JPS6186427A - 低融点ガラス粉末の製造方法 - Google Patents
低融点ガラス粉末の製造方法Info
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- JPS6186427A JPS6186427A JP20716984A JP20716984A JPS6186427A JP S6186427 A JPS6186427 A JP S6186427A JP 20716984 A JP20716984 A JP 20716984A JP 20716984 A JP20716984 A JP 20716984A JP S6186427 A JPS6186427 A JP S6186427A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- melting point
- low melting
- glass
- alkoxide
- low
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、セラミック粉体の焼結助剤又は易焼結性粉末
としてセラミック原料の低温焼結を実現するに適する低
融点ガラスの製造方法に関する。
としてセラミック原料の低温焼結を実現するに適する低
融点ガラスの製造方法に関する。
更に詳しくは電子材料として有用なフェライト、チタン
酸バリウム等の超微粒子のセラミック原料と複合化し得
る低融点ガラスの製造方法に関するものである。
酸バリウム等の超微粒子のセラミック原料と複合化し得
る低融点ガラスの製造方法に関するものである。
[従来の技術]
従来、この種の100A程度の、til微粒子の電子セ
ラミック原料を高温により焼結体にすると、焼結過程で
超微粒子が粒成長して出発原料時の超微粒子の特性を十
分に生かすことができないため、低融点ガラスを用いた
低温焼結が行われている。
ラミック原料を高温により焼結体にすると、焼結過程で
超微粒子が粒成長して出発原料時の超微粒子の特性を十
分に生かすことができないため、低融点ガラスを用いた
低温焼結が行われている。
この低温焼結法はセラミック原料に低融点ガラスを添加
してセラミック原料と低融点ガラスを複合化する方法で
あるが、従来の方法はガラスの各成分酸化物を混合し融
解することにより予め低融点ガラスを作り、これを粉砕
した後、セラミック原料に添加し焼成する方法である。
してセラミック原料と低融点ガラスを複合化する方法で
あるが、従来の方法はガラスの各成分酸化物を混合し融
解することにより予め低融点ガラスを作り、これを粉砕
した後、セラミック原料に添加し焼成する方法である。
[発明が解決しようとする問題点]
しかし、上記従来の方法では、ガラスを調製するために
各酸化物を融解させるための高温の融解工程と、融解さ
せてできたガラスを粉砕する粉砕工程を要し、多くの時
間とエネルギーを費やす問題点があった。
各酸化物を融解させるための高温の融解工程と、融解さ
せてできたガラスを粉砕する粉砕工程を要し、多くの時
間とエネルギーを費やす問題点があった。
本発明の目的は融解及び粉砕工程を要することなく*微
粒子のセラミック原料とその原料特性を失うことなく複
合化し得る低融点ガラスの製造力n、を提供することに
ある。
粒子のセラミック原料とその原料特性を失うことなく複
合化し得る低融点ガラスの製造力n、を提供することに
ある。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、少なくとも鉛アルコキシドPb(OR)2を
含む3種のアルコキシドを混合して反応させ、この反応
生成物を加水分解して酸化鉛Pbo成分を含む低融点ガ
ラスを製造する方法である。
含む3種のアルコキシドを混合して反応させ、この反応
生成物を加水分解して酸化鉛Pbo成分を含む低融点ガ
ラスを製造する方法である。
本明細書で「アルコキシド」とはアルコールのOH基の
水素元素を金属元素、テルル又は硼素で置換した化合物
をいい、「ガラス」とは無機酸化物の非晶質固体をいう
。
水素元素を金属元素、テルル又は硼素で置換した化合物
をいい、「ガラス」とは無機酸化物の非晶質固体をいう
。
本発明の出発原料は、鉛アルコキシドを含む3種のアル
コキシドであって、鉛アルコキシドPb(OR)z以外
のアルコキシドとしては、ゲルマニウムアルコキシドG
e(OR)+ 、硼素アルコキシドB(OR)x、テル
ルアルコキシドTe(OR)4.バリウムアルコキシド
Ba (OR) 2がある。本発明は鉛アルコキシドの
外に、上記アルコキシドの中から2種のアルコキシドを
選定して組合せた3種のアルコキシドを出発原料とする
。代表的な組合せとして、■Pb(OR)z とGe
(OR)4 とB(ORh(匂Pb(OR)z とT
e(OR)4 どB(OR)3+JPb(OR)2
とTe(OR)4 とHa(OR)2の3つがある。
コキシドであって、鉛アルコキシドPb(OR)z以外
のアルコキシドとしては、ゲルマニウムアルコキシドG
e(OR)+ 、硼素アルコキシドB(OR)x、テル
ルアルコキシドTe(OR)4.バリウムアルコキシド
Ba (OR) 2がある。本発明は鉛アルコキシドの
外に、上記アルコキシドの中から2種のアルコキシドを
選定して組合せた3種のアルコキシドを出発原料とする
。代表的な組合せとして、■Pb(OR)z とGe
(OR)4 とB(ORh(匂Pb(OR)z とT
e(OR)4 どB(OR)3+JPb(OR)2
とTe(OR)4 とHa(OR)2の3つがある。
」二記組合せの各々の成分アルコキシドを所望の組成に
混合して反応させる。この場合混合及び反応は有機溶媒
中で行うことが好ましい。これは混合の便宜を図り反応
を促進させるとともに後述の加水分解により生じる沈殿
物の組成を混合した組成に一致させるためである。この
有機溶媒としては、ベンゼン、アルコール、トルエン、
キシレン等が適当であるが、溶解度が高いことからベン
ゼンが最適である。反応温度が各成分アルコキシドが分
解する温度未満であれば差支えないが、取扱いの便宜の
ために0〜100°C1特に望ましい温度は40〜10
0℃である。
混合して反応させる。この場合混合及び反応は有機溶媒
中で行うことが好ましい。これは混合の便宜を図り反応
を促進させるとともに後述の加水分解により生じる沈殿
物の組成を混合した組成に一致させるためである。この
有機溶媒としては、ベンゼン、アルコール、トルエン、
キシレン等が適当であるが、溶解度が高いことからベン
ゼンが最適である。反応温度が各成分アルコキシドが分
解する温度未満であれば差支えないが、取扱いの便宜の
ために0〜100°C1特に望ましい温度は40〜10
0℃である。
E記混合及び反応により生成された反応生成物の加水分
解は、反応溶液中に脱炭酸した蒸留水を直接加えること
により行うことができる以外に、加圧容器から吹出す水
蒸気に反応生成物を接触させる方法でも行うことができ
る。この加水分解のための反応温度は、加圧しない状態
では、各成分アルコキシドが分解せずしかも取扱いの容
易な0〜100℃の範囲、特に望ましい温度は25〜1
00℃である。加圧して行う場合、或いは水蒸気流に接
触させる方法では100〜200 ’0が適当である。
解は、反応溶液中に脱炭酸した蒸留水を直接加えること
により行うことができる以外に、加圧容器から吹出す水
蒸気に反応生成物を接触させる方法でも行うことができ
る。この加水分解のための反応温度は、加圧しない状態
では、各成分アルコキシドが分解せずしかも取扱いの容
易な0〜100℃の範囲、特に望ましい温度は25〜1
00℃である。加圧して行う場合、或いは水蒸気流に接
触させる方法では100〜200 ’0が適当である。
この加水分解により粉末状の沈殿物が生成する。この沈
殿物を遠心分離ヌは濾過により加水分解液から分離し、
必要により真空乾燥等の乾燥を行えば、粉末状の低融点
ガラスが得られる。
殿物を遠心分離ヌは濾過により加水分解液から分離し、
必要により真空乾燥等の乾燥を行えば、粉末状の低融点
ガラスが得られる。
上記反応により得られた沈殿物が低融点ガラスであるこ
との確認は、沈殿物のX線回折、熱分析及び電子顕微鏡
観察により行われ、成分アルコキシドのいずれの組成に
おいても沈殿物はX線回折から非晶質であり、また沈殿
物を熱処理しても融点に達するまでの過程で一切結晶化
は起こらず、沈殿物は低融点ガラスを形成する。
との確認は、沈殿物のX線回折、熱分析及び電子顕微鏡
観察により行われ、成分アルコキシドのいずれの組成に
おいても沈殿物はX線回折から非晶質であり、また沈殿
物を熱処理しても融点に達するまでの過程で一切結晶化
は起こらず、沈殿物は低融点ガラスを形成する。
得られた低融点ガラス粉末はフェライト、チタン酸バリ
ウム等のセラミック微粉体に添加混合してセラミンク原
料の低温焼結を実現することができる。
ウム等のセラミック微粉体に添加混合してセラミンク原
料の低温焼結を実現することができる。
また本発明の低融点ガラスの製造をアルコキシドの加水
分解法によるセラミック粉体の製造と同浴で行えば、こ
の加水分解生成物を直接低温焼結することもできる。
分解法によるセラミック粉体の製造と同浴で行えば、こ
の加水分解生成物を直接低温焼結することもできる。
[発明の効果]
以上述べたように、本発明の製造方法によれば、従来の
ように融解工程及び粉砕工程を経ることなく、短時間で
かつ少ないエネルギーで低融点ガラスを製造することが
でき、セラミック原料とその原料特性を失うことなく複
合化し得る低融点ガラスが得られる。
ように融解工程及び粉砕工程を経ることなく、短時間で
かつ少ないエネルギーで低融点ガラスを製造することが
でき、セラミック原料とその原料特性を失うことなく複
合化し得る低融点ガラスが得られる。
[実施例]
次に本発明の具体的7E様を示すために、本発明を実施
例により更に詳しく説明するが、以下に示す例はあくま
でも一例であって、これにより本発明の技術的範囲を限
定するものではない。
例により更に詳しく説明するが、以下に示す例はあくま
でも一例であって、これにより本発明の技術的範囲を限
定するものではない。
〈実施例1〉
鉛ターシャリブトキシドPb(OBut) 2とケルマ
ニウムイソブロボキシドGe(OPr’)4と硼素エト
キシF’B(OEthの3種のアルコキシドを種々の組
成比で混合し、ベンゼン溶媒とともに80°Cで還流し
ながら反応させた。
ニウムイソブロボキシドGe(OPr’)4と硼素エト
キシF’B(OEthの3種のアルコキシドを種々の組
成比で混合し、ベンゼン溶媒とともに80°Cで還流し
ながら反応させた。
この反応生成物を脱炭酸した蒸留水を少量ずつ滴下して
s o ’cで加水分解したところ、粉状の沈殿物が生
成した。この加水分解生成物である沈殿物を遠心分離に
より加水分解液から分離洗浄した後、70℃で12時間
真空乾燥して粉体を得た。
s o ’cで加水分解したところ、粉状の沈殿物が生
成した。この加水分解生成物である沈殿物を遠心分離に
より加水分解液から分離洗浄した後、70℃で12時間
真空乾燥して粉体を得た。
この粉体を 100℃〜1000℃の温度範囲で段階的
に熱処理し、X線回折によ先1融点に至るまでの結晶化
の有無を調べ、熱分析により融点を調べた。
に熱処理し、X線回折によ先1融点に至るまでの結晶化
の有無を調べ、熱分析により融点を調べた。
その結果を第1図に示す。
X線回折及び熱分析の結果、粉体はいずれの組成におい
てもPbO−Ge02− BOts系の非晶質固体であ
り、融点に至る熱処理によっても結晶化は起こらなかっ
た。また第1図からGe0tの量が増加するに従って融
点が次第に高くなり、逆にPbOの量が増加するに従っ
て融点が次第に低下し、これにBCh、sが加わったあ
る組成で、一層融点が下がることが判明した。第1図の
Δ印、・印、O印を付した各組成比でそれぞれ700℃
、600℃、500℃の低融点ガラスが形成された。
てもPbO−Ge02− BOts系の非晶質固体であ
り、融点に至る熱処理によっても結晶化は起こらなかっ
た。また第1図からGe0tの量が増加するに従って融
点が次第に高くなり、逆にPbOの量が増加するに従っ
て融点が次第に低下し、これにBCh、sが加わったあ
る組成で、一層融点が下がることが判明した。第1図の
Δ印、・印、O印を付した各組成比でそれぞれ700℃
、600℃、500℃の低融点ガラスが形成された。
〈実施例2〉
鉛ターシャリブトキシドPb(OBut) 2とテルル
イソプロポキシドTe(OPr’) 4と硼素エトキシ
ドB(OEt) zの3種のアルコキシドを種々の組成
比で混合し、実施例1と同様に加熱還流して反応させた
後、加水分解し、粉体を得た。
イソプロポキシドTe(OPr’) 4と硼素エトキシ
ドB(OEt) zの3種のアルコキシドを種々の組成
比で混合し、実施例1と同様に加熱還流して反応させた
後、加水分解し、粉体を得た。
この粉体を実施例1と同様にX線回折、熱分析した。そ
の結果を第2図に示す。
の結果を第2図に示す。
X線回折及び熱分析の結果、粉体はいずれの組成におい
ても PbOTe0z −BO1J系の非晶質固体であ
り、融点に至る熱処理によっても結晶化は起こらなかっ
た。また第2図からこの系では実施例1の系はど各々の
組成による差がなく、PbOの量が増加すると、融点が
高くなり、またTen2の量が増加するに従って融点が
低下する傾向が見られたが、全体的に融点が低いことが
判明した。第2図の・印、O印、O印を付した各組成比
でそれぞれ800℃、500℃、450℃の低融点ガラ
スが形成された。
ても PbOTe0z −BO1J系の非晶質固体であ
り、融点に至る熱処理によっても結晶化は起こらなかっ
た。また第2図からこの系では実施例1の系はど各々の
組成による差がなく、PbOの量が増加すると、融点が
高くなり、またTen2の量が増加するに従って融点が
低下する傾向が見られたが、全体的に融点が低いことが
判明した。第2図の・印、O印、O印を付した各組成比
でそれぞれ800℃、500℃、450℃の低融点ガラ
スが形成された。
〈実施例3〉
鉛ターシャリブトキシドPb(OBut) 2とテルル
イソプロポキシドTe(OPr’)4とバリウムイソプ
ロポキシドBa(OPr’)2の3種のアルコキシドを
種々の組成比で混合し、実施例1と同様に加熱還流して
反応させた後、加水分解し粉体を得た。
イソプロポキシドTe(OPr’)4とバリウムイソプ
ロポキシドBa(OPr’)2の3種のアルコキシドを
種々の組成比で混合し、実施例1と同様に加熱還流して
反応させた後、加水分解し粉体を得た。
この粉体を実施例1と同様にX線回折、熱分析した。そ
の結果を第3図に示す。
の結果を第3図に示す。
X線回折及び熱分析の結果、粉体はいずれの組成におい
ても、PbO−TeO2−BaO系の非晶質固体であり
、融点に至る熱処理によっても結晶化は起こらなかった
。
ても、PbO−TeO2−BaO系の非晶質固体であり
、融点に至る熱処理によっても結晶化は起こらなかった
。
また第3図からこの系では実施例2の系に比べ、低温で
融解する範囲が狭かった。BaOの量を増加すると融点
はLかり、TeO2の量を増加すると融点は低下する傾
向が見られた。第3図の0印、■印を付した各組成比で
それぞれ500℃、400℃の低融点ガラスが形成され
た。
融解する範囲が狭かった。BaOの量を増加すると融点
はLかり、TeO2の量を増加すると融点は低下する傾
向が見られた。第3図の0印、■印を付した各組成比で
それぞれ500℃、400℃の低融点ガラスが形成され
た。
第1図は本発明実施例1のPbOGe02BO1,s系
ガラスの融点を示す図。 第2図は本発明実施例2 (7) PbO−Tent
−BOhs系ガラスの融点を示す図。 第3図は本発明実施例3 c7) pbo −Ten2
BaO系ガラスの融点を示す図。
ガラスの融点を示す図。 第2図は本発明実施例2 (7) PbO−Tent
−BOhs系ガラスの融点を示す図。 第3図は本発明実施例3 c7) pbo −Ten2
BaO系ガラスの融点を示す図。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)少なくとも鉛アルコキシドを含む3種のアルコキシ
ドを混合して反応させる混合反応工程と、この反応生成
物を加水分解して酸化鉛成分を含む低融点ガラスを得る
加水分解工程と を含む低融点ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20716984A JPS6186427A (ja) | 1984-10-04 | 1984-10-04 | 低融点ガラス粉末の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20716984A JPS6186427A (ja) | 1984-10-04 | 1984-10-04 | 低融点ガラス粉末の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6186427A true JPS6186427A (ja) | 1986-05-01 |
| JPH039042B2 JPH039042B2 (ja) | 1991-02-07 |
Family
ID=16535371
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20716984A Granted JPS6186427A (ja) | 1984-10-04 | 1984-10-04 | 低融点ガラス粉末の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6186427A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61270224A (ja) * | 1985-05-22 | 1986-11-29 | Res Dev Corp Of Japan | 酸化鉛を含む低融点ガラスの製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58135150A (ja) * | 1982-02-08 | 1983-08-11 | Hitachi Ltd | 光学ガラスの製造方法 |
-
1984
- 1984-10-04 JP JP20716984A patent/JPS6186427A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58135150A (ja) * | 1982-02-08 | 1983-08-11 | Hitachi Ltd | 光学ガラスの製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61270224A (ja) * | 1985-05-22 | 1986-11-29 | Res Dev Corp Of Japan | 酸化鉛を含む低融点ガラスの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH039042B2 (ja) | 1991-02-07 |
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