JPS6188541A - 電気回路内の誤り位置確認方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光ビームによる電気回路内の誤り位置舘認の
ための方法であって、　電気回路内の少なくとも１つの
走査点が反復する電圧経過により駆動され、光ビームが
電気回路の少なくとも１つの走査点に向けられ、光ビー
ムが走査点ににおいて電荷キャリアの釈放により電気回
路の機能を擾乱し、各走査点ににおいて、この走査点を
駆動する電圧が変更または一定保持される方法に関し、
また電気回路内の誤り位置確認のための装置であって、
少なくとも１つの走査点を走査するための光ビームと、
電気回路を駆動するための装置と、電気回路の出力信号
を評価するだめの装置とを含んでいる装置に関する。

〔従来の技術〕

集積回路のエラーアナリシスでは、設計上の誤りに起因
するものと、製造上の欠陥に起因するものとが区別され
なければならない。電子ビーム測定技術は主として設計
最適化に用いられる。電子ビーム測定技術を用いて電子
部品における電位を測定するための方法および装置はた
とえば米国特許第４．２７７．６７９号明細書に記載さ
れている。電子ビーム測定技術は、設計上の誤りに起因
する誤りの位置ｆ確認の場合にくらべて、製造上の欠陥
に起因する誤りの位置確認用としてはあまり適していな
い。

集積回路の内部の誤りの位置確認のためには、いわゆる
”限界電圧検査”が用いられる（「マイクロエレクトロ
ニクスおよび信頼性（Ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ
ｓ　ａｎｄ　Ｒｅ１ｉａｂｉｌｉｔｙ）　Ｊ　、第２２
巻、第２号、第２４１〜２６４頁、１９８２年、英国）
。この誤り位置確認のための方法では、集積回路は電圧
パルスが周期的に繰り返す高周波電圧で駆動される。さ
らに、集積回路は集束されたレーザービームにより行ご
とに走査される。レーザービームが集積回路に衝突する
範囲内の電荷キャリアの釈放により、レーザービームは
集積回路の電気的機能を擾乱する。レーザービームが集
積回路の内部の設計上および（または）製造上の誤りを
有する１つの個所に衝突すると、レーザービームにより
惹起される擾乱が論理機能の喪失に通ずる。集積回路の
論理機能の喪失の確率は、集積回路に供給されている動
作電圧が低いほど高い。この理由から、公知の方法では
、レーザービームガ衝突する各走査点において集積回路
の動作電圧が、集積回路が機能不能に至るまで低くされ
る。従って、レーザービームが集積回路の内部の１つの
走査点に衝突している状態で集積回路がなおも機能を維
持する最小可能な動作電圧は、１つの走査点に見出され
た誤りの重度の１つの尺度である。このように動作電圧
を低くする際に集積回路がなおも機能を維持する最小可
能な動作電圧が高いほど、その走査点に見出された誤り
の重度は重い。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明の目的は、冒頭に記載した種類の方法および装置
であって、電気回路が所望の仕様を満足しない原因とな
っているウィークポイントの位置を確認し得る方法およ
び装置を提供することである。

〔問題点を解決するための手段〕

この目的は、本発明によれば、特許請求の範囲第１項に
記載の方法および同第１３項に記載の装置により達成さ
れる。本発明の実施！：、様および利点は特許請求の範
囲第２項ないし第１２項および第１４項ないし第２３項
ならびに以下の説明および図面に示されている。

集積回路は好ましくは、集束されたレーザービームによ
り走査される。集束されたレーザービームは走査点にお
ける集積回路の内部で電荷キャリヤを釈放し、これらの
電荷キャリヤが集積回路の電気的機能を擾乱する。本発
明によれば、１つの特定の仕様を満足するために臨界的
なパラメータが個々にまたは組み合わされて、レーザー
ビームが衝突する各走査点において、この走査点におい
て反復する電圧経過が少なくとも１回完全に通りｔ友け
られるように変調され、その際にこの反復する電圧経過
の通り抜けの間は臨界的パラメータは好ましくは実際上
変更されない。測定を加速し得るように、１つの臨界的
パラメータの変調は１つの特定の変調範囲にわたり可能
なかぎり迅速に行われるべきであろう。この理由から、
臨界的パラメータは反（双する電圧経過の１回の通り抜
けの間も変更され得る。ただし、この変更は、１つの特
定の走査点における誤りの重度が１つの臨界的パラメー
タの１つの特定の範囲に対応付けられ得るように小さい
変更でなければならない。１つのウィークポイントの位
置が十分に正確に確認され得るかぎり、１つの臨界的パ
ラメータが、または複数の臨界的パラメータが組み合わ
されて、全電圧経過の１回の通り抜けの間も変更され得
る。１つまたは複数の臨界的パラメータの変調の際に動
作電圧は一定保持または追加的に変更され得る。

誤り位置確認は、し・−ザービームが単一の走査点に向
けられ、またレーザービームがこの走査点の上に、１つ
の臨界的パラメータが、または複数の臨界的パラメータ
が組み合わされて、それぞれ１つの特定の変調範囲にわ
たり変更され終わるまで留められることにより行われ得
る。しかし、誤り位置確認は、 −臨界的パラメータがそれぞれ固定の値に対応付けられ
ており、 −次いでレーザービームにより集積回路がラスク走査さ
れ、 −次いで１つの臨界的パラメータが、または複数の臨界
的パラメータが組み合わされて、変更され、 −レーザービームにより新たに集り回路がラスク走査さ
れ、 −複数の臨界的パラメータの１つの特定の組み合わせに
おいて、または１つの特定の臨界的パラメータにおいて
、集積回路の誤機能が生し、またレーザービームにより
まさに走査されている走査点を介して誤り位置確認が行
われるまで、臨界的パラメータが変更され、また常に再
び新たにレーザービームにより集積回路が走査される ことによっても行われ得る。

複数の臨界的パラメータまたは１つの臨界的パラメータ
が固定の値を与えられ、またレーザービームにより集積
回路またはその一部分が走査されることにより誤りの位
置力＜　Ｖｉｌ　８忍されるべきであれば、この走査の
際にレーザービームの各走査点においてこの走査点に存
在する１つの電圧経過が少なくとも１回通り抜けられる
ことが保証されていなければならない。

論理状態の時間的進行に関する誤りを発見するためには
、レーザービームのそのつどの走査点におけるパルス状
の信号経過の際に下記の臨界的パラメータが変調され得
る。

−電圧経過のパルスの反復レート、 −電圧経過のパルスの下降および上昇時間、−電圧経過
のパルスの振幅、 −電圧経過のパルスに重畳された直流電圧、−電圧経過
のパルスの位相など。

温度に関係する誤りまたは電界または磁界の中でのみ生
ずる誤りの位置確認のためには、温度または電界および
（または）磁界の強さが変調され得る。特定の領域で生
ずる放射の変調により、放射に対して敏感に反応する領
域も位置確認され得る。ここで、放射としては紫外線放
射、Ｘ線放射、アルファ線放射などが考えられる。

電気回路が機能していることの評価は、検査すベき電気
回路の出力信号を介して行われるのが目的にかなってい
る。しかし、製造検査の際に個々の電気回路を本発明に
よる方法で検査し、その際にい（つかのバラメークを１
つの特定の変調範囲にわたり変調し、信号がパラメータ
の変調の間またはその後に走査点の論理機能に関する指
示を受け、なんらかの形態で電気回路に記憶され、最後
にこの信号から被検査回路が特定の仕様を満足するか否
かを指示する信号として形成された最終信号が電気回路
から呼び出されることも考えられる。

本発明による方法は、たとえば、 −レーザービームにより電気回路が少なくとも部分的に
ラスク走査され、 −各走査点において１つの臨界的パラメータまたは複数
の臨界的パラメータが特定の変調範囲内で変更され、 −その際に、これらの臨界的パラメータがこの変調範囲
内の値を有するか、誤りを生ずるかがチェックされ、 −最後に電気回路の次の走査の際に臨界的パラメータが
、少なくとも１つの臨界的パラメータが１つの他の変調
範囲内で変更されるように変調される ことによっても実施され得る。

その際、電圧経過の特定の数の通り決けにわたる１つの
特定の走査点における変調範囲またはレーザービームの
滞留は、１つの特定の走査点における誤りの原因が臨界
的パラメータの１つの特定の値範囲に対応付けられ得る
ように選定されなければならない。

〔実施例〕

以下、図面に示されている実施例により本発明を一層詳
細に説明する。

本発明による方法の実施および本発明による装置の構成
のためには、たとえば米国特許第４．４０７．００８号
明細書に記載されているレーザースキャナが使用され得
る。

先ず第４図により公知の“限界電圧）１１定”法の原理
を説明する。機能を検査されるべき電気回路の入力端に
、周期的に反復するパルス状電圧１が与えられる。検査
すべき電気回路の動作電圧ＶＳは電圧１の各周期の後に
１つの離散的な値だけ低められる。検査すべき電気回路
の動作電圧ＶＳが１つの特定の値ＭＶ（限界電圧）より
も大きくまたはそれと等しいかぎり、検査すべき電気回
路の出力は１つの出力電圧２の誤りのない経過を示す。

第４ＦＡ中の公知の方法の図示では、出力電圧２の経過
に誤りがないかぎり、出力電圧２は同じく周期的なパル
ス状経過を有するべきであると仮定されている。動作電
圧■Ｓが特定の値ＭＶよりも小さい値に低められると、
検査すべき電気回路の機能に誤りが生ずる。電気回路の
機能のこの誤りは出力電圧２の経過で検知され得る。な
ぜならば、動作電圧ＶＳが特定の値ＭＶよりも小さい値
を有する場合には出力電圧２ば誤りのある経過を示すか
らである。

検査すべき電気回路が機能をイイ［持し得る動作電圧Ｖ
Ｓの下限値である限界電圧の考え方は複合回路網にも順
次回路網にも応用し得る。

入力電圧１がまさに電圧変化を受けていない時点でのみ
動作電圧ＶＳが低められるならば、まさに存在する論理
状態を誤りなしに得るために必要な動作電圧ＶＳの最小
電圧の値ＭＶが求められ得る。入力電圧１がまさに電圧
変化を受ける時点で動作電圧■Ｓが低められるならば、
論理状態変化が誤りなしに進行し得るために必要な動作
電圧■Ｓの最小電圧の値ＭＶが求められ得る。

原理的に動作重圧ＶＳの最小電圧の値ＭＶとしては下記
の３種類がある。

−“永久的”値Ｍ■；この値以上の動作重圧■Ｓでは、
たとえばメモリおよびシフトレジスタのような順次回路
内で誤りのないデータが得られる。

−“グイナミソクな”値Ｍ■；この値以上の動作電圧Ｖ
Ｓでは、グイナミノクな電圧変（ヒが誤りなしに進行す
る。

−　“′直接的な”値Ｍ■：この値よりも低い動作電圧
ＶＳでは、複合回路内に電気回路における信号値と直接
に結びつけられている論理誤りが生ずる。

第５図には、第４図により説明した公知の方法を実施す
るための装置が示されている。検査の進行はマイクロプ
ロセッサＭＰにより制御される。

マイクロプロセッサＭＰに接続されている書き込み−読
み出しメモリＲＡＭのなかに、検査すべき各電気回路Ｃ
ＵＴに対して１つの検査プログラムが含まれている。こ
のメモリＲＡＭのなかに最後に検査結果も格納される。

このメモリＲＡＭのなかに、マイクロプロセッサＭＰに
適した形式に検査プログラムを編集するための制御ソフ
トウェアも含まれていてよい。検査プログラムは電気回
路ＣＵＴの入力端における論理的入力状態の順序を定め
る。検査プログラムは入出力インタフェースＩＦを介し
て双方向ドライバＤＲを必要な動作状態にセットする。

ドライバＤＲを介して信号は電気回路ＣＵＴの入力端に
与えられ、また電気回路ＣＵＴの出力端から取出される
。電気回路ＣＵＴの入力端および出力端における論理信
号レヘルを定める供給および負荷回路は電気回路ＣＵＴ
に沿って汎用的に使用可能な検査カードＴＣの上に取付
けられている。検査カードＴＣはコネクタを有し、その
上に電気回路ＣＵＴが差込まれ得る。

可変の動作電圧■Ｓは１つの１２ビツトのディジタル−
アナログ変換器ＤＡＣを介して発生される。可変の動作
電圧■ＳはマイクロプロセッサＭＰを介して制御される
。動作電圧ＶＳの相続く値は先行の検査結果に関係して
定められる。

制御装置ＣＯＮを介してデータ能動化方向がドライバＤ
Ｒ内で制御される。検査結果はインタフェースＩＦの１
つの出力端Ａを介して１つのプリンタまたは他の出力装
置に出力され得る。

第６図には、１つの光ビームが電気回路ＣＵＴの１つの
ウィークポイントに衝突する時の最小電圧（限界電圧）
の変化ＣＭＶが示されている。１つの２ビツト加ｔｊＩ
器が５つの入力端を有するならば、この加算器は“直接
的な”最小電圧（限界電圧）の前記の値ＭＶの３２種類
の値を有する６３２種類の値は第６図中に語番号ＷＮと
して示されている。語番号６．８．１４および１６は最
小電圧の異常な埴ＭＶを生ずる。１つの光ビームが複合
回路をラスク走査する間、最小電圧の４つの異常値Ｍ　
Ｖの１つに相当する２進語が複合回路の入力端にスタテ
ィックに与えられている。いま光ビームが、異−π値Ｍ
Ｖを惹起するウィークポイントに衝突すると、光子によ
り誘起された電荷キャリアがウィークポイントの周辺に
発生され、また複合回路の電気的特性に小さな変化を惹
起する。それにより異常値ＭＶに小さな変化ＣＭＶが生
ぜしめられる。こうして、製造上の欠陥が存在するウィ
ークポイントの位置が確認される。

第７図には、第６図により説明した方法を実施するため
の装置が示されている。検査ビットパターン発生器ＰＧ
から発生された検査ビットパターンが、検査すべき電気
回路ＣＵＴの入力６１Ｍ　Ｉと参照回路ＲＣの入力端と
に与えられる。検査すべき電気回路ＣＵＴの出力端０か
らの信号と参照回路ＲＣの出力端からの信号とは１つの
コンパレータＣＰに与えられ、そこで検査すべき電気回
路ＣＵＴの出力信号が参照回路ＲＣの出力信号と比較さ
れる。そのつどの出力信号が合致すれば、コンパレータ
の出力信号Ｐが能動化され、またそのつどの出力信号が
合致しなければ、コンパレータの出力信号Ｆが能りＪ化
される。光ビームＬは検査すべき電気回路ＣＵＴの各点
の上に位置決めされ得る。検査すべき電気回路ＣＵＴは
可変の動作電圧ＶＳを供給される。検査すべき電気回路
ＣＵＴはたとえばレーザー走査顕微鏡の台ＭＳの上に配
置されている。

第７図には複合回路の検査が示されている。順次回路の
検査も類似の仕方で行われる。光ビームＬが順次回路の
内部の１つのウィークポイントに衝突すると、順次回路
の論理機能が擾乱される。

実際には、しばしば、光ビームのｆＪｉ突の際に最小電
圧の異常値ＭＶを惹起する複数の範囲が生ずる。その際
、異常値ＭＶは良好な回路において期待される値ＭＶよ
りも大きいことも小さいこともあり得る。光ビームＬの
衝突に反応する範囲は実際正常に真のウィークポイント
を有する物理的および電気的接続である６最小電圧の変
化ＣＭＶの強度はウィークポイントの性質に関係するの
で、光ビームＬが可能なかぎり強く集束されることによ
り真のウィークポイントが見出され得る。真のウィーク
ポイントは、最小電圧の値の変化ＣＭＶが最大である個
所に位置する。

第７図による装置は容易に自動化され得る。最小電圧の
種々の値ＭＶが検査すべき電気回路ＣＵＴの内部の各点
において測定され得る。光ビームＬによる検査すべき電
気回路ＣｔＪＴのラスク走査、作動電圧ＶＳの変更、検
査すべき電気回路ＣＵＴへの信号の入力およびこの電気
回路ＣＵＴの出力信号のチェックは１つの計算機により
制御され得る。

第１図には本発明による方法が説明されている。本発明
による方法では、第６図により説明した方法で既に確認
可能なウィークポイントだけでなく、外部パラメータを
変更しなければ検査すべき電気回路ＣＵＴに誤りのある
挙動を生ぜしめ得ないようなウィークポイントの位置を
確認することもできる。このようなウィークポイントは
検査すべき電気回路の機能の早期喪失に通ずる。このよ
うなウィークポイントは、１つまたは複数のパラメータ
Ｐが検査の間に変更されることにより発見され得る。こ
のようなパラメータＰは信号パルスの反復レート、信号
パルスの立ち下がりおよび立ち上がり時間、信号パルス
の振幅、信号パルスに重畳された直流電圧、信号周波数
に対する信号パルスの位相、温度または電界および（ま
たは）磁界の強さおよび電気回路に向けられる放射であ
ってよい。

第１図による例で信号１が電気回路の入力端に与えられ
ており、可変のパラメータＰが１つのパラメータまたは
１つのパラメータ組合わせＰｉに対応付けられ得るよう
な値を有し、同時に光ビームＬが１つの走査点に衝突し
、またその際に供給電圧ＶＳが１つの値ＭＶＩを有する
ならば、電気回路の出力端における信号２は、電気回路
の機能に誤りがないことを示す。１つのパラメータまた
は１つのパラメータ組合わせの１つの値ＰＬが存在して
いるかぎり、信号２において読取られ得るように電気回
路の機能がもはや正常ではないことを示すのに、埴ＭＶ
Ｉの下側の動作電圧■Ｓの小さな低下で十分である。い
ま１つのパラメータまたは１つのパラメータ組合わせの
値がＰ２に変更されると、電気回路の上記の例の場合と
同一の入力端に信号１が与えられており、且つ光ビーム
Ｌが上記の例の場合と同一の走査点に衝突している間に
、電気回路がまさになお機能する動作電圧■Ｓの値が値
ＭＶＩから値ＭＶ２へ変更される。値ＭＶＩと値ＭＶ２
との間の差から、まさに光ビームＬにより（衝突されて
いる走査点の近い周辺が値の組合わせＰｌから値の組合
わせＰ２への臨界的パラメータＰの変更にどのように強
く反応するかが読取られ得る。それから、光ビームＬに
より衝突されている走査点の近い範囲における製造上の
ウィークポイントが推定され得る。パラメータまたはパ
ラメータ組合わせＰの変化に応じて値ＭＶ２は値ＭＶＩ
より大きくても、小さくても、またはそれと等しくても
よい、値ＭＶ２の下側のパラメータまたはパラメータ組
合わせＰ２の存在時の動作電圧■Ｓの小さな低下は再び
、出力信号２で読取られ得るように、電気回路がもはや
正常に機能しないことに通ずる。

このような方法により位置確認され得る製造上のウィー
クポイントはたとえば漏れ電流チャネル、望ましくない
キャパシタンス、温度または電界または磁界に望ましく
ない強い反応をする境界層、放射に敏感な範囲、望まし
くない電気抵抗値を有する個所などである。

第２図には、第１図による方法を実施するための装置が
示されている。方法の進行は１つの計算機１２（インタ
ーデータ６／１６）により制御される。光ビームＬの位
置決めはディジタルラスク発生器１５を用いて米国特許
第４．４０７，００８号明細書によるレーザースキャナ
内で行われる。検査すべき電気回路１４として使用され
ているマイクロプロセッサ８０８５の駆動は１つのマイ
クロプロセッサーラボラトリュームｔｏ（ＨＰμｍＬａ
ｂ　　５０３６　　Ａ）により行われる。駆動部１０を
介して変更可能なパラメータ、たとえばパルス状信号に
おける反復レート、立ち下がりおよび立ち上がり時間、
撮幅、重畳された直流電圧および位相、の変調は計算機
１２の出力端１３を介して行われる。駆動部１０を介し
て変更可能でないパラメータ、たとえば温度、電界およ
び（または）磁界、放射など、の変調は計算機１２から
出力端１７を介して制御される１つまたは複数個の装置
９を介して行われる。そのために通した装置９は当業者
に良く知られている。電気回路１４の出力信号は１つの
装置８に到達し、そこで出力信号が評価される。装置８
はたとえばロジックアナライザ・パイオメーションに１
００であってよい。その際、計算機１２の出力端１６を
介してロジックアナライザ８内の測定値処理が制御され
る。しかし、測定結果は、進行制御のために使用されて
いる計算機内に直接に記憶され、そこで評価されてもよ
い。測定結果は他の計算機内に記憶されてもよい。

光ビームＬがｉＵ突する電気回路１４の各走査点におい
て少なくとも１つの臨界的パラメータＰが変調される。

たとえば１つのパラメータＰが値Ｐ１から値Ｐ２へ変更
される。その際、第１図により説明したように、動作電
圧■Ｓの値ＭＶＩとＭ■２との間の差が測定される。値
ＭＶＩとＭＶ２との間のこの差がロジックアナライザ８
または計算機１２内で評価される。この評価の結果は、
この評価の結果に相応する像パターンを計算機１２の出
力端１８を介して画像スクリーン１９上に発生し、且つ
電気回路１４内の製造上のウィークポイントを指示する
この像パターンをレーザースキャナ１１により得られた
電気回路１４の像に重畳するために利用される。こうし
て電気回路１４内の誤りのある位置が確認され得る。計
算ｔａ１２の出力＠１８と画像スクリーン１９との間に
１つのビデオ増幅器２０が接続されていてよい。

第３図には、本発明による方法のもう１つの実施例が示
されている。同じく信号ｌが電気回路１４の１つの入力
端に与えられている。動作電圧■Ｓは先ず値ＭＶ３に設
定される。動作電圧が一定に保持される間、１つのパラ
メータまたは１つのパラメータ組合わせＰは１つの値Ｐ
３に設定される。このパラメータまたはパラメータ組合
わせＰ３は動作電圧■Ｓの値ＭＶ３と拮びついて電気回
路１４の誤りのない機能を許し、そのことは出力信号２
で認識される。動作電圧ＶＳＯ値ＭＶ３が一定に保持さ
れる間、パラメータまたはパラメータ組合わせＰ３はい
まや値Ｐ４に設定される６直ちに電気回路１４が機能不
能となり、そのことは出力信号２で認識される。いまや
一定のパラメータまたはパラメータ組合わせＰ４におい
て動作電圧■Ｓの値が値ＭＶ３から値ＭＶ４へ変更され
る。第３図の例では、その際に電気回路１４が再びその
機能を回復し、そのことは再び出力信号２で認識され得
る。いまや動作電圧■Ｓが値ＭＶ４に保持され、また同
時にパラメータまたはパラメータ組合わせが値Ｐ５に設
定されると、第３図による例では電気回路１４が再び機
能不能となり、そのことは再び出力信号２で認識され得
る。

第３図による例では、全電気回路１４がラスク走査され
てもよいし、いくつかの選択された点が選択的に走査さ
れてもよい。また第３図による例では、各走査点におい
て電気回路１４の機能が出力信号を介して評価される。

この評価の結果は再び１つの特別な実施例では光ビーム
Ｌにより得られた電気回路１４の像にたとえばカラーパ
ターンとして重畳され得る。誤りのない走査点への光ビ
ームＬの衝突の際に電気回路１４が正常な機能を維持す
れば、たとえば、画像スクリーン１９上にこの走査点が
写される場所にカラートーンが重畳されないように構成
され得る。それに対して１つの誤りのある走査点への光
ビームＬの衝突の際に電気回路１４が機能不能になれば
、電気回路１４が機能不能に至るまでに必要なパラメー
タまたはパラメータ組合わせが値Ｐの変化の大きさで読
取られ得る誤りの重度に応して、種々の段階のグレート
ーンまたは相異なるカラートーンが、画像スクリーン１
９上にこの走査点が写される場所に重畳され得る。

光ビームＬのパルス化も行われ得る。このパルス化は、
１つの走査点の上に光ビームＬが長く滞留すると各１つ
の走査点の走査の際に電気回路を機能不能にするであろ
う多くの電荷キャリアが釈放されるであろう敏感な電気
回路の検査の際に推奨される。しかし、パルス化された
光ビームＬによる１つの走査点の走査は、走査点で反復
する電圧経過の単一または複数の位相点または位相範囲
のみが臨界的である、すなわち電気回路の１つの機能喪
失に通ずる場合にも推奨される。たとえば、走査点で周
期的に反復するパルス状電圧では、１つのパルスの１つ
の縁は臨界的であり得るが、他方において臨界的な縁に
属するパルスの頂きは臨界的でない。走査点が光ビーム
Ｌによりストロボスコープ的に走査されるならば、走査
点で反復する電圧経過の１つの周期内の臨界的な位相点
または位相範囲が求められ得る。１つの走査点における
ストロボスコープ的な走査は、その走査点で１つの特定
の電圧経過が時間的に反復し、且つ走査点に向けられる
光ビームＬが走査点で反復する電圧経過の１つの周期内
の１つの完全に特定の位相でのみ常にスイッチオンされ
ることにより行われ得る。このような１つの光ビームＬ
によるストロボスコープ的な走査は、米国特許第３，６
２８．０１２号明細書から公知の電子ビームによるスト
ロボスコープ法に相応して行われ得る。ストロボスコー
プ的ケリ定法により走査点で反復。する信号経過が走査
点で反復する電圧経過の周期に関する種々の位相におい
て走査されるならば、いわゆるサンプリング法で走査点
で反復する信号経過の周期に関する位相が漸次にこの反
復する信号経過の全周期にわたり、またはこの反復する
信号経過の部分範囲にわたりずらされ得る。こうして、
走査点で周期的に反復する信号経過の１つの周期内の臨
界的な位相が求められ得る。このような光ビームＬによ
るサンプリング法は、米国特許第４．２２０．８５３号
明細書から公知の電子ビームによるサンプリング法に相
応して行われ得る。

光ビームＬのパルス化のための装置は、米国特許第４．
４０７．００８号明細書に記載されているようなレーザ
ースキャナ１１内に含まれている。パルス化される光ビ
ームＬと走査点で反復する電圧経過との同期化は計算機
１２の両出力硝１３および１５を介して行われ得る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による方法の説明図、第２図は本発明に
よる装置のブロック回路図、第３図は本発明による方法
の説明図、第４図は公知の“限界電圧測定”法の原理図
、第５図は第４図により説明される公知の方法を実施す
るための装置のブロック回路図、第６図は第４図により
説明される公知の方法の結果を示す図、第７図は公知の
方法の説明図である。 １・・・入力電圧、２・・・出力電圧、８・・・ロジッ
クアナライザー、９・・・制御装置、１０・・・駆動部
、１１・・・レーザースキャナ、１２・・・計算機、１
３・・・可変パラメータ出力端、１４・・・検査すべき
電気回路（集積回路）、１５・・・ディジタルラスク発
生器、１６・・・測定値出力端、１７・・・制御出力端
、１８・・・像パターン出力端、１９・・・画像スクリ
ーン、２０・・・ビデオ増幅器、Ａ・・・出力端、ＣＭ
Ｖ・・・限界電圧の変化、ＣＯＮ・・・制御装置、ＣＰ
・・・コンパレータ、ＣＵＴ・・・検査すべき電気回路
（集積回路）、ＤＡＣ・・・ディジタル−アナログ変換
器、ＤＲ・・・双方向ドライバ、■・・・入力端、ＩＦ
・・・入出力インタフェース、Ｌ・・・光ビーム、ＭＰ
・・・マイクロプロセッサ、ＭＶ・・・限界電圧、０・
・・出力端、Ｐ・・・パラメータ、ＰＣ・・・検査ビッ
トパターン発生器、ＲＡＭ・・・書き込み−読み出しメ
モリ、ＲＣ・・・参照回路、ＴＣ・・・テストカード、
ｖＳ・・・動作電圧、ＷＮ・・・語番号。 ＩＧ１ ＩＧ２ ＩＧ３ ＩＧ４

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）光ビーム（Ｌ）による電気回路（１４）内の誤り位
   置確認のための方法であって、 電気回路（１４）内の少なくとも１つの走査点が反復す
   る電圧経過により駆動され、 光ビーム（Ｌ）が電気回路（１４）の少なくとも１つの
   走査点に向けられ、 光ビーム（Ｌ）が走査点ににおいて電荷キャリアの釈放
   により電気回路（１４）の機能を擾乱し、 各走査点ににおいて、この走査点を駆動する電圧が変更
   または一定保持される 方法において、 各走査点の各走査の際に、この走査点を駆動する反復す
   る電圧経過の少なくとも１つの単一の周期が通り抜けら
   れ、 各走査点において、電気回路（１４）の１つの特定の仕
   様に対して臨界的な少なくとも１つのパラメータ（Ｐ）
   が、電気回路（１４）が機能不能に至るまで変調される ことを特徴とする電気回路内の誤り位置確認方法。 ２）少なくとも１つの臨界的なパラメータ（Ｐ）が走査
   点を駆動する電圧の１つの反復の間に変更されないこと
   を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３）論理誤りの位置確認のために走査点におけるパルス
   状電圧の反復レートが変調されることを特徴とする特許
   請求の範囲第１項または第２項記載の方法。 ４）論理誤りの位置確認のために走査点における１つの
   電圧パルスの少なくとも１つの縁が変調されることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれか
   １項に記載の方法。 ５）論理誤りの位置確認のために走査点における電圧の
   振幅が変調されることを特徴とする特許請求の範囲第１
   項ないし第４項のいずれか１項に記載の方法。 ６）論理誤りの位置確認のために走査点における電圧に
   重畳されている直流電圧が変調されることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項ないし第５項のいずれか１項に記
   載の方法。 ７）論理誤りの位置確認のために走査点における１つの
   電圧パルスの位相が変調されることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項ないし第６項のいずれか１項に記載の方
   法。 ８）温度に関係する誤りの位置確認のために走査点の温
   度が変調されることを特徴とする特許請求の範囲第１項
   ないし第７項のいずれか１項に記載の方法。 ９）電界内で生ずる誤りの位置確認のために走査点にお
   ける電界が変調されることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項ないし第８項のいずれか１項に記載の方法。 １０）磁界内で生ずる誤りの位置確認のために走査点に
   おける磁界が変調されることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項ないし第９項のいずれか１項に記載の方法。 １１）放射に敏感に反応する領域の位置確認のために走
   査点における放射が変調されることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項ないし第１０項のいずれか１項に記載の
   方法。 １２）光ビーム（Ｌ）が、１つの走査点において反復す
   る電圧経過と同期してパルス化されることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項ないし第１１項のいずれか１項に
   記載の方法。 １３）電気回路（１４）内の誤り位置確認のための装置
   であって、 少なくとも１つの走査点を走査するための光ビーム（Ｌ
   ）と、 電気回路（１４）を駆動するための装置（１０、１２）
   と、 電気回路（１４）の出力信号を評価するための装置（８
   、１２）と を含んでいる装置において、 電気回路（１４）の１つの特定の仕様に対して臨界的な
   少なくとも１つのパラメータ（Ｐ）を変調するための装
   置（９、１０、１３、１７）を含んでいることを特徴と
   する電気回路内の誤り位置確認装置。 １４）走査点における１つのパルス状電圧の反復レート
   を変調するための装置（１０、１３）を含んでいること
   を特徴とする特許請求の範囲第１３項記載の装置。 １５）走査点における１つの電圧パルスの少なくとも１
   つの縁を変調するための装置（１０、１３）を含んでい
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１３項または第１
   ４項記載の装置。 １６）走査点における１つの電圧の振幅を変調するため
   の装置（１０、１３）を含んでいることを特徴とする特
   許請求の範囲第１３項ないし第１５項のいずれか１項に
   記載の装置。 １７）走査点における電圧の直流電圧レベルを変調する
   ための装置（１０、１３）を含んでいることを特徴とす
   る特許請求の範囲第１３項ないし第１６項のいずれか１
   項に記載の装置。 １８）走査点における１つの電圧パルスの位相を変調す
   るための装置（１０、１３）を含んでいることを特徴と
   する特許請求の範囲第１３項ないし第１７項のいずれか
   １項に記載の装置。 １９）走査点における温度を変調するための装置（９、
   １７）を含んでいることを特徴とする特許請求の範囲第
   １３項ないし第１８項のいずれか１項に記載の装置。 ２０）走査点における電界の強さを変調するための装置
   （９、１７）を含んでいることを特徴とする特許請求の
   範囲第１３項ないし第１９項のいずれか１項に記載の装
   置。 ２１）走査点における磁界の強さを変調するための装置
   （９、１７）を含んでいることを特徴とする特許請求の
   範囲第１３項ないし第２０項のいずれか１項に記載の装
   置。 ２２）走査点における少なくとも１つの放射形式を変調
   するための装置（９、１７）を含んでいることを特徴と
   する特許請求の範囲第１３項ないし第２１項のいずれか
   １項に記載の装置。 ２３）光ビーム（Ｌ）をパルス化するための装置を含ん
   でいることを特徴とする特許請求の範囲第１３項ないし
   第２２項のいずれか１項に記載の装置。