JPS6185421A - 感光性樹脂の製造方法 - Google Patents
感光性樹脂の製造方法Info
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Landscapes
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- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は感光性樹脂の製造方法に関し、更に詳しくは感
光性塗膜の形成材料として好適な感光性樹脂の製造方法
に関するものである。
光性塗膜の形成材料として好適な感光性樹脂の製造方法
に関するものである。
(従来の技術)
従来、各種物品の基体表面の劣化や損傷を防止するため
に、その表面に保護塗膜を形成することが広く行なわれ
ている。このような保護塗膜には、塗膜の基体への接着
性が高いこと、更に塗膜が平滑で強靭であること、耐熱
性および耐光性が高(て長期にわたって変色等の変質を
しないこと、耐水性および耐溶剤性が優れていること等
の性能が要求されている。
に、その表面に保護塗膜を形成することが広く行なわれ
ている。このような保護塗膜には、塗膜の基体への接着
性が高いこと、更に塗膜が平滑で強靭であること、耐熱
性および耐光性が高(て長期にわたって変色等の変質を
しないこと、耐水性および耐溶剤性が優れていること等
の性能が要求されている。
一方、近年、チャージカップルドデバイス(以下、rC
CDJと称する)等の光電変換素子として、色分離フィ
ルターを内蔵した固体撮像素子が種々発表されている。
CDJと称する)等の光電変換素子として、色分離フィ
ルターを内蔵した固体撮像素子が種々発表されている。
この固体撮像素子の色分離フィルターは、例えばCCD
素子上に次のような工程を経て形成される。すなわち、
CCD素子(基体)の表面を透明な塗膜により平坦化し
た後、ポリビニルアルコール、グリユー、ゼラチン等に
感光性物質を加えて感光性を付与した感光性材料を、前
記基体上に均一に塗布し、パターンマスクを介して紫外
線を照射し、第1色目の色相部分を構成すべき部分のみ
を光硬化させ、未硬化部分を熔解除去して現像し、この
部分を所定の分光特性を有する染料で染色し、次いで透
明な防染保護膜によって被覆する。更にこの防染保護膜
上に上記感光性材料を塗布し、第2色目の色相部分につ
いても同様の工程によって、露光、現像、染色および防
染保WLm*の形成を行ない、更に第3色目の色相部分
についても同様の工程によって露光、現像、染色し、最
後に表面保護膜を形成する。この防染保護膜および表面
保護膜には、前述の保護塗膜に要求される性能、すなわ
ち接着性、平滑性、強靭性、耐熱性、耐光性、耐水性お
よび耐溶剤性等に加えて、更に透明性および染料に染色
されないための耐染性等の性能も要求される。
素子上に次のような工程を経て形成される。すなわち、
CCD素子(基体)の表面を透明な塗膜により平坦化し
た後、ポリビニルアルコール、グリユー、ゼラチン等に
感光性物質を加えて感光性を付与した感光性材料を、前
記基体上に均一に塗布し、パターンマスクを介して紫外
線を照射し、第1色目の色相部分を構成すべき部分のみ
を光硬化させ、未硬化部分を熔解除去して現像し、この
部分を所定の分光特性を有する染料で染色し、次いで透
明な防染保護膜によって被覆する。更にこの防染保護膜
上に上記感光性材料を塗布し、第2色目の色相部分につ
いても同様の工程によって、露光、現像、染色および防
染保WLm*の形成を行ない、更に第3色目の色相部分
についても同様の工程によって露光、現像、染色し、最
後に表面保護膜を形成する。この防染保護膜および表面
保護膜には、前述の保護塗膜に要求される性能、すなわ
ち接着性、平滑性、強靭性、耐熱性、耐光性、耐水性お
よび耐溶剤性等に加えて、更に透明性および染料に染色
されないための耐染性等の性能も要求される。
更にCCD等においては、防染保護膜または表表面保護
狽が不要なボンデイングパ7)部分などに塗布されたこ
れらの塗膜を選択的に除去するために該塗膜に感光性を
付与し、部分的に光硬化させることによって塗膜を溶媒
に対して不溶化させて未硬化部分を溶媒で除去すること
が必要となり、このために優れた感光性能が要求される
。そして、さらにこれらの塗膜を構成する材料は、溶液
として塗布されるが、均一な塗膜を形成させるために、
スピンコーターによる回転塗布法を用いる場合があり、
この塗布法にも適することが要求される。
狽が不要なボンデイングパ7)部分などに塗布されたこ
れらの塗膜を選択的に除去するために該塗膜に感光性を
付与し、部分的に光硬化させることによって塗膜を溶媒
に対して不溶化させて未硬化部分を溶媒で除去すること
が必要となり、このために優れた感光性能が要求される
。そして、さらにこれらの塗膜を構成する材料は、溶液
として塗布されるが、均一な塗膜を形成させるために、
スピンコーターによる回転塗布法を用いる場合があり、
この塗布法にも適することが要求される。
従来、これらの要求性能を全て満足する感光性塗膜形成
材料は見出されていなかった。
材料は見出されていなかった。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明の目的は、感光性塗膜の形成材料として要求され
る前記の諸性能の全てを有する優れた感光性樹脂の製造
方法を提供することにある。
る前記の諸性能の全てを有する優れた感光性樹脂の製造
方法を提供することにある。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、一般式(1)
(式中R1は水素原子またはメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基等の低級アルキル基、R2は水素原子
、低級アルキル基またはメトキシ基、エトを−、プロポ
キシ基、ブトキシ基等の低級アルコキシ基、nは2〜5
の整数を意味する)で表わされる重合性単量体と、一般
式(■)4(式中R3は水素原子または低級アルキル基
、mは1〜5の整数を意味する)で表わされる重合性単
量体とを共重合することを特徴とする感光性樹脂の製造
方法を提供するものである。
ピル基、ブチル基等の低級アルキル基、R2は水素原子
、低級アルキル基またはメトキシ基、エトを−、プロポ
キシ基、ブトキシ基等の低級アルコキシ基、nは2〜5
の整数を意味する)で表わされる重合性単量体と、一般
式(■)4(式中R3は水素原子または低級アルキル基
、mは1〜5の整数を意味する)で表わされる重合性単
量体とを共重合することを特徴とする感光性樹脂の製造
方法を提供するものである。
一般式(I)の重合性単量体としては、例えばl−メタ
クロイロキシ−2−(4−メチル)シンナモイロキシエ
タン、 1−メタクロイロキシ−2−(4−エチル)シンナモイ
ロキシエタン、 l−メタクロイロキシ−2(4−n−プロピル)シンナ
モイロキシエタン、 1−メタクロイロキシ−2−(4−イソプロピル)シン
ナモイロキシエタン、 1−メタクロイロキシ−2−(4−n−ブチル)シンナ
モイロキシエタン、 ■−メタクロイロキシー2−(4−イソブチル)シンナ
モイロキシエタン、 ■−アクリロキシー2−(4−メチル)シンナンナモイ
ロキシエタン、 1−メタクロイロキシ−3−(4−メチル)シンナモイ
ロキシプロパン、 1−メタクロイロキシ−4−(4−イソプロピル)シン
ナモイロキシブタン、 1−アクリロキシ−2−シンナモイロキシエタン、 ■−メタクロイロキシー2−シンナモイロキシエタン、 1−(α−エチル)アクリロキシ−2−シンナモイロキ
シエタン、 1−(α−プロピル)アクリロキシ−2−シンナモイロ
キシエタン、 1−アクリロキシ−2−(4−メトキシ)シンナモイロ
キシエタン、 1−アクリロキシ−2−(4−エトキシ)シンナモイロ
キシエタン、 l−アクリロキシ−2−(4−プロポキシ)シンナモイ
ロキシエタン、 1−メタクロイロキシ−2−(4−メトキシ)シンナモ
イロキシエタン、 1−メタクロイロキシ−2−(4−エトキシ)シンナモ
イロキシエタン、 1−メタクロイロキシ−2−(4−プロポキシ)シンナ
モイロキシエタン、 1−(α−エチル)アクリロキシ−2−シンナモイロキ
シエタン、 1−(α−エチル)アクリロキシ−2−(4−メトキシ
)シンナモイロキシエタン、 1−(α−エチル)アクリロキシ−2−(4−エトキシ
)シンナモイロキシエタン、 l−アクリロキシ−3−シンナモイロキシプロパン、 ■−メタクロイロキシー3−シンナモイロキシプロパン
、 1−(α−エチル)アクリロキシ−3−シンナモイロキ
シプロパン、 1−(α−プロピル)アクリロキシ−3−シンナモイロ
キシプロパン、 1−アクリロキシ−3−(4−メトキシ)シンナモイロ
キシプロパン、 1−メタクロイロキシ−4−シンナモイロキシブタン、 1−メタクロイロキシ−4−(4−エトキシ)シンナモ
イロキシブタン、 1−(α−エチル)アクロキシ−4−(4−プロポキシ
)シンナモイロキシブタン、 1−(α−ブチル)アクリロキシ−4−(4−ブトキシ
)シンナモイロキシブタン、 等が挙げられる。
クロイロキシ−2−(4−メチル)シンナモイロキシエ
タン、 1−メタクロイロキシ−2−(4−エチル)シンナモイ
ロキシエタン、 l−メタクロイロキシ−2(4−n−プロピル)シンナ
モイロキシエタン、 1−メタクロイロキシ−2−(4−イソプロピル)シン
ナモイロキシエタン、 1−メタクロイロキシ−2−(4−n−ブチル)シンナ
モイロキシエタン、 ■−メタクロイロキシー2−(4−イソブチル)シンナ
モイロキシエタン、 ■−アクリロキシー2−(4−メチル)シンナンナモイ
ロキシエタン、 1−メタクロイロキシ−3−(4−メチル)シンナモイ
ロキシプロパン、 1−メタクロイロキシ−4−(4−イソプロピル)シン
ナモイロキシブタン、 1−アクリロキシ−2−シンナモイロキシエタン、 ■−メタクロイロキシー2−シンナモイロキシエタン、 1−(α−エチル)アクリロキシ−2−シンナモイロキ
シエタン、 1−(α−プロピル)アクリロキシ−2−シンナモイロ
キシエタン、 1−アクリロキシ−2−(4−メトキシ)シンナモイロ
キシエタン、 1−アクリロキシ−2−(4−エトキシ)シンナモイロ
キシエタン、 l−アクリロキシ−2−(4−プロポキシ)シンナモイ
ロキシエタン、 1−メタクロイロキシ−2−(4−メトキシ)シンナモ
イロキシエタン、 1−メタクロイロキシ−2−(4−エトキシ)シンナモ
イロキシエタン、 1−メタクロイロキシ−2−(4−プロポキシ)シンナ
モイロキシエタン、 1−(α−エチル)アクリロキシ−2−シンナモイロキ
シエタン、 1−(α−エチル)アクリロキシ−2−(4−メトキシ
)シンナモイロキシエタン、 1−(α−エチル)アクリロキシ−2−(4−エトキシ
)シンナモイロキシエタン、 l−アクリロキシ−3−シンナモイロキシプロパン、 ■−メタクロイロキシー3−シンナモイロキシプロパン
、 1−(α−エチル)アクリロキシ−3−シンナモイロキ
シプロパン、 1−(α−プロピル)アクリロキシ−3−シンナモイロ
キシプロパン、 1−アクリロキシ−3−(4−メトキシ)シンナモイロ
キシプロパン、 1−メタクロイロキシ−4−シンナモイロキシブタン、 1−メタクロイロキシ−4−(4−エトキシ)シンナモ
イロキシブタン、 1−(α−エチル)アクロキシ−4−(4−プロポキシ
)シンナモイロキシブタン、 1−(α−ブチル)アクリロキシ−4−(4−ブトキシ
)シンナモイロキシブタン、 等が挙げられる。
一般式(n)の重合性単量体としては、例えばアクリル
酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルア
クリル酸グリシジル、α−n−プロピルアクリル酸グリ
シジル、α−n−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリ
ル酸−3,4−エポキシブチル、メタクリル酸−3,4
−エポキシブチル、メタクリル1%t−4,5−エポキ
シペンチル、アクリル酸−6,7−ニポキシヘブチル、
メタクリル酸−6,7−エポキシへブチル、メタクリル
酸−6,7−ニポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸
−6,7−エポキシへブチル等が挙げられる。これらの
化合物のうち、一般式(n)においてR3が水素原子、
メチル基またはエチル基の場合が好ましく、またmの値
は1または2の場合が好ましい。
酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルア
クリル酸グリシジル、α−n−プロピルアクリル酸グリ
シジル、α−n−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリ
ル酸−3,4−エポキシブチル、メタクリル酸−3,4
−エポキシブチル、メタクリル1%t−4,5−エポキ
シペンチル、アクリル酸−6,7−ニポキシヘブチル、
メタクリル酸−6,7−エポキシへブチル、メタクリル
酸−6,7−ニポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸
−6,7−エポキシへブチル等が挙げられる。これらの
化合物のうち、一般式(n)においてR3が水素原子、
メチル基またはエチル基の場合が好ましく、またmの値
は1または2の場合が好ましい。
本発明の感光性樹脂を製造するに際して、一般式(1)
の重合性単量体と、一般式(II)の重合性単量体との
共重合比率は、(I)の共重合モル数/ ((1)の共
重合モル数十(II)の共重合モル数)X100=2〜
60であることが好ましく、特に好ましくは5〜40で
ある。一般式(I)の重合性単量体の共重合比率が小さ
いと感光性能が低下し、一般式(II)の重合性単量体
の共重合比率が小さいと塗膜の平滑性並びに光硬化した
場合の塗膜の密着性、耐熱性、耐溶剤性、耐染性および
硬度が低下するようになる。
の重合性単量体と、一般式(II)の重合性単量体との
共重合比率は、(I)の共重合モル数/ ((1)の共
重合モル数十(II)の共重合モル数)X100=2〜
60であることが好ましく、特に好ましくは5〜40で
ある。一般式(I)の重合性単量体の共重合比率が小さ
いと感光性能が低下し、一般式(II)の重合性単量体
の共重合比率が小さいと塗膜の平滑性並びに光硬化した
場合の塗膜の密着性、耐熱性、耐溶剤性、耐染性および
硬度が低下するようになる。
本発明の感光性樹脂の製造に際しては、感光性能が損な
われない限り、一般式(I)および(■)の重合性単量
体以外に、第3の単量体成分を共重合していてもよい。
われない限り、一般式(I)および(■)の重合性単量
体以外に、第3の単量体成分を共重合していてもよい。
第3の単量体成分としては、例えばアクリル酸メチル、
メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸
エチル、アクリル酸n−ブチル、メタクリル酸n−ブチ
ル、アクリル酸t−ブチル、メタクリル酸t−ブチル、
41アクリロイロキシカルコン 4 v−メタクロイロ
キシカルコン、41−アクリロイロキシ−(4−メトキ
シカルコン)、4′−メタクロイロキシ−(4−メトキ
シカルコン)等のアクリル酸またはメタクリル酸のエス
テル、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチ
レン、ビニルナフタリン等のビニル芳香族化合物が用い
られる。これらの第3の単量体成分は、1lll常、一
般式(I)および(II)の重合性単量体の合計量1モ
ルに対して0.2モル程度以下である。
メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸
エチル、アクリル酸n−ブチル、メタクリル酸n−ブチ
ル、アクリル酸t−ブチル、メタクリル酸t−ブチル、
41アクリロイロキシカルコン 4 v−メタクロイロ
キシカルコン、41−アクリロイロキシ−(4−メトキ
シカルコン)、4′−メタクロイロキシ−(4−メトキ
シカルコン)等のアクリル酸またはメタクリル酸のエス
テル、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチ
レン、ビニルナフタリン等のビニル芳香族化合物が用い
られる。これらの第3の単量体成分は、1lll常、一
般式(I)および(II)の重合性単量体の合計量1モ
ルに対して0.2モル程度以下である。
一般式(1)の重合性単量体と、一般式(II)の重合
性単量体との共重合形態は、特に制限されず、付加重合
によるランダム共重合、ブロック共重合等のいずれでも
よく、また共重合方法も溶液重合法、乳化重合法等のい
ずれでもよい。
性単量体との共重合形態は、特に制限されず、付加重合
によるランダム共重合、ブロック共重合等のいずれでも
よく、また共重合方法も溶液重合法、乳化重合法等のい
ずれでもよい。
次に、本発明の感光性樹脂の製造方法に関して、溶液重
合法を用いる場合について詳細に説明する。
合法を用いる場合について詳細に説明する。
溶液重合に使用する溶媒は、R量体および重合開始剤を
溶解し、かつ生成する感光性樹°脂を溶解し、また溶媒
自身が反応しないものであれば特に限定されるものでは
なく、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチル−
n−プロピルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチ
ル−n−ブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチ
ル−n −アミルケトン、メチル−n−へキシルケトン
、ジエチルケトン、エチル−n−ブチルケトン、ジ−n
−プロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン、ホロン等のケトン系溶媒、エチルエーテル、イソ
プロピルエーテル、n−ブチルエーテル、ジイソアミル
エーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチ
レングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ギ酸エチ
ル、ギ酸プロピル、ギ酸−n−ブチル、酢酸エチル、酢
酸−n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢M−n−ブチ
ル、酢酸−n−アミル、エチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコール七ツメチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート等のエステル系溶媒を挙げることがで
きる。これらの溶媒は単独で使用しても2種以上を混合
して使用してもよい。
溶解し、かつ生成する感光性樹°脂を溶解し、また溶媒
自身が反応しないものであれば特に限定されるものでは
なく、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチル−
n−プロピルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチ
ル−n−ブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチ
ル−n −アミルケトン、メチル−n−へキシルケトン
、ジエチルケトン、エチル−n−ブチルケトン、ジ−n
−プロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン、ホロン等のケトン系溶媒、エチルエーテル、イソ
プロピルエーテル、n−ブチルエーテル、ジイソアミル
エーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチ
レングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、ギ酸エチ
ル、ギ酸プロピル、ギ酸−n−ブチル、酢酸エチル、酢
酸−n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢M−n−ブチ
ル、酢酸−n−アミル、エチレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコール七ツメチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート等のエステル系溶媒を挙げることがで
きる。これらの溶媒は単独で使用しても2種以上を混合
して使用してもよい。
また溶液重合法において使用される重合触媒は特に限定
されるものではなく、例えばラジカル重合開始剤を用い
ることができる。ラジカル重合開始剤としては、2.2
′−7ゾビスイソブチロニトリル、2.2′−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2.2’−アゾ
ビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル
)、2゜2′−アゾビスイソ酪酸ジメチル、1.11−
アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2
.2′−アゾビス(2−アミジノプロパン)二塩酸塩等
のアゾ系化合物、ベンゾイルペルオキシド、ジクミルペ
ルオキシド、t−ブチルクミルペルオキシド、1.1−
ビス(t−ブチルペルオキシ)3.3.5−トリメチル
シクロヘキサン、2゜2−ビス(t−ブチルペルオキシ
)オクタン等のペルオキシ系化合物を例示することがで
きる。これらのラジカル重合開始剤を用いる場合の使用
量は、通常、重合に用いられる単量体の合計量1モルに
対してl/1000〜1/200モルであり、好ましく
は1/800〜1/300モルである。
されるものではなく、例えばラジカル重合開始剤を用い
ることができる。ラジカル重合開始剤としては、2.2
′−7ゾビスイソブチロニトリル、2.2′−アゾビス
(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2.2’−アゾ
ビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル
)、2゜2′−アゾビスイソ酪酸ジメチル、1.11−
アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2
.2′−アゾビス(2−アミジノプロパン)二塩酸塩等
のアゾ系化合物、ベンゾイルペルオキシド、ジクミルペ
ルオキシド、t−ブチルクミルペルオキシド、1.1−
ビス(t−ブチルペルオキシ)3.3.5−トリメチル
シクロヘキサン、2゜2−ビス(t−ブチルペルオキシ
)オクタン等のペルオキシ系化合物を例示することがで
きる。これらのラジカル重合開始剤を用いる場合の使用
量は、通常、重合に用いられる単量体の合計量1モルに
対してl/1000〜1/200モルであり、好ましく
は1/800〜1/300モルである。
使用量が少ないと重合収率が低下し、使用量が多すぎる
と分子量の感光性(樹脂の分子量が低下しやすくなる。
と分子量の感光性(樹脂の分子量が低下しやすくなる。
なおこれらの場合の重合温度は特に限定されるものでは
ないが、通常20〜120℃の範囲である。
ないが、通常20〜120℃の範囲である。
溶液重合法において使用する溶媒の量は、一般的には前
単量体に対して0.5〜4倍量(重量)であり、好まし
くは1〜3.5倍量(重量)である。
単量体に対して0.5〜4倍量(重量)であり、好まし
くは1〜3.5倍量(重量)である。
溶媒の使用量が065倍量未満の場合は、重合系の粘度
が高(なり撹拌効率が悪くなるのみでなく、性成する感
光性樹脂がゲル化しやすくなる。また溶媒の使用量が4
倍量を越えると、感光性の樹脂の分子量が低下しやすく
なる。
が高(なり撹拌効率が悪くなるのみでなく、性成する感
光性樹脂がゲル化しやすくなる。また溶媒の使用量が4
倍量を越えると、感光性の樹脂の分子量が低下しやすく
なる。
本発明により得られる感光性樹脂は、一般式(および一
般式(IV) (式中R1、R2、R3、nおよびmは前記の意味を有
する)で表わされる構造単位から主としてなる。
般式(IV) (式中R1、R2、R3、nおよびmは前記の意味を有
する)で表わされる構造単位から主としてなる。
本発明により得られる感光性樹脂の分子量は、ポリスチ
レン換算数平均分子量で50,000〜600.000
であることが好ましく、特に10o、ooo〜400,
000であることが好ましい、この数平均分子量が50
,000未満の場合には、感光性塗膜として紫外線照射
部を光架橋し、未照射部を溶剤により溶解してパターン
ニングする際に、分子量が小さいため、光架橋して溶剤
に不溶化するのにより大きな紫外線量を照射する必要が
あり、その結果、感光性能としての感度が悪化する。更
に、この場合は多量の紫外線を照射するため、ハレーシ
ョンによりパターンニング特性も悪化する。一方、数平
均分子量が600,000を超える場合には、感光性樹
脂の保存安定性が悪くなり、ゲル化しやすくなる。
レン換算数平均分子量で50,000〜600.000
であることが好ましく、特に10o、ooo〜400,
000であることが好ましい、この数平均分子量が50
,000未満の場合には、感光性塗膜として紫外線照射
部を光架橋し、未照射部を溶剤により溶解してパターン
ニングする際に、分子量が小さいため、光架橋して溶剤
に不溶化するのにより大きな紫外線量を照射する必要が
あり、その結果、感光性能としての感度が悪化する。更
に、この場合は多量の紫外線を照射するため、ハレーシ
ョンによりパターンニング特性も悪化する。一方、数平
均分子量が600,000を超える場合には、感光性樹
脂の保存安定性が悪くなり、ゲル化しやすくなる。
本発明により得られる感光性樹脂の分子量分散度には、
特に限定はないが、感光性能の1つであるパターンの解
像性の点からポリスチレン換算重量平均分子量/ポリス
チレン換算数平均分子量が5以下であることが好ましい
。
特に限定はないが、感光性能の1つであるパターンの解
像性の点からポリスチレン換算重量平均分子量/ポリス
チレン換算数平均分子量が5以下であることが好ましい
。
本発明により得られる感光性樹脂は、適当な溶媒に溶解
することにより感光性塗膜を形成するための感光性樹脂
溶液とすることができる。この際用いられる溶媒として
は、感光性樹脂を溶解し、かつこれと反応しないもので
あればよく、特に限定されない。例えばアセトン、メチ
ルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチル
イソプロピルケトン、メチル−n−ブチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、メチル−n−アミルケトン、メチ
ル−n−へキシルケトン、ジエチルケトン、エチル−n
−ブチルケトン、ジ−n−プロピルケトン、ジイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン、ホロン等のケトン系溶媒
、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、n−ブチル
エーテル、シ、イソアミルエーテル、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコール、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の
エーテル系溶媒、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸−n
−ブチル、酢酸エチル、酢酸−n−プロビル、酢酸イソ
プロピル、酢酸−n−ブチル、酢酸−n−アミル、エチ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステ
ル系溶媒が用いられる。感光性樹脂溶液の濃度は、特に
限定されず、使用目的に応じて適宜選択することができ
るが、通常5〜50ffift%である。
することにより感光性塗膜を形成するための感光性樹脂
溶液とすることができる。この際用いられる溶媒として
は、感光性樹脂を溶解し、かつこれと反応しないもので
あればよく、特に限定されない。例えばアセトン、メチ
ルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチル
イソプロピルケトン、メチル−n−ブチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、メチル−n−アミルケトン、メチ
ル−n−へキシルケトン、ジエチルケトン、エチル−n
−ブチルケトン、ジ−n−プロピルケトン、ジイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン、ホロン等のケトン系溶媒
、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、n−ブチル
エーテル、シ、イソアミルエーテル、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコール、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の
エーテル系溶媒、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸−n
−ブチル、酢酸エチル、酢酸−n−プロビル、酢酸イソ
プロピル、酢酸−n−ブチル、酢酸−n−アミル、エチ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステ
ル系溶媒が用いられる。感光性樹脂溶液の濃度は、特に
限定されず、使用目的に応じて適宜選択することができ
るが、通常5〜50ffift%である。
感光性樹脂の溶液を、基体表面に塗布する方法として、
例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法等が挙
げられる。
例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法等が挙
げられる。
これらの方法で塗布して得られる塗膜は、通常、50〜
100℃で10分間ないし1時間程度の熱処理を行ない
(ブレベーク)、溶媒を除去した後、ホトマスクを通じ
て例えば250〜400nmの紫外線を照射する。紫外
線照射量は、例えば波長254nmの紫外線で通常10
〜500mJ/cnlである。また塗膜の未照射部を溶
解除去して現像する際に用いられる溶媒は、未照射部が
溶出するものであればよく、通常、メチルエチルケトン
等の感光性樹脂に対する良溶媒と、イソプロピルアルコ
ール等の貧溶媒とを適当な割合で混合したものが使用さ
れる。またこのようにして現像された塗膜は、通常、膨
潤しているので、必要に応してリンスにより収縮させる
。リンス液としてはメチルイソブチルケトン等の貧溶媒
が使用される。
100℃で10分間ないし1時間程度の熱処理を行ない
(ブレベーク)、溶媒を除去した後、ホトマスクを通じ
て例えば250〜400nmの紫外線を照射する。紫外
線照射量は、例えば波長254nmの紫外線で通常10
〜500mJ/cnlである。また塗膜の未照射部を溶
解除去して現像する際に用いられる溶媒は、未照射部が
溶出するものであればよく、通常、メチルエチルケトン
等の感光性樹脂に対する良溶媒と、イソプロピルアルコ
ール等の貧溶媒とを適当な割合で混合したものが使用さ
れる。またこのようにして現像された塗膜は、通常、膨
潤しているので、必要に応してリンスにより収縮させる
。リンス液としてはメチルイソブチルケトン等の貧溶媒
が使用される。
次いでこのようにして得られる塗膜を、100〜200
℃で30分間ないし2時間熱処理(ポストベーク)する
ことにより、所望の形状の光硬化した塗膜を得ることが
できる。
℃で30分間ないし2時間熱処理(ポストベーク)する
ことにより、所望の形状の光硬化した塗膜を得ることが
できる。
以下、実施例により本発明の詳細な説明する。
なお本実施例におけるポリスチレン換算数平均分子量お
よびポリスチレン換算重量平均分子量は、ゲルパーミェ
ーションクロマトグラムを用い、下記の測定条件によっ
て求めたものである。
よびポリスチレン換算重量平均分子量は、ゲルパーミェ
ーションクロマトグラムを用い、下記の測定条件によっ
て求めたものである。
装置:米国ウォーターズ社製高温高速ゲルパーミェーシ
ョンクロマトグラム(モデル150− CA L C/
G P C) カラム:昭和電工■製5HODEX A−8M。
ョンクロマトグラム(モデル150− CA L C/
G P C) カラム:昭和電工■製5HODEX A−8M。
長さ50cI11
測定温度=40℃
流速: 1m11分
溶媒:テトラヒドロフラン
サンプル濃度:感光性樹脂(Ig)/テトラヒドロフラ
ン(100mj2) 標準ポリスチレン:米国プレッシャーケミカル社製標準
ポリスチレン 実施例1 攪拌装置、温度計、冷却用コンデンサおよび窒素ガス導
入口を備えた5 00 m 14の丸底フラスコ内を窒
素ガスで置換した後、このフラスコに脱気蒸留したジオ
キサン 343g(3,9モル)を加え、更にメタクリ
ル酸グリシジル 42.6g(0゜30モル)、■−メ
タクロイロキシー2−シンナモイロキシエタン 26.
0g(0,10モル)およびアゾビスイソブチロニトリ
ル 0.17g(0,001モル)を仕込んだ。
ン(100mj2) 標準ポリスチレン:米国プレッシャーケミカル社製標準
ポリスチレン 実施例1 攪拌装置、温度計、冷却用コンデンサおよび窒素ガス導
入口を備えた5 00 m 14の丸底フラスコ内を窒
素ガスで置換した後、このフラスコに脱気蒸留したジオ
キサン 343g(3,9モル)を加え、更にメタクリ
ル酸グリシジル 42.6g(0゜30モル)、■−メ
タクロイロキシー2−シンナモイロキシエタン 26.
0g(0,10モル)およびアゾビスイソブチロニトリ
ル 0.17g(0,001モル)を仕込んだ。
次いで反応溶液を攪拌しながら、50℃で18時間加熱
することにより共重合し、その後反応溶液を室温まで冷
却して21のメタノールで処理し、生成した共重合体を
凝固させた。凝固した共重合体を濾別した後、室温下に
おいて減圧乾燥して白色粉末状の共重合体28gを得た
。この共重合体の組成比を紫外線吸光度法で定量したと
ころ、グリシジルユニットとシンナモイルユニットとの
モル比は77 : 23であった。またこの共重合体の
ポリスチレン換算数平均分子量は、170,000であ
った。ポリスチレン換算重量平均分子量とポリスチレン
換算数平均分子量との比(MW/MN)は2.51であ
った。
することにより共重合し、その後反応溶液を室温まで冷
却して21のメタノールで処理し、生成した共重合体を
凝固させた。凝固した共重合体を濾別した後、室温下に
おいて減圧乾燥して白色粉末状の共重合体28gを得た
。この共重合体の組成比を紫外線吸光度法で定量したと
ころ、グリシジルユニットとシンナモイルユニットとの
モル比は77 : 23であった。またこの共重合体の
ポリスチレン換算数平均分子量は、170,000であ
った。ポリスチレン換算重量平均分子量とポリスチレン
換算数平均分子量との比(MW/MN)は2.51であ
った。
こうして得られた共重合体11gをエチルセロソルブア
セテ−)89.0gに溶解し、この溶液を孔径0.2μ
mのメンブランフィルタ−で加圧瀘過した後、スピンコ
ーターを用いてシリコンウェハー上に回転数2,400
rpmで回転塗布した。
セテ−)89.0gに溶解し、この溶液を孔径0.2μ
mのメンブランフィルタ−で加圧瀘過した後、スピンコ
ーターを用いてシリコンウェハー上に回転数2,400
rpmで回転塗布した。
得られた塗膜の表面は極めて滑らかであり、膜荒れは全
く見られなかった。これを150 ”cで30分間熱処
理した後、触針式膜厚計(ダンクテーラーホブソン社製
、クリステツブ)により測定した膜厚は、1.01μm
であった。
く見られなかった。これを150 ”cで30分間熱処
理した後、触針式膜厚計(ダンクテーラーホブソン社製
、クリステツブ)により測定した膜厚は、1.01μm
であった。
更に共重合体溶液をシリコンウェハー上に回転数2.4
0Orpmで回転塗布したものを、80℃の恒温槽中に
おいて10分間熱処理した後、ホトマスクを通じて、光
源として500Wのキセノン−水銀ランプを使用したキ
ャノン(株)#の露光451 (PLA−521F)を
用いて紫外線を照射した。これをメチルエチルケトンと
イソプロピルアルコールとの混合溶媒(M量比で4.5
:1)に、室温で1分間浸漬することよにより、未照射
部分を熔解して現像した後、メチルイソブチルケトンに
室温で1分間?fffiしてリンス処理し、ホトマスク
に忠実な所望の形状の塗膜を得た。これを更に150℃
の恒温槽中で1時間熱処理した。
0Orpmで回転塗布したものを、80℃の恒温槽中に
おいて10分間熱処理した後、ホトマスクを通じて、光
源として500Wのキセノン−水銀ランプを使用したキ
ャノン(株)#の露光451 (PLA−521F)を
用いて紫外線を照射した。これをメチルエチルケトンと
イソプロピルアルコールとの混合溶媒(M量比で4.5
:1)に、室温で1分間浸漬することよにより、未照射
部分を熔解して現像した後、メチルイソブチルケトンに
室温で1分間?fffiしてリンス処理し、ホトマスク
に忠実な所望の形状の塗膜を得た。これを更に150℃
の恒温槽中で1時間熱処理した。
この場合の紫外線照射時間の最適値(以下、最適露光時
間と称す)は4秒(波長が254nmの紫外線エネルギ
ー換算量で30mJ/cot)であった。なお最適露光
時間とは、紫外線照射量の不足によって現像後に光硬化
した塗膜が肌荒れ現象を生ぜず、かつ紫外線照射量の過
多によって解像度が低下することのない紫外線照射時間
を示すものである。
間と称す)は4秒(波長が254nmの紫外線エネルギ
ー換算量で30mJ/cot)であった。なお最適露光
時間とは、紫外線照射量の不足によって現像後に光硬化
した塗膜が肌荒れ現象を生ぜず、かつ紫外線照射量の過
多によって解像度が低下することのない紫外線照射時間
を示すものである。
このようにして作製した光硬化した塗膜について、以下
の試験を行なった。まず上記の方法で光硬化した塗膜を
形成したガラス板の吸収スペクトルを、塗膜を形成しな
い同様のガラス板を対照として測定した。波長350〜
800nmの全領域において光線透過率は95%以上で
あった。
の試験を行なった。まず上記の方法で光硬化した塗膜を
形成したガラス板の吸収スペクトルを、塗膜を形成しな
い同様のガラス板を対照として測定した。波長350〜
800nmの全領域において光線透過率は95%以上で
あった。
次にこのガラス板上で光硬化した塗膜の接着性を8周べ
るためにテープ剥離によるゴバン目試験(JIS K
−5400)を行なったが、剥離は全く認められなかっ
た。またこのガラス板を沸騰水中に入れて5時間放置し
た後、同様にしてゴバン目試験を行なったが、この場合
も剥離は全く見られなかった。また上記の塗膜つきのガ
ラス板をトルエン中に入れて5時間加熱還流した後、ゴ
バン目試験を行なったが、この場合も剥離は全く認めら
れなかった。
るためにテープ剥離によるゴバン目試験(JIS K
−5400)を行なったが、剥離は全く認められなかっ
た。またこのガラス板を沸騰水中に入れて5時間放置し
た後、同様にしてゴバン目試験を行なったが、この場合
も剥離は全く見られなかった。また上記の塗膜つきのガ
ラス板をトルエン中に入れて5時間加熱還流した後、ゴ
バン目試験を行なったが、この場合も剥離は全く認めら
れなかった。
また上記と同様にして作製した光硬化した塗膜を形成し
たガラス板を、200℃のギヤオープン中で200時間
熱処理し、塗膜の耐熱性を検討したところ、クランクの
発生は認められず、また吸収スペクトルの変化も認めら
れなかった。
たガラス板を、200℃のギヤオープン中で200時間
熱処理し、塗膜の耐熱性を検討したところ、クランクの
発生は認められず、また吸収スペクトルの変化も認めら
れなかった。
更に、上記と同様にして作製した光硬化した塗膜を形成
したガラス板にハロゲンランプ(岩崎電気■製のJCD
looV、650W/B)で10゜000ルツクスの光
を1,000時間照射し、塗膜の耐光性を検討したとこ
ろ、吸収スペクトルの変化は認められず、クランクの発
生も認められなかった。
したガラス板にハロゲンランプ(岩崎電気■製のJCD
looV、650W/B)で10゜000ルツクスの光
を1,000時間照射し、塗膜の耐光性を検討したとこ
ろ、吸収スペクトルの変化は認められず、クランクの発
生も認められなかった。
また上記と同様にして作成した光硬化した塗膜の鉛筆硬
度をJIS K−5400に準拠し測定したところ4
Bであった。
度をJIS K−5400に準拠し測定したところ4
Bであった。
次に上記と同様にして作製した光硬化した塗膜を形成し
たガラス板を、下記組成の染色浴中に入れ、100℃で
30分間放置した後、ガラス板を取出してよく水洗し乾
燥した後、塗膜の様子を目視で開ぺ、耐染性を検討した
ところ、クランクや膜荒れ等の異常は認められず、また
塗膜の光線透過率は、波長400〜800nmの範囲に
おいて95%以上であった。
たガラス板を、下記組成の染色浴中に入れ、100℃で
30分間放置した後、ガラス板を取出してよく水洗し乾
燥した後、塗膜の様子を目視で開ぺ、耐染性を検討した
ところ、クランクや膜荒れ等の異常は認められず、また
塗膜の光線透過率は、波長400〜800nmの範囲に
おいて95%以上であった。
(染色浴)
酸性染料(Kayanoj! Mtj!j!ingR
ed R3−125) 2g 氷酢酸 2g蒸留水
100gこれらの結果をまとめて第
1表に示す。
ed R3−125) 2g 氷酢酸 2g蒸留水
100gこれらの結果をまとめて第
1表に示す。
一方、シリコンウェハー上に市販のゼラチン水溶液(固
形分含量:20%)を回転塗布して得た塗膜を、150
℃の恒温槽中で1時間熱処理した。
形分含量:20%)を回転塗布して得た塗膜を、150
℃の恒温槽中で1時間熱処理した。
この時のゼラチン膜厚は1.52μmであった。更に上
記の共重合体溶液と同様のものを用い、上記と同様にし
て、回転塗布、熱処理、露光、現像、リンス、熱処理の
各処理を行なって、2層構造の塗膜を形成した。この塗
膜についてテープ剥離によるゴバン目試験を行なったと
ころ、剥離は全く認められなかった。
記の共重合体溶液と同様のものを用い、上記と同様にし
て、回転塗布、熱処理、露光、現像、リンス、熱処理の
各処理を行なって、2層構造の塗膜を形成した。この塗
膜についてテープ剥離によるゴバン目試験を行なったと
ころ、剥離は全く認められなかった。
実施例2
メタクリル酸グリシジルの代わりに、メタクリル酸−3
,4−エポキシブチル 53g(0,31モル)を用い
、その他は実施例1と同様にして共重合体を製造した。
,4−エポキシブチル 53g(0,31モル)を用い
、その他は実施例1と同様にして共重合体を製造した。
この共重合体のポリスチレン換算数平均分子量は、is
s、oooであり、MW/MNの値は2.45であった
。この共重合体の組成比を紫外線吸光度法で定量したと
ころ、シンナモイルユニットと3.4−エボキシプチル
ユニソトとのモル比は23ニア7であった。
s、oooであり、MW/MNの値は2.45であった
。この共重合体の組成比を紫外線吸光度法で定量したと
ころ、シンナモイルユニットと3.4−エボキシプチル
ユニソトとのモル比は23ニア7であった。
次いでこの共重合体11gを用いて、実施例1と同様に
処理して共重合体溶液を調製し、これを用いて実施例1
と同様にして膜厚1.0μmの塗膜を形成し、この塗膜
について実施例1と同様に種々の特性を調べた。その結
果を第1表に示す。
処理して共重合体溶液を調製し、これを用いて実施例1
と同様にして膜厚1.0μmの塗膜を形成し、この塗膜
について実施例1と同様に種々の特性を調べた。その結
果を第1表に示す。
実施例3
1−メタクロイロキシ−2−シンナモイロキシエタンの
代わりに、1−メタクロイロキシ−2−(4−メメトキ
シ)シンナモイロキシエタン 21g(0,072モル
)を用い、かつジオキサンの代わりに、テトラヒドロフ
ラン 320g(4,4モル)を用い、その他は実施例
1と同様にして共重合体を製造した。この共重合体のポ
リスチレン換算数平均分子量は、182,000であり
、MW/MNの値は2.23であった。この共重合体の
組成比を紫外線吸光度法で定量したところ、グリシジル
ユニットと4−メトキシシンナモイルユニットとのモル
比は82:18であった。
代わりに、1−メタクロイロキシ−2−(4−メメトキ
シ)シンナモイロキシエタン 21g(0,072モル
)を用い、かつジオキサンの代わりに、テトラヒドロフ
ラン 320g(4,4モル)を用い、その他は実施例
1と同様にして共重合体を製造した。この共重合体のポ
リスチレン換算数平均分子量は、182,000であり
、MW/MNの値は2.23であった。この共重合体の
組成比を紫外線吸光度法で定量したところ、グリシジル
ユニットと4−メトキシシンナモイルユニットとのモル
比は82:18であった。
次いでこの共重合体10gを用いて、実施例1と同様に
処理して共重合体溶液を調製し、これを用いて実施例1
と同様にして膜厚1.1μmの塗膜を形成し、この塗膜
について実施例1と同様に種々の特性を調べた。その結
果を第1表に示す。
処理して共重合体溶液を調製し、これを用いて実施例1
と同様にして膜厚1.1μmの塗膜を形成し、この塗膜
について実施例1と同様に種々の特性を調べた。その結
果を第1表に示す。
実施例4
攪拌装置、温度針、冷却用コンデンサおよび窒素ガス導
入口を備えた5 00mj!の丸底フラスコ内を窒素ガ
スで置換した後、このフラスコに脱気蒸留したエチルセ
ロソルブアセテート 300g(2,27モル)を加え
、更にメタクリル酸グリシジル 45g(0,32モル
)、メタクリル酸【−ブチル 10g(0,07モル)
、1−メタクロイロキシ−2−シンナモイロキシエタン
26g(0,1モル)およびアゾビスイソブチロニト
リル0.17 g (0,001モル)を仕込んだ。次
いで反応溶液を攪拌しながら、60℃で20時間加熱す
ることにより共重合し、その後反応溶液を室温まで冷却
して2Nのメタノールで処理し、生成した共重合体を凝
固させた。凝固した共重合体を濾別した後、室温下にお
いて減圧乾燥して白色粉末状の共重合体61gを得た。
入口を備えた5 00mj!の丸底フラスコ内を窒素ガ
スで置換した後、このフラスコに脱気蒸留したエチルセ
ロソルブアセテート 300g(2,27モル)を加え
、更にメタクリル酸グリシジル 45g(0,32モル
)、メタクリル酸【−ブチル 10g(0,07モル)
、1−メタクロイロキシ−2−シンナモイロキシエタン
26g(0,1モル)およびアゾビスイソブチロニト
リル0.17 g (0,001モル)を仕込んだ。次
いで反応溶液を攪拌しながら、60℃で20時間加熱す
ることにより共重合し、その後反応溶液を室温まで冷却
して2Nのメタノールで処理し、生成した共重合体を凝
固させた。凝固した共重合体を濾別した後、室温下にお
いて減圧乾燥して白色粉末状の共重合体61gを得た。
この共重合体の組成比を核磁気共鳴法および紫外線吸光
度法で定量したところ、グリシジルユニットとt−ブチ
ルエステルユニットとシンナモイルユニットとのモル比
は、63:14:23であった。またこの共重合体の換
算数平均分子量は、220,000であり、MW/MN
の値は2.35であった。
度法で定量したところ、グリシジルユニットとt−ブチ
ルエステルユニットとシンナモイルユニットとのモル比
は、63:14:23であった。またこの共重合体の換
算数平均分子量は、220,000であり、MW/MN
の値は2.35であった。
得られた共重合体11.5gを用いて、実施例1と同様
に処理して共重合体溶液を調製し、これを用いて実施例
1と同様にして膜厚0.95μmの塗膜を形成し、この
塗膜について実施例1と同様に種々の特性を調べた。そ
の結果を第1表に示す。
に処理して共重合体溶液を調製し、これを用いて実施例
1と同様にして膜厚0.95μmの塗膜を形成し、この
塗膜について実施例1と同様に種々の特性を調べた。そ
の結果を第1表に示す。
比較例1
メタクリル酸グリシジルの代わりに、メタクリル酸メチ
ル 32g(0,32モル)を用い、その他は実施例1
と同様にして、メタクリル酸メチルと1−メタクロイロ
キシ−2−シンナモイロキシエタンとの共重合体を製造
した。この共重合体のポリスチレン換算数平均分子量は
、140,000であり、MW/MNの値は3.0であ
った。
ル 32g(0,32モル)を用い、その他は実施例1
と同様にして、メタクリル酸メチルと1−メタクロイロ
キシ−2−シンナモイロキシエタンとの共重合体を製造
した。この共重合体のポリスチレン換算数平均分子量は
、140,000であり、MW/MNの値は3.0であ
った。
この共重合体の組成比を紫外線吸光度法で定量したとこ
ろ、メトキシカルボニルユニットとシンナモイルユニッ
トとの組成比は78 : 22であった。
ろ、メトキシカルボニルユニットとシンナモイルユニッ
トとの組成比は78 : 22であった。
次いでこの共重合体Logを用いて、実施例1と同様に
処理して共重合体溶液を稠製し、これを用いて実施例1
と同様にして膜厚0.85μmの塗膜を形成し、この塗
膜について実施例1と同様に種々の特性を調べた。その
結果を第1表に示す。
処理して共重合体溶液を稠製し、これを用いて実施例1
と同様にして膜厚0.85μmの塗膜を形成し、この塗
膜について実施例1と同様に種々の特性を調べた。その
結果を第1表に示す。
実施例5
実施例4におけるメタクリル酸t−ブチルにかえて、4
′−メタクロイロキシカルコン17g(0,06モル)
を用いたほかは他は実施例4と同様して、白色粉末状の
共重合体67gを得た。この共重合体の組成比を核磁気
共鳴法および紫外線吸光度法で定量したところ、グリシ
ジルユニットとカルコンユニットとシンナモイルユニッ
トとのモル比は64:12:24であった。またこの共
重合体のポリスチレン換算数平均分子量は250゜00
0であり、MW/MN値は2.3であった。この共重合
体10gをシクロヘキサノン90gに溶解し実施例1と
同様にして塗布溶液を1lil製し、この塗膜について
種々の特性を調べた。その結果を第1表に示す。
′−メタクロイロキシカルコン17g(0,06モル)
を用いたほかは他は実施例4と同様して、白色粉末状の
共重合体67gを得た。この共重合体の組成比を核磁気
共鳴法および紫外線吸光度法で定量したところ、グリシ
ジルユニットとカルコンユニットとシンナモイルユニッ
トとのモル比は64:12:24であった。またこの共
重合体のポリスチレン換算数平均分子量は250゜00
0であり、MW/MN値は2.3であった。この共重合
体10gをシクロヘキサノン90gに溶解し実施例1と
同様にして塗布溶液を1lil製し、この塗膜について
種々の特性を調べた。その結果を第1表に示す。
実施例6
実施例1におけるジオキサンにかえて、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル七ノアセテート340g(2,
58モル)を用いたほかは実施例1と同様にして共重合
体26gを得た。この共重合体の組成比を実施例1と同
様にして定量したところグリシジルユニットとシンナモ
イルユニットとのモル比は?7 : 23であった。ま
たこの共重合体のポリスチレン換算数平均分子量は18
0,000でありMW/MN比は2.40であった。こ
の共重合体を用い、実施例1と同様にして塗布溶液を調
製し、この塗膜について種々の特性を調べた。
ールモノエチルエーテル七ノアセテート340g(2,
58モル)を用いたほかは実施例1と同様にして共重合
体26gを得た。この共重合体の組成比を実施例1と同
様にして定量したところグリシジルユニットとシンナモ
イルユニットとのモル比は?7 : 23であった。ま
たこの共重合体のポリスチレン換算数平均分子量は18
0,000でありMW/MN比は2.40であった。こ
の共重合体を用い、実施例1と同様にして塗布溶液を調
製し、この塗膜について種々の特性を調べた。
その結果をまとめて第1表に示す。
実施例7
実施例1におけるアゾビスイソブチロニトリルにかえて
、ベンゾイルペルオキシド0.24g(0゜001モル
)を用いたほかは、実施例1と同様にして、白色粉末状
の共重合体22gを得た。この共重合体の組成比を実施
例1と同様にして定量したところ、グリシジルユニット
とシンナモイルユニットとのモル比は77:23であっ
た。またこの共重合体の共重合体のポリスチレンPA算
数平均分子量は180.000であり、MW/MN比は
2.50であった。この共重合体を用い、実施例1と同
様にして塗布溶液を調製し、この塗膜について種々の特
性を調べた。その結果をまとめて第1表に示す。
、ベンゾイルペルオキシド0.24g(0゜001モル
)を用いたほかは、実施例1と同様にして、白色粉末状
の共重合体22gを得た。この共重合体の組成比を実施
例1と同様にして定量したところ、グリシジルユニット
とシンナモイルユニットとのモル比は77:23であっ
た。またこの共重合体の共重合体のポリスチレンPA算
数平均分子量は180.000であり、MW/MN比は
2.50であった。この共重合体を用い、実施例1と同
様にして塗布溶液を調製し、この塗膜について種々の特
性を調べた。その結果をまとめて第1表に示す。
以下余白
゛ (発明の効果)
本発明により得られる感光性樹脂の塗膜は、優れた感光
性能を有し、また光硬化した塗膜は、紫外から可視の領
域にわたる広い範囲の波長域において高い光線透過率を
有して透明性に優れているほか、ガラス、金属、プラス
チック等の種々の材料からなる基体に対して優れた接着
性を示す。またこの塗膜は平滑、強靭で、耐光性および
耐熱性に優れており、長期にわたる使用によっても変色
などの変質を起こすこともなく、更に、耐水性、耐溶剤
性および耐染性にも優れたもので、かつ硬度の高いもの
である。このため本発明により得られる感光性樹脂を用
いて形成される塗膜は、各種物品の基体表面の保護塗膜
として有用であるのみならず、色分離フィルターの防染
保護層、表面保護層等としても極めて好適であり、色の
鮮明度や明るさに優れた信頼性の高い色分離フィルター
を得ることができる。
性能を有し、また光硬化した塗膜は、紫外から可視の領
域にわたる広い範囲の波長域において高い光線透過率を
有して透明性に優れているほか、ガラス、金属、プラス
チック等の種々の材料からなる基体に対して優れた接着
性を示す。またこの塗膜は平滑、強靭で、耐光性および
耐熱性に優れており、長期にわたる使用によっても変色
などの変質を起こすこともなく、更に、耐水性、耐溶剤
性および耐染性にも優れたもので、かつ硬度の高いもの
である。このため本発明により得られる感光性樹脂を用
いて形成される塗膜は、各種物品の基体表面の保護塗膜
として有用であるのみならず、色分離フィルターの防染
保護層、表面保護層等としても極めて好適であり、色の
鮮明度や明るさに優れた信頼性の高い色分離フィルター
を得ることができる。
Claims (1)
- (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1は水素原子または低級アルキル基、R^2
は水素原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基、
nは2〜5の整数を意味する)で表わされる重合性単量
体と、一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中R^3は水素原子または低級アルキル基、mは1
〜5の整数を意味する)で表わされる重合性単量体とを
共重合することを特徴とする感光性樹脂の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20686584A JPS6185421A (ja) | 1984-10-02 | 1984-10-02 | 感光性樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20686584A JPS6185421A (ja) | 1984-10-02 | 1984-10-02 | 感光性樹脂の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6185421A true JPS6185421A (ja) | 1986-05-01 |
| JPH0371446B2 JPH0371446B2 (ja) | 1991-11-13 |
Family
ID=16530316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20686584A Granted JPS6185421A (ja) | 1984-10-02 | 1984-10-02 | 感光性樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6185421A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS626254A (ja) * | 1985-07-02 | 1987-01-13 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
| WO2007055134A1 (ja) * | 2005-11-10 | 2007-05-18 | Nec Corporation | 光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路、及び光導波路の製造方法 |
| JP2017016116A (ja) * | 2015-06-30 | 2017-01-19 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜および液晶表示装置 |
| CN108473609A (zh) * | 2016-03-31 | 2018-08-31 | 株式会社艾迪科 | 感光性组合物及新型化合物 |
-
1984
- 1984-10-02 JP JP20686584A patent/JPS6185421A/ja active Granted
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS626254A (ja) * | 1985-07-02 | 1987-01-13 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
| WO2007055134A1 (ja) * | 2005-11-10 | 2007-05-18 | Nec Corporation | 光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路、及び光導波路の製造方法 |
| US7847017B2 (en) | 2005-11-10 | 2010-12-07 | Nec Corporation | Photosensitive resin composition for optical waveguide formation, optical waveguide and method for producing optical waveguide |
| JP5176546B2 (ja) * | 2005-11-10 | 2013-04-03 | 日本電気株式会社 | 光導波路形成用感光性樹脂組成物、光導波路、及び光導波路の製造方法 |
| US8414733B2 (en) | 2005-11-10 | 2013-04-09 | Nec Corporation | Photosensitive resin composition for optical waveguide formation, optical waveguide and method for producing optical waveguide |
| JP2017016116A (ja) * | 2015-06-30 | 2017-01-19 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜および液晶表示装置 |
| CN108473609A (zh) * | 2016-03-31 | 2018-08-31 | 株式会社艾迪科 | 感光性组合物及新型化合物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0371446B2 (ja) | 1991-11-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |