JPS6190343A - 光ディスク - Google Patents
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- JPS6190343A JPS6190343A JP59210585A JP21058584A JPS6190343A JP S6190343 A JPS6190343 A JP S6190343A JP 59210585 A JP59210585 A JP 59210585A JP 21058584 A JP21058584 A JP 21058584A JP S6190343 A JPS6190343 A JP S6190343A
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10S430/146—Laser beam
Landscapes
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光ディスクに関し、詳細には、ディスク基板の
素材として異方性溶融相を形成する溶融加工可能なポリ
マー組成物を使用してなる基板のピットや溝の形状寸法
精度が高く、又基板の寸法安定性等に優れた光ディスク
に関するものである。
素材として異方性溶融相を形成する溶融加工可能なポリ
マー組成物を使用してなる基板のピットや溝の形状寸法
精度が高く、又基板の寸法安定性等に優れた光ディスク
に関するものである。
ディスクの片面に、ピットや溝からなる記録層（以下情
報ピントという）を形成し、その露出側に金属被覆層を
形成してディスク面側からレーザー光線を照射し情報を
再生するタイプの情報記録・再生ディスクとして、ビデ
オデイスりやオーディオディスク等が開発され、最近急
速に発展してきている。この種のディスク材料としては
硬質塩化ビニル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ
メタクリル酸メチル系樹脂等が検討されている。しかし
ながらこれら公知の光デイスク材料には以下に示す様な
欠点がある。
報ピントという）を形成し、その露出側に金属被覆層を
形成してディスク面側からレーザー光線を照射し情報を
再生するタイプの情報記録・再生ディスクとして、ビデ
オデイスりやオーディオディスク等が開発され、最近急
速に発展してきている。この種のディスク材料としては
硬質塩化ビニル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ
メタクリル酸メチル系樹脂等が検討されている。しかし
ながらこれら公知の光デイスク材料には以下に示す様な
欠点がある。
即ち硬質塩化ビニル系樹脂は成形加工性に劣り、多種多
様の配合剤の添加による欠陥が出てくる。例えば成形性
改善の為の可塑剤等がディスク表面にブリードして再生
精度が低下するという問題がある。
様の配合剤の添加による欠陥が出てくる。例えば成形性
改善の為の可塑剤等がディスク表面にブリードして再生
精度が低下するという問題がある。
またポリカーボネート系樹脂は耐熱性、耐衝撃性等にお
いて優れているが、成形性に難点があり、スタンパ−に
形成された情報ピット刻設用微細凹凸を忠実に再現させ
るのが困難であり、やはり感度及び精度が不足する。
いて優れているが、成形性に難点があり、スタンパ−に
形成された情報ピット刻設用微細凹凸を忠実に再現させ
るのが困難であり、やはり感度及び精度が不足する。
これに対しポリメタクリル酸メチル系重合体は、透明性
、非旋光性に優れているが、耐湿性に乏しく、水分及び
熱等の外部環境下での寸法安定性が悪いという問題があ
る。しかもこの樹脂は機械的強度、殊に耐衝撃強度が劣
悪で割れ易く、また硬質である為成形性にも問題がある
。
、非旋光性に優れているが、耐湿性に乏しく、水分及び
熱等の外部環境下での寸法安定性が悪いという問題があ
る。しかもこの樹脂は機械的強度、殊に耐衝撃強度が劣
悪で割れ易く、また硬質である為成形性にも問題がある
。
本発明者等は上記の様な事情に着目し、再生専用型の光
ビデオディスク、光オーディオディスク等の光デイスク
用基板材料として最適の樹脂を見出すべく検討を行い、
特に上記の如き公知の樹脂よりも基板のピットや溝の形
状寸法精度が高いこと、及び寸法安定性に優れているこ
とという要求特性を満足し得る様な光ディスクを得るべ
く鋭意研究を行った結果本発明に至ったものである。
ビデオディスク、光オーディオディスク等の光デイスク
用基板材料として最適の樹脂を見出すべく検討を行い、
特に上記の如き公知の樹脂よりも基板のピットや溝の形
状寸法精度が高いこと、及び寸法安定性に優れているこ
とという要求特性を満足し得る様な光ディスクを得るべ
く鋭意研究を行った結果本発明に至ったものである。
即ち本発明の構成は、異方性溶融相を形成する溶融加工
可能なポリマー組成物からなる基板の片面に、ピントや
溝からなる記録層を形成すると共に、該記録層の表面に
反射面を構成する金属被覆層を形成してなり、基板側か
らはレーザー光線の照射を行わず、金属被覆層の露出側
に光透過層兼表面保護層を設けて、基板の反対側から上
記金属被覆層の反射面へレーザー光線を照射することに
より、情報を再生可能にした光ディスクである。
可能なポリマー組成物からなる基板の片面に、ピントや
溝からなる記録層を形成すると共に、該記録層の表面に
反射面を構成する金属被覆層を形成してなり、基板側か
らはレーザー光線の照射を行わず、金属被覆層の露出側
に光透過層兼表面保護層を設けて、基板の反対側から上
記金属被覆層の反射面へレーザー光線を照射することに
より、情報を再生可能にした光ディスクである。
本発明の光ディスクの基板を形成する樹脂は、溶融時に
光学的異方性を示す、熱可塑性溶融加工可能なポリマー
組成物であり、一般にサーモトロピック液晶ポリマーに
分類される。
光学的異方性を示す、熱可塑性溶融加工可能なポリマー
組成物であり、一般にサーモトロピック液晶ポリマーに
分類される。
かかる異方性溶融相を形成するポリマーは溶融状態でポ
リマー分子鎖が規則的な平行配列をとる性質を有してい
る。分子がこのように配列した状態をしばしば液晶状態
または液晶性物質のネマチック相という。このようなポ
リマーは、一般に細長く、偏平で、分子の長軸に沿って
かなり剛性が高く、普通は同軸または平行のいずれかの
関係にある＊数の連鎖伸長結合を有しているようなモノ
マーから製造される。
リマー分子鎖が規則的な平行配列をとる性質を有してい
る。分子がこのように配列した状態をしばしば液晶状態
または液晶性物質のネマチック相という。このようなポ
リマーは、一般に細長く、偏平で、分子の長軸に沿って
かなり剛性が高く、普通は同軸または平行のいずれかの
関係にある＊数の連鎖伸長結合を有しているようなモノ
マーから製造される。
異方性溶融相の性質は、直交偏光子を利用した慣用の偏
光検査法により確認することができる。より具体的には
、異方性溶融相の確認は、Ｌｅｉｔｚ偏光顕微鏡を使用
し、Ｌｅｉｔｚホットステージにのせた試料を窒素雰囲
気下で４０倍の倍率で観察することにより実施できる。
光検査法により確認することができる。より具体的には
、異方性溶融相の確認は、Ｌｅｉｔｚ偏光顕微鏡を使用
し、Ｌｅｉｔｚホットステージにのせた試料を窒素雰囲
気下で４０倍の倍率で観察することにより実施できる。
上記ポリマーは光学的に異方性である。すなわち、直交
偏光子の間で検査したときに光を透過させる。試料が光
学的に異方性であると、たとえ静止状態であっても偏光
は透過する。
偏光子の間で検査したときに光を透過させる。試料が光
学的に異方性であると、たとえ静止状態であっても偏光
は透過する。
上記の如き異方性溶融相を形成するポリマーの構成成分
としては ■ 芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸の１つま
たはそれ以上からなるもの ■ 芳香族ジオール、脂環族ジオール、脂肪族ジオール
の１つまたはそれ以上からなるもの■ 芳香族ヒドロキ
シカルボン酸の１つまたはそれ以上からなるもの ■ 芳香族チオールカルボン酸の１つまたはそれ以上か
らなるもの ■ 芳香族ジチオール、芳香族チオールフェノールの１
つまたはそれ以上からなるもの■ 芳香族ヒドロキシア
ミン、芳香族ジアミンの１つまたはそれ以上からなるも
の 等があげられ、異方性溶融相を形成するポリマーは ■）■と■からなるポリエステル ■）■だけからなるポリエステル ■）■と■と■からなるポリエステル ■）■だけからなるポリチオールエステル■）■と■か
らなるポリチオールエステル■）■と■と■からなるポ
リチオールエステル■）■と■と■からなるポリエステ
ルアミド■）■と■と■と■からなるポリエステルアミ
ド 等の組み合わせから構成される。
としては ■ 芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸の１つま
たはそれ以上からなるもの ■ 芳香族ジオール、脂環族ジオール、脂肪族ジオール
の１つまたはそれ以上からなるもの■ 芳香族ヒドロキ
シカルボン酸の１つまたはそれ以上からなるもの ■ 芳香族チオールカルボン酸の１つまたはそれ以上か
らなるもの ■ 芳香族ジチオール、芳香族チオールフェノールの１
つまたはそれ以上からなるもの■ 芳香族ヒドロキシア
ミン、芳香族ジアミンの１つまたはそれ以上からなるも
の 等があげられ、異方性溶融相を形成するポリマーは ■）■と■からなるポリエステル ■）■だけからなるポリエステル ■）■と■と■からなるポリエステル ■）■だけからなるポリチオールエステル■）■と■か
らなるポリチオールエステル■）■と■と■からなるポ
リチオールエステル■）■と■と■からなるポリエステ
ルアミド■）■と■と■と■からなるポリエステルアミ
ド 等の組み合わせから構成される。
更に上記の成分の組み合わせの範曜には含まれないが、
異方性溶融相を形成するポリマーには芳香族ポリアゾメ
チンが含まれ、かかるポリマーの具体例としては、ポリ
にトリロー２−メチル−１，４−フェニレンニトリロ
メチリジンー１．４−フェニレンメチリジン）；ポリ
にトリロー２−メチル−１，４−フェニレンニトリロメ
チリジン−１，４−フェニレンメチリジン）；およびポ
リ にトリロー２−クロロ−１，４−フェニレンニトリ
ロメチリジン−１，４−フェニレンメチリジン）が挙げ
られる。
異方性溶融相を形成するポリマーには芳香族ポリアゾメ
チンが含まれ、かかるポリマーの具体例としては、ポリ
にトリロー２−メチル−１，４−フェニレンニトリロ
メチリジンー１．４−フェニレンメチリジン）；ポリ
にトリロー２−メチル−１，４−フェニレンニトリロメ
チリジン−１，４−フェニレンメチリジン）；およびポ
リ にトリロー２−クロロ−１，４−フェニレンニトリ
ロメチリジン−１，４−フェニレンメチリジン）が挙げ
られる。
更に上記の成分の組み合わせの範晴には含まれないが、
異方性溶融相を形成するポリマーとしてポリエステルカ
ーボネートが含まれる。これは本質的に４−オキシベン
ゾイル単位、ジオキシフェニル単位、ジオキシカルボニ
ル単位及びテレフタロイル単位からなるものがある。
異方性溶融相を形成するポリマーとしてポリエステルカ
ーボネートが含まれる。これは本質的に４−オキシベン
ゾイル単位、ジオキシフェニル単位、ジオキシカルボニ
ル単位及びテレフタロイル単位からなるものがある。
以下に上記ｎ〜■）の構成成分となる化合物を列記する
。
。
芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、４．４゛
−ジフェニルジカルボン酸、４，４°−トリフェニルジ
カルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジフェ
ニルエーテル−４，４゛−ジカルボン酸、ジフェノキシ
エタン−４，４゛−ジカルボン酸、ジフェノキシブタン
−４，４゛−ジカルボン酸、ジフェニルエタン−４，４
′−ジカルボン酸、イソフタル酸、ジフェニルエーテル
−３，３゛−ジカルボン酸、ジフェノキシエタン−３，
３゛−ジカルボン酸、ジフェニルエタン−３，３”−ジ
カルボン酸、ナフタレン−１，６−ジカルボン酸の如き
芳香族ジカルボン酸、または、クロルテレフタル酸、ジ
クロルテレフタル酸、ブロムテレフタル酸、メチルテレ
フタル酸、ジメチルテレフタル酸、エチルテレフタル酸
、メトキシテレフタル酸、エトキシテレフタル酸の如き
前記芳香族ジカルボン酸のアルキル、アルコキシまたは
ハロゲン置換体等があげられる。
−ジフェニルジカルボン酸、４，４°−トリフェニルジ
カルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジフェ
ニルエーテル−４，４゛−ジカルボン酸、ジフェノキシ
エタン−４，４゛−ジカルボン酸、ジフェノキシブタン
−４，４゛−ジカルボン酸、ジフェニルエタン−４，４
′−ジカルボン酸、イソフタル酸、ジフェニルエーテル
−３，３゛−ジカルボン酸、ジフェノキシエタン−３，
３゛−ジカルボン酸、ジフェニルエタン−３，３”−ジ
カルボン酸、ナフタレン−１，６−ジカルボン酸の如き
芳香族ジカルボン酸、または、クロルテレフタル酸、ジ
クロルテレフタル酸、ブロムテレフタル酸、メチルテレ
フタル酸、ジメチルテレフタル酸、エチルテレフタル酸
、メトキシテレフタル酸、エトキシテレフタル酸の如き
前記芳香族ジカルボン酸のアルキル、アルコキシまたは
ハロゲン置換体等があげられる。
脂環族ジカルボン酸としては、トランス−１゜４−シク
ロヘキサンジカルボン酸、シス−１，４−シクロヘキサ
ンジカルボン！、１．３−シクロヘキサンジカルボン酸
等の脂環族ジカルボン酸またはトランス−１，４−（１
−メチル）シクロヘキサンジカルボン酸、トランス−１
，４−（１−クロル）シクロヘキサンジカルボン酸等、
上記脂環族ジカルボン酸のアルキル、アルコキシ、また
はハロゲン置換体等があげられる。
ロヘキサンジカルボン酸、シス−１，４−シクロヘキサ
ンジカルボン！、１．３−シクロヘキサンジカルボン酸
等の脂環族ジカルボン酸またはトランス−１，４−（１
−メチル）シクロヘキサンジカルボン酸、トランス−１
，４−（１−クロル）シクロヘキサンジカルボン酸等、
上記脂環族ジカルボン酸のアルキル、アルコキシ、また
はハロゲン置換体等があげられる。
芳香族ジオールとしては、ハイドロキノン、レゾルシン
、４．４’−ジオキシジフェニル、４，４”−ジオキシ
トリフェニル、２，６−ナフタレンジオール、４．４’
−ジオキシジフェニルエーテル、ビス（４−オキシフェ
ノキシ）エタン、３．３°−ジオキシジフェニル、３，
３゛−ジオキシジフェニルエーテル、１，６−ナフタレ
ンジオール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパン、２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）メ
タン等の芳香族ジオールまたは、クロルハイドロキノン
、メチルハイドロキノン、１−ブチルハイドロキノン、
フェニルハイドロキノン、メトキシハイドロキノン、フ
ェノキシハイドロキノン：４−クロルレゾルシン、４−
メチルレゾルシン等上記芳香族ジオールのアルキル、ア
ルコキシまたはハロゲン置換体があげられる。
、４．４’−ジオキシジフェニル、４，４”−ジオキシ
トリフェニル、２，６−ナフタレンジオール、４．４’
−ジオキシジフェニルエーテル、ビス（４−オキシフェ
ノキシ）エタン、３．３°−ジオキシジフェニル、３，
３゛−ジオキシジフェニルエーテル、１，６−ナフタレ
ンジオール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパン、２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）メ
タン等の芳香族ジオールまたは、クロルハイドロキノン
、メチルハイドロキノン、１−ブチルハイドロキノン、
フェニルハイドロキノン、メトキシハイドロキノン、フ
ェノキシハイドロキノン：４−クロルレゾルシン、４−
メチルレゾルシン等上記芳香族ジオールのアルキル、ア
ルコキシまたはハロゲン置換体があげられる。
脂環族ジオールとしては、トランス−１，４−シクロヘ
キサンジオール、シス−１，４−シクロヘキサンジオー
ル、トランス−１，４−シクロヘキサンジメタツール、
シス−１，４−シクロヘキサンジメタツール、トランス
−１，３−シクロヘキサンジオール、シス−１，２−シ
クロヘキサンジオール、トランス−１，３−シクロヘキ
サンジメタツールの如き脂環族ジオールまたは、トラン
ス−１，４−（１−メチル）シクロヘキサンジオール、
トランス−Ｌ４− （１−クロル）シクロヘキサンジオ
ールの如き上記脂環族ジオールのアルキル、アルコキシ
またはハロゲン置換体があげられる。
キサンジオール、シス−１，４−シクロヘキサンジオー
ル、トランス−１，４−シクロヘキサンジメタツール、
シス−１，４−シクロヘキサンジメタツール、トランス
−１，３−シクロヘキサンジオール、シス−１，２−シ
クロヘキサンジオール、トランス−１，３−シクロヘキ
サンジメタツールの如き脂環族ジオールまたは、トラン
ス−１，４−（１−メチル）シクロヘキサンジオール、
トランス−Ｌ４− （１−クロル）シクロヘキサンジオ
ールの如き上記脂環族ジオールのアルキル、アルコキシ
またはハロゲン置換体があげられる。
脂肪族ジオールとしては、エチレングリコール、１．３
−プロパンジオール、１．４−ブタンジオール、ネオペ
ンチルグリコール等の直鎖状または分枝状脂肪族ジオー
ルがあげられる。
−プロパンジオール、１．４−ブタンジオール、ネオペ
ンチルグリコール等の直鎖状または分枝状脂肪族ジオー
ルがあげられる。
芳香族ヒドロキシカルボン酸としては、４−ヒドロキシ
安息香酸、３〜ヒドロキシ安息香酸、６−ヒドロキシ−
２−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸等の
芳香族ヒドロキシ力／Ｉｚボン酸または、３−メチル−
４−ヒドロキシ安息香酸、３，５−ジメチル−４−ヒド
ロキシ安息香酸、２．６−ジメチル−４−ヒドロキシ安
息香酸、３−メトキシ−４−ヒドロキシ安息香酸、３．
５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ安息香酸、６−ヒドロ
キシ−５−メチル−２−ナフトエ酸、６−ヒドロキシル
５−メトキシ−２−ナフトエ酸、３−クロル−４−ヒド
ロキシ安息香酸、２−クロロ−４−ヒドロキシ安息香酸
、２．３−ジクロロ−４−ヒドロキシ安息香酸、３，５
−ジクロロ−４−ヒドロキシ安息香酸、２．５−ジクロ
ロ−４−ヒドロキシ安息香酸、３−ブロモ−４−ヒドロ
キシ安息香酸、６−ヒドロキシ−５＝クロロ−２−ナフ
トエ酸、６−ヒトロキシー７−クロロー２−ナフトエ酸
、６−ヒドロキシ−５，７−ジクロロ−２−ナフトエ酸
等の芳香族ヒドロキシカルボン酸のアルキル、アルコキ
シまたはハロゲン置換体があげられる。
安息香酸、３〜ヒドロキシ安息香酸、６−ヒドロキシ−
２−ナフトエ酸、６−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸等の
芳香族ヒドロキシ力／Ｉｚボン酸または、３−メチル−
４−ヒドロキシ安息香酸、３，５−ジメチル−４−ヒド
ロキシ安息香酸、２．６−ジメチル−４−ヒドロキシ安
息香酸、３−メトキシ−４−ヒドロキシ安息香酸、３．
５−ジメトキシ−４−ヒドロキシ安息香酸、６−ヒドロ
キシ−５−メチル−２−ナフトエ酸、６−ヒドロキシル
５−メトキシ−２−ナフトエ酸、３−クロル−４−ヒド
ロキシ安息香酸、２−クロロ−４−ヒドロキシ安息香酸
、２．３−ジクロロ−４−ヒドロキシ安息香酸、３，５
−ジクロロ−４−ヒドロキシ安息香酸、２．５−ジクロ
ロ−４−ヒドロキシ安息香酸、３−ブロモ−４−ヒドロ
キシ安息香酸、６−ヒドロキシ−５＝クロロ−２−ナフ
トエ酸、６−ヒトロキシー７−クロロー２−ナフトエ酸
、６−ヒドロキシ−５，７−ジクロロ−２−ナフトエ酸
等の芳香族ヒドロキシカルボン酸のアルキル、アルコキ
シまたはハロゲン置換体があげられる。
芳香族メルカプトカルボン酸としては、４−メルカプト
安息香酸、３−メルカプト安息香酸、６−メルカブトー
２−ナフトエ酸、７−メルカブトー２−ナフトエ酸等が
あげられる。
安息香酸、３−メルカプト安息香酸、６−メルカブトー
２−ナフトエ酸、７−メルカブトー２−ナフトエ酸等が
あげられる。
芳香族ジチオールとしてはミベンゼンー１，４−ジチオ
ール、ベンゼン−１，３−ジチオール、２．６−ナフタ
レン−ジチオール、２，７−ナフタレン−ジチオール等
があげられる。
ール、ベンゼン−１，３−ジチオール、２．６−ナフタ
レン−ジチオール、２，７−ナフタレン−ジチオール等
があげられる。
芳香族メルカプトフェノールとしては、４−メルカプト
フェノール、３−メルカプトフェノール、６−メルカプ
トフェノール、７−メルカプトフェノール等があげられ
る。
フェノール、３−メルカプトフェノール、６−メルカプ
トフェノール、７−メルカプトフェノール等があげられ
る。
芳香族とドロキシアミン、芳香族ジアミンとしては４−
アミノフェノール、４−Ｎ−メチル−４−アミノフェノ
ール、１，４−フェニレンジアミン、Ｎ−メチル−１，
４−フェニレンジアミン、ＮＩＮ゛−ジメチル−１，４
−フェニレンジアミン、３−アミノフェノール、３−メ
チル−４−アミノフェノール、２−クロロ−４−アミノ
フェノール、４−アミノ−１−ナフトール、４−アミノ
−４゛−ヒドロキシジフェニル、４−アミノ−４゛−ヒ
ドロキシジフェニルエーテル、４−アミノ−４゛−ヒド
ロキシジフェニルメタン、４−アミノ−４′−ヒドロキ
シジフェニルスルフィド・４．４′−ジアミノフェニル
スルフィド（チオジアニリン） 、４．４’−ジアミノ
ジフェニルスルホン、２，５−ジアミノトルエン、４，
４゛−エチレンジアニリン、４．４′−ジアミノジフェ
ノキシエタン、４，４゛−ジアミノジフェニルメタン（
メチレンジアニリン） 、４．４”−ジアミノジフェニ
ルエーテル（オキシジアニリン）などが挙げられる。
アミノフェノール、４−Ｎ−メチル−４−アミノフェノ
ール、１，４−フェニレンジアミン、Ｎ−メチル−１，
４−フェニレンジアミン、ＮＩＮ゛−ジメチル−１，４
−フェニレンジアミン、３−アミノフェノール、３−メ
チル−４−アミノフェノール、２−クロロ−４−アミノ
フェノール、４−アミノ−１−ナフトール、４−アミノ
−４゛−ヒドロキシジフェニル、４−アミノ−４゛−ヒ
ドロキシジフェニルエーテル、４−アミノ−４゛−ヒド
ロキシジフェニルメタン、４−アミノ−４′−ヒドロキ
シジフェニルスルフィド・４．４′−ジアミノフェニル
スルフィド（チオジアニリン） 、４．４’−ジアミノ
ジフェニルスルホン、２，５−ジアミノトルエン、４，
４゛−エチレンジアニリン、４．４′−ジアミノジフェ
ノキシエタン、４，４゛−ジアミノジフェニルメタン（
メチレンジアニリン） 、４．４”−ジアミノジフェニ
ルエーテル（オキシジアニリン）などが挙げられる。
上記各成分からなる上記ポリマーＩ）〜■）は、構成成
分及びポリマー中の組成比、シーフェンス分布によって
は、異方性溶融相を形成するものとしないものが存在す
るが、本発明で用いられるポリマーは上記のポリマーの
中で異方性溶融相を形成するものに限られる。
分及びポリマー中の組成比、シーフェンス分布によって
は、異方性溶融相を形成するものとしないものが存在す
るが、本発明で用いられるポリマーは上記のポリマーの
中で異方性溶融相を形成するものに限られる。
本発明で用いるのに好適な異方性溶融相を形成するポリ
マーである上記Ｉ） 、ＩＩ） 、ＩＩＩ）のポリエス
テル及び■）のポリエステルアミドは、縮合により所要
の反復単位を形成する官能基を有している有機モノマー
化合物同士を反応させることのできる多様なエステル形
成法により生成させることができる。たとえば、これら
の有機モノマー化合物の官能基はカルボン酸基、ヒドロ
キシル基、エステル基、アシルオキシ基、酸ハロゲン化
物、アミン基などでよい。上記有機上ツマー化合物は、
溶融アシドリシス法により熱交換流体を存在させずに反
応させることができる。この方法ではモノマーをまず一
緒に加熱して反応物質の溶融溶液を形成する。反応を続
けていくと固体のポリマー粒子が液中に懸濁するように
なる。縮合の最終段階で副生じた揮発物（例、酢酸また
は水）の除去を容易にするために真空を適用してもよい
。
マーである上記Ｉ） 、ＩＩ） 、ＩＩＩ）のポリエス
テル及び■）のポリエステルアミドは、縮合により所要
の反復単位を形成する官能基を有している有機モノマー
化合物同士を反応させることのできる多様なエステル形
成法により生成させることができる。たとえば、これら
の有機モノマー化合物の官能基はカルボン酸基、ヒドロ
キシル基、エステル基、アシルオキシ基、酸ハロゲン化
物、アミン基などでよい。上記有機上ツマー化合物は、
溶融アシドリシス法により熱交換流体を存在させずに反
応させることができる。この方法ではモノマーをまず一
緒に加熱して反応物質の溶融溶液を形成する。反応を続
けていくと固体のポリマー粒子が液中に懸濁するように
なる。縮合の最終段階で副生じた揮発物（例、酢酸また
は水）の除去を容易にするために真空を適用してもよい
。
また、スラリー重合法も本発明に用いるのに好適な完全
芳香族ポリエステルの形成に採用できる。この方法では
、固体生成物は熱交換媒質中に懸濁した状態で得られる
。
芳香族ポリエステルの形成に採用できる。この方法では
、固体生成物は熱交換媒質中に懸濁した状態で得られる
。
上記の溶融アシドリシス法およびスラリー重合法のいず
れを採用するにしても、完全芳香族ポリエステルを誘導
する有機モノマー反応物質は、かかるモノマーの常温で
のヒドロキシル基をエステル化した変性形態で（すなわ
ち、低級アシルエステルとして）反応に供することがで
きる。低級アシル基は炭素数約２〜４のものが好ましい
。好ましくは、かかる有機モノマー反応物質の酢酸エス
テルを反応に供する。
れを採用するにしても、完全芳香族ポリエステルを誘導
する有機モノマー反応物質は、かかるモノマーの常温で
のヒドロキシル基をエステル化した変性形態で（すなわ
ち、低級アシルエステルとして）反応に供することがで
きる。低級アシル基は炭素数約２〜４のものが好ましい
。好ましくは、かかる有機モノマー反応物質の酢酸エス
テルを反応に供する。
更に溶融アシドリシス法又はスラリー法のいずれにも任
意に使用しうる触媒の代表例としては、ジアルキルスズ
オキシド（例、シフチルスズオキシド）、ジアリールス
ズオキシド、二酸化チタン、三酸化アンチモン、アルコ
キシチタン、シリケート、チタンアルコキシド、カルボ
ン酸のアルカリおよびアルカリ土類金属塩（例、酢酸亜
鉛）、ルイス（例、ＢＰ、 ） 、ハロゲン化水素（例
、ＨＣＩ ’）などの気体状酸触媒などが挙げられる。
意に使用しうる触媒の代表例としては、ジアルキルスズ
オキシド（例、シフチルスズオキシド）、ジアリールス
ズオキシド、二酸化チタン、三酸化アンチモン、アルコ
キシチタン、シリケート、チタンアルコキシド、カルボ
ン酸のアルカリおよびアルカリ土類金属塩（例、酢酸亜
鉛）、ルイス（例、ＢＰ、 ） 、ハロゲン化水素（例
、ＨＣＩ ’）などの気体状酸触媒などが挙げられる。
触媒の使用量は一般にはモノマーの全重量に基づいて約
０．００１〜１重量％、特に約０．０１〜０．２重量％
である。
０．００１〜１重量％、特に約０．０１〜０．２重量％
である。
本発明に使用するのに適した完全芳香族ポリマーは、一
般溶剤には実質的に不溶である傾向を示し、したがって
溶液加工には不向きである。
般溶剤には実質的に不溶である傾向を示し、したがって
溶液加工には不向きである。
しかし、既に述べたように、これらのポリマーは普通の
溶融加工法により容易に加工することができる。特に好
ましい完全芳香族ポリマーはペンタフルオロフェノール
にはいくらか可？容である。
溶融加工法により容易に加工することができる。特に好
ましい完全芳香族ポリマーはペンタフルオロフェノール
にはいくらか可？容である。
本発明で用いるのに好適な完全芳香族ポリエステルは一
般に重量平均分子量が約２ 、０００〜２００．０００
、好ましくは約ｉｏ、ｏｏｏ〜５０，０００、特に好
ましくは約２０．０００〜２５，０００であ名。一方、
好適な完全芳香族ポリ （エステル−アミド）は一般に
分子量が約５，０００〜５０，０００、好ましくは約１
０．０００〜３０，０００、例えば１５，０００〜１７
．０００である。
般に重量平均分子量が約２ 、０００〜２００．０００
、好ましくは約ｉｏ、ｏｏｏ〜５０，０００、特に好
ましくは約２０．０００〜２５，０００であ名。一方、
好適な完全芳香族ポリ （エステル−アミド）は一般に
分子量が約５，０００〜５０，０００、好ましくは約１
０．０００〜３０，０００、例えば１５，０００〜１７
．０００である。
かかる分子量の測定は、ゲルパーミェーションクロマト
グラフィーならびにその他のポリマーの溶液形成を伴わ
ない標準的測定法、たとえば圧縮成形フィルムについて
赤外分光法により末端基を定量することにより実施でき
る。また、ペンタフルオロフェノール溶液にして光散乱
法を用いて分子量を測定することもできる。
グラフィーならびにその他のポリマーの溶液形成を伴わ
ない標準的測定法、たとえば圧縮成形フィルムについて
赤外分光法により末端基を定量することにより実施でき
る。また、ペンタフルオロフェノール溶液にして光散乱
法を用いて分子量を測定することもできる。
上記の完全芳香族ポリエステルおよびポリエステルアミ
ドはまた、６０℃でペンタフルオロフェノールに０．１
重量％濃度で溶解したときに、少なくとも約２．０ ｄ
ｌ／ｇ、たとえば約２．０〜１０．０ａ／ｇの対数粘度
（１，Ｖ、）を一般に示す。
ドはまた、６０℃でペンタフルオロフェノールに０．１
重量％濃度で溶解したときに、少なくとも約２．０ ｄ
ｌ／ｇ、たとえば約２．０〜１０．０ａ／ｇの対数粘度
（１，Ｖ、）を一般に示す。
本発明で用いられるのに特に好ましい異方性溶融相を形
成するポリエステルは、６−ヒドロキシ−２−ナフトイ
ル、２．６−シオキシナフタレン及び２，６−ジカルボ
キシナフタレン等のナフタレン部分含有反復単位を約１
０モル％以上の量で含有するものである。好ましいポリ
エステルアミドは上述ナフタレン部分と４−アミノフェ
ノール又は１，４−フェニレンジアミンよりなる部分と
の反復単位を含有するものである。
成するポリエステルは、６−ヒドロキシ−２−ナフトイ
ル、２．６−シオキシナフタレン及び２，６−ジカルボ
キシナフタレン等のナフタレン部分含有反復単位を約１
０モル％以上の量で含有するものである。好ましいポリ
エステルアミドは上述ナフタレン部分と４−アミノフェ
ノール又は１，４−フェニレンジアミンよりなる部分と
の反復単位を含有するものである。
具体的には以下の通りである。
（１）本質的に下記反復単位ＩおよびＨからなるポリエ
ステル。
ステル。
このポリエステルは約１０〜９０モル％の単位■と約１
０〜９０モル％の単位■を含有する。１態様において単
位■は約６５〜８５モル％、好ましくは約７０〜８０モ
ル％（例、約７５モル％）の星まで存在する。別の態様
において、単位■は約１５〜３５モル％、好ましくは約
２０〜３０モル％というずっと低濃度の量で存在する。
０〜９０モル％の単位■を含有する。１態様において単
位■は約６５〜８５モル％、好ましくは約７０〜８０モ
ル％（例、約７５モル％）の星まで存在する。別の態様
において、単位■は約１５〜３５モル％、好ましくは約
２０〜３０モル％というずっと低濃度の量で存在する。
また環に結合している水素原子の少なくとも一部は、場
合により、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４の
アルコキシ基、ハロゲン、フェニル、置換フェニルおよ
びこれらの組み合わせよりなる群から選ばれた置換基に
より置換されていてもよい。
合により、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４の
アルコキシ基、ハロゲン、フェニル、置換フェニルおよ
びこれらの組み合わせよりなる群から選ばれた置換基に
より置換されていてもよい。
（２）本質的に下記反復単位Ｉ、■および■からなるポ
リエステル。
リエステル。
このポリエステルは約３０〜７０モル％の単位■を含有
する。このポリエステルは、好ましくは、約４０〜６０
モル％の単位■、約２０〜３０モル％の単位■、そして
約２０〜３０モル％の単位■を含有する。また、また環
に結合している水素原子の少な（とも一部は、場合によ
り、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコ
キシ基、ハロゲン、フェニル、置換フェニルおよびこれ
らの組み合わせよりなる群から選ばれた置換基により置
換されていてもよい。
する。このポリエステルは、好ましくは、約４０〜６０
モル％の単位■、約２０〜３０モル％の単位■、そして
約２０〜３０モル％の単位■を含有する。また、また環
に結合している水素原子の少な（とも一部は、場合によ
り、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコ
キシ基、ハロゲン、フェニル、置換フェニルおよびこれ
らの組み合わせよりなる群から選ばれた置換基により置
換されていてもよい。
（３）本質的に下記反復単位■、■、■および■からな
るポリエステル： （式中、Ｒはメチル、クロロ、ブロモまたはこれらの組
み合せを意味し、芳香環上の水素原子に対する置換基で
ある）、からなり、かつ単位■を約２０〜６０モル％、
単位■を約５〜１８モル％１、単位■を約５〜３５モル
％、そして単位■を約２０〜４０モル％の量で含有する
。このポリエステルは、好ましくは、約３５〜４５モル
％の単位■、約１０〜１５モル％の単位■、約１５〜２
５モル％の単位ｍ１そして約２５〜３５モル％の単位■
を含有する。ただし、単位■と■の合計モル濃度は単位
■のモル濃度に実質的に等しい。
るポリエステル： （式中、Ｒはメチル、クロロ、ブロモまたはこれらの組
み合せを意味し、芳香環上の水素原子に対する置換基で
ある）、からなり、かつ単位■を約２０〜６０モル％、
単位■を約５〜１８モル％１、単位■を約５〜３５モル
％、そして単位■を約２０〜４０モル％の量で含有する
。このポリエステルは、好ましくは、約３５〜４５モル
％の単位■、約１０〜１５モル％の単位■、約１５〜２
５モル％の単位ｍ１そして約２５〜３５モル％の単位■
を含有する。ただし、単位■と■の合計モル濃度は単位
■のモル濃度に実質的に等しい。
また、環に結合している水素原子の少な（とも一部は、
場合により、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４
のアルコキシ基、ハロゲン、フェニル、置換フェニルお
よびこれらの組み合わせよりなる群から選ばれた置換基
により置換されていてもよい。この完全芳香族ポリエス
テルは、６０℃でペンタフルオロフェノールに０．３ｗ
／ｖχ濃度で溶解したときに少な（とも２．Ｏｄｌｇた
とえば２．０〜１０．０ｄＩ／ｇの対数粘度を一般に示
す。
場合により、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４
のアルコキシ基、ハロゲン、フェニル、置換フェニルお
よびこれらの組み合わせよりなる群から選ばれた置換基
により置換されていてもよい。この完全芳香族ポリエス
テルは、６０℃でペンタフルオロフェノールに０．３ｗ
／ｖχ濃度で溶解したときに少な（とも２．Ｏｄｌｇた
とえば２．０〜１０．０ｄＩ／ｇの対数粘度を一般に示
す。
（４）木質的に下記反復単位■、■、■およびＩＶから
なるポリエステル： ＩＩＩ −ｆｉ式−ＥＯ−Ａｒ−０） （式中、Ａ
ｒは少なくとも１個の芳香環を含む２価基を意味する）
で示されるジオキシアリール単位、１１Ｉ ＩＶ −１’ｌＱ式４Ｃ−Ａｒ’−Ｃ） （式中、
Ａｒ’ は少なくとも１個の芳香環を含む２価基を意味
する）で示されるジカルボキシアリール単位、 からなり、かつ単位■を約２０〜４０モル％、単位■を
１０モル％を越え、約５０モル％以下、単位■を５モル
％を越え、約３０モル％以下、そして単位■を５モル％
を越え、約３０モル％以下の量で含有する。このポリエ
ステルは、好ましくは、約２０〜３０モル％（例約２５
モル％）の単位Ｉ、約２５〜４０モル％（例、約３５モ
ル％）の単位■、約１５〜２５モル％（例、約２０モル
％）の単位■、そして約１５〜２５モル％（例、約２０
モル％）の単位■を含有する。また、環に結合している
水素原子の少なくとも一部は、場合により、炭素数１〜
４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲ
ン、フェニル、置換フェニルおよびこれらの組み合わせ
よりなる群から選ばれた置換基により置換されていても
よい。
なるポリエステル： ＩＩＩ −ｆｉ式−ＥＯ−Ａｒ−０） （式中、Ａ
ｒは少なくとも１個の芳香環を含む２価基を意味する）
で示されるジオキシアリール単位、１１Ｉ ＩＶ −１’ｌＱ式４Ｃ−Ａｒ’−Ｃ） （式中、
Ａｒ’ は少なくとも１個の芳香環を含む２価基を意味
する）で示されるジカルボキシアリール単位、 からなり、かつ単位■を約２０〜４０モル％、単位■を
１０モル％を越え、約５０モル％以下、単位■を５モル
％を越え、約３０モル％以下、そして単位■を５モル％
を越え、約３０モル％以下の量で含有する。このポリエ
ステルは、好ましくは、約２０〜３０モル％（例約２５
モル％）の単位Ｉ、約２５〜４０モル％（例、約３５モ
ル％）の単位■、約１５〜２５モル％（例、約２０モル
％）の単位■、そして約１５〜２５モル％（例、約２０
モル％）の単位■を含有する。また、環に結合している
水素原子の少なくとも一部は、場合により、炭素数１〜
４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲ
ン、フェニル、置換フェニルおよびこれらの組み合わせ
よりなる群から選ばれた置換基により置換されていても
よい。
単位■と■は、ポリマー主鎖内でこれらの単位を両側の
他の単位につなげている２価の結合が１または２以上の
芳香環上で対称的配置にある（たとえば、ナフタレン環
上に存在するときは互いにバラの位置か、または対角環
上に配置されている）という意味で対称的であるのが好
ましい。ただし、レゾルシノールおよびイソフタル酸か
ら誘導されるような非対称単位も使用できる。
他の単位につなげている２価の結合が１または２以上の
芳香環上で対称的配置にある（たとえば、ナフタレン環
上に存在するときは互いにバラの位置か、または対角環
上に配置されている）という意味で対称的であるのが好
ましい。ただし、レゾルシノールおよびイソフタル酸か
ら誘導されるような非対称単位も使用できる。
好ましいジオキシアリール単位■は
であり、好ましいジカルボキシアリール単位■は
である。
（５）本質的に下記反復単位■、■および■からなるポ
リエステル： ■ 一般式−（０−Ａｒ−０）（式中、計は少な（とも
１個の芳香環を含む２価基を意味する）で示されるジオ
キシアリール単位、少なくとも１個の芳香環を含む２価
基を意味する）で示されるジカルボキシアリール単位、 からなり、かつ単位Ｉを約１０〜９０モル％、単位■を
５〜４５モル％、単位■を５〜４５モル％の量で含有す
る。このポリエステルは、好ましくは、約２０〜８０モ
ル％の単位Ｉ、約１０〜４０モル％の単位■、そして約
１０〜４０モル％の単位■を含有する。さらに好ましく
は、このポリエステルは約６０〜８０モル％の単位■、
約１０〜２０モル％の単位■、そして約１０〜２０モル
％の単位■を含有する。また、環に結合している水素原
子の少なくとも一部は、場合により、炭素数１〜４のア
ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン、フ
ェニル、置換フェニルおよびこれらの組み合わせよりな
る群から選ばれた置換基により置換されていてもよい。
リエステル： ■ 一般式−（０−Ａｒ−０）（式中、計は少な（とも
１個の芳香環を含む２価基を意味する）で示されるジオ
キシアリール単位、少なくとも１個の芳香環を含む２価
基を意味する）で示されるジカルボキシアリール単位、 からなり、かつ単位Ｉを約１０〜９０モル％、単位■を
５〜４５モル％、単位■を５〜４５モル％の量で含有す
る。このポリエステルは、好ましくは、約２０〜８０モ
ル％の単位Ｉ、約１０〜４０モル％の単位■、そして約
１０〜４０モル％の単位■を含有する。さらに好ましく
は、このポリエステルは約６０〜８０モル％の単位■、
約１０〜２０モル％の単位■、そして約１０〜２０モル
％の単位■を含有する。また、環に結合している水素原
子の少なくとも一部は、場合により、炭素数１〜４のア
ルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン、フ
ェニル、置換フェニルおよびこれらの組み合わせよりな
る群から選ばれた置換基により置換されていてもよい。
好ましいジオキシアリール単位■は
であり、好ましいジカルボキシアリール単位■は
である。
（６）本質的に下記反復単位Ｉ、■、■および■からな
るポリエステルアミド： Ｏ ■ 一般式イＣ−Ａ−Ｃ） （式中、Ａは少なくとも
１個の芳香環を含む２価基または２価トランス−シクロ
ヘキサン基を意味する）、■ 一般式−ＥＹ−Ａｒ−Ｚ
） （式中、＾ｒは少なくとも１個の芳香環を含む２
価基、Ｙは０、ＮＨまたはＮＲ，ＺはＮＨまたはＮＲを
それぞれ意味し、Ｒは炭素数１〜６のアルキル基か、ま
たはアリール基を意味する）、■ 一般式（０−Ａｒ”
−０） （式中、静”は少なくとも１個の芳香環を含
む２価基を意味する）、 からなり、かつ単位Ｉを約１０〜９０モル％、単位■を
約５〜４５モル％、単位■を約５〜４５モル％、そして
単位■を約０〜４０モル％の量で含有する。また、環に
結合している水素原子の少なくとも一部は、場合により
、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキ
シ基、ハロゲン、フェニル、置換フェニルおよびこれら
の組み合わせよりなる群から選ばれた置換基により置換
されていてもよい。
るポリエステルアミド： Ｏ ■ 一般式イＣ−Ａ−Ｃ） （式中、Ａは少なくとも
１個の芳香環を含む２価基または２価トランス−シクロ
ヘキサン基を意味する）、■ 一般式−ＥＹ−Ａｒ−Ｚ
） （式中、＾ｒは少なくとも１個の芳香環を含む２
価基、Ｙは０、ＮＨまたはＮＲ，ＺはＮＨまたはＮＲを
それぞれ意味し、Ｒは炭素数１〜６のアルキル基か、ま
たはアリール基を意味する）、■ 一般式（０−Ａｒ”
−０） （式中、静”は少なくとも１個の芳香環を含
む２価基を意味する）、 からなり、かつ単位Ｉを約１０〜９０モル％、単位■を
約５〜４５モル％、単位■を約５〜４５モル％、そして
単位■を約０〜４０モル％の量で含有する。また、環に
結合している水素原子の少なくとも一部は、場合により
、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキ
シ基、ハロゲン、フェニル、置換フェニルおよびこれら
の組み合わせよりなる群から選ばれた置換基により置換
されていてもよい。
好ましいジカルボキシアリール単位■はであり、好まし
い単位■は であり、好ましいジオキシアリール単位■はである。
い単位■は であり、好ましいジオキシアリール単位■はである。
更に、本発明の異方性溶融相を形成するポリマーには、
一つの高分子鎖の一部が上記までに説明した異方性溶融
相を形成するポリマーのセグメントから構成され、残り
の部分が異方性溶融相を形成しない熱可塑性樹脂のセグ
メントから構成されるポリマーも含まれる。
一つの高分子鎖の一部が上記までに説明した異方性溶融
相を形成するポリマーのセグメントから構成され、残り
の部分が異方性溶融相を形成しない熱可塑性樹脂のセグ
メントから構成されるポリマーも含まれる。
本発明に使用される異方性溶融相を形成する溶融加工可
能なポリマー組成物には■その他の異方性溶融相を形成
するポリマー、■異方性溶融相を形成しない熱可塑性樹
脂、■熱硬化性樹脂、■低分子有機化合物、■無機物の
内の１つあるいはそれ以上を含有していてもよい。ここ
で組成物中の異方性溶融相を形成するポリマーと残りの
部分とは熱力学的に相溶していてもしていなくてもよい
。
能なポリマー組成物には■その他の異方性溶融相を形成
するポリマー、■異方性溶融相を形成しない熱可塑性樹
脂、■熱硬化性樹脂、■低分子有機化合物、■無機物の
内の１つあるいはそれ以上を含有していてもよい。ここ
で組成物中の異方性溶融相を形成するポリマーと残りの
部分とは熱力学的に相溶していてもしていなくてもよい
。
上記■の熱可り性樹脂としては、例えばポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリブタジェン、ポリ
イソプレン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ、
塩化ビニリデン、ポリスチレン、アクリル系樹脂、ＡＢ
Ｓ樹脂、ＡＳ樹脂、ＢＳ樹脂、ポリウレタン、シリコー
ン樹脂、フッ素系樹脂、ポリアセタール、ポリカーボネ
ート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレ
フタレート、芳香族ポリエステル、ポリアミド、ポリア
クリロニトリル、ポリビニルアルコール、ポリビニルエ
ーテル、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリ
エーテルエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン
、ポリ、エーテルサルフォン、ポリサルフォン、ポリフ
ェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキシド等が含ま
れる。
ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリブタジェン、ポリ
イソプレン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリ、
塩化ビニリデン、ポリスチレン、アクリル系樹脂、ＡＢ
Ｓ樹脂、ＡＳ樹脂、ＢＳ樹脂、ポリウレタン、シリコー
ン樹脂、フッ素系樹脂、ポリアセタール、ポリカーボネ
ート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレ
フタレート、芳香族ポリエステル、ポリアミド、ポリア
クリロニトリル、ポリビニルアルコール、ポリビニルエ
ーテル、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリ
エーテルエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン
、ポリ、エーテルサルフォン、ポリサルフォン、ポリフ
ェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキシド等が含ま
れる。
父上記■の熱硬化性樹脂としては、例えばフェノール樹
脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、不飽和
ポリエステル樹脂、アルキド樹脂等が含まれる。
脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、不飽和
ポリエステル樹脂、アルキド樹脂等が含まれる。
父上記■の低分子有機化合物としては、例えば一般の熱
可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂に添加される物質で、すな
わち、可塑剤、酸化防止剤や紫外線吸収剤等の両光、又
は耐候安定剤、帯電防止剤、難燃剤、染料や顔料等の着
色剤、発泡剤、更に、ジビニル系化合物、過酸化物や加
硫剤等の架橋剤及び流動性や離型性の改善のための滑剤
等に使われる低分子打機化合物が含まれる。
可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂に添加される物質で、すな
わち、可塑剤、酸化防止剤や紫外線吸収剤等の両光、又
は耐候安定剤、帯電防止剤、難燃剤、染料や顔料等の着
色剤、発泡剤、更に、ジビニル系化合物、過酸化物や加
硫剤等の架橋剤及び流動性や離型性の改善のための滑剤
等に使われる低分子打機化合物が含まれる。
更に上記■の無機物としては、例えば−船の熱可塑性樹
脂及び熱硬化性樹脂に添加される物質で、すなわち、ガ
ラス繊維、炭素繊維、金属繊維、セラミック繊維、ボロ
ン繊維、アスベスト等の一般無機繊維、炭酸カルシウム
、高分散性けい酸、アルミナ、水酸化アルミニウム、タ
ルク粉、マイカ、ガラスフレーク、ガラスピーズ、石英
粉、けい砂、各種金属粉末、カーボンブランク、硫酸バ
リウム、焼石こう等の粉末物質及び炭化けい素、アルミ
ナ、ボロンナイトライドや窒化けい素等の無機化合物、
ウィスカーや金属ウィスカー等が含まれる。
脂及び熱硬化性樹脂に添加される物質で、すなわち、ガ
ラス繊維、炭素繊維、金属繊維、セラミック繊維、ボロ
ン繊維、アスベスト等の一般無機繊維、炭酸カルシウム
、高分散性けい酸、アルミナ、水酸化アルミニウム、タ
ルク粉、マイカ、ガラスフレーク、ガラスピーズ、石英
粉、けい砂、各種金属粉末、カーボンブランク、硫酸バ
リウム、焼石こう等の粉末物質及び炭化けい素、アルミ
ナ、ボロンナイトライドや窒化けい素等の無機化合物、
ウィスカーや金属ウィスカー等が含まれる。
次に本発明に係る光ディスクの製造法を前単に説明する
と、先ず常法に従い、ガラス基盤のフォトレジスト面に
蒸着又は無電解メッキ法で導電性膜を形成した後ニッケ
ル電鋳を行い、マスター盤、マザー盤、次いで人里複製
の為の母型（スタンパ−）を作製する。次いでこのスタ
ンパ−を母型にして本発明の異方性溶融相を形成する溶
融加工可能なポリマー組成物を用いて押出し、射出成形
、圧縮成形等で第１図に示す如きディスク基板ｌの成形
と同時に情報ピントのａ２を刻設する。次いでこの情報
ピット２形成面に金属被覆層３を形成する。金属被覆層
３の金属の種類は特に制限されないが、最も一般的なの
はアルミニウム、クロム、金、銀、銅、スズ等であり、
被覆層の形成法は蒸着法、スパッタリング法、イオンブ
レーティング法等、従来から知られた全ての方法を採用
することができる。またその厚さは、上記反射能が有効
に発揮される限り格別の制約はないが、該被覆層の特性
と経済性の両面を満足するうえで最も一般的なのは５０
０−１，５００人程度、好ましくは７００〜８００ 人
程度である。
と、先ず常法に従い、ガラス基盤のフォトレジスト面に
蒸着又は無電解メッキ法で導電性膜を形成した後ニッケ
ル電鋳を行い、マスター盤、マザー盤、次いで人里複製
の為の母型（スタンパ−）を作製する。次いでこのスタ
ンパ−を母型にして本発明の異方性溶融相を形成する溶
融加工可能なポリマー組成物を用いて押出し、射出成形
、圧縮成形等で第１図に示す如きディスク基板ｌの成形
と同時に情報ピントのａ２を刻設する。次いでこの情報
ピット２形成面に金属被覆層３を形成する。金属被覆層
３の金属の種類は特に制限されないが、最も一般的なの
はアルミニウム、クロム、金、銀、銅、スズ等であり、
被覆層の形成法は蒸着法、スパッタリング法、イオンブ
レーティング法等、従来から知られた全ての方法を採用
することができる。またその厚さは、上記反射能が有効
に発揮される限り格別の制約はないが、該被覆層の特性
と経済性の両面を満足するうえで最も一般的なのは５０
０−１，５００人程度、好ましくは７００〜８００ 人
程度である。
本発明の光ディスクは更に金属被覆層３の表面に光透過
層兼表面保護層４を設ける。本発明に使用される異方性
溶融相を形成するポリマーは不透明であるため、基板側
からレーザー光照射を行わず、第１図に矢印で示す如く
、その反対側から金属被覆層に対してレーザー光線を照
射するので、金属被覆層３の表面保８Ｗ層４は透明樹脂
で形成され、光透過層としての役割を果たす必要がある
。この様な透明樹脂としては、アクリル系紫外線硬化樹
脂、メタクリル樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、
エポキシ樹脂等が挙げられる。
層兼表面保護層４を設ける。本発明に使用される異方性
溶融相を形成するポリマーは不透明であるため、基板側
からレーザー光照射を行わず、第１図に矢印で示す如く
、その反対側から金属被覆層に対してレーザー光線を照
射するので、金属被覆層３の表面保８Ｗ層４は透明樹脂
で形成され、光透過層としての役割を果たす必要がある
。この様な透明樹脂としては、アクリル系紫外線硬化樹
脂、メタクリル樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、
エポキシ樹脂等が挙げられる。
父上記の例では１枚のディスク基板１を用いて片面側の
みから記録情報を再生し得る様にしたが、例えば第２図
に示す如（、金属被覆層３が設けられない側が対面する
様に２枚を接着剤で合体させれば、表・裏面を記録再生
面として利用することができる。
みから記録情報を再生し得る様にしたが、例えば第２図
に示す如（、金属被覆層３が設けられない側が対面する
様に２枚を接着剤で合体させれば、表・裏面を記録再生
面として利用することができる。
本発明は概略以上の様に構成されており、その効果を要
約すれば下記の通りである。
約すれば下記の通りである。
１、 アクリル系樹脂、ポリカーボネート等よりも水分
及び熱等の外部環境下での寸法安定性が優れている。
及び熱等の外部環境下での寸法安定性が優れている。
２、 アクリル系樹脂、ポリカーボネート等よりも射出
成形時の成形収縮率が小さく、形状寸法精度が高い。
成形時の成形収縮率が小さく、形状寸法精度が高い。
３、優れた成形性を有しているから、スタンパ−の微細
で緻密な凹凸を忠実に再現することができ、情報の記録
・再生精度が高い。
で緻密な凹凸を忠実に再現することができ、情報の記録
・再生精度が高い。
次に本発明の実施例を示すが、これらの例はもとより本
発明を限定するものではない。
発明を限定するものではない。
実施例１
光ディスク用スタンパ−を金型に挿入し、後記する異方
性溶融相を形成するポリマーＡをシリンダ一温度３００
℃、射出圧２００ ｋｇ／ｃｍＺ、金型温度８０℃で射
出成形し、直径１２０ｍｍ、厚さ１ 、２ｍｍの光デイ
スク基板（１）を得た。このディスク基板の情報ピット
（２）面側に約５００人のアルミニウムａ膜（３）を蒸
着させ、その上にアクリル系紫外線硬化樹脂を塗布し、
紫外線硬化させ、厚さ約ｌＯμｍの表面保護層（４）を
形成した。
性溶融相を形成するポリマーＡをシリンダ一温度３００
℃、射出圧２００ ｋｇ／ｃｍＺ、金型温度８０℃で射
出成形し、直径１２０ｍｍ、厚さ１ 、２ｍｍの光デイ
スク基板（１）を得た。このディスク基板の情報ピット
（２）面側に約５００人のアルミニウムａ膜（３）を蒸
着させ、その上にアクリル系紫外線硬化樹脂を塗布し、
紫外線硬化させ、厚さ約ｌＯμｍの表面保護層（４）を
形成した。
得られた光ディスクを温度４０°Ｃ１湿度９０％Ｒ１１
で４８時間放置して、ディスクに変形・反りがあるかど
うかを調べた。また同様の成形条件で試験片を成形し、
衝撃強度（ＡＳＴＭ Ｄ−２５６）、線膨張係数（ＡＳ
ＴＭ Ｄ−６９６）及び成形収縮率を測定した。
で４８時間放置して、ディスクに変形・反りがあるかど
うかを調べた。また同様の成形条件で試験片を成形し、
衝撃強度（ＡＳＴＭ Ｄ−２５６）、線膨張係数（ＡＳ
ＴＭ Ｄ−６９６）及び成形収縮率を測定した。
実施例２〜３
ディスク基板を形成する樹脂を後述する異方性溶融相を
形成するポリマーＢ、Ｃに夫々変更した以外は実施例１
と同様に実験を行った。
形成するポリマーＢ、Ｃに夫々変更した以外は実施例１
と同様に実験を行った。
比較例１
光デイスク用ポリメタクリレート樹脂を用い、実施例１
と同様の方法で、ディスク基板を射出成形した（シリン
ダ一温度：２６０℃、射出圧：５０ ｋｇ／ｃｍ”、金
型温度： ７０℃）。このディスク基板上に実施例１と
同様に金属被膜と表面保護層を形成し、同様の試験を行
った。
と同様の方法で、ディスク基板を射出成形した（シリン
ダ一温度：２６０℃、射出圧：５０ ｋｇ／ｃｍ”、金
型温度： ７０℃）。このディスク基板上に実施例１と
同様に金属被膜と表面保護層を形成し、同様の試験を行
った。
比較例２
光デイスク用ポリカーボネート樹脂を用い、実施例１と
同様の方法でディスクＷ仮を射出成形した（シリンダ一
温度２９０℃、射出圧８００ｋｇ／ｃｍ”、金型温度８
０℃）。
同様の方法でディスクＷ仮を射出成形した（シリンダ一
温度２９０℃、射出圧８００ｋｇ／ｃｍ”、金型温度８
０℃）。
以下比較例１と同様に実験を行った。
以上の実施例及び比較例の結果をまとめて第１表に示す
。
。
尚基板成形用樹脂として使用した異方性溶融相を形成す
るポリマーＡ、Ｂ、Ｃは下記の構成単位を有するもので
ある。
るポリマーＡ、Ｂ、Ｃは下記の構成単位を有するもので
ある。
＝６０／２０／２０
＝７０／３０
上記樹脂Ａ、Ｂ、Ｃの具体的製法を次に記す。
く樹脂Ａ〉
４−アセトキシ安息香酸１０８１重量部、６−アセトキ
シ−２−ナフトエ酸４６０重量部、イソフタルＭ１６６
重量部、１．４−ジアセトキシベンゼン１９４重量部を
攪拌機、窒素導入管及び留出管を備えた反応器中に仕込
み、窒素気流下でこの混合物を２６０℃に加熱した。反
応器から酢酸を留出させながら、２６０℃で２．５時間
、次に２８０℃で３時間激しく攪拌した。
シ−２−ナフトエ酸４６０重量部、イソフタルＭ１６６
重量部、１．４−ジアセトキシベンゼン１９４重量部を
攪拌機、窒素導入管及び留出管を備えた反応器中に仕込
み、窒素気流下でこの混合物を２６０℃に加熱した。反
応器から酢酸を留出させながら、２６０℃で２．５時間
、次に２８０℃で３時間激しく攪拌した。
更に、温度を３２０℃に上界させ、窒素の導入を停止し
た後、徐々に反応器中を減圧させ１５分後に圧力をＱ、
ｌ ｍｍ１１ｇに下げ、この温度、圧力で１時間攪拌し
た。
た後、徐々に反応器中を減圧させ１５分後に圧力をＱ、
ｌ ｍｍ１１ｇに下げ、この温度、圧力で１時間攪拌し
た。
得られた重合体は０．１重量％濃度、６０°Ｃでペンタ
フルオロフェノール中で測定して５．０の固有粘度を有
していた。
フルオロフェノール中で測定して５．０の固有粘度を有
していた。
く樹脂Ｂ〉
４−アセトキシ安息香酸１０８１重量部、２．６−ジア
セドキシナフタレン４８９重量部、テレフタル酸３３２
重量部を攪拌機、窒素導入管及び留出管を備えた反応器
中に仕込み、窒素気流下でこの混合物を２５０℃に加熱
した。反応器から酢酸を留出させながら、２５０℃で２
時間、次に２８０℃で２．５時間激しく撹拌した。
セドキシナフタレン４８９重量部、テレフタル酸３３２
重量部を攪拌機、窒素導入管及び留出管を備えた反応器
中に仕込み、窒素気流下でこの混合物を２５０℃に加熱
した。反応器から酢酸を留出させながら、２５０℃で２
時間、次に２８０℃で２．５時間激しく撹拌した。
更に、温度を３２０℃に上昇させ、窒素の導入を停止し
た後、徐々に反応器中を減圧させ３０分後に圧力を０．
２ ｍｍＨｇに下げ、この温度、圧力で１．５時間攪拌
した。
た後、徐々に反応器中を減圧させ３０分後に圧力を０．
２ ｍｍＨｇに下げ、この温度、圧力で１．５時間攪拌
した。
得られた重合体は０．１重量％濃度１６０℃でペンタフ
ルオロフェノール中で測定して２．５の固有粘度を、有
していた。
ルオロフェノール中で測定して２．５の固有粘度を、有
していた。
く樹脂Ｃ〉
４−アセトキシ安息香酸１２６１重量部、６−アセトキ
シ−２−ナフトエ酸６９１重量部、° を攪拌機、窒素
導入管及び留出管を備えた反応器中に仕込み、窒素気流
下でこの混合物を２５０°Ｃに加熱した。反応器から酢
酸を留出させながら、２５０℃で３時間、次に２８０℃
で２時間激しく攪拌した。更に、温度を３２０℃に上昇
させ、窒素の導入を停止した後、徐々に反応器中を減圧
させ２０分後に圧力を０．１ ｍｍＨｅに下げ、この温
度、圧力で１時間撹拌した。
シ−２−ナフトエ酸６９１重量部、° を攪拌機、窒素
導入管及び留出管を備えた反応器中に仕込み、窒素気流
下でこの混合物を２５０°Ｃに加熱した。反応器から酢
酸を留出させながら、２５０℃で３時間、次に２８０℃
で２時間激しく攪拌した。更に、温度を３２０℃に上昇
させ、窒素の導入を停止した後、徐々に反応器中を減圧
させ２０分後に圧力を０．１ ｍｍＨｅに下げ、この温
度、圧力で１時間撹拌した。
得られた重合体は０．１重量％濃度、６０’ｃでペンタ
フルオロフェノール中で測定して５．４の固有粘度を有
していた。
フルオロフェノール中で測定して５．４の固有粘度を有
していた。
第 １ 表
第１図は本発明に係る先ディスクを例示する断面略示図
、第２図は他の例を示す断面略示図である。 １・・・基板 ２・・・情報ピント ３・・・反射層 ４・・・透明樹脂 出願人代理人 古 谷 ２第 １ 図 第２図 手続主甫正書（自発） 昭和６１年１月８日
、第２図は他の例を示す断面略示図である。 １・・・基板 ２・・・情報ピント ３・・・反射層 ４・・・透明樹脂 出願人代理人 古 谷 ２第 １ 図 第２図 手続主甫正書（自発） 昭和６１年１月８日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 異方性溶融相を形成する溶融加工可能なポリマー組
成物からなる基板の片面に、ピットや溝からなる記録層
を形成すると共に、該記録層の露出側に金属被覆層を形
成してなることを特徴とする基板側からレーザー光照射
を行わないタイプの光ディスク。 ２ 異方性溶融相を形成する溶融加工可能なポリマー組
成物からなる基板の両面に、ピットや溝からなる記録層
を形成し、両面を再生可能に構成してなる特許請求の範
囲第１項記載の光ディスク。 ３ 異方性溶融相を形成する溶融加工可能なポリマー組
成物からなる基板２枚を用い、その各々のピットや溝か
らなる記録層の反対側が対向する様に接着剤を介して貼
合し、両面が記録層を有するように構成してなる特許請
求の範囲第１項記載の光ディスク。 ４ 金属被覆層の露出側に光透過層兼表面保護層が形成
されている特許請求の範囲第１項、第２項又は第３項記
載の光ディスク。 ５ 光透過層兼表面保護層が透明樹脂である特許請求の
範囲第４項記載の光ディスク。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59210585A JPS6190343A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | 光ディスク |
| CA000492152A CA1246739A (en) | 1984-10-09 | 1985-10-03 | Optical disc |
| KR1019850007335A KR890004261B1 (ko) | 1984-10-09 | 1985-10-05 | 광 디스크 |
| EP85307182A EP0178836B1 (en) | 1984-10-09 | 1985-10-08 | Optical disc |
| IT8548643A IT1214664B (it) | 1984-10-09 | 1985-10-08 | Derivati di 5-fluoro-2'-deossiuridi na e loro sali, procedimento per produrli ed agenti anti-tumore cheli contengono |
| DE8585307182T DE3582389D1 (de) | 1984-10-09 | 1985-10-08 | Optische platte. |
| US07/031,215 US4719171A (en) | 1984-10-09 | 1987-03-30 | Optical disc |
| SG1297/92A SG129792G (en) | 1984-10-09 | 1992-12-19 | Optical disc |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59210585A JPS6190343A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | 光ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6190343A true JPS6190343A (ja) | 1986-05-08 |
| JPH0375939B2 JPH0375939B2 (ja) | 1991-12-03 |
Family
ID=16591752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59210585A Granted JPS6190343A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-09 | 光ディスク |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4719171A (ja) |
| EP (1) | EP0178836B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6190343A (ja) |
| KR (1) | KR890004261B1 (ja) |
| CA (1) | CA1246739A (ja) |
| DE (1) | DE3582389D1 (ja) |
| SG (1) | SG129792G (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63118243A (ja) * | 1986-09-29 | 1988-05-23 | ローヌ−プーラン・シミ | 光学デイスク用硬質ポリマー基材及び該基材から作る光学デイスク |
| US5716761A (en) * | 1995-09-19 | 1998-02-10 | Pioneer Electronic Corporation | Double-sided-multi-layered optical disc and a method for manufacturing the same |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0765154B2 (ja) * | 1985-09-02 | 1995-07-12 | ポリプラスチックス株式会社 | 表面金属処理した樹脂成形品 |
| FR2604552A1 (fr) * | 1986-09-29 | 1988-04-01 | Rhone Poulenc Chimie | Substrat polymere rigide utilisable comme support d'enregistrement magnetique et le disque magnetique obtenu a partir de ce substrat |
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