JPS6191148A - アセトンの合成法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、アセトンの合成法に係り、特に、水および酸
素錯体の存在下、プロピレンを酸化してアセトンを製造
する方法に関するものである。

（従来の技術） アセトンは代表的な脂肪族ケトンであり、アセチルセル
ロース、ニトロセルロース、アセチレンなどの溶剤とし
て工業的に多量に用いられる他、医薬方面でも脂肪、樹
脂、ショウノウなどの溶剤となり、さらに多くの中間製
品、例えば、メチルイソブチルケトン、メチルイソブチ
ルカルビノール、メタクリル酸メチル、ビスフェノール
Ａ１さらにはケテン等の合成原料となるなど、化学工業
において重要な位置を占めている。

アセトンの工業的な合成法としては、（１）イソプロパ
ツールの脱水法、（２）クメン法および（３）プロピレ
ンの酸化法の３つに大別される。

この中で、イソプロパツールの脱水素法は、Ｚｎｏまた
はＣｕ等を脱水素触媒として、３００〜５００℃、３ａ
ｔｍという苛酷な条件下で操業され、イソプロパツール
反応率約９８％、アセトン選択率９０％とされている。

また、クメン法は、常圧、１２０℃下、液相でクメンを
Ｃｕ、ＣＯ塩等を触媒として酸素酸化し、クメンヒドロ
パーオキシドを合成し、これを６０〜６５℃で０．１〜
２％のＨ２ＳＯ４により分解し、フェノールとアセトン
を併産するものである。クメン基準の選択率は９０％程
度であり、フェノールが６０％、アセトンが４０％を占
める。これらのプロセスは現在操業が続けられているが
、より温和な反応条件で、一段でのアセトンの製法とし
て注目されるのが、プロピレンを原料として塩化パラジ
ウム（Ｐｄ（２）ｃ１２）−塩化第２銅（Ｃｕ　（２）
ＣＪ２）を触媒として用いる、いわゆるフッカ法であり
、アセトンの製法のうち、最も特色のあるものである。

この方法では、触媒であるＰｄ（２）ＣＪｚとＣｕ　（
２）Ｃ５を塩酸溶液（ｐＨＯ〜２）に溶解させた複合触
媒を用いている。まず、２価のパラジウム（Ｐｄ　（２
））と水によってプロピレンが酸化され、アセトン（Ｃ
Ｈ３ＣＯＣＨ３）を生成する。その反応は次式で示され
反応には水が関与している。

ＣＨ３ＣＨ−ＣＨ，＋Ｐｄ　（２）ｃｚ２＋Ｈ，０→Ｃ
Ｈ３−Ｃ−ＣＨコ　＋ｐｔ１　　（０）　　↓＋２ＨＣ
＆　　（１）反応式かられかるようにｐａ　（２）は還
元されて金属パラジウム（Ｐｄ　（０）’）となり沈澱
する。

これを防止するとともに、Ｃｕ　（２）ＣＩｌｚを多量
に共存させ、次式に示すようにｐａ　（０）をＰｄ（２
）に酸化し、再生する必要がある。

Ｐｄ　（０）＋２Ｃｕ　（２）Ｃ１２ −Ｐｄ　（，２）Ｃ１２＋２Ｃｕ　（１）Ｃ７！　　　
（２）さらに、このとき副生じた難溶性のＣｕ　（１）
Ｃ１は、ＨＣｌの共存下、次式に従い酸素酸化され、Ｃ
ｕ　（２）ＣＩ１２にもどされる。

２Ｃｕ　（１）Ｃ１＋　−０２＋２ＨＣ＃→２Ｃｕ　（
２）ＣＩｌｚ　＋Ｈ２０（３）このように、？ｄ　Ｃ２
）／Ｐｄ　（０）およびＣｕ　（２）／Ｃｕ　（１）の
レドックス系を採用してプロピレンの連続的な酸化を可
能にしている。しかし、以上述べたように、酸素分子が
直接プロピレンと反応するのではなくｐｄ　（２）／Ｐ
ｄ　（０）　、Ｃｕ　（２）／Ｃｕ　（１）系の酸化還
元反応ヲ利用しているので、これらが律速段階となって
いる。また反応の途中で、難溶性のｐａ　（０）および
Ｃｕ　（１）　（１！を生成するので、濃度の高いＨＣ
７！水溶液（ｐＨＯ４０）が採用され、このため、耐食
性材料の選択が必要となる。さらに酸素の水に対する溶
解度が低いため、その溶解度を上げなければならないこ
と、および高級オレフィンになるほど反応性が低下する
ことから、反応条件は１４０℃、１４ａｔｍのように厳
しいものとなっている。なお、本条件下におけるプロピ
レンの反応率は９９％以上、アセトンへの選択率は９２
％であり、２〜４％のプロピオンアルデヒドが副生する
とされている。また、過剰の溶解酸素が、気相中に放出
されるとプロピレンと酸素が混合し、爆発等のトラブル
の可能性があり、その対策が必要となる。

このように、いずれの方法も、比較的高温、高圧下で行
われており、より温和な条件下でアセトンを合成できる
方法が望まれていた。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明の目的は、これらの課題を解決するために、より
温和な条件下でプロピレンを酸化して、アセトンを選択
的に高収率で合成することにある。

（問題点を解決するための手段） 要するに本発明は、酸素分子が金属イオンに配位結合し
て酸素錯体を形成し得る遷移金属錯体を触媒成分の１つ
として、さらにプロピレンを配位結合し、プロピレン錯
体を形成し得る別種の遷移金属錯体および水を用いるこ
とにより温和な条件下でアセトンを合成する方法である
。すなわち、本発明は、プロピレンを金属錯体触媒の存
在下で酸化してアセトンを合成する方法において、該金
属錯体触媒として酸素と配位結合することにより酸素錯
体を形成し得る錯体（ＭｍＸ　ｎ−Ｌ　ｌ＞と、プロピ
レンと配位結合し、プロピレン錯体を形成し得る錯体触
媒（Ｍ″ｍ’Ｘｎ”Ｌ”ｊ！’）とを含む複合錯体およ
び水を用いること（ここで、Ｍは周期律第１族、第ＩＶ
〜ＶＩＩ族または第１族の鉄族に属する遷移金属、Ｘは
Ｃｌ−、Ｂｒ−１Ｉ−″等のハロゲン、またはＢＦ４−
１ＰＦ感−１ＣＨ３ＣＯＯ−１ｓｏ４２−等の陰イオン
、Ｌは有機リン化合物、Ｍ９は周期律第酉族の白金族に
属する遷移金属、Ｌ′はニトリル類、有機フッ素化合物
または有機リン化合物、ｍ、ｍ“、ｎ、ｎ′は前記遷移
金属および陰イオンの原子価により定まる数、１、Ｉｔ
’は配位数を示す）を特徴とするアセトンの合成法を特
徴とする。

本発明者らは、先に、酸素分子が金属イオンに配位結合
して酸素錯体を形成し得る遷移金属を少なくも触媒成分
の１つとして、プロピレンを配位結合し、プロピレン錯
体を形成し得る遷移金属からなる複合触媒を用い、錯体
生成によって活性化された結合酸素により、錯体生成に
より活性化されたプロピレンを直接酸素酸化し、非水溶
媒系での温和な条件下でアセトンを合成する方法を提案
した（特願昭５９−１２１４４号、特願昭５９−４４４
６９号）。

本発明は、その研究過程において上記発明における酸素
錯体が、ｐａ　（０）を効率よ＜Ｐｄ（２）Ｃβ２へと
酸化する能力を有することを見出したことに基づくもの
である。すなわち、その代表例で述べるならば、Ｃｕ　
（１）ｃｚとリン酸の誘導体であるトリス（ジメチルア
ミノ）ホスフィンオキシト（別名ヘキサメチルホスルア
ミド、以下ｈ　ｍ　ｐ　ａと記す）との鏡体（Ｃｕ　（
１）　Ｃ１−ｈｍ　ｐ　ａ　）から生成する酸素錯体（
Ｃｕ　（１）ＣＩ・ｈｍｐａ）２　・Ｃ２）と、例えば
Ｐｄ　　（２）　Ｃ１２とｈ　ｍ　ｐ　ａおよびベンゾ
ニトリルから生成する錯体（Ｐｄ　　（２）Ｃ１ｚ　　
・ＰｈＣＮ−ｈｍｐａ）のプロピレン錯体（Ｐｄ（２）
Ｃ１２・ＰｈｃＮ−Ｃ３Ｈ６）を水の存在下で反応させ
るものであり、次のような機構で進むものと考えられる
。

・ａ）プロピレン錯体の生成およびプロピレンの酸化 Ｐ（１（２）Ｃ１２−ＰｔｔＣＮ　−ｈｍｐａ＋ｃ３　
　＋＋。

＝Ｐｄ（２）Ｃ１ｚ　　・　ＰｈＣＮ　−Ｃ＋Ｈａ＋ｈ
ｍｐａ　　　（４）Ｐｄ（２）Ｃ／ｚ　・Ｐ　ｈ　ＣＮ
−Ｃｌ１４−Ｉ−１１２０−Ｃｌコ　ＣＯＣｌｌ３　　
＋Ｐｄ　　（０）　　↓＋２１１（１！＋ＰｈＣＮ　　
　（５）ｂ）Ｐｄ　（０）の再生 Ｐｄ　（０）−二（ＣｕＣＩＡ−ｈｍｐａ）　２−０Ｈ
＋２ＨＣｊ＋ＰｈＣＮ＋ｈｍｐａ −＝Ｐｄ　　（ｒ、）Ｃ１２・ＰｈＣＮ−ｈｍｐａ＋Ｃ
ｕ　（１）ＣＡ！　−ｈｍｐａ　　　　（６）Ｃ）Ｏ□
錯体の再生 Ｃｕ　（１）ＣＩ　−ｈｍｐａ＋−０２→　　　（Ｃｕ
　（１）ＣＪ）２　’　０２　　　　　（７）−本反応
のサイクルをよりゎがり易く、模式的に示したものが第
１図であり、従来のＰｄ（２）／Ｐｄ　（０）　、Ｃｕ
　（２）／Ｃｕ　（１）レドックス系を用いる方法（第
２図）とは全く異なるものである。

さらに各反応の特徴をより詳しくは説明すると、次式に
示す、Ｐｄ　（０）のＰｄ　（２）（１！２錯体への酸
化再生反応の６０ｔにおける速度は、先に述べたＣｕ　
（２）Ｃ７！２によるものの（（２）式）の約１０倍の
速さであった。

（Ｃｕ　（１）ＣＩ・ｈｍｐａ）２　・Ｏｚ→−Ｐｄ　
（０）　＋ＨＣｊ！＋ＰｈＣＮ＋ｈｍｐａ−＝Ｐｄ　（
２）ＣＩＡ２・ＰｈＣＮ−ｈｍｐａ＋（：、ｕ　（１）
　Ｃ１−ｈｍｐ　ａ　＋Ｈ２０（７）なお、どこで、上
述の如き酸素錯体を形成する錯体を一般式ＭｍＸｎＬｊ
！で示した場合、Ｃｕ（１）ＣＩＡ−ｈｍｐａは、ｍ＝
ｌ、ｎ−１，１ｔ−１の場合に相当する。また、例えば
、Ｓｎ　（２）あるいはＴｉ　　（３）を中心金属とし
、陰イオンをＣｌ−とした場合、生成錯体は、Ｓｎ　（
２）　ＣＩＡ２−　ｈｍｐａ、Ｔｉ　　（３）Ｃ１３・
ｈｍｐａであり、前者はｍ＝ｌ、ｎ＝２）！＝１、後者
は、ｍ＝ｌ、ｎ＝３、ｉ−１の場合に相当する。

ところで、（７）式で生成するＣｕ　（１）　ＣＩｌ・
ｈ　ｍ　ｐ　ａは空気等の含酸素ガスから選択的に酸素
を吸収してもとの酸素錯体にもどるが、その速度は、６
０℃において先に述べたＣｕ　（１）ｌ！の０２による
Ｃｕ　（２）　ＣＩｌ２への再酸化反応（（３）式）の
約８倍の速度を有する。

従って、前記プロピレンをプロピレン錯体の形成によっ
て活性化させ、水の存在下で反応させれば、プロピレン
からのアセトン合成が効率よく行えることになる。その
ため、種々の白金族の遷移金属の錯体について検討した
。その結果、代表例で述べるならば、Ｐｄ　（２）Ｃ１
２は前記ｈ　ｍ　ｐａに修飾配位子（補助錯化剤）とし
てベンゾニトリル等のニトリル（以下、ＰｈＣＮと記す
）類を加えると次のような新しい錯体が生成した。

Ｐｄ　（２）Ｃ１２（ｈｍｐａ）２　＋ＰｈＣＮ、＝：
Ｐｄ　（２）ＣＩＡ２　・ＰｈＣＮ−ｈｍｐａ＋ｈｍｐ
ａ　（８）なお、本錯体を一般式Ｍ　’　ｍ　’　Ｘ　
ｎ　’　Ｌ　’　ｌ　’で示した場合、ｍ１＝１、ｎ°
＝２．１ｆ＝１となる。

この新しいＰｄ　（２）錯体はプロピレンと（４）式に
従いプロピレン錯体を形成するが、生成したプロピレン
錯体では、プロピレンが著しく活性化されているため、
錯体中のＰｄ　（２）と水とによる酸化反応（（５）式
）が容易に進み、アセトンが温和な条件下、一段で合成
できることになる。

Ｐｄ　（２）Ｃ１２’ＰｈＣＮ−ｈｍｐａ＋Ｃ３Ｈ４；
Ｐｄ　（２）ＣＩＡ２　・ＰｈＣＮ−Ｃ５Ｈ４＋ｈｍｐ
ａ（４）Ｐｄ　　（２）Ｃ１ｚ　　・　Ｐ　ｈ　ＣＮ　
−Ｃ３Ｈ＆　　＋　Ｈ２０−ＣＨ３ＣＯＣｌｌ３　　＋
ｐｃｔ　　（０）１　＋２ＨＣｊ＋ＰｈＣＮ（５）生成
するＰｄ　（０）は前述の如く酸素錯体により容易にも
とのＰｄ　（２）Ｃｊ！２錯体へともどる。

（作用） 以−ヒのように、本発明においては、プロピレンを錯体
として活性化し、ｐａ　（２）とＨ２０の酸化力により
酸化し、生成するＰｄ　（０）を酸素錯体中の活性化さ
れた酸素で再酸化できるため、例えば重圧下、６０℃以
下のような温和な条件で、短時間に高選択性、高収率に
アセトンを合成できることになる。しかも１段法で合成
できるため、従来法に比較して装置、コスト、ユーティ
リティを大１陥に低減することが可能である。

本発明の複合触媒系において、酸素錯体を形成しｆ６る
錯体触媒としてのＭｍＸｎｌｌ！におけるＭとしでは、
周期律第１族のＣｕ　、Ａ　ｇ　％第■族のＴ：、Ｚｒ
、第■族のＶ、Ｎｂ、第■族のＣｒ　％Ｍｏ５Ｗ、第■
族のＭ　ｎ　％第１族のＦｅ、Ｃｏ。

Ｎｉ等の遷移金属が好ましく、Ｃｕ　（１）　、５ｎ（
２）　、Ｔｉ　　（３）がより好ましい。またＸとして
はＣＲ”−、Ｂ　ｒ−１■−のハロゲン、ＢＦ４−１Ｐ
Ｆ≦−１ＳＯ４２−１ＣＨ，ＣＯＯ−等の陰イオンが好
ましく、ＣＩＡ−、Ｂｒ−１■−がより好ましい。配位
子りとしては、リン酸の誘導体であるトリフェニルホス
フィンオキシト、ヘキサメチルホスホルアミド、および
リン酸とメタノール、エタノール等の反応からできるモ
ノ、ジまたはトリエステル、さらに、メチルホスホン酸
ジメチル、ジメチルホスフィン酸メチル、あるいは亜リ
ン酸の誘導体である、亜リン酸とメタノール、エタノー
ル等の反応からできるモノ、ジまたはトリエステル、お
よびフ；ニニル亜ホスホン酸エステル、ジメチルホスフ
ィン酸エステル、トリエチルホスフィン、トリフェニル
ホスフィン等で代表される有機リン化合物が好ましいも
のとしてあげられ、特に、ヘキサメチルホスホルアミド
（ｈ　ｍ　ｐ　ａ　）が好ましい。

一方、プロピレン錯体を形成し得る錯体触媒（Ｍ　”　
ｍ″Ｘ　ｎＩ　Ｌ　Ｉ　Ｊ　＊　）おけるＭｌとしては
、周期律第■族の白金族に属する遷移金属のうち、低原
子価イオンが好ましく、特にＰｄ、Ｐｔが好ましい。ま
た配位子Ｌ１としては、アセトニトリル、プロピオニト
リル、ベンゾニトリル等のニトリル類、および上述の有
機リン化合物、さらにはフッ化トルエン、ペンシトリフ
ロライド等の有機フッ素化合物が好ましいものとしてあ
げられる。

なお、反応系の溶媒としては、複合錯体を溶かすととも
に、生成するアセトン（ｂ、ｐ、５６℃／７６０ｗＨｇ
）との分離が容易であり、かつ、触媒溶液の粘度を下げ
物質移動を促進するものが好ましく、例えばヘプタン、
トルエン、メチルシクロヘキサン、エタノール、ジオキ
サン、プロピレンカーボネート、クロロベンゼン、Ｎ−
メチルピロリドン、テトラヒドロフランなどの各種溶媒
から選ばれた少なくとも１種の溶媒またはこれらの混合
物を用いるか、さらには、配位子しまたはＬ′が液体の
場合、そのものを溶媒として兼用することもできる。

また、反応の選択性および収率を高めるために、後述の
実施例に示すように、スルホラン、ジメチルスルホラン
、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、トリ
メチルメタン、ジメチルスルホン等の塩基性（電子供与
性）化合物を反応系に共存させることが好ましい。

以上、酸素錯体およびプロピレン錯体を形成せしめ、水
の存在下、プロピレンを酸化しアセトンを合成する反応
例を述べたが、次に本発明を実施例によりさらに詳細に
説明する。

（実施例） 実施例１ 内容積２０　ｍ　１２のメスフラスコにＣｕ　（１）　
Ｃｌを５０ｇ（０，５モル）およびｈ　ｍ　ｐ　ａを２
００ｇ仕込み、Ｃｕ　（１）ＣＩ　・ｈｍｐａ錯体溶液
１９４ｍｊ！を調製した。さらに、他の２００　ｍ　ｌ
メスフラスコにＰｄ　（２）ＣＡ’２２．６ｇ　（１５
ミリモル）およびベンゾニトリル（以下ＰｈＣＮと記す
）３１ｇＳｈｍｐａ１２０ｇを仕込み、Ｐｄ（２）Ｃｌ
２−ＰｈＣＮ−ｈｍｐａ錯体熔液を１４８　ｍ　ｌ　ｇ
Ｈ製した。その後、両者を容量１．５ｊｌの反応器に移
し、これにスルホランを８２８ｇ添加し、Ｃｕ　（１）
ＣＩＡとして０．５　ｍ　ｏ　ｊ！　／　１、Ｐｄ　（
２）Ｃ１，として０．０１５　ｍ　ｏ　ｌ　／　ｌの触
媒溶液１１を調製した。これに、９８ｇ（９％）の水を
添加し、３０℃、常圧下で空気を導入し、酸素錯体濃度
０．１４５　ｍ　ｏ　ｌ　／　ｌの溶液を調製した。そ
の後、６０℃に加熱し、窒素ガスを通気したが、反応器
の気相部に残存していた酸素と物理溶解の酸素が除かれ
たのみで、液中の酸素錯体からの結合酸素の説離は認め
られなかった。この操作の後、６０℃でプロピレンを０
．３４１／ｍｉｎの割合で通気したところ、１０分間で
７．０ｇのアセトンが生成していることを、ガスクロマ
トグラフィーで確認できた。また、０．２ｇのプロピレ
ンアルデヒドが生成していた。

実施例２ 実施例１において、水添加量を３１ｇ（３％）としたと
ころ、４５分間で、５．６ｇのアセトンが得られた。ま
た、水添加量を１７６ｇ（１５％）としたところ、２０
分間で５．２ｇのアセトンが得られたにすぎなかった。

本実施例および実施例１より、本反応系での水分量は１
０％付近が適当と考えられる。

実施例３ 実施例１において、Ｐｄ　（２）Ｃｆｆｉ、濃度を０゜
０３ｍｏｌ／ｊ！とじて同様な反応を行った。その結果
、１０分間で７．２ｇのアセトンが得られ、実施例１の
場合とほとんど変らず、本発明においてＰｄ　（２）Ｃ
Ｉ１２ｆｉ度をいたずらに増加させる必要がないことが
認められた。

実施例４ 実施例１において、ＰｈＣＮを添加せず反応を行った。

その結果、３０分間で４．７ｇのアセトンが得られた（
実施例１の約６５％の収率）。従って修飾配位子として
のＰｈＣＮの添加が反応の促進に重要な役割を果たして
いることが示された。

実施例５ 実施例１において、Ｃｕ　（１）ＣｌｌＯ代わりにＳｎ
　（２）Ｃ１２を９５ｇ（０，５モル）用いる他は同様
な操作を行ったところ、１０分間で５．９ｇのアセトン
が１４られた。

実施例６ 実施例１において、Ｃｕ　（１）Ｃ７！の代わりにＴｉ
　　（３）ｃｔｙ３を７７ｇ（０，５モル）用いる他は
同様な操作を行ったところ、１０分間で６．３ｇのアセ
トンが得られた。

実施例７ 実施例１において、Ｐｄ　（２）Ｃ１２の代わりにＰｄ
　（２）ＳＯ４を３．０ｇ（１５ミリモル）用いる他は
同様な操作を行ったところ１０分間で６゜８ｇのアセト
ンが得られた。

実施例日 実施例１において、Ｐｄ　（２）ＣＩ２の代わりにＰＬ
　（２）　Ｃｊ’ｚを４．０ｇ（１５ミリモル）用いる
他は同様な操作を行ったところ、１０分間で６．５ｇの
アセトンが得られた。

実施例９ 実施例１において、Ｃｕ　（１）Ｃ１ｌを臭化第１銅お
よびヨウ化第１銅とし、他は同様な操作を行ったところ
、それぞれ１０分間で６．９ｇ、６．６ｇのアセトンが
得られた。

実施例１０ 実施例１において、ベンゾニトリルをプロピオニトリル
およびペンシトリフロライドとし他は同様な操作を行っ
たところ、それぞれ１０分間で６゜３ｇ、６．５ｇのア
セトンが得られた。

実施例１１ 実施例１において、Ｃｕ　（１）ＣＩとして１ｍｏ　Ｉ
ｔ　／　ｌ　、　Ｐ　ｄ　（２）　Ｃ１２として０．０
１５ｍ。

１、／ＩＩの触媒液を調製した。この際、ｈ　ｍ　ｐ　
ａは６９８　ｇ、ベンゾニトリルは３１ｇ１スルホラン
は３６０ｇ添加した。その後、空気を通気し、０゜２９
　ｍ　ｏ　ｌ　／　１１の酸素錯体溶液とし、実施例１
と同様な操作でプロピレンを通気したところ、２０分間
で１３．８　ｇのアセトンが生成した。酸素錯体濃度を
増加させることにより、アセトン生成量が高くなること
が示される。

実施例１２ 実施例１１において酸素錯体濃度を０．４８　Ｍとし、
６０℃で反応を行った。その結果、３０分間で１１．３
ｇのアセトンが得られた。

実施例１３ 実施例１１の組成の触媒液を８０℃に保ち、空気３０％
、プロピレン７０％の混合ガスを０．３１／ｍｉｎの割
合で３０分間通気したところ、１４゜５ｇのアセトンが
生成した。　　□ 比較例１ 実施例１において、酸素錯体は形成させずに、他は同様
な服作を行ったところ、１時間で０．６ｇのアセトンが
生成したにすぎなかった。本結果より、本発明における
方法では、Ｐｄ　（０）の酸素錯体による酸化再生が繰
返し行われていることが示される。

（発明の効果） 本発明によれば、プロピレンを常温付近、常圧下におい
て高効率で酸化し、アセトンを合成することができる。

さらに、酸素源として空気を用いても選択的に酸素を吸
収するので、純酸素ガスを用いたものと全く同じ効果が
得られる。また酸素吸収は不可逆的であるため、酸素錯
体を形成させた後過剰の遊ｇｔｔ酸素を容易に除去する
ことができ、安全性の面でも極めて有利である。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は、それぞれ本発明および従来のア
セトン合成法を説明する模式図である。 代理人　弁理士　川　北　弐′長 ０居Ｄ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. （１）プロピレンを金属錯体触媒の存在下で酸化してア
   セトンを合成する方法において、該金属錯体触媒として
   酸素と配位結合することにより酸素錯体を形成し得る錯
   体（ＭｍＸｎ・Ｌｌ）と、プロピレンと配位結合し、プ
   ロピレン錯体を形成し得る錯体触媒（Ｍ′ｍ′Ｘｎ′Ｌ
   ′ｌ′）とを含む複合錯体および水を用いること（ここ
   で、Ｍは周期律第１族、第IV〜VII族または第VIII族の
   鉄族に属する遷移金属、Ｘ陰イオン、Ｌは有機リン化合
   物、Ｍ′は周期律第VIII族の白金族に属する遷移金属、
   Ｌ′はニトリル類、有機フッ素化合物または有機リン化
   合物、ｍ、ｍ′、ｎ、ｎ′は前記遷移金属および陰イオ
   ンの原子価により定まる数、ｌ、ｌ′は配位数を示す）
   を特徴とするアセトンの合成法。
2. （２）特許請求の範囲第１項において、Ｘは、Ｃｌ＾−
   、Ｂｒ＾−、Ｉ＾−等のハロゲン、ＢＦ＿４＾−、ＰＦ
   ＿６＾−、ＣＨ＿３ＣＯＯ＾−、ＳＯ＿４＾２＾−等の
   陰イオンであること特徴とするアセトンの合成法。
3. （３）特許請求範囲の第１項または第２項において、前
   記配位子ＬおよびＬ′としての有機リン化合物は、リン
   酸または亜リン酸のアルコキシ、アルキルもしくはアミ
   ド誘導体で代表される化合物であることを特徴とするア
   セトンの合成法。
4. （４）特許請求範囲第１項ないし第３項のいずれかにお
   いて、ｍ、ｍ′、ｎ、ｎ′ｌ、ｌ′がそれぞれ１〜４で
   あるアセトンの合成法。
5. （５）特許請求範囲第１項ないし第４項のいずれかにお
   いて、塩基性（電子供与性）化合物であるスルホラン、
   ジメチルスルホラン、ジメチルスルホキシド、ジメチル
   ホルムアミド等を触媒系に添加することを特徴とするア
   セトンの合成法。
6. （６）特許請求範囲第１項ないし第５項のいずれかにお
   いて、酸素錯体を生成し得る錯体およびプロピレン錯体
   を生成し得る溶媒として、脂肪族、脂環式または芳香族
   炭化水素類、含酸素有機化合物、有機ハロゲン化合物お
   よび含窒素化合物からなる群から選ばれた少なくとも１
   種の化合物を用いるか、または配位子Ｌ、Ｌ′が液体の
   場合、該配位子そのものを溶媒として兼用することを特
   徴とするアセトンの合成法。
7. （７）特許請求範囲第１項ないし第６項のいずれかにお
   いて、複合触媒溶液に、酸素、空気等の含酸素ガスおよ
   び前記プロピレンを通気して、酸素錯体およびプロピレ
   ン錯体を形成せしめ、水の存在下で反応を行うことを特
   徴とするアセトンの合成法。