JPS6191982A - 放電励起エキシマレ−ザ装置 - Google Patents
放電励起エキシマレ−ザ装置Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、第３電極を有する放電励起エキシマレーザ
装置の構成に関するものである０〔従来の技術〕 第３図は例えば（Ｒ，Ｃ，Ｓｚｅ ｅｔ ａｌ、、ＩＥ
ＥＥＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｑｕａｎｔｕｍ Ｅｌｅｃ
ｔｒｏｎｉｃｓ、ｖｏｌ、１？、ＮＬＩＬＩ Ｉ）Ｐ８
１−９１（１９８１））に示された従来の放電励起エキ
シマレーザ装置の電極系の断面図であシ、（１）はレー
ザ光軸を長手方向とする片方の主放電電極、（２） ｒ
ｉこの（１）と相対向するように配設されたもう一方の
王な寛電極である。電極（２） ｆｉ （２ａ） 、（
２））、（々）より成り、（２ｂ） ｄこの（２）の中
央部に設けられたスクリーン電極、（２ａ）と（２ｃ）
１１この（２ｂ）の両側に位置し、この（２ｂ）を支持
する支持電極である。（３）ハ片方の玉数′ＩＪＬｔ極
（２）の近傍に設置されたワイヤー状の補助電極、（４
）は（２）と（３）の間に挾まれた誘電体で、この従来
例においては石英管より成る。（５）はレーザガス、（
６）は主放電電極（１）と補助電極（３）に接続された
端子、（１）は玉数電極【２）に接続された端子、（３
）は誘電体（４）と主放電電極（２）の間で生じる補助
放電、（９）は主放電電極（１）と（２）の間で生じる
主放電である。
装置の構成に関するものである０〔従来の技術〕 第３図は例えば（Ｒ，Ｃ，Ｓｚｅ ｅｔ ａｌ、、ＩＥ
ＥＥＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｑｕａｎｔｕｍ Ｅｌｅｃ
ｔｒｏｎｉｃｓ、ｖｏｌ、１？、ＮＬＩＬＩ Ｉ）Ｐ８
１−９１（１９８１））に示された従来の放電励起エキ
シマレーザ装置の電極系の断面図であシ、（１）はレー
ザ光軸を長手方向とする片方の主放電電極、（２） ｒ
ｉこの（１）と相対向するように配設されたもう一方の
王な寛電極である。電極（２） ｆｉ （２ａ） 、（
２））、（々）より成り、（２ｂ） ｄこの（２）の中
央部に設けられたスクリーン電極、（２ａ）と（２ｃ）
１１この（２ｂ）の両側に位置し、この（２ｂ）を支持
する支持電極である。（３）ハ片方の玉数′ＩＪＬｔ極
（２）の近傍に設置されたワイヤー状の補助電極、（４
）は（２）と（３）の間に挾まれた誘電体で、この従来
例においては石英管より成る。（５）はレーザガス、（
６）は主放電電極（１）と補助電極（３）に接続された
端子、（１）は玉数電極【２）に接続された端子、（３
）は誘電体（４）と主放電電極（２）の間で生じる補助
放電、（９）は主放電電極（１）と（２）の間で生じる
主放電である。
次に動作について説明する。端子（６） 、 （７）間
にパルス電圧が印加されると、そのパルス電圧の立上り
部分において主放電電極（１） 、 （２）間よりも電
極間隔の短い玉数戒電極（２）と補助電極（３）の間で
、まず補助放電（８）が発生する。この補助放電から発
せられる紫外光による光電離効果と、該放電場から電子
がスクリーン電極（，２ｏ＞を通りぬけて主放電電極（
１） 、 （２）の間の主放電空間に供給される効果に
よ）該玉数ＩＥ空間には１０’−（０’（−以上の電子
がｑ −に供給される（予備１Ｅ離）０さて端子（６）
、 （７）間に印加されるパルス電圧が場らに上昇し
、主放電電極間の放心開始電圧に達すると、予め空間に
供給されていた電子が加速されて生ずる衝突電離が急に
盛んになり、空間的に拡がった玉数ｔ （９）が発生す
る。この主放電によりレーザガス（５）が励起されレー
ザ光が紙面と垂直方向に発振する。以上の動作を繰返す
ことによシ、パルス性のレーザ光が繰返し発振される。
にパルス電圧が印加されると、そのパルス電圧の立上り
部分において主放電電極（１） 、 （２）間よりも電
極間隔の短い玉数戒電極（２）と補助電極（３）の間で
、まず補助放電（８）が発生する。この補助放電から発
せられる紫外光による光電離効果と、該放電場から電子
がスクリーン電極（，２ｏ＞を通りぬけて主放電電極（
１） 、 （２）の間の主放電空間に供給される効果に
よ）該玉数ＩＥ空間には１０’−（０’（−以上の電子
がｑ −に供給される（予備１Ｅ離）０さて端子（６）
、 （７）間に印加されるパルス電圧が場らに上昇し
、主放電電極間の放心開始電圧に達すると、予め空間に
供給されていた電子が加速されて生ずる衝突電離が急に
盛んになり、空間的に拡がった玉数ｔ （９）が発生す
る。この主放電によりレーザガス（５）が励起されレー
ザ光が紙面と垂直方向に発振する。以上の動作を繰返す
ことによシ、パルス性のレーザ光が繰返し発振される。
ところで、レーザ光を効率良く発振させるためには、相
対向する玉数′ａｔ電極（１）、（２）の間の広い空間
にわたり、主放電（９）を一様に発生させる必要がある
が、このためには、補助放電（８）を一様に発生し°〔
、一様な密度の予備Ｗ離１子を主放電域に供給する必要
がある。この従来例においてはこれを実現するために、
補助電極（３）と主放ｔ ｉｔ ＆ （２）の間に石英
管より成る誘電体（４）を介在させ、補助放電が局部的
に偏在するのを防止している。
対向する玉数′ａｔ電極（１）、（２）の間の広い空間
にわたり、主放電（９）を一様に発生させる必要がある
が、このためには、補助放電（８）を一様に発生し°〔
、一様な密度の予備Ｗ離１子を主放電域に供給する必要
がある。この従来例においてはこれを実現するために、
補助電極（３）と主放ｔ ｉｔ ＆ （２）の間に石英
管より成る誘電体（４）を介在させ、補助放電が局部的
に偏在するのを防止している。
市販品のエキシマレーザ装置においては、レーザガス（
５）はレーザ筐体（図示せず）に封入し“〔用いられる
。ｘｅｃｌエキシマレーザ装置の場合には、レーザガス
として例えばＨｅ、Ｘｅ、 Ｈｃ ｌを混合比Ｈｅ。
５）はレーザ筐体（図示せず）に封入し“〔用いられる
。ｘｅｃｌエキシマレーザ装置の場合には、レーザガス
として例えばＨｅ、Ｘｅ、 Ｈｃ ｌを混合比Ｈｅ。
Ｘｅ：）ｉｃｌ ＝ ９４−７ ： ５ ： ０．３
で混合したものが用いられる。またＫｒＦエキシマレ
ーザ装置の場合には、例えばＨｅ：Ｋｒ：Ｆ２＝ ９４
．９６ ：４．８ ： ０．２４ の混合比の混合ガ
スが用いられる。この他にＡｒＦ ＋ ＸｅＦ ７ｘど
のエキシマレーザ装置が使われている。市販品において
に、封入するレーザガスの種類を変えることによｐｖ−
ザ光の発振波長を変えることかできる０ エキシマレーザを繰返して動作させるとレーザ出力は漸
次低下する。これは、補助放電（８）、および主放電（
９）により発生するハロゲンもしくはノ・ロゲン化合物
の励起種あるいはイオンが電極（１） 、 （２） 。
で混合したものが用いられる。またＫｒＦエキシマレ
ーザ装置の場合には、例えばＨｅ：Ｋｒ：Ｆ２＝ ９４
．９６ ：４．８ ： ０．２４ の混合比の混合ガ
スが用いられる。この他にＡｒＦ ＋ ＸｅＦ ７ｘど
のエキシマレーザ装置が使われている。市販品において
に、封入するレーザガスの種類を変えることによｐｖ−
ザ光の発振波長を変えることかできる０ エキシマレーザを繰返して動作させるとレーザ出力は漸
次低下する。これは、補助放電（８）、および主放電（
９）により発生するハロゲンもしくはノ・ロゲン化合物
の励起種あるいはイオンが電極（１） 、 （２） 。
（３）およびこの周辺の構成物である誘電体（４）など
と反応して、レーザ発振に有害な放電生成物を生じると
ともに、レーザガス中のＨＣＩもしくはＦ２ の濃度
を減少させるからである。繰返し動作を行なった場合の
レーザ出力の減少する割合は、レーザガスとして反応性
の高いフッ素系のガスを含む場合の方が、塩素系のガス
を含む場合に比べて大きい。
と反応して、レーザ発振に有害な放電生成物を生じると
ともに、レーザガス中のＨＣＩもしくはＦ２ の濃度
を減少させるからである。繰返し動作を行なった場合の
レーザ出力の減少する割合は、レーザガスとして反応性
の高いフッ素系のガスを含む場合の方が、塩素系のガス
を含む場合に比べて大きい。
従来の補助電極を有４−る放戒励起エキシマレーザ装置
においては、補助電極（３）と主放電電極（２）の間に
＃電体（４）を介在させ、かつこの誘電体として石英を
用いているので、以下のような２つの問題点が生じる。
においては、補助電極（３）と主放電電極（２）の間に
＃電体（４）を介在させ、かつこの誘電体として石英を
用いているので、以下のような２つの問題点が生じる。
゛まず、十分な補助放電（８）を得るためには、石英（
４）の場合比誘電率が小さいので石英の厚みを小さくし
て誘電体としての静電容量を増大させるか、もしくは主
放電電極（２）と補助電極（３）の間に印加する電圧を
大きくする必要がある。しかしながら、これは誘電体で
ある石英（４）に印加される電界強度の増加をもたらす
。石英はその絶縁性能が低い〕で、このような状況下に
おいて長時間繰返し動作式せると絶縁性能が劣化し、つ
いには絶縁破壊を起こすという問題点があった。
４）の場合比誘電率が小さいので石英の厚みを小さくし
て誘電体としての静電容量を増大させるか、もしくは主
放電電極（２）と補助電極（３）の間に印加する電圧を
大きくする必要がある。しかしながら、これは誘電体で
ある石英（４）に印加される電界強度の増加をもたらす
。石英はその絶縁性能が低い〕で、このような状況下に
おいて長時間繰返し動作式せると絶縁性能が劣化し、つ
いには絶縁破壊を起こすという問題点があった。
第二に、通常のエキシマレーザ装置においては、同一の
装置で塩素系のレーザガスとフッ素系のレーザガスを発
振波長に応じて交互に用いるか、フッ素系のレーザガス
を用いた場合には、放電によって生成される励起された
フッ素原子、フッ素分子およびフッ素化合物は石英と反
応するので、レーザガス中のフッ素ガス濃度の低下が著
しくなる。
装置で塩素系のレーザガスとフッ素系のレーザガスを発
振波長に応じて交互に用いるか、フッ素系のレーザガス
を用いた場合には、放電によって生成される励起された
フッ素原子、フッ素分子およびフッ素化合物は石英と反
応するので、レーザガス中のフッ素ガス濃度の低下が著
しくなる。
また、反応による不純ガスの増加も相まって、レーザ出
力の時間とともに低下する割合が大きくなる。よって、
レーザ出力の低下分をある範囲内に抑えるためには、頻
繁にレーザガスの交換を行なう必要があった。
力の時間とともに低下する割合が大きくなる。よって、
レーザ出力の低下分をある範囲内に抑えるためには、頻
繁にレーザガスの交換を行なう必要があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、十分な補助放電が得られ、かつ絶縁劣化を抑
えて長時間にわたり高信頼度で動作できるとともに、レ
ーザガスの長寿命化を実現できる放電励起エキシマレー
ザ装置を得ることを目的とする。
たもので、十分な補助放電が得られ、かつ絶縁劣化を抑
えて長時間にわたり高信頼度で動作できるとともに、レ
ーザガスの長寿命化を実現できる放電励起エキシマレー
ザ装置を得ることを目的とする。
この発明に係る放電励起エキシマレーザ装置は、補助電
極（３）と主放電電極（２）の間に挾む誘電体（４）と
して、アルミナを主成分とするアルミナ磁器を用いたも
のである。
極（３）と主放電電極（２）の間に挾む誘電体（４）と
して、アルミナを主成分とするアルミナ磁器を用いたも
のである。
この発明において用いられるアルミナ磁器は、絶縁耐力
が極めて高いのでその厚みを薄くして使」しても絶縁性
能が低下することがなく、更に比誘電率が大きいので十
分な補助放電が得られ、またフッ素ガスに対して不活性
であるのでレーザガスに対して悪影響を及ぼすことがな
い。
が極めて高いのでその厚みを薄くして使」しても絶縁性
能が低下することがなく、更に比誘電率が大きいので十
分な補助放電が得られ、またフッ素ガスに対して不活性
であるのでレーザガスに対して悪影響を及ぼすことがな
い。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図において、叫は、従来例における石英管（４）を肉厚
の薄いアルミナ磁器から成る管で置換したものである。
図において、叫は、従来例における石英管（４）を肉厚
の薄いアルミナ磁器から成る管で置換したものである。
従来例と同じ動作については、動作の説明を省略するク
アルミナ磁器の絶縁耐圧は、アルミナ純度が９９俤の場
合、約２００Ｋｖ／／ｌ０１１である。これに対して、
従来例で用いられていた石英ガラスでは、絶縁耐力は２
５〜４０ ＫＶ／ｒｔｘである。よって、アルミナ磁器
を用いれば、より高電界の条件下で用いることができる
。端子（６）と（７）の間に印加されるパルス電圧が同
じであれば、従来例に比べて誘電体であるアルミナ磁器
の厚みを薄くして使用することができる。また、比誘電
率は石英では３．８であるのに対して、アルミナ磁器で
は９と大きな値である。一方、補助放電（８）に投入で
きる電力は厚みに反比例し、誘電率に比例するので、上
記２つの利点は該投入電力を大きくする効果があり、し
たがって十分な予備電離を行なうことが可能となる。
アルミナ磁器の絶縁耐圧は、アルミナ純度が９９俤の場
合、約２００Ｋｖ／／ｌ０１１である。これに対して、
従来例で用いられていた石英ガラスでは、絶縁耐力は２
５〜４０ ＫＶ／ｒｔｘである。よって、アルミナ磁器
を用いれば、より高電界の条件下で用いることができる
。端子（６）と（７）の間に印加されるパルス電圧が同
じであれば、従来例に比べて誘電体であるアルミナ磁器
の厚みを薄くして使用することができる。また、比誘電
率は石英では３．８であるのに対して、アルミナ磁器で
は９と大きな値である。一方、補助放電（８）に投入で
きる電力は厚みに反比例し、誘電率に比例するので、上
記２つの利点は該投入電力を大きくする効果があり、し
たがって十分な予備電離を行なうことが可能となる。
この結果、予備電離によって主放電域に発生する電子の
密度が増加するため、それ自身の空間電荷電界による拡
散力で電子密度分布が均一化されるので、空間的に均一
な主放電（９）が得られ、レーザ発掘効率が増加する。
密度が増加するため、それ自身の空間電荷電界による拡
散力で電子密度分布が均一化されるので、空間的に均一
な主放電（９）が得られ、レーザ発掘効率が増加する。
アルミナ磁器の場合、厚みを薄くして用いてもその絶縁
耐力が高いので、長時間動作させても絶縁性能が劣化す
ることはない、。
耐力が高いので、長時間動作させても絶縁性能が劣化す
ることはない、。
また、アルミナは塩素に一対して不活性であるばがシで
なく、フッ素に対しても不活性であるので、誘電体αＱ
としてアルミナを主成分とするアルミナ磁器を用いれば
レーザ発振に悪影響を及ぼすと考えられる放電生成物（
不純ガス、微粒子など）は誘電体αＱからはほとんど発
生せず、また動作時におけるレーザ混合ガス中のハロゲ
ンガス濃度の低下の割合も著しく減少する。これは、レ
ーザガスの交換素度が少なくてすむという利点につなが
るとともに、レーザ出力の安定化にもつながるという大
きな効果を奏する。
なく、フッ素に対しても不活性であるので、誘電体αＱ
としてアルミナを主成分とするアルミナ磁器を用いれば
レーザ発振に悪影響を及ぼすと考えられる放電生成物（
不純ガス、微粒子など）は誘電体αＱからはほとんど発
生せず、また動作時におけるレーザ混合ガス中のハロゲ
ンガス濃度の低下の割合も著しく減少する。これは、レ
ーザガスの交換素度が少なくてすむという利点につなが
るとともに、レーザ出力の安定化にもつながるという大
きな効果を奏する。
アルミナよりも比誘電率の高い絶縁材料として、コンデ
ンサーの素材として用いられているチタン酸磁器、チタ
ン酸バリウム磁器などが、フッ素により侵されてしまう
ので用いることばできない。
ンサーの素材として用いられているチタン酸磁器、チタ
ン酸バリウム磁器などが、フッ素により侵されてしまう
ので用いることばできない。
すなわち、本発明は、誘電体を介する放電を予備放電と
して用いるエキシマレーザ装置において該誘電体に要求
される以下の性能 （１）誘電率が高く、予備放電の投入電力を大きくでき
る材料であること。
して用いるエキシマレーザ装置において該誘電体に要求
される以下の性能 （１）誘電率が高く、予備放電の投入電力を大きくでき
る材料であること。
（２）絶縁耐力が高く、絶縁性能の劣化をおこしにくく
、誘電体厚みを薄くして用いることが可能で、これによ
って予備放電の投入電力を大きく、できる材料であるこ
と。
、誘電体厚みを薄くして用いることが可能で、これによ
って予備放電の投入電力を大きく、できる材料であるこ
と。
（３）耐ハロゲン性が高く、レーザガスの劣化を引き起
こすことのないような材料であること。
こすことのないような材料であること。
をすべて満足する材料がアルミナであること、加えて、
アルミナを介する放電を主放電として用いても投入電力
が不足し、これを補うには、数σメガヘルツという高７
ｉ４波電圧を印加せねばならず、ピエゾ効果による伸び
縮みの〈シ返しに耐えうるためにはある程度のアルミナ
の厚みが必要となり上記（２）の利点かなくなるため、
上記アルミナを介する放電に、主放電＃汰ど電力を必要
としない予備放電として用いることにより始めて、その
利点が生かされるということの２点に基づいて完成され
たものである。
アルミナを介する放電を主放電として用いても投入電力
が不足し、これを補うには、数σメガヘルツという高７
ｉ４波電圧を印加せねばならず、ピエゾ効果による伸び
縮みの〈シ返しに耐えうるためにはある程度のアルミナ
の厚みが必要となり上記（２）の利点かなくなるため、
上記アルミナを介する放電に、主放電＃汰ど電力を必要
としない予備放電として用いることにより始めて、その
利点が生かされるということの２点に基づいて完成され
たものである。
なお、上記実施例においては、アルミナ磁器から成る誘
電体０ｑは主放電電極（２）からは離して配置されてい
たが、接するか、もしくは例えば第２図に示すように密
着する構造としても良い。同図において主放電電極（２
）は多孔板から成る場合を示した。（２ｄ） 、 （２
ｅ）・・・はその電極断面である。この場合、補助電極
（３）と主放電電極（２）の間に挾まれる誘電体αｑの
厚みは、石英ガラスを用いた場合にｒｉＢ圏であったが
、純度９９チのアルミナ磁器を用いると、２酎に縮めて
も長期間にわたり良好な絶縁特性の得られることが確認
された。また、電極（３）と（２）の間に印加される電
圧が同じである場合には、厚さの薄いアルミナ磁器を用
いる場合の方が、主放電電極（２）の多孔部で発生する
補助放電の光強度が強いのが観察された。
電体０ｑは主放電電極（２）からは離して配置されてい
たが、接するか、もしくは例えば第２図に示すように密
着する構造としても良い。同図において主放電電極（２
）は多孔板から成る場合を示した。（２ｄ） 、 （２
ｅ）・・・はその電極断面である。この場合、補助電極
（３）と主放電電極（２）の間に挾まれる誘電体αｑの
厚みは、石英ガラスを用いた場合にｒｉＢ圏であったが
、純度９９チのアルミナ磁器を用いると、２酎に縮めて
も長期間にわたり良好な絶縁特性の得られることが確認
された。また、電極（３）と（２）の間に印加される電
圧が同じである場合には、厚さの薄いアルミナ磁器を用
いる場合の方が、主放電電極（２）の多孔部で発生する
補助放電の光強度が強いのが観察された。
また、上記第１図の実施例においては、補助電極（３）
は主放電（９）に対して片方の主放電電極（２）の背面
に配置し、誘電体αｑは補助放電（８）のみにさらされ
る場合を示したが、補助電極（３）を玉数ＩＩｔ″ｉｔ
極（２）の形状および配置が上記実施例とは異なり、例
えば補助電極（３）が主放電電極（２）に対し主放電側
にある構成となっていても良い。
は主放電（９）に対して片方の主放電電極（２）の背面
に配置し、誘電体αｑは補助放電（８）のみにさらされ
る場合を示したが、補助電極（３）を玉数ＩＩｔ″ｉｔ
極（２）の形状および配置が上記実施例とは異なり、例
えば補助電極（３）が主放電電極（２）に対し主放電側
にある構成となっていても良い。
また、上記実施例においては、補助電極＋３） ｒｉ主
玉数ｔ極（１）に接続することにより、端子（６）と（
７）にパルス電圧を印ａ口すると自動的に補助電極（３
）と主放電電極（２）の間に電圧が印加される場合を示
したが、他の回路構成によってこれを実現しても良く、
また、補助電極（３）と玉数ｉｔ極（２）の間に別電源
を接続しても良い。
玉数ｔ極（１）に接続することにより、端子（６）と（
７）にパルス電圧を印ａ口すると自動的に補助電極（３
）と主放電電極（２）の間に電圧が印加される場合を示
したが、他の回路構成によってこれを実現しても良く、
また、補助電極（３）と玉数ｉｔ極（２）の間に別電源
を接続しても良い。
なお、上記実施例においてに、レーザガス（５）として
、ある場合は塩化水素を含む混合ガスを用い、ある場合
にはフッ素を含む混合ガスを用いるような使い方をする
場合を示したが、レーザガス（５）としてフッ素を含む
混合ガスのみを用いる場合でも良い。
、ある場合は塩化水素を含む混合ガスを用い、ある場合
にはフッ素を含む混合ガスを用いるような使い方をする
場合を示したが、レーザガス（５）としてフッ素を含む
混合ガスのみを用いる場合でも良い。
以上のように、この発明によれば補助電極（３）と主放
電電極（２）の間に挾む誘電体（ＩＱとして、絶縁耐力
が極めて高く、しかも比誘電率も大きく、更にはハロケ
ンガスに対して不活性なアルミナを生成分とするアルミ
ナ磁器を用いたので、主放電を均一に発生させるための
十分な補助放電を得ることができるとともに、長期間に
わたり絶縁劣化を起こすことなく高信頼度で動作でき、
しかもレーザガス寿命を伸ばすことができるという効果
がある。
電電極（２）の間に挾む誘電体（ＩＱとして、絶縁耐力
が極めて高く、しかも比誘電率も大きく、更にはハロケ
ンガスに対して不活性なアルミナを生成分とするアルミ
ナ磁器を用いたので、主放電を均一に発生させるための
十分な補助放電を得ることができるとともに、長期間に
わたり絶縁劣化を起こすことなく高信頼度で動作でき、
しかもレーザガス寿命を伸ばすことができるという効果
がある。
第１図はこの発明の一実施例による放電励起エキシマレ
ーザ装置の電極部を示す断面図、第２図はこの発明の他
の実施例をりす電極部の断面図、第３図は従来の放電励
起工千シマレーザ装置の電極部を示す断面図である。 図中、（１）は片方の主放電電極、（２）、仇）、（２
ｂ）。 （２ｃ） 、 Ｃ２ｄ） 、 （２ｅ）はもう一方の主
放電電極、（３）は補助電極、（４）は誘電体、（５）
はレーザガス、叫はアルミナ磁器から成る誘電体。 なお、図中、同−付号は同一、又は相当部分を示す。
ーザ装置の電極部を示す断面図、第２図はこの発明の他
の実施例をりす電極部の断面図、第３図は従来の放電励
起工千シマレーザ装置の電極部を示す断面図である。 図中、（１）は片方の主放電電極、（２）、仇）、（２
ｂ）。 （２ｃ） 、 Ｃ２ｄ） 、 （２ｅ）はもう一方の主
放電電極、（３）は補助電極、（４）は誘電体、（５）
はレーザガス、叫はアルミナ磁器から成る誘電体。 なお、図中、同−付号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (2)
- （１）レーザ光軸方向を長手方向とし、かつ相対向する
ように配設された２つの主放電電極および、上記２つの
主放電電極の一方の電極に対して誘電体を挾むように設
置された第３の補助電極とを有する電極系を備え、レー
ザガスとして少なくともハロゲンガスを含む混合ガスを
用いる放電励起エキシマレーザ装置において、上記誘電
体がアルミナを主成分とするアルミナ磁器から成ること
を特徴とした放電励起エキシマレーザ装置。 - （２）ハロゲンガスがフッ素ガスであることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の放電励起エキシマレーザ
装置。
Priority Applications (11)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21363384A JPS6191982A (ja) | 1984-10-11 | 1984-10-11 | 放電励起エキシマレ−ザ装置 |
| US06/782,568 US4686682A (en) | 1984-10-09 | 1985-10-01 | Discharge excitation type short pulse laser device |
| EP94114362A EP0637106B1 (en) | 1984-10-09 | 1985-10-02 | Discharge excitation type laser device |
| DE19853588137 DE3588137T2 (de) | 1984-10-09 | 1985-10-02 | Entladungsangeregtes Lasergerät |
| DE19853588118 DE3588118T2 (de) | 1984-10-09 | 1985-10-02 | Entladungsangeregter Laser zur Erzeugung kurzer Pulse |
| DE3587852T DE3587852T2 (de) | 1984-10-09 | 1985-10-02 | Kurzpulslaservorrichtung vom Entladungsanregungstyp. |
| EP93100550A EP0543795B1 (en) | 1984-10-09 | 1985-10-02 | Discharge excitation type short pulse laser device |
| EP85112484A EP0177888B1 (en) | 1984-10-09 | 1985-10-02 | Discharge excitation type short pulse laser device |
| DE19853588088 DE3588088T2 (de) | 1984-10-09 | 1985-10-02 | Entladungsangeregter Laser zur Erzeugung kurzer Pulse |
| EP93100578A EP0542718B1 (en) | 1984-10-09 | 1985-10-02 | Discharge excitation type short pulse laser device |
| CA000492327A CA1259122A (en) | 1984-10-09 | 1985-10-04 | Discharge excitation type short pulse laser device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21363384A JPS6191982A (ja) | 1984-10-11 | 1984-10-11 | 放電励起エキシマレ−ザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6191982A true JPS6191982A (ja) | 1986-05-10 |
| JPH024148B2 JPH024148B2 (ja) | 1990-01-26 |
Family
ID=16642383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21363384A Granted JPS6191982A (ja) | 1984-10-09 | 1984-10-11 | 放電励起エキシマレ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6191982A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6546036B1 (en) | 1999-06-08 | 2003-04-08 | Lambda Physik Ag | Roof configuration for laser discharge electrodes |
| US6570901B2 (en) | 2000-02-24 | 2003-05-27 | Lambda Physik Ag | Excimer or molecular fluorine laser having lengthened electrodes |
| US6785316B1 (en) | 1999-08-17 | 2004-08-31 | Lambda Physik Ag | Excimer or molecular laser with optimized spectral purity |
| US7266137B2 (en) | 1999-02-10 | 2007-09-04 | Lambda Physik Ag | Laser gas replenishment method |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58105161A (ja) * | 1981-11-26 | 1983-06-22 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 磁性トナ− |
-
1984
- 1984-10-11 JP JP21363384A patent/JPS6191982A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58105161A (ja) * | 1981-11-26 | 1983-06-22 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 磁性トナ− |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7266137B2 (en) | 1999-02-10 | 2007-09-04 | Lambda Physik Ag | Laser gas replenishment method |
| US6546036B1 (en) | 1999-06-08 | 2003-04-08 | Lambda Physik Ag | Roof configuration for laser discharge electrodes |
| US6785316B1 (en) | 1999-08-17 | 2004-08-31 | Lambda Physik Ag | Excimer or molecular laser with optimized spectral purity |
| US6570901B2 (en) | 2000-02-24 | 2003-05-27 | Lambda Physik Ag | Excimer or molecular fluorine laser having lengthened electrodes |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH024148B2 (ja) | 1990-01-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |