JPS6231185A - レ−ザ発振器 - Google Patents
レ−ザ発振器Info
- Publication number
- JPS6231185A JPS6231185A JP16975285A JP16975285A JPS6231185A JP S6231185 A JPS6231185 A JP S6231185A JP 16975285 A JP16975285 A JP 16975285A JP 16975285 A JP16975285 A JP 16975285A JP S6231185 A JPS6231185 A JP S6231185A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge
- laser oscillator
- cathode
- main discharge
- anode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はレーザ発振器に係り、特にガスレーザ発振器に
関する。
関する。
レーザ発振方向に対して垂直方向に放電を発生させる紫
外光予備電離の横方向励起ガスレーザで。
外光予備電離の横方向励起ガスレーザで。
大気圧以上の比較的高い圧力で動作するたとえばＴＥＡ
ＣＯ，レーザ装置は、 ＩＣパッケージのマーキングな
どに使われる。この方式の従来例のレーザ装置について
第５図にて説明する。すなわち１円筒形の気密構造にな
る容器（１）を有し、この容器（１）にはたとえばＣｏ
！、 Ｎｔ、 Ｈｅの３種類のガスを所定の割合マ混合
したガスレーザ媒質がほぼ大気圧に保持されて封入され
ている。また、容器（１）内には主放電電極をなす横断
面がかまぼこ状になる板状の陰極（２）および陽極（３
）が容器（１）の軸方向に沿い所定の間隔をおいて収納
されている。また、これら電極とは別に容器（１）内に
は保持板（４）、（５）が容器（１）の内で−１１＋−
τ％ｌＩ＋７４ｔｊ−Ｌ＋７１−マｔｔｘｒ４−＋Ａ４
−／ｅム、％’ｌ／ｒｋ１Ｌｂｒ１メ）置された状態に
固着されている。一方の保持板（４）には陽極（３）が
取シ付けられている。また、他方の保持板（５）の陽極
（３）側に向く面には絶縁体（７）および取付板（８）
が取シ付けられている。取付板（８）Ｋは陰極（２）が
取シ付けられている。なお、保持板（４） 、 （５）
は陰極（２）または陽極（３）等とともに容器（１）外
へ引き出されるようになっている。保持板（４）と取付
板（７）には予備放電のための多数のピン電極（９ａ）
、 （９ｂ）が陰極（２）、陽極（３）をはさんで設置
されている。一方の各ピン電極（９ａ）には予備放電時
に充電されるピーキングキャパシタ（１１が接続されて
いる。なお。
ＣＯ，レーザ装置は、 ＩＣパッケージのマーキングな
どに使われる。この方式の従来例のレーザ装置について
第５図にて説明する。すなわち１円筒形の気密構造にな
る容器（１）を有し、この容器（１）にはたとえばＣｏ
！、 Ｎｔ、 Ｈｅの３種類のガスを所定の割合マ混合
したガスレーザ媒質がほぼ大気圧に保持されて封入され
ている。また、容器（１）内には主放電電極をなす横断
面がかまぼこ状になる板状の陰極（２）および陽極（３
）が容器（１）の軸方向に沿い所定の間隔をおいて収納
されている。また、これら電極とは別に容器（１）内に
は保持板（４）、（５）が容器（１）の内で−１１＋−
τ％ｌＩ＋７４ｔｊ−Ｌ＋７１−マｔｔｘｒ４−＋Ａ４
−／ｅム、％’ｌ／ｒｋ１Ｌｂｒ１メ）置された状態に
固着されている。一方の保持板（４）には陽極（３）が
取シ付けられている。また、他方の保持板（５）の陽極
（３）側に向く面には絶縁体（７）および取付板（８）
が取シ付けられている。取付板（８）Ｋは陰極（２）が
取シ付けられている。なお、保持板（４） 、 （５）
は陰極（２）または陽極（３）等とともに容器（１）外
へ引き出されるようになっている。保持板（４）と取付
板（７）には予備放電のための多数のピン電極（９ａ）
、 （９ｂ）が陰極（２）、陽極（３）をはさんで設置
されている。一方の各ピン電極（９ａ）には予備放電時
に充電されるピーキングキャパシタ（１１が接続されて
いる。なお。
図示せぬが陰極（２）、陽極（３）の両端側に位置して
一対の光共振器が容器（１）の軸に直交して配置されて
いる。
一対の光共振器が容器（１）の軸に直交して配置されて
いる。
上記構成で得られたレーザ光のビーム強度は第６図に示
されるように、中央にピークをもった強度分布αυとな
る。このようなレーザ光でたとえばマーキング加工をす
る場合には所定のパターンを形成したマスクにビームを
通過させ、このパターンを通過したレーザ光を適宜の面
積に縮小して行っているが、上記した強度分布のため、
中央部分と周辺部分とが加工にバラツキを生じ、特に周
辺部が°かすれてマーキングされてしまう不具合があっ
た。
されるように、中央にピークをもった強度分布αυとな
る。このようなレーザ光でたとえばマーキング加工をす
る場合には所定のパターンを形成したマスクにビームを
通過させ、このパターンを通過したレーザ光を適宜の面
積に縮小して行っているが、上記した強度分布のため、
中央部分と周辺部分とが加工にバラツキを生じ、特に周
辺部が°かすれてマーキングされてしまう不具合があっ
た。
本発明は加工に適したレーザ光を得ることのできるレー
ザ発振器を提供することを目的とする。
ザ発振器を提供することを目的とする。
主放電電極の少なくとも一方の電極の一部に非放電部を
形成し、上記目的を達成するようにしたものである。
形成し、上記目的を達成するようにしたものである。
以下２本発明を実施例を示す図面に基いて説明する。
第１図は本発明の第１の実施例で、第５図と共通する部
分には同一符号を付し、以下に説明する。
分には同一符号を付し、以下に説明する。
すなわち、従来例である第４図の構成と異なる点は陰極
（２）の陽極（３）側に対向している面の中央部になめ
らかな凹部（ｌ！１９を形成したことにある。この凹部
（ｔ′９の深さは陰極（２）と陽極（３）の対向間隔の
最短部の／１０以下が好ましい。
（２）の陽極（３）側に対向している面の中央部になめ
らかな凹部（ｌ！１９を形成したことにある。この凹部
（ｔ′９の深さは陰極（２）と陽極（３）の対向間隔の
最短部の／１０以下が好ましい。
上記の構成によって取付板（７）に高電圧パルスが印加
されると各ピン電極（８Ｍ）、 （８ｂ）間でスパーク
放電が起き、この放電てよって紫外光が発生する。
されると各ピン電極（８Ｍ）、 （８ｂ）間でスパーク
放電が起き、この放電てよって紫外光が発生する。
この発生した紫外光は陰極（２）と陽極（３）の間を予
備電離する。予備電離の度合は紫外光源からの距離に依
存するため、ピン電極（８ａ）、 （８ｂ） Ｋ近い陰
極（２）、陽極（３）の端部がよりよく予備電離される
。さらに、陰極（２）の左右両端部は中央凹部住９よシ
わずかに電極間隔が短かいため、凹部ａ鴎を間にして両
側に主放電（１６ａ）、 （１６ｂ）が発生する。この
とき。
備電離する。予備電離の度合は紫外光源からの距離に依
存するため、ピン電極（８ａ）、 （８ｂ） Ｋ近い陰
極（２）、陽極（３）の端部がよりよく予備電離される
。さらに、陰極（２）の左右両端部は中央凹部住９よシ
わずかに電極間隔が短かいため、凹部ａ鴎を間にして両
側に主放電（１６ａ）、 （１６ｂ）が発生する。この
とき。
凹部（至）は電極間隔の１／１０以下で、しかもなめら
かであるため、非放電部とな９１両側での放電はアーク
放電になることはなくグロー放電となる。以上の放電に
よシ発生するレーザビーム強度は第２図の破線部分を含
んだ二つの強度（１７ａ）、 （１７ｂ）が重畳し、全
体としてはその重畳部分の和が加算され、実線で示すよ
うにｔｌぽ台形状の強度分布α槌をもつレーザビームと
なる。したがって１強度の平均化に伴なって前述のマー
キング加工においてはかすれ現象が解決されるようにな
った。
かであるため、非放電部とな９１両側での放電はアーク
放電になることはなくグロー放電となる。以上の放電に
よシ発生するレーザビーム強度は第２図の破線部分を含
んだ二つの強度（１７ａ）、 （１７ｂ）が重畳し、全
体としてはその重畳部分の和が加算され、実線で示すよ
うにｔｌぽ台形状の強度分布α槌をもつレーザビームと
なる。したがって１強度の平均化に伴なって前述のマー
キング加工においてはかすれ現象が解決されるようにな
った。
第３図は本発明の第２の実施例で凹部（Ｌ！９を１個で
なく、複数たとえば２個設けた例であシ、また。
なく、複数たとえば２個設けた例であシ、また。
第４図は本発明の第３の実施例で凹部に代えて絶縁部α
値を設けたものでこれらはいずれも非放電部となり、上
記第１の実施例と同様な作用効果を奏する。なお、絶縁
部霞は図示のように１個でなく複数個形成しても同様で
ある。
値を設けたものでこれらはいずれも非放電部となり、上
記第１の実施例と同様な作用効果を奏する。なお、絶縁
部霞は図示のように１個でなく複数個形成しても同様で
ある。
さらに上記何れの実施列も陰極側に非放電部となる凹部
、絶縁部を設けたが１反対に陽極側もしくは両方の電極
に設けても同じ結果が得られる。
、絶縁部を設けたが１反対に陽極側もしくは両方の電極
に設けても同じ結果が得られる。
ビームの強度分布が平均化したレーザ光が得られたこと
くよシ加工のためのしきい値を必要以上に上げることな
く均一な加工が行えるようになった。特に、マーキング
加工ではより広い均一な部分をもつレーザ光によシ、マ
スクの閘積金拡大することができた。
くよシ加工のためのしきい値を必要以上に上げることな
く均一な加工が行えるようになった。特に、マーキング
加工ではより広い均一な部分をもつレーザ光によシ、マ
スクの閘積金拡大することができた。
第１図は本発明の第１の実施例を示す断面図。
第２図は上記第１の実施例で得られたレーザ光のビピー
ム強度分布図、第３図および第４図は本発明の第２およ
び第３の実施例を示す要部断面図、第５図は従来例を示
す断面図、第６図は従来例のビーム強度分布図である。 （１）・・・容 器 （２）・・・・・
・陰 極（３）・・・陽 極 （９ａ）、 （９
ｂ）・・・・・・ビン電極（を句・・・凹 部 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 第１囚 第３図 第４図 第５ウ 第６図
ム強度分布図、第３図および第４図は本発明の第２およ
び第３の実施例を示す要部断面図、第５図は従来例を示
す断面図、第６図は従来例のビーム強度分布図である。 （１）・・・容 器 （２）・・・・・
・陰 極（３）・・・陽 極 （９ａ）、 （９
ｂ）・・・・・・ビン電極（を句・・・凹 部 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 第１囚 第３図 第４図 第５ウ 第６図
Claims (4)
- （１）ガスレーザ媒質とこのガスレーザ媒質を封入した
容器とこの容器内に所定の間隔をおいて対向配置される
陰極および陽極からなる主放電電極とこの主放電電極の
近傍に配置され主放電域とその近傍を予備電離する予備
放電電極とを備えたレーザ発振器において、上記主放電
電極の少なくとも一方は主放電域側の一部に非放電部を
もつことを特徴とするレーザ発振器。 - （２）非放電部は主放電方向に直交する方向に沿いかつ
中央部に形成されたことを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載のレーザ発振器。 - （３）非放電部は凹部で形成されたことを特徴とする特
許請求の範囲第１項または第２項記載のレーザ発振器。 - （４）非放電部は絶縁物で形成されたことを特徴とする
特許請求の範囲第１項または第２項記載のレーザ発振器
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60169752A JPH0746737B2 (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 | レ−ザ発振器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60169752A JPH0746737B2 (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 | レ−ザ発振器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6231185A true JPS6231185A (ja) | 1987-02-10 |
| JPH0746737B2 JPH0746737B2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
ID=15892184
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60169752A Expired - Lifetime JPH0746737B2 (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 | レ−ザ発振器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0746737B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS647669A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-11 | Komatsu Mfg Co Ltd | Gas laser oscillator |
| JPH04139777A (ja) * | 1990-10-01 | 1992-05-13 | Toshiba Corp | パルスレーザ装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61201489A (ja) * | 1985-03-04 | 1986-09-06 | Toshiba Corp | ガスレ−ザ発振装置 |
| JPS61174764U (ja) * | 1985-04-22 | 1986-10-30 |
-
1985
- 1985-08-02 JP JP60169752A patent/JPH0746737B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61201489A (ja) * | 1985-03-04 | 1986-09-06 | Toshiba Corp | ガスレ−ザ発振装置 |
| JPS61174764U (ja) * | 1985-04-22 | 1986-10-30 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS647669A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-11 | Komatsu Mfg Co Ltd | Gas laser oscillator |
| JPH04139777A (ja) * | 1990-10-01 | 1992-05-13 | Toshiba Corp | パルスレーザ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0746737B2 (ja) | 1995-05-17 |
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