JPS6183602A - 改質装置 - Google Patents
改質装置Info
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- JPS6183602A JPS6183602A JP59204923A JP20492384A JPS6183602A JP S6183602 A JPS6183602 A JP S6183602A JP 59204923 A JP59204923 A JP 59204923A JP 20492384 A JP20492384 A JP 20492384A JP S6183602 A JPS6183602 A JP S6183602A
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- reforming
- tube
- inner tube
- gas
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M8/00—Fuel cells; Manufacture thereof
- H01M8/06—Combination of fuel cells with means for production of reactants or for treatment of residues
- H01M8/0606—Combination of fuel cells with means for production of reactants or for treatment of residues with means for production of gaseous reactants
- H01M8/0612—Combination of fuel cells with means for production of reactants or for treatment of residues with means for production of gaseous reactants from carbon-containing material
- H01M8/0625—Combination of fuel cells with means for production of reactants or for treatment of residues with means for production of gaseous reactants from carbon-containing material in a modular combined reactor/fuel cell structure
- H01M8/0631—Reactor construction specially adapted for combination reactor/fuel cell
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
- B01J8/06—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds in tube reactors; the solid particles being arranged in tubes
- B01J8/062—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds in tube reactors; the solid particles being arranged in tubes being installed in a furnace
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/30—Hydrogen technology
- Y02E60/50—Fuel cells
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
- Fuel Cell (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の技術分野］
本発明は一般的なガス改質器あるいはガスとガスとの熱
交換器の改良に関するものである。
交換器の改良に関するものである。
［発明の技術的背景とその問題点１
一般に使用されているガス改質器の構造につき第３図を
参照して説明する。図においてガス改質器１は、バーナ
２へ燃焼ガスと燃焼空気とを送り込んで燃焼ｖ３におい
て燃焼させ、燃焼により生じた加熱流体は加熱流路４を
通り排ガス出口５より外部に排出される。この燃焼熱に
より、改質器１の内部に設けた複数の改質管６を加熱す
る。
参照して説明する。図においてガス改質器１は、バーナ
２へ燃焼ガスと燃焼空気とを送り込んで燃焼ｖ３におい
て燃焼させ、燃焼により生じた加熱流体は加熱流路４を
通り排ガス出口５より外部に排出される。この燃焼熱に
より、改質器１の内部に設けた複数の改質管６を加熱す
る。
一方改質管の内部には、上記燃焼ガス加熱流路４とは完
全に隔離して改質ガスの流路が設けられる。改質ガス人
ロアから流入した改質ガスは、改質管６の内壁に設けら
れ他方目皿（以下、下部目皿と称する）１８により支え
られた触媒層８の内部を流れて上昇し、上端で逆向きに
方向転換して触媒Ｎ８とセンタプラグ９との間に構成さ
れるリターンバス１０を流れて改質ガス出口１１から流
出する。そしてこの間に、改質ガス例えばメタンと水蒸
気とが水素と炭酸ガスに改質される如く改質される。な
お、改質管６は改質器１の内部に１本のみの場合もある
が、一般には第３図に示す如く複数本設けられる。
全に隔離して改質ガスの流路が設けられる。改質ガス人
ロアから流入した改質ガスは、改質管６の内壁に設けら
れ他方目皿（以下、下部目皿と称する）１８により支え
られた触媒層８の内部を流れて上昇し、上端で逆向きに
方向転換して触媒Ｎ８とセンタプラグ９との間に構成さ
れるリターンバス１０を流れて改質ガス出口１１から流
出する。そしてこの間に、改質ガス例えばメタンと水蒸
気とが水素と炭酸ガスに改質される如く改質される。な
お、改質管６は改質器１の内部に１本のみの場合もある
が、一般には第３図に示す如く複数本設けられる。
第４図は、第３図により概要を説明した触媒層８の燃焼
至側の部分を拡大して示した詳細断面図である。図にお
いて、改質管６は鏡板１２と溶接線１３により溶接して
作られている。この改質管６は既に第３図で説明したよ
うに、その上部の燃焼至３に近い部分は高温になるので
、断熱材で作られたキャップ１４が鏡板１２の上にかぶ
せられる。また溶接線１３に欠陥が生じ易いので、この
部分に温度測定素子１５を設けて温度を測定する。
至側の部分を拡大して示した詳細断面図である。図にお
いて、改質管６は鏡板１２と溶接線１３により溶接して
作られている。この改質管６は既に第３図で説明したよ
うに、その上部の燃焼至３に近い部分は高温になるので
、断熱材で作られたキャップ１４が鏡板１２の上にかぶ
せられる。また溶接線１３に欠陥が生じ易いので、この
部分に温度測定素子１５を設けて温度を測定する。
改質ガスは触媒層８の中を上昇し、触媒層上端１６を通
って一方目皿（以下、上部目皿と称する）１７の上端で
逆転しプラグガイド１９により形成されるリターンバス
１０を通って下降し流出する。
って一方目皿（以下、上部目皿と称する）１７の上端で
逆転しプラグガイド１９により形成されるリターンバス
１０を通って下降し流出する。
上部目皿１７は、断熱材で作られた多孔板である。
この上部目皿１７は、本来は触媒層上端１６で触媒粒子
の浮き上がりを防止するために設けられるものであるが
、実際には下記のような理由により触媒層上端１６と上
部目皿１７との間に寸法１の空隙ができてしまう。
の浮き上がりを防止するために設けられるものであるが
、実際には下記のような理由により触媒層上端１６と上
部目皿１７との間に寸法１の空隙ができてしまう。
即ち第１の理由は、一般に改質反応中には改質管６が熱
膨張により伸びるのに対し、反応触媒の熱膨張係数は改
質管６のそれに比べて小さいためである。また第２の理
由は、触媒層８は下部目皿１８（第３図）により支えら
れているが、改質管６の内径が熱により膨張するのみな
らず、更に触媒層内管２０の外径も膨張することから、
この間の容積が増加する分だけ触媒層上端１６が下がる
ことになる。また触媒粒子の充填時には、改質管６を上
下逆さまにして管に振動を与えながら充填するが、十分
に充填できず改質反応のため高温に上げ下げする運転を
しているうちに、触媒層上端１６は沈下して上部目皿１
７との間に寸法１の空間ができてしまう。このような状
態になると、改質管６の溶接線１３が触媒層上端１６よ
り上部に出ることになるので、その結果溶接線１３の温
度と触媒層８の温度とに大きな差が現われるようになる
。このような理由から、温度測定素子１５によって溶接
線１３の温度を監視しながら改質運転を行なうが、空間
ができてしまうと触媒層上端１６の温度はそれ捏上がら
ず改質効率が悪くなる。
膨張により伸びるのに対し、反応触媒の熱膨張係数は改
質管６のそれに比べて小さいためである。また第２の理
由は、触媒層８は下部目皿１８（第３図）により支えら
れているが、改質管６の内径が熱により膨張するのみな
らず、更に触媒層内管２０の外径も膨張することから、
この間の容積が増加する分だけ触媒層上端１６が下がる
ことになる。また触媒粒子の充填時には、改質管６を上
下逆さまにして管に振動を与えながら充填するが、十分
に充填できず改質反応のため高温に上げ下げする運転を
しているうちに、触媒層上端１６は沈下して上部目皿１
７との間に寸法１の空間ができてしまう。このような状
態になると、改質管６の溶接線１３が触媒層上端１６よ
り上部に出ることになるので、その結果溶接線１３の温
度と触媒層８の温度とに大きな差が現われるようになる
。このような理由から、温度測定素子１５によって溶接
線１３の温度を監視しながら改質運転を行なうが、空間
ができてしまうと触媒層上端１６の温度はそれ捏上がら
ず改質効率が悪くなる。
以上の関係を更に詳細に説明すると、改質管６の内部が
改質ガスの流れだけの場合には、改質管６の内部に触媒
が充填されている場合に比べると、その壁面から内部改
質ガスへの熱伝達率が非常に悪くなるので、改質管６の
溶接部の内部に触媒がない場合には、溶接線１３の温度
と改質ガスの出口の温度とに大きな差が現われてしまう
。また、常温で十分触媒層８と接触するように改質管６
の溶接線１３を設けても、改質管６の上端が約１０００
℃という高温になることにより、改質管６の長さが約２
ｍある場合、２０〜３０ｍｍはど改質管６が熱膨張して
触媒層８より上部に突き出てしまう。
改質ガスの流れだけの場合には、改質管６の内部に触媒
が充填されている場合に比べると、その壁面から内部改
質ガスへの熱伝達率が非常に悪くなるので、改質管６の
溶接部の内部に触媒がない場合には、溶接線１３の温度
と改質ガスの出口の温度とに大きな差が現われてしまう
。また、常温で十分触媒層８と接触するように改質管６
の溶接線１３を設けても、改質管６の上端が約１０００
℃という高温になることにより、改質管６の長さが約２
ｍある場合、２０〜３０ｍｍはど改質管６が熱膨張して
触媒層８より上部に突き出てしまう。
［発明の目的コ
本発明は上記のような問題を解決するために成されたも
ので、その目的は長期使用による改質触媒層の沈下を防
止しかつ改質管の温度変化による熱！！脹に追従して穫
めて効率の良い改質を行なうことが可能な改質装置を提
供することにある。
ので、その目的は長期使用による改質触媒層の沈下を防
止しかつ改質管の温度変化による熱！！脹に追従して穫
めて効率の良い改質を行なうことが可能な改質装置を提
供することにある。
［発明の概要］
上記目的を達成するために本発明では、触媒層内管の外
側に一方目皿と他方目皿間に挟んだ状態で支持された触
媒層が形成されその水平断面が環状をなし改質ガスの往
路となる流路が、上記触媒層内管の内側にその水平断面
が環状をなし改質ガスの復路となる流路が夫々形成され
、外部からの加熱により上記往路にてガスの改質を行な
う改質管を内蔵して成る改質器において、上記−万目皿
を固定すると共に上記触媒層内管と他方目皿とを一体に
構成してガスの流路の長手方向に移動可能とし、かつ上
記触媒層内管とその反対方向に位置する固定部との間に
コイルバネや皿バネ等の弾性体を縮設して、他方目皿を
常に上方に弾性体で押し上げて触媒層一端と一方目皿と
の間に空隙が発生しないようにしたことを特徴とする。
側に一方目皿と他方目皿間に挟んだ状態で支持された触
媒層が形成されその水平断面が環状をなし改質ガスの往
路となる流路が、上記触媒層内管の内側にその水平断面
が環状をなし改質ガスの復路となる流路が夫々形成され
、外部からの加熱により上記往路にてガスの改質を行な
う改質管を内蔵して成る改質器において、上記−万目皿
を固定すると共に上記触媒層内管と他方目皿とを一体に
構成してガスの流路の長手方向に移動可能とし、かつ上
記触媒層内管とその反対方向に位置する固定部との間に
コイルバネや皿バネ等の弾性体を縮設して、他方目皿を
常に上方に弾性体で押し上げて触媒層一端と一方目皿と
の間に空隙が発生しないようにしたことを特徴とする。
［発明の実施例］
以下、本発明を図面に示す一実施例について説明する。
第１図は、本発明による改質装置の構成例を断面図にて
示したものであり、第３図および第４図と同一部分には
同一符号を付して示している。なお図では、１本の改質
管６についてその上端側および下端側部分の構成を示し
ている。
示したものであり、第３図および第４図と同一部分には
同一符号を付して示している。なお図では、１本の改質
管６についてその上端側および下端側部分の構成を示し
ている。
図において、改質管６の内部は短寸の上部触媒層内管２
１と上部目皿１７とを一体に成形し、鏡板１２の内壁に
ストッパーとしての複数個の突起部２２を設けて上部目
皿１７が移動しないように固定する。また、上記上部触
媒層内管２１の内側にはこれより長寸の下部触媒層内管
２３を挿入した状態で設け、僅かな隙間を介して同心軸
上を摺動可能にしている。さらに、上記下部触媒層内管
２３の内側にはその内周面の上、中、下の３箇所に等配
のプラグガイド１９を介してセンタプラグ９を挿入し、
改質ガスの復路となるリターンバス１０を形成している
。そして、上記下部触媒層内管２３はその下端部側を底
板２４を介してセンタプラグ９と接続固定し、さらにガ
ス改質器１容器に固定された仕切板２５に取付けられた
改質ガス流出管２６に接続している。さらにまた上記仕
切板２５の上面側には、水平断面が改質ガス流出管２６
を中心として環状をなす突起部２７を設け、かつ当該突
起部２７内側の底板２４と仕切板２５との間には、弾性
体としてのインコネル、ハステロイ等の耐熱材からなる
コイルバネ２８を改質ガス流出管２６と同心に縮設して
、上記下部触媒層内管２３を常に上方にコイルバネ２８
で押し上げるようにしている。一方、上記下部触媒層内
管２３の下端部の外壁２９には複数本の目皿支持リブ３
０を溶接することで下部目皿１８を一体に構成し、かつ
改質管６．上部触媒層内管２１．上部目皿１７．下部触
媒層内管２３および下部目皿１８で囲まれた加熱流路４
には、触媒粒子を充填して触媒層８を形成している。ま
た、上記センタプラグ９の下端部分には周方向にある間
隔で複数個の貫通孔３１を設けて、上記リターンバス１
０と改質ガス流出管２６とを連通するようにしている。
１と上部目皿１７とを一体に成形し、鏡板１２の内壁に
ストッパーとしての複数個の突起部２２を設けて上部目
皿１７が移動しないように固定する。また、上記上部触
媒層内管２１の内側にはこれより長寸の下部触媒層内管
２３を挿入した状態で設け、僅かな隙間を介して同心軸
上を摺動可能にしている。さらに、上記下部触媒層内管
２３の内側にはその内周面の上、中、下の３箇所に等配
のプラグガイド１９を介してセンタプラグ９を挿入し、
改質ガスの復路となるリターンバス１０を形成している
。そして、上記下部触媒層内管２３はその下端部側を底
板２４を介してセンタプラグ９と接続固定し、さらにガ
ス改質器１容器に固定された仕切板２５に取付けられた
改質ガス流出管２６に接続している。さらにまた上記仕
切板２５の上面側には、水平断面が改質ガス流出管２６
を中心として環状をなす突起部２７を設け、かつ当該突
起部２７内側の底板２４と仕切板２５との間には、弾性
体としてのインコネル、ハステロイ等の耐熱材からなる
コイルバネ２８を改質ガス流出管２６と同心に縮設して
、上記下部触媒層内管２３を常に上方にコイルバネ２８
で押し上げるようにしている。一方、上記下部触媒層内
管２３の下端部の外壁２９には複数本の目皿支持リブ３
０を溶接することで下部目皿１８を一体に構成し、かつ
改質管６．上部触媒層内管２１．上部目皿１７．下部触
媒層内管２３および下部目皿１８で囲まれた加熱流路４
には、触媒粒子を充填して触媒層８を形成している。ま
た、上記センタプラグ９の下端部分には周方向にある間
隔で複数個の貫通孔３１を設けて、上記リターンバス１
０と改質ガス流出管２６とを連通するようにしている。
さらに、上記仕切板２５の上部側は改質前のガスであり
下部は改質完了されたガスであることから、仕切板２５
と改質ガス流出管２６との間はベローズ３２により隔離
している。
下部は改質完了されたガスであることから、仕切板２５
と改質ガス流出管２６との間はベローズ３２により隔離
している。
かかる改質装置においては、上部目皿１７を固定すると
共に下部触媒層内管２０と下部目皿１８とを一体に構成
して上下方向に移動可能とし、かつ上記下部触媒層内管
２０とその下方に位置する固定部である仕切り板２５と
の間にコイルバネ２８を縮設するようにしたので、下部
目皿１８は下部触媒層内管２０と共に常に上方にコイル
バネ２８の弾性力で押し上げられることにより、改質管
６の触媒層８が装置の長時間にわたる運転に伴って改質
管６が熱膨張してもこれに追従することが可能であり、
触媒層８が沈下しても第４図に示したように高温側の上
部目皿１７と触媒層８との間に空隙が発生するようなこ
とがなくなり、もって前）ホしたような問題をなくして
極めて効率の良い改質を行なうことが可能となる。また
この場合、下部口Ｉ［ｎ１８はそれ自体をコイルバネで
押し上げる場合に比べて、より小さな押し上げ力で触媒
層８を押し上げることが可能であることから、コイルバ
ネ２８としては比較的径の細いものを使用することがで
き極めて経済的である。
共に下部触媒層内管２０と下部目皿１８とを一体に構成
して上下方向に移動可能とし、かつ上記下部触媒層内管
２０とその下方に位置する固定部である仕切り板２５と
の間にコイルバネ２８を縮設するようにしたので、下部
目皿１８は下部触媒層内管２０と共に常に上方にコイル
バネ２８の弾性力で押し上げられることにより、改質管
６の触媒層８が装置の長時間にわたる運転に伴って改質
管６が熱膨張してもこれに追従することが可能であり、
触媒層８が沈下しても第４図に示したように高温側の上
部目皿１７と触媒層８との間に空隙が発生するようなこ
とがなくなり、もって前）ホしたような問題をなくして
極めて効率の良い改質を行なうことが可能となる。また
この場合、下部口Ｉ［ｎ１８はそれ自体をコイルバネで
押し上げる場合に比べて、より小さな押し上げ力で触媒
層８を押し上げることが可能であることから、コイルバ
ネ２８としては比較的径の細いものを使用することがで
き極めて経済的である。
第２図は、バネによる押上げ力がどの程度必要かを算出
して示したものである。ここで、押上げを行なわない場
合にどの程度の力が触媒層８の下端にかかるかというこ
とは、周知の文献（三輪茂雄著「粉体工学通論」 （日
刊工業新聞社昭和５６年２月発行））にもＪａｎｓｓｅ
ｎの式として示されている。これは、触媒とそれが収容
されている管の内面との摩擦力が動くので、その自重よ
り少ない力で全体を支持することができる。しかし、逆
に押上げる場合には摩擦力に打勝つだけの押上げ力が必
要である。
して示したものである。ここで、押上げを行なわない場
合にどの程度の力が触媒層８の下端にかかるかというこ
とは、周知の文献（三輪茂雄著「粉体工学通論」 （日
刊工業新聞社昭和５６年２月発行））にもＪａｎｓｓｅ
ｎの式として示されている。これは、触媒とそれが収容
されている管の内面との摩擦力が動くので、その自重よ
り少ない力で全体を支持することができる。しかし、逆
に押上げる場合には摩擦力に打勝つだけの押上げ力が必
要である。
第２図は、種々の場合のバネによる押上げ力を比較した
ものであり、横軸は押上げ力Ｆの大きさを曲線Ａの場合
の静止支持力ＦＳに対する比Ｆ／Ｆｓで示し、縦軸は触
媒層８の高さｈを同じく改質管６の内径Ｄｏに対する比
ｈ／Ｄｏで示している。すなわち、触媒層８の高ざｈが
高くなればなる程それを持上げるための力Ｆとしては大
きい力が必要であることを示している。図において、曲
線Ａは改質管を二重管にせず円筒形の触媒層の場合の静
止支持力、曲線Ｂは同曲線Ａの場合の触媒層持上げ力で
ある。しかし、これを触媒層内側に入れると押上げる力
は変わり、下部目皿１８だけを押し上げた場合は曲線Ｃ
のような莫大な力が必要になるが、本実施例のコイルバ
ネ２８による場合は触媒層内管２３も同時に持ち上げる
ことから、曲線りの如く少ない力でよいことになる。
ものであり、横軸は押上げ力Ｆの大きさを曲線Ａの場合
の静止支持力ＦＳに対する比Ｆ／Ｆｓで示し、縦軸は触
媒層８の高さｈを同じく改質管６の内径Ｄｏに対する比
ｈ／Ｄｏで示している。すなわち、触媒層８の高ざｈが
高くなればなる程それを持上げるための力Ｆとしては大
きい力が必要であることを示している。図において、曲
線Ａは改質管を二重管にせず円筒形の触媒層の場合の静
止支持力、曲線Ｂは同曲線Ａの場合の触媒層持上げ力で
ある。しかし、これを触媒層内側に入れると押上げる力
は変わり、下部目皿１８だけを押し上げた場合は曲線Ｃ
のような莫大な力が必要になるが、本実施例のコイルバ
ネ２８による場合は触媒層内管２３も同時に持ち上げる
ことから、曲線りの如く少ない力でよいことになる。
尚、上記実施例では改質管６を複数本設けた場合を述べ
たが、これに限らず一本のみ設ける場合においても本発
明を同様に適用することができるものである。
たが、これに限らず一本のみ設ける場合においても本発
明を同様に適用することができるものである。
また、上記実施例では弾性体としてコイルバネを用いた
が、これに代えて皿バネを用いるようにしても同様に実
施することができるものである。
が、これに代えて皿バネを用いるようにしても同様に実
施することができるものである。
［発明の効果］
以上説明したように本発明によれば、上部目皿を固定す
ると共に触媒層内管と下部目皿とを一体に構成して上下
方向に移動可能とし、かつ上記触媒層内管とその下方に
位置する固定部との間に弾性体を縮設するようにしたの
で、長期使用による改質触媒層の沈下を防止しかつ改質
管の温度変化による熱膨張に追従して極めて効率の良い
改質を行なうことが可能な信頼性の高い改質装置が提供
できる。
ると共に触媒層内管と下部目皿とを一体に構成して上下
方向に移動可能とし、かつ上記触媒層内管とその下方に
位置する固定部との間に弾性体を縮設するようにしたの
で、長期使用による改質触媒層の沈下を防止しかつ改質
管の温度変化による熱膨張に追従して極めて効率の良い
改質を行なうことが可能な信頼性の高い改質装置が提供
できる。
第１図は本発明の一実施例を示す断面図、第２図は同実
施例の作用効果を説明するための特性図、第３図は従来
の改質装置の構成例を示す断面図、第４図は第３図の改
質管上部の詳細を示す断面図である。 １・・・改質器、１ａ・・・改質器容器、２・・・バー
ナ、３・・・燃焼至、４・・・加熱流路、４ａ・・・伝
熱充填層、５・・・排ガス出口、６・・・改質管、７・
・・改質ガス入口、８・・・触媒層、９・・・センタプ
ラグ、１０・・・リターンパス、１１・・・改質ガス出
口、１２・・・鏡板、１３・・・溶接線、１４・・・キ
ャップ、１５・・・温度測定素子、１６・・・触媒上端
、１７．１８・・・目皿、１９・・・プラグガイド、２
０・・・下部触媒層内管、２１・・・上部触媒層内管、
２２・・・突起部、２３・・・下部触媒層内管、２４・
・・底板、２５・・・仕切板、２６・・・改質ガス流出
管、２７・・・突起部、２８・・・コイルバネ、２９・
・・外壁、３０・・・目皿支持リブ、３１・・・貫通孔
、３２・・・ベローズ。
施例の作用効果を説明するための特性図、第３図は従来
の改質装置の構成例を示す断面図、第４図は第３図の改
質管上部の詳細を示す断面図である。 １・・・改質器、１ａ・・・改質器容器、２・・・バー
ナ、３・・・燃焼至、４・・・加熱流路、４ａ・・・伝
熱充填層、５・・・排ガス出口、６・・・改質管、７・
・・改質ガス入口、８・・・触媒層、９・・・センタプ
ラグ、１０・・・リターンパス、１１・・・改質ガス出
口、１２・・・鏡板、１３・・・溶接線、１４・・・キ
ャップ、１５・・・温度測定素子、１６・・・触媒上端
、１７．１８・・・目皿、１９・・・プラグガイド、２
０・・・下部触媒層内管、２１・・・上部触媒層内管、
２２・・・突起部、２３・・・下部触媒層内管、２４・
・・底板、２５・・・仕切板、２６・・・改質ガス流出
管、２７・・・突起部、２８・・・コイルバネ、２９・
・・外壁、３０・・・目皿支持リブ、３１・・・貫通孔
、３２・・・ベローズ。
Claims (2)
- （１）触媒層内管の外側に一方目皿と他方目皿間に挟ん
だ状態で支持された触媒層が形成されその水平断面が環
状をなし改質ガスの往路となる流路が、前記触媒層内管
の内側にその水平断面が環状をなし改質ガスの復路とな
る流路が夫々形成され、外部からの加熱により前記往路
にてガスの改質を行なう改質管を内蔵して成る改質器に
おいて、前記一方目皿を固定すると共に前記触媒層内管
と他方目皿とを一体に構成してガス流路の長手方向に移
動可能とし、かつ前記触媒層内管とその反対方向に位置
する固定部との間に弾性体を縮設して成ることを特徴と
する改質装置。 - （２）弾性体としてはコイルバネあるいは皿バネを用い
ることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の改
質装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59204923A JPS6183602A (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | 改質装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59204923A JPS6183602A (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | 改質装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6183602A true JPS6183602A (ja) | 1986-04-28 |
Family
ID=16498603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59204923A Pending JPS6183602A (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | 改質装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6183602A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0450101A (ja) * | 1990-06-18 | 1992-02-19 | Fuji Electric Co Ltd | 燃料改質器 |
| JP2002529895A (ja) * | 1998-11-10 | 2002-09-10 | インターナショナル フュエル セルズ，エルエルシー | 燃料電池電力設備用の炭化水素燃料気体改質装置 |
| JP2015105168A (ja) * | 2013-11-29 | 2015-06-08 | 株式会社モリタホールディングス | 塵芥収集車 |
| RU2636507C1 (ru) * | 2016-11-24 | 2017-11-23 | Олег Петрович Андреев | Кожухотрубный каталитический реактор |
-
1984
- 1984-09-29 JP JP59204923A patent/JPS6183602A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0450101A (ja) * | 1990-06-18 | 1992-02-19 | Fuji Electric Co Ltd | 燃料改質器 |
| JP2002529895A (ja) * | 1998-11-10 | 2002-09-10 | インターナショナル フュエル セルズ，エルエルシー | 燃料電池電力設備用の炭化水素燃料気体改質装置 |
| JP2015105168A (ja) * | 2013-11-29 | 2015-06-08 | 株式会社モリタホールディングス | 塵芥収集車 |
| RU2636507C1 (ru) * | 2016-11-24 | 2017-11-23 | Олег Петрович Андреев | Кожухотрубный каталитический реактор |
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