JPS6187801A - 微細金属粒の磨砕、洗浄方法 - Google Patents
微細金属粒の磨砕、洗浄方法Info
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- JPS6187801A JPS6187801A JP58175532A JP17553283A JPS6187801A JP S6187801 A JPS6187801 A JP S6187801A JP 58175532 A JP58175532 A JP 58175532A JP 17553283 A JP17553283 A JP 17553283A JP S6187801 A JPS6187801 A JP S6187801A
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
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- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は表面が酸化物その他の不純物層で覆われた微細
金属粒の磨砕、洗浄方法に関するものである。
金属粒の磨砕、洗浄方法に関するものである。
例えば各種のスラグ、ダストから回収された微細金属粒
やある期間放置されたショット等は、その表面に酸化物
その他が付着しているので該表面不純物層を除去する必
要がある。従来この種不純物層の除去方式としては、化
学的に表面層を溶出させる方法と物理的に磨砕する方法
とがあるが、前者は処理液の選択及び処理廃液の後処理
が煩雑であると共に化学的に処理された材料表面に対し
ての後処理にも問題が残されているし、後者は対象物が
1膿を下まわる如く微細となると殆んどの従来技術では
有効に付着表面層を除去出来ていないのが現状である。
やある期間放置されたショット等は、その表面に酸化物
その他が付着しているので該表面不純物層を除去する必
要がある。従来この種不純物層の除去方式としては、化
学的に表面層を溶出させる方法と物理的に磨砕する方法
とがあるが、前者は処理液の選択及び処理廃液の後処理
が煩雑であると共に化学的に処理された材料表面に対し
ての後処理にも問題が残されているし、後者は対象物が
1膿を下まわる如く微細となると殆んどの従来技術では
有効に付着表面層を除去出来ていないのが現状である。
本発明は上記現状を鑑み、非常に微細な対象物であって
も、その表面不純物層を十分に除去出来、かつその後引
続き磨砕によって剥離された該不純物層と金属製品とを
分別することが出来る方法を提供せんとするものであり
、その要旨は表面が酸化物やその他の不純物層で覆われ
た微細金属粒の磨砕、洗浄方法であって、該微細金属粒
を感磁性体製メディアと共に回転羽根を内蔵した円筒体
から成る収納容器内に装入せしめ、該微細金属粒とメデ
ィアとに対して収納容器上方から外的荷重を与え乍ら、
上記回転羽根を高速回転させ微細金属粒の表面の不純物
層を剥落させ、次いで上記外的荷重を取去り収納容器側
壁下部から洗浄液を送給し同上部開口部から溢流させ乍
ら回転羽根を緩慢回転させ洗浄をなすことを特徴とする
微細金属粒の磨砕、洗浄方法並びに収納容器底外側(下
側)に電磁石を配設しておき洗浄時に磁着力を作用せし
める方法である。
も、その表面不純物層を十分に除去出来、かつその後引
続き磨砕によって剥離された該不純物層と金属製品とを
分別することが出来る方法を提供せんとするものであり
、その要旨は表面が酸化物やその他の不純物層で覆われ
た微細金属粒の磨砕、洗浄方法であって、該微細金属粒
を感磁性体製メディアと共に回転羽根を内蔵した円筒体
から成る収納容器内に装入せしめ、該微細金属粒とメデ
ィアとに対して収納容器上方から外的荷重を与え乍ら、
上記回転羽根を高速回転させ微細金属粒の表面の不純物
層を剥落させ、次いで上記外的荷重を取去り収納容器側
壁下部から洗浄液を送給し同上部開口部から溢流させ乍
ら回転羽根を緩慢回転させ洗浄をなすことを特徴とする
微細金属粒の磨砕、洗浄方法並びに収納容器底外側(下
側)に電磁石を配設しておき洗浄時に磁着力を作用せし
める方法である。
以下図面を参酌し乍ら本発明方法を詳述する。
本発明で用いる装置としては、例えば第1図及び第2図
に示す様に、収納容器(1)には同容器内を遊嵌状に上
下動可能な落とし蓋(2)が設けられ、該落とし蓋は回
転縦軸(3)と連設されていると共にその下面には所要
数の板状回転羽根(4)、(4)・が取付けられている
、又上記収納容器(1)の内部には鋼球の如き感磁性体
製メディア(5)が多数装入され、かつ同収納容器(1
)の側壁下部には洗浄水供給口(6)が、又上部開口部
には溢流口(7)がそれぞれ設けられている。
に示す様に、収納容器(1)には同容器内を遊嵌状に上
下動可能な落とし蓋(2)が設けられ、該落とし蓋は回
転縦軸(3)と連設されていると共にその下面には所要
数の板状回転羽根(4)、(4)・が取付けられている
、又上記収納容器(1)の内部には鋼球の如き感磁性体
製メディア(5)が多数装入され、かつ同収納容器(1
)の側壁下部には洗浄水供給口(6)が、又上部開口部
には溢流口(7)がそれぞれ設けられている。
又別のタイプの装置では第3図に示す様に収納容器(1
)の底板外側(下側)には下位電磁石(8)が配設され
ている。
)の底板外側(下側)には下位電磁石(8)が配設され
ている。
本発明方法では、収納容器(1)内に原料としての微細
金属粒Mを装入し、落とし蓋(2)上から所要の加圧、
即ち、ある重量の物を載置する、あるいは別途加圧する
等の手段を採り乍ら回転縦軸(3)を高速で回転せしめ
る事により該微細金属粒Mは感磁性体製メディア(4)
の表面に磁着した状態で高速回転させられる。従って微
細金属粒Mのみを衝突させるよりも強力な衝突力をもっ
て微細金属同士が衝突し合う、即ち微細金属粒Mはそれ
に比し相当重量が大なるメディア(5)の表面に付着し
た状態で、しかも該メディア(5)は落とし蓋(2)を
介し互に強く押し合い動き難い状態とされているのに反
し高速で回動せしめられるので、メディア(5)の重量
とメディア(5)がそれら自体又は収納容器(1)の内
壁と強力に摩擦し乍ら回動することが相俟って微細金属
粒Mの表面に付着している酸化物等の表面付着層Fがよ
り良く剥落除去されるのである。なおこの磨砕の際に乾
式で行なってもよいし、水あるいは所要の油等を適当な
パルプ濃度となるべく介在させて行なう湿式を採用して
もそのいずれでもよい。
金属粒Mを装入し、落とし蓋(2)上から所要の加圧、
即ち、ある重量の物を載置する、あるいは別途加圧する
等の手段を採り乍ら回転縦軸(3)を高速で回転せしめ
る事により該微細金属粒Mは感磁性体製メディア(4)
の表面に磁着した状態で高速回転させられる。従って微
細金属粒Mのみを衝突させるよりも強力な衝突力をもっ
て微細金属同士が衝突し合う、即ち微細金属粒Mはそれ
に比し相当重量が大なるメディア(5)の表面に付着し
た状態で、しかも該メディア(5)は落とし蓋(2)を
介し互に強く押し合い動き難い状態とされているのに反
し高速で回動せしめられるので、メディア(5)の重量
とメディア(5)がそれら自体又は収納容器(1)の内
壁と強力に摩擦し乍ら回動することが相俟って微細金属
粒Mの表面に付着している酸化物等の表面付着層Fがよ
り良く剥落除去されるのである。なおこの磨砕の際に乾
式で行なってもよいし、水あるいは所要の油等を適当な
パルプ濃度となるべく介在させて行なう湿式を採用して
もそのいずれでもよい。
この様に回転縦軸(3)を通じ板状回転羽根 (4)。
(4)、・・・を高速回転させる磨砕工程が終れば、次
いで落とし蓋(2)の加圧力を無くし、側壁下部の洗浄
液供給口(6)から水又は所要の洗浄液を送給し、上部
の溢流口(7)から該洗浄液を溢流させ乍ら、板状回転
羽根(4)、(4)・・・・を緩やかに回転させると軽
量物たる剥落した付着層のみが溢流水と共に溢流し、重
量物たる微細金属粒は収納容器内に残留する。なおこの
際板状回転羽根(4) 、 (4) 、 −・・を緩慢
回転せしめると同時に、収納容器(1)の底板外側に配
設されている下位電磁石(8)に通電して励磁させれる
ことにより、磁着物たる微細金属粒Mは電磁石゛(8)
の吸着力を受けるので収納容器(1)の下方部に吸い寄
せられつつ、一方弁磁着物あるいは弱磁着物は電磁石(
8)の吸着力を受けないかあるいは弱くしか受けないの
でその軽、重重上に両者は区別され剥落付着物は下方か
ら上方へ流れる洗浄水と共に上方へ押し上げられ最終的
には上部の溢流口(7)から溢流される。
いで落とし蓋(2)の加圧力を無くし、側壁下部の洗浄
液供給口(6)から水又は所要の洗浄液を送給し、上部
の溢流口(7)から該洗浄液を溢流させ乍ら、板状回転
羽根(4)、(4)・・・・を緩やかに回転させると軽
量物たる剥落した付着層のみが溢流水と共に溢流し、重
量物たる微細金属粒は収納容器内に残留する。なおこの
際板状回転羽根(4) 、 (4) 、 −・・を緩慢
回転せしめると同時に、収納容器(1)の底板外側に配
設されている下位電磁石(8)に通電して励磁させれる
ことにより、磁着物たる微細金属粒Mは電磁石゛(8)
の吸着力を受けるので収納容器(1)の下方部に吸い寄
せられつつ、一方弁磁着物あるいは弱磁着物は電磁石(
8)の吸着力を受けないかあるいは弱くしか受けないの
でその軽、重重上に両者は区別され剥落付着物は下方か
ら上方へ流れる洗浄水と共に上方へ押し上げられ最終的
には上部の溢流口(7)から溢流される。
以下本発明方法を開発するに至った一連の実験並びにそ
の結果を述べる。
の結果を述べる。
この実験で用いた原料たる微細金属粒は、転炉ダストか
ら極微細部分を除去したもの(以下粗粒ダストという)
であって、その粒度分布を第1表に、又化学成分を第2
表にそれぞれ示す。
ら極微細部分を除去したもの(以下粗粒ダストという)
であって、その粒度分布を第1表に、又化学成分を第2
表にそれぞれ示す。
第2表
(重量%)
及び第2図に示す様な装置を用いて次の如き実験を行な
った。なお収納容器(1)の大きさは直径146胴、高
さ 225 mmであり、その中に61T1mfのメデ
ィアと上述の原料を6 kgと2kgずつ装入し、原料
のパルプ濃度を90%とし、回転羽根(4)の回転速度
を300rpmとし外的荷重を種々変化させて磨砕処理
を2分間行なった。
った。なお収納容器(1)の大きさは直径146胴、高
さ 225 mmであり、その中に61T1mfのメデ
ィアと上述の原料を6 kgと2kgずつ装入し、原料
のパルプ濃度を90%とし、回転羽根(4)の回転速度
を300rpmとし外的荷重を種々変化させて磨砕処理
を2分間行なった。
この様な磨砕処理を行なった後の原料を取出し、350
メツシユで篩分し、該篩上物を 300ガウスの磁選機
にかけ、該磁着物についてMFe品位とM4e回収率と
を求めた結果、MFe品位は9412%〜9636%で
あり、又MFe回収率は8973%〜8486%であっ
た。
メツシユで篩分し、該篩上物を 300ガウスの磁選機
にかけ、該磁着物についてMFe品位とM4e回収率と
を求めた結果、MFe品位は9412%〜9636%で
あり、又MFe回収率は8973%〜8486%であっ
た。
又上記磨砕処理を行なった後、原料をそのまま収納容器
(1)に入れたままの状態で、落とし蓋(2)の上部か
らの外的荷重をかけずに洗浄水量を8//min、とし
回転羽根(3)を200rpmの低速回転とし3分間洗
浄を行なった後、300ガウスの磁選機にかけ磁着物に
つきMFe品位とMFe回収率とを求めた結果上で述べ
た篩分磁選の場合に比べ、回転数を変えた場合もバルブ
濃度を変えた場合も[Fe品位では約15%の上昇、M
Fe回収率では約45%の低下が見られた。
(1)に入れたままの状態で、落とし蓋(2)の上部か
らの外的荷重をかけずに洗浄水量を8//min、とし
回転羽根(3)を200rpmの低速回転とし3分間洗
浄を行なった後、300ガウスの磁選機にかけ磁着物に
つきMFe品位とMFe回収率とを求めた結果上で述べ
た篩分磁選の場合に比べ、回転数を変えた場合もバルブ
濃度を変えた場合も[Fe品位では約15%の上昇、M
Fe回収率では約45%の低下が見られた。
又上記磨砕処理を行なった後、原料をそのまま収納容器
(1)内に入れたままの状態で、外的荷重を作用させ、
洗浄水量を8J/minとし回転羽根(4)を200r
pmの低速回転とし3分間洗浄を行なった後、300ガ
ウスの磁選機にかけ磁着物につきMF(品位とM、Fe
@収率とを求めた結果を下記第3表及び第4表に示す
結果を得た。
(1)内に入れたままの状態で、外的荷重を作用させ、
洗浄水量を8J/minとし回転羽根(4)を200r
pmの低速回転とし3分間洗浄を行なった後、300ガ
ウスの磁選機にかけ磁着物につきMF(品位とM、Fe
@収率とを求めた結果を下記第3表及び第4表に示す
結果を得た。
以上述へて来た如く、本発明方法によれば、従前の方法
では十分に磨砕する事が困難であった微細金属粒をメデ
ィアと共に衝突、研磨させ、しかもメディア及び原料に
対し、上述の如く外部荷重を与える事で一層磨砕効果が
増し、著しく短時間で処理が終了し、又その後の洗浄も
同一容器内で一環作業として行なえ、特に乙の洗浄時に
容器下方から磁着力を作用せしめる方法では第3表及び
第4表に示す如(M−Fe品位を殆んと低下させること
な(その収率を大きく向上せしめ得る効果がある。
では十分に磨砕する事が困難であった微細金属粒をメデ
ィアと共に衝突、研磨させ、しかもメディア及び原料に
対し、上述の如く外部荷重を与える事で一層磨砕効果が
増し、著しく短時間で処理が終了し、又その後の洗浄も
同一容器内で一環作業として行なえ、特に乙の洗浄時に
容器下方から磁着力を作用せしめる方法では第3表及び
第4表に示す如(M−Fe品位を殆んと低下させること
な(その収率を大きく向上せしめ得る効果がある。
第1図は本発明方法で用いる装置の一例を示す一部切欠
正面図、第2図は同平面図、第3図は他の例を示す一部
切欠斜視図。 図中、(1)収納容器 (2)落とし蓋 (3)゛回転縦軸 (4)板状回転羽根 (5)感磁性体メディア (6)゛洗浄水供給口 (7)・溢流口 (8)・電磁石
正面図、第2図は同平面図、第3図は他の例を示す一部
切欠斜視図。 図中、(1)収納容器 (2)落とし蓋 (3)゛回転縦軸 (4)板状回転羽根 (5)感磁性体メディア (6)゛洗浄水供給口 (7)・溢流口 (8)・電磁石
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、表面が酸化物やその他の不純物層で覆われた微細金
属粒の磨砕、洗浄方法であって、該微細金属粒を感磁性
体製メディアと共に回転羽根を内蔵した円筒体から成る
収納容器内に装入せしめ、該微細金属粒とメディアとに
対して収納容器上方から外的荷重を与え乍ら、上記回転
羽根を高速回転させ微細金属粒の表面の不純物層を剥落
させ、次いで上記外的荷重を取去り収納容器側壁下部か
ら洗浄液を送給し同上部開口部から溢流させ乍ら回転羽
根を緩慢回転させ洗浄をなすことを特徴とする微細金属
粒の磨砕、洗浄方法。 2、表面が酸化物やその他の不純物層で覆われた微細金
属粒の磨砕、洗浄方法であって、該微細金属粒を感磁性
体製メディアと共に回転羽根を内蔵した円筒体から成る
収納容器内に装灰せしめ、該微細金属粒とメディアとに
対して収納容器上方から外的荷重を与え乍ら、上記回転
羽根を高速回転させ微細金属粒の表面の不純物層を剥落
させ、次いで上記外的荷重を取去り収納容器側壁下部か
ら洗浄液を送給し同上部開口部から溢流させかつ収納容
器底外部から磁着力を作用せさめつつ回転羽根を緩慢回
転させ洗浄をなすことを特徴とする微細金属粒の磨砕、
洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58175532A JPS6187801A (ja) | 1983-09-22 | 1983-09-22 | 微細金属粒の磨砕、洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58175532A JPS6187801A (ja) | 1983-09-22 | 1983-09-22 | 微細金属粒の磨砕、洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6187801A true JPS6187801A (ja) | 1986-05-06 |
| JPH0114961B2 JPH0114961B2 (ja) | 1989-03-15 |
Family
ID=15997712
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58175532A Granted JPS6187801A (ja) | 1983-09-22 | 1983-09-22 | 微細金属粒の磨砕、洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6187801A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008156674A (ja) * | 2006-12-21 | 2008-07-10 | Ulvac Japan Ltd | 金属ナノ粒子のクリーニング方法 |
| JP2010189742A (ja) * | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Mitsubishi Electric Corp | 金属屑、金属屑の洗浄装置および金属屑の洗浄方法 |
| JP2014141693A (ja) * | 2013-01-22 | 2014-08-07 | Daido Electronics Co Ltd | スクラップ磁石の再生方法 |
-
1983
- 1983-09-22 JP JP58175532A patent/JPS6187801A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008156674A (ja) * | 2006-12-21 | 2008-07-10 | Ulvac Japan Ltd | 金属ナノ粒子のクリーニング方法 |
| JP2010189742A (ja) * | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Mitsubishi Electric Corp | 金属屑、金属屑の洗浄装置および金属屑の洗浄方法 |
| JP2014141693A (ja) * | 2013-01-22 | 2014-08-07 | Daido Electronics Co Ltd | スクラップ磁石の再生方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0114961B2 (ja) | 1989-03-15 |
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