロシラン(TMCS
)0.13mft (約0.001モル)を加えた。溶
液は濁った。さらに7時間還流を続け、冷却器にsu4
cgの析出が認められた。この点でNMRば6−APA
のアミノ基とカルボキシル基両者の約I00%のシリル
化を示した。ついでHMDS0.2m/ (0,001
25モル、約5モル%)とTMCSo、06m1!(約
0. OQ 05モル)を加え、窒素パージしながら還
流をさらに17時間続けた。この時、NMRスペクトル
は少量のHMDSとTMCSの添加前と同一であった。
)0.13mft (約0.001モル)を加えた。溶
液は濁った。さらに7時間還流を続け、冷却器にsu4
cgの析出が認められた。この点でNMRば6−APA
のアミノ基とカルボキシル基両者の約I00%のシリル
化を示した。ついでHMDS0.2m/ (0,001
25モル、約5モル%)とTMCSo、06m1!(約
0. OQ 05モル)を加え、窒素パージしながら還
流をさらに17時間続けた。この時、NMRスペクトル
は少量のHMDSとTMCSの添加前と同一であった。
ついで乾燥二酸化炭素を反応混合物に室温で75分バル
ブし、ついでNMRはHMDSは存在せず、92%以上
のシリル化カルボキシ6−APA(SCA)を示した。
ブし、ついでNMRはHMDSは存在せず、92%以上
のシリル化カルボキシ6−APA(SCA)を示した。
ついでN、N−ジメチルアニリン(DMA)4.45m
l (0,035モル)を加え、混合物を一3℃に冷し
た。ついで次の割合でD−(−’) −2−フェニルグ
リシルクロリド5.65g(純度95%、0.026モ
ル)を加えた。
l (0,035モル)を加え、混合物を一3℃に冷し
た。ついで次の割合でD−(−’) −2−フェニルグ
リシルクロリド5.65g(純度95%、0.026モ
ル)を加えた。
特lLΩtし 轟」:r(L 垂〕L辷LLO−3
1,05 2001,30 4001,30 5001,00 6001,00 反応をNMRで追跡し、反応開始後約5時間でほとんど
変化を示さなかった。温度は3℃であった。ついで反応
混合物を次の16時間氷に入れて保った。ついで冷蔵か
ら除去し、室温(約20〜24°C)で3.5時間かき
まぜた。多量の固体物質がなお存在した。ついで反応混
合物を室温(22〜24℃)で約63時間かきまぜた。
1,05 2001,30 4001,30 5001,00 6001,00 反応をNMRで追跡し、反応開始後約5時間でほとんど
変化を示さなかった。温度は3℃であった。ついで反応
混合物を次の16時間氷に入れて保った。ついで冷蔵か
ら除去し、室温(約20〜24°C)で3.5時間かき
まぜた。多量の固体物質がなお存在した。ついで反応混
合物を室温(22〜24℃)で約63時間かきまぜた。
この時間の終りに、わずかに濁りがあった。試料を02
0で抽出し、NMRはアンピシリンと6−APAを示し
た。
0で抽出し、NMRはアンピシリンと6−APAを示し
た。
反応混合物を約O℃に冷し、氷水35mlの添加後冷時
5分かきまぜた。ポリッシュ濾過後、混合物を冷水およ
びCIl□CI!、2で洗った。分離後、水相はTLC
によってアンピシリンおよび6−APAよりも遅い大き
な帯域を示し、これは新しい中間物Xを表わしている。
5分かきまぜた。ポリッシュ濾過後、混合物を冷水およ
びCIl□CI!、2で洗った。分離後、水相はTLC
によってアンピシリンおよび6−APAよりも遅い大き
な帯域を示し、これは新しい中間物Xを表わしている。
水相をNH,OHでp)13.0に調節し、アンピシリ
ンの種を入れた。メチルイソブチルケト7(MIBK、
35m1)を加え、混合物をかきま、ぜ、さらにNH,
ORでpH5,2に調節し、20゛Cで1時間かきまぜ
、水浴中でさらに1時間かきまぜ、−夜冷酸した。アン
ピシリンの沈澱を濾過で集め、まず冷水25mlで、つ
いでMIBK49 m lで、最後にイソプロピルアル
コール85部と水15部の混合物40meで洗い、50
℃で乾燥し、TLCでアンピシリンと同定されるもの4
.5gが得られたことがわかった。
ンの種を入れた。メチルイソブチルケト7(MIBK、
35m1)を加え、混合物をかきま、ぜ、さらにNH,
ORでpH5,2に調節し、20゛Cで1時間かきまぜ
、水浴中でさらに1時間かきまぜ、−夜冷酸した。アン
ピシリンの沈澱を濾過で集め、まず冷水25mlで、つ
いでMIBK49 m lで、最後にイソプロピルアル
コール85部と水15部の混合物40meで洗い、50
℃で乾燥し、TLCでアンピシリンと同定されるもの4
.5gが得られたことがわかった。
人施■ユ
CHz(Jz 50mg中の6−APA5.4 g、
HMDS(93%)6.2ml、イミダゾール0.06
gの混合物を窒素パージ下18時間還流した。ついで
TMCSo、1rrlを加えると、濁りが生じた。さら
に2時間還流し透明溶液を得、冷却器にNH4Ceが析
出した。ついでさらにTMCSo、1m/を加え、ごく
わずかに濁りが残った。窒素パージなしに次の65時間
還流を続けた。ついで混合物を約22℃に冷し、乾燥二
酸化炭素の添加をはじめた。
HMDS(93%)6.2ml、イミダゾール0.06
gの混合物を窒素パージ下18時間還流した。ついで
TMCSo、1rrlを加えると、濁りが生じた。さら
に2時間還流し透明溶液を得、冷却器にNH4Ceが析
出した。ついでさらにTMCSo、1m/を加え、ごく
わずかに濁りが残った。窒素パージなしに次の65時間
還流を続けた。ついで混合物を約22℃に冷し、乾燥二
酸化炭素の添加をはじめた。
75分後、NMRは90%以上のビスシリル化カルバマ
ート(SCA)の生成を示した。
ート(SCA)の生成を示した。
ついでDMA4.45m/を加え、次の割合でD−(−
)−2−フェニルグリシルクロリド塩酸塩(純度97%
)5.6gを加えた。
)−2−フェニルグリシルクロリド塩酸塩(純度97%
)5.6gを加えた。
時間(分) 温度(℃) 添加(g)0
20 1.35 20 20 1.3032
20 1.0048 20
1.0075 20 1.00この混
合物をさらに17時間かきまぜた後、反応混合物試料お
よび希釈反応混合物(CII(Jl、2m7!でうすめ
た反応混合物1mff1)につきTLCを行ない、各々
でアンピシリンの小さな帯域と折中間物Xの大きな帯域
を示した。
20 1.35 20 20 1.3032
20 1.0048 20
1.0075 20 1.00この混
合物をさらに17時間かきまぜた後、反応混合物試料お
よび希釈反応混合物(CII(Jl、2m7!でうすめ
た反応混合物1mff1)につきTLCを行ない、各々
でアンピシリンの小さな帯域と折中間物Xの大きな帯域
を示した。
ついで反応混合物を0℃に冷し、氷水40m1を加え、
混合物を5分かきまぜ、ポリッシュ濾過し、水およびC
H,+1.で洗った。水相を分離し、10%を試料とし
て除き、残りをNH4OHでpH3,0に調節し、アン
ピシリンの種を入れ、かきまぜた。
混合物を5分かきまぜ、ポリッシュ濾過し、水およびC
H,+1.で洗った。水相を分離し、10%を試料とし
て除き、残りをNH4OHでpH3,0に調節し、アン
ピシリンの種を入れ、かきまぜた。
さらにMIBK40mlを添加後、混合物をかきまぜ、
N)1.ORでpHを5.2に調節し、室温で1時間か
きまぜ、水浴でさらに1時間かきまぜた。結晶が沈殿し
た。−夜冷蔵後、結晶性生成物を濾過で集め、MIBK
、水、MIBK、イソプロパノ−ルー水(85対15)
40mlで順に洗い、45°Cで乾燥しアンピシリン6
、25 gを得た。(試料用に対し補正し6.8g、6
8%収率)。
N)1.ORでpHを5.2に調節し、室温で1時間か
きまぜ、水浴でさらに1時間かきまぜた。結晶が沈殿し
た。−夜冷蔵後、結晶性生成物を濾過で集め、MIBK
、水、MIBK、イソプロパノ−ルー水(85対15)
40mlで順に洗い、45°Cで乾燥しアンピシリン6
、25 gを得た。(試料用に対し補正し6.8g、6
8%収率)。
L施史↓
CDzClz 10 m l中の6−APAl、0gお
よびTMC51,13m1の混合物にTEAl、23r
nj!を30分にわたり滴下し、混合物をさらに2時間
かきまぜた。ついで乾燥二酸化炭素を4時間バブルした
。この時間にNMRは約55〜60%のカルボキシシリ
ル化を示した。ついで混合物を一夜冷蔵した。朝DMA
0.77m1を加え、混合物をかきまぜ、−8℃に冷し
、次の割合でD−(−)−p−ヒドロキシ−2−フェニ
ルグリシルクロリド塩酸塩1.2gを加えた。
よびTMC51,13m1の混合物にTEAl、23r
nj!を30分にわたり滴下し、混合物をさらに2時間
かきまぜた。ついで乾燥二酸化炭素を4時間バブルした
。この時間にNMRは約55〜60%のカルボキシシリ
ル化を示した。ついで混合物を一夜冷蔵した。朝DMA
0.77m1を加え、混合物をかきまぜ、−8℃に冷し
、次の割合でD−(−)−p−ヒドロキシ−2−フェニ
ルグリシルクロリド塩酸塩1.2gを加えた。
種層」光し A1:Ωロー 垂力LΩO−0−80
,30 20−40,30 40−40,30 60−40,30 310分の終りに、NMRはアモキシシリン約78%と
6−APA約20%を示した。
,30 20−40,30 40−40,30 60−40,30 310分の終りに、NMRはアモキシシリン約78%と
6−APA約20%を示した。
実施例5
乾燥6−アミツベニシラン酸(10,0g、46、24
ミリモル、1.0当量)を無水塩化メチレン(175m
jりに25℃でかきまぜ懸澗した。
ミリモル、1.0当量)を無水塩化メチレン(175m
jりに25℃でかきまぜ懸澗した。
トリエチルアミン(10,76g、I O6,36ミリ
モル、2.30当量)を25°Cで力■え、ついでトリ
メチルクロロシランの添加速度によって温度を約32℃
以下に保ちながらトリメチルクロロシラン(I 1.7
0g、107.75ミリモル、2.33当量)を10〜
15分にわたり加えた。20〜30分かきまぜ後、沈殿
トリエチル塩酸塩を含む混合物は80 MlllNMR
により完全シリル化しているか分析した。ついで混合物
に20°Cで約2時間二酸化炭素ガスを通し、80 M
Hz NMRにより完全にカルボキシル化しているか分
析した。ときにはさらに炭酸ガス導入が必要であった。
モル、2.30当量)を25°Cで力■え、ついでトリ
メチルクロロシランの添加速度によって温度を約32℃
以下に保ちながらトリメチルクロロシラン(I 1.7
0g、107.75ミリモル、2.33当量)を10〜
15分にわたり加えた。20〜30分かきまぜ後、沈殿
トリエチル塩酸塩を含む混合物は80 MlllNMR
により完全シリル化しているか分析した。ついで混合物
に20°Cで約2時間二酸化炭素ガスを通し、80 M
Hz NMRにより完全にカルボキシル化しているか分
析した。ときにはさらに炭酸ガス導入が必要であった。
必要ならば乾燥塩化メチレンによってカルボキシル化混
合物の容量を約175m1に再調節した。カルボキシル
化完結後、スラリをプロピレンオキシド(2,95g、
3、56 m l、50.87ミリモル、1.1当量)
で処理し、0〜5°Cに冷した。D−(−)’−2−(
p−ヒドロキシフェニル)グリシルクロリド塩酸塩へミ
ジオキサン溶媒和物を約2℃で5X2.71gの割で添
加した〔合計13.54g (50,87ミリモル、1
.1当量)加えた〕。次の部分を添加する曲に、上記酸
塩化物の各部分を溶解0させた。これは各部分当り約2
0分を要した。この段階的添加は著しく重要であった。
合物の容量を約175m1に再調節した。カルボキシル
化完結後、スラリをプロピレンオキシド(2,95g、
3、56 m l、50.87ミリモル、1.1当量)
で処理し、0〜5°Cに冷した。D−(−)’−2−(
p−ヒドロキシフェニル)グリシルクロリド塩酸塩へミ
ジオキサン溶媒和物を約2℃で5X2.71gの割で添
加した〔合計13.54g (50,87ミリモル、1
.1当量)加えた〕。次の部分を添加する曲に、上記酸
塩化物の各部分を溶解0させた。これは各部分当り約2
0分を要した。この段階的添加は著しく重要であった。
最終アシル化混合物の未溶解酸塩化物塩酸塩をしらべた
。混合物を0〜5℃に30分保ち、冷した(0〜5℃)
脱イオン(Dl)水(100mjりで10分高速かきま
ぜて処理した。混合物を分離させ、下層の塩化メチレン
を除去した。水性混合物をケイソウ土の薄い(グイカラ
イド)プレコートを通してポリッシュ濾過(はとんど固
体はない)し、ケーキを冷(0〜5°C)DI水(15
mJ)で洗った。結晶化前に下層の有機層を除いた。透
明な淡黄色水溶液(p112〜2.5)を0〜5℃でp
H3,5に調節し、必要により種を入れた。このスラリ
を0〜5℃に40分保ち、pHを6N水酸化アンモニウ
ムで4.8〜5.0に調節し、2時間結晶化した。スラ
リを濾過し、こうして集めた固体アモキシシリンを冷(
0〜5℃)1対lイソプロパツール/水の混合物で洗い
、ケーキを塩化メチレン(30ml)で洗い、雪白色の
アモキシシリン三水和物約13.5g(約70%)を得
た。
。混合物を0〜5℃に30分保ち、冷した(0〜5℃)
脱イオン(Dl)水(100mjりで10分高速かきま
ぜて処理した。混合物を分離させ、下層の塩化メチレン
を除去した。水性混合物をケイソウ土の薄い(グイカラ
イド)プレコートを通してポリッシュ濾過(はとんど固
体はない)し、ケーキを冷(0〜5°C)DI水(15
mJ)で洗った。結晶化前に下層の有機層を除いた。透
明な淡黄色水溶液(p112〜2.5)を0〜5℃でp
H3,5に調節し、必要により種を入れた。このスラリ
を0〜5℃に40分保ち、pHを6N水酸化アンモニウ
ムで4.8〜5.0に調節し、2時間結晶化した。スラ
リを濾過し、こうして集めた固体アモキシシリンを冷(
0〜5℃)1対lイソプロパツール/水の混合物で洗い
、ケーキを塩化メチレン(30ml)で洗い、雪白色の
アモキシシリン三水和物約13.5g(約70%)を得
た。
*)かきまぜを止め、混合物のフラスコ底の固体につき
しらべた。この試料ではスラリを5℃以上に加温しては
ならない、さもないと結果は誤りとなろう。
しらべた。この試料ではスラリを5℃以上に加温しては
ならない、さもないと結果は誤りとなろう。
実施例6
ローアミノペニシラン酸108g(0,5モル)、イミ
ダゾール1.0 g (0,017モル)、乾燥塩化メ
チL/7800mp、HMDS (約り8%純度)12
0ml (0,56モル)をかきまぜて3.3時間還流
加熱した。還流しゆう乾燥窒素ガスによって反応をパー
ジし、反応で生成するNH,を−掃した。
ダゾール1.0 g (0,017モル)、乾燥塩化メ
チL/7800mp、HMDS (約り8%純度)12
0ml (0,56モル)をかきまぜて3.3時間還流
加熱した。還流しゆう乾燥窒素ガスによって反応をパー
ジし、反応で生成するNH,を−掃した。
ついでトリメチルクロロシラン(TMC3)2.0mj
!(0,016モル)を加えた。N2でパージしながら
さらに19時間還流を続け、ついで冷却器に昇華したN
H,C1をきれいに除き、7MC32,6m1(0,0
206モル)を反応に加えた。SZでパージしながらさ
らに34時間還流を続けた。乾燥塩化メチレンで反応混
合物容量をl OOOmlにした。ついでNMRは6−
アミノペニシラン酸のアミノ基およびカルボキシル基の
100%のシリル化を示した。この溶液をN2芳スで蔽
い、9日保った。NMRで上記の安定性がわかった。こ
の溶液をかきまぜ、CO2を約90分バブルした。温度
は20〜22℃であった。NMRでビストリメチルシリ
ル6−7ミノペニシラン酸がビストリメチルシリルカル
ボキシ6−アミノペニシラン酸(SCA)に100%転
換していることがわかった。
!(0,016モル)を加えた。N2でパージしながら
さらに19時間還流を続け、ついで冷却器に昇華したN
H,C1をきれいに除き、7MC32,6m1(0,0
206モル)を反応に加えた。SZでパージしながらさ
らに34時間還流を続けた。乾燥塩化メチレンで反応混
合物容量をl OOOmlにした。ついでNMRは6−
アミノペニシラン酸のアミノ基およびカルボキシル基の
100%のシリル化を示した。この溶液をN2芳スで蔽
い、9日保った。NMRで上記の安定性がわかった。こ
の溶液をかきまぜ、CO2を約90分バブルした。温度
は20〜22℃であった。NMRでビストリメチルシリ
ル6−7ミノペニシラン酸がビストリメチルシリルカル
ボキシ6−アミノペニシラン酸(SCA)に100%転
換していることがわかった。
このマスター混合物を下記のアシル化実験に使った。ご
の溶液中の化学薬品は次の構造式を有していた。
の溶液中の化学薬品は次の構造式を有していた。
NMRはビストリメチルシリルカルボキン6−アミノペ
ニシラン酸が9日後安定なことを示した。
ニシラン酸が9日後安定なことを示した。
このマスター混合物100m/(6−アミノペニシラン
酸10.8 gに当量のSCA、0.05モル)を22
℃でかきまぜ、T E A −HCI 8.0 g (
0,058モル)とプロピレンオキシド4.2mI!
(0,06モル)(米国特許第3,741,959号参
照)を添加した。
酸10.8 gに当量のSCA、0.05モル)を22
℃でかきまぜ、T E A −HCI 8.0 g (
0,058モル)とプロピレンオキシド4.2mI!
(0,06モル)(米国特許第3,741,959号参
照)を添加した。
若干のTEA−H1!が沈殿した。混合物をかきまぜ、
+3°Cに冷した。次の割合でD−(−) −p−ヒド
ロキシフェニルグリシルクロリド塩酸塩へミノオキサン
溶媒和物15.5g(純度79%、0.055モル)を
反応に加えた。
+3°Cに冷した。次の割合でD−(−) −p−ヒド
ロキシフェニルグリシルクロリド塩酸塩へミノオキサン
溶媒和物15.5g(純度79%、0.055モル)を
反応に加えた。
至旭」工L 片脚」分虹 1皮ユニと3、0
0 + 33.0 7
+2 3、0 20 + 26.5
33 +2 15.5 さらに70分後乾燥塩化メチレン約50m1を反応混合
物に加え、粘度を減らした。
0 + 33.0 7
+2 3、0 20 + 26.5
33 +2 15.5 さらに70分後乾燥塩化メチレン約50m1を反応混合
物に加え、粘度を減らした。
さらに160分後、試料2mlをとり出し、D201、
Q m (lに加えた。遠心分離後、水相のNMR分
析は約6%の未アシル化6−アミノペニシラン酸を示し
た。
Q m (lに加えた。遠心分離後、水相のNMR分
析は約6%の未アシル化6−アミノペニシラン酸を示し
た。
10分後、反応混合物を60 Omlのビーカーに移し
、塩化メチレン50m1で洗って移しかえを完全にした
。水浴中でかきまぜながら冷脱イオン氷水5 Qmj!
を加えて、固体を含まずpH1,oを有する2相溶液を
得た。
、塩化メチレン50m1で洗って移しかえを完全にした
。水浴中でかきまぜながら冷脱イオン氷水5 Qmj!
を加えて、固体を含まずpH1,oを有する2相溶液を
得た。
液体陰イオン交換樹脂(LA−1)15.0m1をかき
まぜてこの2相系に加え、I))12.0で種を入れた
。結晶化がはじまった。さらにLA−110、0m /
lを徐々に約5分にわたり加えた。pHは3、0であっ
た。ついでNa8L 0.15 gを加えた。
まぜてこの2相系に加え、I))12.0で種を入れた
。結晶化がはじまった。さらにLA−110、0m /
lを徐々に約5分にわたり加えた。pHは3、0であっ
た。ついでNa8L 0.15 gを加えた。
ついでLA l 5.Omlを加えた。pl+は4
.5であった。かきまぜを続け、水4.Q m ll中
のNaHSOs(重亜硫酸ナトリウム)1.Ogを滴下
した。ついでLA−110,Omlを加えた。pHは上
昇し続けた。合計LA−140m/で、最終pHは5.
6であった。ついでアセトン5 m lを加えた。この
点で水5. Q m lに溶かしたNa)ISO31,
5gを30分にわたり加えた。水浴中でかきまぜを続け
た。
.5であった。かきまぜを続け、水4.Q m ll中
のNaHSOs(重亜硫酸ナトリウム)1.Ogを滴下
した。ついでLA−110,Omlを加えた。pHは上
昇し続けた。合計LA−140m/で、最終pHは5.
6であった。ついでアセトン5 m lを加えた。この
点で水5. Q m lに溶かしたNa)ISO31,
5gを30分にわたり加えた。水浴中でかきまぜを続け
た。
沈殿した生成物を濾過で集め、ケーキを塩化メチレン5
0m6、水40 m l 、イソプロピルアルコール−
水(80対20) 10 Oml、塩化メチレン10
Omlで順に洗った。ケーキをついで常圧で45℃で
乾燥しアモキシシリン三水和物18.2gを得、これは
6−アミノペニシラン酸に対し87%の収率であり、1
%の試料採取に対し補正すると全収率は約88%であっ
た。
0m6、水40 m l 、イソプロピルアルコール−
水(80対20) 10 Oml、塩化メチレン10
Omlで順に洗った。ケーキをついで常圧で45℃で
乾燥しアモキシシリン三水和物18.2gを得、これは
6−アミノペニシラン酸に対し87%の収率であり、1
%の試料採取に対し補正すると全収率は約88%であっ
た。
LA−1液体陰イオン交換樹脂は、各第二級アミンが次
の構造式 (ただし、R1、R1、R3の各々は脂肪族炭化水素基
であり、R1、R1、R3は全体として11〜14個の
炭素原子を含んでいる)を有する第二級アミンの混合物
である。ときに[液体アミン混合物NIIIJと呼ばれ
るこの第二級アミンの特定の混合物は次の物理特性を有
する透明なこはく色液体である。25℃の粘度70cp
s、20℃の比重0.845.25℃の屈折率1.46
7.101■での蒸留範囲、160℃までが4%、16
0〜210℃5%、210〜220℃74%、220℃
以上17%。
の構造式 (ただし、R1、R1、R3の各々は脂肪族炭化水素基
であり、R1、R1、R3は全体として11〜14個の
炭素原子を含んでいる)を有する第二級アミンの混合物
である。ときに[液体アミン混合物NIIIJと呼ばれ
るこの第二級アミンの特定の混合物は次の物理特性を有
する透明なこはく色液体である。25℃の粘度70cp
s、20℃の比重0.845.25℃の屈折率1.46
7.101■での蒸留範囲、160℃までが4%、16
0〜210℃5%、210〜220℃74%、220℃
以上17%。
大施貫ニ
トリメチルシリル6−トリメチルジリルオキシカルポニ
ルアミノペニシリネート(0,54g、2、497ミリ
モル)の塩化メチレン溶液(5,Omlりをトリエチル
アミン塩酸塩(0,20g、1.45ミリモル)で処理
し、続いてプロピレンオキサイド(0,162g、 2
.75ミリモル)で25℃で処理した。トリエチルアミ
ン塩酸塩のほとんどの溶解を容易にするために混合物を
25℃で20分攪拌した。フェノキシアセチルクロライ
ド(0,43g、2.75ミリモル)を25℃で滴下し
混合物を25℃で30分攪拌した。試料を取り出しCM
Rで20.0 MHzで分析した。CMR(CI3核磁
気共鳴スペクトル)データはフェノキシアセチルクロラ
イドおよびAPAカーバメートの完全す消失並ヒにペニ
シリン■トリメチルシリルエステルの出現を示した。ペ
ニシリン■トリメチルシリルエステルの存在はトリエチ
ルアミン及びトリメチルクロロシランでのペニシリン■
遊離酸のシリル化により製造した同一試料とのスペクト
ル比較により証明された。CMRスペクトルから概算し
た収率は85〜90%であった。
ルアミノペニシリネート(0,54g、2、497ミリ
モル)の塩化メチレン溶液(5,Omlりをトリエチル
アミン塩酸塩(0,20g、1.45ミリモル)で処理
し、続いてプロピレンオキサイド(0,162g、 2
.75ミリモル)で25℃で処理した。トリエチルアミ
ン塩酸塩のほとんどの溶解を容易にするために混合物を
25℃で20分攪拌した。フェノキシアセチルクロライ
ド(0,43g、2.75ミリモル)を25℃で滴下し
混合物を25℃で30分攪拌した。試料を取り出しCM
Rで20.0 MHzで分析した。CMR(CI3核磁
気共鳴スペクトル)データはフェノキシアセチルクロラ
イドおよびAPAカーバメートの完全す消失並ヒにペニ
シリン■トリメチルシリルエステルの出現を示した。ペ
ニシリン■トリメチルシリルエステルの存在はトリエチ
ルアミン及びトリメチルクロロシランでのペニシリン■
遊離酸のシリル化により製造した同一試料とのスペクト
ル比較により証明された。CMRスペクトルから概算し
た収率は85〜90%であった。
同一モル猾の試薬及び適当な酸塩化物を使用してクロキ
サシリン、ジクロキサシリン、スタフシリン及びナフシ
リンを同様にして製造した。これらのアシル化混合のC
MRデータは少くとも85%に概算される収率の極めて
きれいなアシル化混合を示した。
サシリン、ジクロキサシリン、スタフシリン及びナフシ
リンを同様にして製造した。これらのアシル化混合のC
MRデータは少くとも85%に概算される収率の極めて
きれいなアシル化混合を示した。
叉亙五工
式
(ただしBはトリアルキルシリル基である)を有する化
合物を、適当な酸塩化物または酸塩化物塩酸塩である試
薬(必要ならばブロッキング基を含有する)と上記操作
に従って反応させ、続いて除去が所望されるブロッキン
グ基を除去することにより以下の化合物を生成した:ア
ルメシリン(almecillin )、アーメシリン
(armecillin )、アジトンリン(azid
ocillin )、アズロシリン(azlocill
in)、ハカムピシリン(bacampicillin
)、弐 を有するBayに4999、 式 %式% 式 ■ を有するBL−P1908、カルフェシリン(carf
ecillin) 、カリンダシリン(carinda
cillin)、サイクラシリン(cyclacill
in ) 、クロメトシリン(clometocill
in ) 、クロキサシリン(cloxacillin
) 、ジクロキサシリン(dicloxacilli
n )、 弐 を有するEMD−32412、エビシリン(epici
llin )、フロキサシリン(floxacilli
n )、(フルクロキサシリン(flucloxaci
llin )) 、フルブシリン(furbuc目1i
n)、ヘタシリン(hetacillin )、 式 を有する1、S、F、−2664、イソプロピシリン(
isopropicillin)、メチシリン(met
hicillin )、メズロシリン(mezloci
llin ) 、ナフンリン(nafcillin )
、オキサシリン(oxactllin )、フェンペ
ニシリン(phenbenicillin )、式 %式% 式 を有するアパルシリン(aparcillin )、(
PC−904)、ピペラジリン(piperacill
in )、3゜4−ジヒドロキシピペラシリン(3,4
−dihydroxypiperacillin )
、ピルへニジリン(pirbenicillin )
、ビブアンピシリン(pivampicillin )
、 を有するPL−385、ブラシシリン(prazo−c
illin )、サルピシリン(sarmoxicil
lin )、サルピシリン(5arpictllin
) 、チカルシリンクレジルナトリウム(ticarc
illin cresyl sodium )、チカル
シリン(ticarcillin ) 、カルベニシリ
ン(carbenicillin ) 、カルベニシリ
ン(carfe−cillin )、フィブラシリン(
fibracillin )及びを有するBay−e−
6905゜ 本発明は工業的応用が可能である。
合物を、適当な酸塩化物または酸塩化物塩酸塩である試
薬(必要ならばブロッキング基を含有する)と上記操作
に従って反応させ、続いて除去が所望されるブロッキン
グ基を除去することにより以下の化合物を生成した:ア
ルメシリン(almecillin )、アーメシリン
(armecillin )、アジトンリン(azid
ocillin )、アズロシリン(azlocill
in)、ハカムピシリン(bacampicillin
)、弐 を有するBayに4999、 式 %式% 式 ■ を有するBL−P1908、カルフェシリン(carf
ecillin) 、カリンダシリン(carinda
cillin)、サイクラシリン(cyclacill
in ) 、クロメトシリン(clometocill
in ) 、クロキサシリン(cloxacillin
) 、ジクロキサシリン(dicloxacilli
n )、 弐 を有するEMD−32412、エビシリン(epici
llin )、フロキサシリン(floxacilli
n )、(フルクロキサシリン(flucloxaci
llin )) 、フルブシリン(furbuc目1i
n)、ヘタシリン(hetacillin )、 式 を有する1、S、F、−2664、イソプロピシリン(
isopropicillin)、メチシリン(met
hicillin )、メズロシリン(mezloci
llin ) 、ナフンリン(nafcillin )
、オキサシリン(oxactllin )、フェンペ
ニシリン(phenbenicillin )、式 %式% 式 を有するアパルシリン(aparcillin )、(
PC−904)、ピペラジリン(piperacill
in )、3゜4−ジヒドロキシピペラシリン(3,4
−dihydroxypiperacillin )
、ピルへニジリン(pirbenicillin )
、ビブアンピシリン(pivampicillin )
、 を有するPL−385、ブラシシリン(prazo−c
illin )、サルピシリン(sarmoxicil
lin )、サルピシリン(5arpictllin
) 、チカルシリンクレジルナトリウム(ticarc
illin cresyl sodium )、チカル
シリン(ticarcillin ) 、カルベニシリ
ン(carbenicillin ) 、カルベニシリ
ン(carfe−cillin )、フィブラシリン(
fibracillin )及びを有するBay−e−
6905゜ 本発明は工業的応用が可能である。
Claims (5)
- (1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、Bはトリアルキルシリル基である)を有する
シリル化核を、2〜20炭素原子を含有する有機カルボ
ン酸の酸塩化物でアシル化しついで基Bを水素に変換す
る連続工程からなる式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし、▲数式、化学式、表等があります▼は該有機
カルボン酸からヒドロキシル基の除去後の残基である) を有する通常のペニシリンの製造方法に於いて、アシル
化の前に該シリル化核を無水の不活性有機溶媒中0℃〜
100℃の範囲の温度で反応完結まで乾燥二酸化炭素を
添加することにより式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただしBは上と同じである)の化合物に変換すること
を特徴とする上記製造方法。 - (2)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物を無水の不活性有機溶媒中約等モル量のD−(
−)−α−アミノアリールアセチルクロライド塩酸塩と
反応させることからなる、6−α−アミノアリールアセ
トアミドペニシラン酸の製造方法。 - (3)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物を無水の不活性有機溶媒中約等モル量のD−(
−)−2−pヒドロキシフェニルグリシルクロライド塩
酸塩と反応させることからなる特許請求の範囲第(2)
項記載のアモキシシリンの製造方法。 - (4)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物を無水の不活性有機溶媒中約等モル量のD−(
−)−2−フェニルグリシルクロライド塩酸塩と反応さ
せることからなる特許請求の範囲第(2)項記載のアン
ピンリンの製造方法。 - (5)反応を−10℃以上の温度で行なう特許請求の範
囲第(2)項〜第(4)項のいずれかの項に記載の製造
方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US97070478A | 1978-12-18 | 1978-12-18 | |
| US970704 | 1978-12-18 | ||
| US21852 | 1979-03-19 | ||
| US4780 | 1998-01-09 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6183188A true JPS6183188A (ja) | 1986-04-26 |
| JPH0137394B2 JPH0137394B2 (ja) | 1989-08-07 |
Family
ID=25517363
Family Applications (4)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1960179A Granted JPS5583789A (en) | 1978-12-18 | 1979-02-21 | Preparation of penicillin |
| JP16466079A Granted JPS5589287A (en) | 1978-12-18 | 1979-12-18 | Manufacture of penicillin |
| JP60189329A Granted JPS6183188A (ja) | 1978-12-18 | 1985-08-28 | ペニシリンの製造法 |
| JP61036458A Granted JPS61210087A (ja) | 1978-12-18 | 1986-02-20 | ペニシリン類の製法 |
Family Applications Before (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1960179A Granted JPS5583789A (en) | 1978-12-18 | 1979-02-21 | Preparation of penicillin |
| JP16466079A Granted JPS5589287A (en) | 1978-12-18 | 1979-12-18 | Manufacture of penicillin |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61036458A Granted JPS61210087A (ja) | 1978-12-18 | 1986-02-20 | ペニシリン類の製法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (4) | JPS5583789A (ja) |
| BE (1) | BE877295A (ja) |
| ZA (1) | ZA792640B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61253712A (ja) * | 1985-05-03 | 1986-11-11 | 株式会社フジクラ | 直流電力ケ−ブル |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5732289A (en) | 1980-08-05 | 1982-02-20 | Chugai Pharmaceut Co Ltd | Alpha-substituted ureidobenzylpenicillin |
| JPH0636598U (ja) * | 1992-10-14 | 1994-05-17 | 株式会社市民防疫社 | 乾燥装置 |
| US20060172987A1 (en) * | 2003-03-21 | 2006-08-03 | Dsm Ip Assets B.V. | Amoxicillin trihydrate |
-
1979
- 1979-02-21 JP JP1960179A patent/JPS5583789A/ja active Granted
- 1979-05-29 ZA ZA792640A patent/ZA792640B/xx unknown
- 1979-06-26 BE BE0/195983A patent/BE877295A/fr not_active IP Right Cessation
- 1979-12-18 JP JP16466079A patent/JPS5589287A/ja active Granted
-
1985
- 1985-08-28 JP JP60189329A patent/JPS6183188A/ja active Granted
-
1986
- 1986-02-20 JP JP61036458A patent/JPS61210087A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61253712A (ja) * | 1985-05-03 | 1986-11-11 | 株式会社フジクラ | 直流電力ケ−ブル |
| JPS61253713A (ja) * | 1985-05-03 | 1986-11-11 | 株式会社フジクラ | 直流電力ケ−ブル |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS647078B2 (ja) | 1989-02-07 |
| JPS5583789A (en) | 1980-06-24 |
| ZA792640B (en) | 1980-11-26 |
| JPH0137394B2 (ja) | 1989-08-07 |
| JPS61210087A (ja) | 1986-09-18 |
| BE877295A (fr) | 1979-12-27 |
| JPS5589287A (en) | 1980-07-05 |
| JPS6111958B2 (ja) | 1986-04-05 |
| JPH0137395B2 (ja) | 1989-08-07 |
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