JPS6193446A - 水現像性の二層または単層の負に働く平版印刷用板 - Google Patents

水現像性の二層または単層の負に働く平版印刷用板

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JPS6193446A
JPS6193446A JP60169649A JP16964985A JPS6193446A JP S6193446 A JPS6193446 A JP S6193446A JP 60169649 A JP60169649 A JP 60169649A JP 16964985 A JP16964985 A JP 16964985A JP S6193446 A JPS6193446 A JP S6193446A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は上層自体として役立つ戒はジアゾ樹脂と混合し
て水現像性で負に働く平版印刷用板を形成する単一層と
して役立つ新規の、水透過性、水不溶性−1栽油性材料
に関する。
発明の背景 本発明は0−エポキシアルキル化テトラキズ(ヒドロキ
シフェニル)アルカン樹脂とフェノールとの反応生成物
からなる新規の化合物に関する。
本発明は更に予め警感光性を与えた平版印刷用板の製造
法及びこの方法によって製造さ、れた新規の平版印刷用
板に関する。更に詳しくは本発明は負に作用し、水で現
像できる二つの層又は単一層からなる平版印刷用板に関
するものであるが、この印刷用板は親水性の表面を有す
る生地を抱含するものであシ、この親水性の表面は(a
)水溶性、平版印刷に好適且つ感光性で負に働く芳香族
ジアゾ化合物の層を用いて先ず下塗シされ、ついで前出
の反応生成物の水透過性、水不溶性、親油性樹脂層の層
を用いて上塗シされるか若しくは(b)芳香族ジアゾ組
成物と前出の反応生成物の混合物からなる単層システム
を用いて塗装されるかの何れかによるものであシ、この
ような二つのシステムはいずれも水現像性、負に働く平
版印刷用板を与えるものである。映像化のためにさらす
と、さらされた領域は水不溶性となシ、さらされない領
域を水道水で洗うと現像が行われる。
平板印刷用板の領域における技術は常に現像の問題をか
かえ込んで来た。即ちさまざまな化学的現像用物質が使
用されて来たが、これらは通常地域社会の排棄物除去施
設を経由してすてられねば々ら表い。そのような現像剤
は買うのに費用がかかるだけでなく、すてられるときに
汚染の問題をも亦惹起するのである。このような次第で
、通常の水道水で現像できる平版印刷用板が市販される
ことは好ましいことである。
在来技術 ポリグリシジルエーテル類とフェノール類との反応は当
該技術において周知である。米国特許第3.477,9
90号明細書にはノーラック樹脂と7エノール類との反
応を教示している。更に米国特許第3,948,855
号明細書にはポリエポキシP類例えばノーラック樹脂の
グリシジルエーテル類とフェノールとの反応を教示して
いる。然し乍らノーラック樹脂を含む物質は平版印刷用
板としては該明細書に述べられているように除外されて
いる、というのはそのような物質は水透過性でないから
である。米国特許第3,350,353号は工Iキシ樹
脂とフェノール類との反応を教示しているが該生成物は
液状であるので平版印刷用板を作るのには用いられない
、というのは接触する映像化された透明物は光にさらさ
れている開演状物となって了うからである。
二層の平版印刷用板も亦当該技術において周知となって
いる。親水性の表面を有する生地に支えられている感光
性ジアゾ層の上部層を形収する予め感光性を与えられた
親油性重合性表面を有する平版印刷用板は米国特許第3
,136,637号明細書に教示されている。該印刷用
板を光にさらす前後′のいずれにおいても板の上層は重
合状にあり、さらしている間に受けた化学線は専ら下層
の感光性ジアゾ樹脂に働いてさらされた領域中における
その不溶化を惹起する。ジアゾ樹脂層のさらされた領域
とさらされない領域との間におけるゆるやかな移動度又
は溶解度の差の結果として平版印刷用板は現像できるの
である。然し乍ら現像中オ/々−コートされている樹脂
層はその均一な性質の故にさらされた領域、さらされて
いない領域の両者において除かれる傾向がありそのため
にその有効な使用が否定されることIIcする。
米国特許第3,462,267号明細書にはこのシステ
ムに対する改善法が記載されている。即ちこのシステム
の親油層が光架橋性ポリi−であシ、さらされた領域に
おいてはその懸垂状で光に不安定な基の架橋作用によっ
て親油層は不溶化されるのである。然しこのシステムに
はそのような平版印刷用板の親油層はジアゾ樹脂に使用
されるものと同じ溶液中では現像できないという欠点を
も亦持っていて二つ又はそれよシも多くの現像工程を必
要とする。
米国特許第3,179,518号明細書は、平版印刷用
板の製造において、映像化のために紫外線にさらすとき
に水不溶化性とまる成る種の水溶性ジアゾ型組成物の使
用について教示している。この方法は水で現像すること
によってさらされていない領域の除去を可能とするが、
残餘の映像化領域は長い間の印刷による過労に堪えるこ
とが不可能であシ、現像後映像化領域にインキ受容性の
ラッカー又は他の類似の塗料を塗装するととを必要とす
る。従って所望の映像を実際に印刷するのはこの塗料で
あってジアゾ型組成物ではない。
米国特許第4,104,072号明細書にはアルミニウ
ムシート上にジアゾ層を有する水現像性の平版印刷用板
が教示されているが、このジアゾ層は、平版印刷に好適
な負に働く感光剤と組み合せた親油性樹脂から成る層で
上塗シされている、そして該感光剤はノ臂う−ジアゾー
ジフエエルアミンパラホルムアルデヒド縮合物と2−ヒ
ドロキシ−4−メト午ジペンゾフェノンスルホン酸およ
びアジドピレン類との反応生成物からえらばれる。この
感光剤は樹脂をたばね%紫外線にさらした後この組成物
を水不透過性にするための必要な成分である。
発明の総括 本発明は二層の平版印刷用板において、その上層として
使用できる新規の組成物およびその下層としてのジアゾ
樹脂組成物を提供する。この組成物は単層の平版印刷用
板においてジアゾ樹脂と直接に組み合せて使用すること
も亦出来る。
+9 本発明は又通常の水道水(轡water )を使用して
現像することの出来る平版印刷用板をも提供する。本発
明は更に、水溶性で平版印刷に好適で感光性且つ負II
cm<芳香族ジアゾ組成物の層で先ず塗装され、次いで
水不透過性、水不溶性 の、0−エポキシアルキル化テ
トラキズ(ヒドロキシフェニル]′フルカン樹脂と置換
又は非置換フェノールとの反応生成物の親油性層で上塗
シされた親水性表面を有する生地から嘲る感光性板を提
供する。本発明は又該ジアゾ屑と水現像性の親油性層を
混合してなる単層の平版印刷用板をも提供する。
現像のために化学輻射線にさらすと、さらされた領域は
水不溶性となシ、さらされない領域を水道水で洗い去る
ことによって現像は好便にそして有効に完遂される。得
られた感光性を与えられたシートは良好な貯蔵能力を示
す。
発明の詳細な説明 本発明は新規な親油性化合物および、その水現像性平版
印刷用板における使用を指向する。
この板を製造するための第1工程杜生地を提供すること
である。平版印刷用板用の好適な生地に用生地の表面に
ジアゾ樹脂を塗装する前に、該表面を不動化して表面と
ジアゾ樹脂との間の如何なる有害な相互作用をも防止す
ることが一般に必要である。
そのような不動化処理はりアゾ樹脂のさらされた部分と
生地との間の強固な結合を促進するのに助けとなるとと
もに、平版印刷の間親水性表面を提供するのを又助けも
するであろう。米国特許第2.714,066号明細書
に記載のシリケート処理は金属生地のための好ましい不
動化処理である。
他の不動化処理は米国特許第2,946,638号(六
ハロゲン化ジルコニウム)、米国特許第3.201,2
47号(ホスホモリブデン酸塩処理]および米国特許第
3,148,984号に記載されている。この同一目的
を達収するために使用される好適な塗装技術は米国特許
第3,196,785号の各明細書に教示されている。
第1層として使用される水溶性、平版印刷に好適な、感
光性、負に働く芳香族ジアゾ組成物は当業者間に周知で
あり、パラ−ジアゾジフェニルアミンとノぐラホルムア
ルデヒドとの反応生成物例えば4−ジアゾジフェニルア
ミン硫酸塩とホルムアルデヒド及び塩化亜鉛の縮合生成
物のよう々重合性ジアゾニウム化合物を含む。ζこに使
用される他のジアゾニウム化合物には次のものが含まれ
るが、それらに限定されるものではない。
4−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩。
l−ジアゾ−4−N、N−ジメチルアミノベンゼン塩化
亜鉛。
l−ジアゾ−4−N、N−ジエチルアミノベンゼン塩化
亜鉛、 1−17’/−4−N−エチル−N−ヒドロキシエチル
アミノベンゼン、&塩化亜鉛、 l−ジアゾ−4−N−メチル−N−ヒドロキシエチルア
ミノベンゼン、′/2塩化亜鉛、l−ジアゾ−2,5−
ジェトキシ−4−ベンゾイルアミノベンゼン、′/2塩
化亜鉛。
l−ジアゾ−4−N−ベンジルアミノベンゼン。
最塩化亜鉛、 l−ジアゾ−4−N、N−ジメチルアミノベンゼン硼弗
化物、 l−ジアゾ−4−モルホリノベンゼン、残塩化亜鉛、 l−ジアゾ−4−モルホリノベンゼン硼弗化物、l−ジ
アゾ−2,5−ジメトキシ−4−p−)リルメルカブト
ベンゼン、釉填化亜塩、l−ジアゾ−2−エトキシ−4
−N、N−ジメチルアミノベンゼン、翅塩化亜塩、 p−ジアゾ−ジメチルアニリン、釉塩化亜鉛、l−ジア
ゾ−4−N、N−ジエチルアミノベンゼン、残塩化亜鉛
、 l−ジアゾ−2,5−ジブトキシ−4−モルホリ、ノベ
ンゼン硫酸塩。
l−1ア)−2,5−ジェトキシ−4−モルホリノベン
ゼン、J/2塩化亜鉛、 x−17ゾー2.5−ジメトキシ−4−モルホリノベン
ゼン塩化亜塩、 x−17/−2,5−ジェトキシ−4−モルホ+7/に
7471号塩化亜鉛、 l−シア?/−2,5−ジェトキシ−4−モルホナトリ
ウム塩、 1−ジアゾ−4−N、N−ジエチルアミノベンゼン硼弗
化物、 l−ジアゾ−2,5−ジェトキシ−4−p−)リルメル
カブトベンゼン、翅堪化亜鉛、l−ジアゾ−3−エトキ
シ−4−N−メチル−N−ベンジルアミノベンゼン、1
/2頃化亜鉛、 L−ジアゾ−3−クロル−4−N、N−ジエチルアミン
ベンゼン、残塩化亜鉛、 l−ジアゾ−3−メチル−4−ピロリジノベンゼンクロ
リド、塩化亜鉛、 l−ジアゾ−3−メチル−4−ピロリジノベンゼン硼弗
化物、 1−ジアゾ−2−クロル−4−N、N−ジメチルアミノ
−5−メトキシベンゼン、硼弗化物および l−ジアゾ−3−メトキシ−4−ぜロリジノベンゼン、
塩化亜鉛、 これらの物質はいずれも市販されている。
上塗υ層は0−エポキシアルキル化テトラキズ(ヒトセ
キジフェニル)エタン樹脂と置換又は非置換フェノール
との間の水透過性、水不溶性、親油性反応生我物である
。、親油性樹脂は後述の実施例に示されるようにO−;
ホキシアルキル化テトラキズ(ヒドロキシフエ三ル]エ
タン樹脂を置換又は非置換フェノールと反応させること
Kよって得られ、次の式を有する。
そしてXdH,ハロゲン、炭素原子数1〜8個を有する
アル−キシ基、炭素原子数1−14個を有するアルキル
基、炭素原子数6〜14個を有するアリール基、および
炭素原子数6〜14個を有するアラルキル基である。市
販されている一つの〇−エポキシアルキル化テトラキズ
(ヒドロキシフェニル〕エタン樹脂はシェルオイル社か
らのIPON−103)である@ エポキシ化合物がフェノール性OH基と作用し−c芳香
族とrロキシエーテル類を作ることは周知級アミン類お
よび第4級アンモニウム塩である。
本発明においては、〇−エポキシアルキル化テトラキズ
〔ヒドロキシフェニル〕エタン樹脂とエポキシ基工個に
つきl当量の置換又は非置換フェノールとは号。−号、
当量の第4級アンモニウム塩の存在の下に反応させられ
る。そしてこの場合好ましい触媒線ヘキサデシルトリメ
チルアンモニウムプロマイPである。
反応体の溶液は適当な溶媒中で60”−85Cの温度で
12〜60時間攪拌下に、遂にNMB分析によりエポキ
シ基が全く残ることのないように々るまで加熱する。遣
幽な溶媒にはメチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トンおよびエチルアセテートが含まれるがこれらに限定
されるものではない。
芳香族ジアゾ組成物は水溶液(2〜lO重量%]として
、p−ル塗装法、遠心除滴塗装法(Wb i r 1c
oating ) 、噴霧塗装法又は手で拭う塗装法の
ような任意の適当な手段によって適当なペースシート上
に塗布する。乾燥稜ジアゾ組成物についてのべたような
任意の適当な手段によって親油性樹脂を有機溶液(2−
10重tJ)として塗布する。
該親油性樹脂に使用される溶媒にはメチルエチルケトン
、メチルイソブチルケトン、アセトン及びメチルセロソ
ルブが含まれるが、これらに限定されるものではない。
ジアゾ組成物と親油性樹脂の混合物の溶液よりなる塗料
をジアゾ組成物用に前述した任意の手段を用いることに
よってジアゾ組成物と親油性樹脂を組み合せて単層とな
すことができる。
組み合わされた単層を適用するのに使用される好適な溶
媒系にはジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド
、エチレンジクロリド、メトキシエタノールおよびそれ
らの混合物が含まれるが、これらに限定されるものでは
ない。
二つの層からなる平版印刷用板の場合には、ジアゾ層は
約0.0056〜0.2222■/72(約5乃至約2
00111g/平方フート)好ましくは約0.0112
〜0.1111w/cwt2(約10−約300〜/平
方フート)の塗布量でペースシートに塗布される。親油
性の上塗シ層の塗布量は約0.056−0.3333)
9/cm2(約5乃至約300〜/平方フート〕であシ
、好ましい範囲は約0.039−0.2221119/
cut2(約35乃至約300〜/平方フート)である
l   単層の平版印刷用板の場合には20−80慢好
ましくは40〜70%のジアゾ組g物と、残少は親油性
樹脂とを含有する合同層はジアゾ組成物と親油性樹脂の
両者に対して約0.056〜G、2221rvcm2(
約5乃至約26□WI97平方フート)、好ましくは約
0.0112〜0.1111■/副 (約lO〜約10
0ダ/平方フート〕の塗装量でペースシートに塗装され
る。
ここに使用される用語「水透過性」は、この組成物は水
に不溶であるが、この水は組成物の薄層を通して透過す
ることの出来ることを意味する。
本発明において二層の板の場合、上層の水不溶性、親油
性樹脂層は水透過性で映像化のためKさらした後にはさ
らされない領域内で水透過性のtまでいる。然し、下層
のジアゾ組成物の層は最初は水溶性であ抄、そしてさら
された領域では水不溶性となるが、一方さらされない領
域では水溶性のままである。更にさらされた領域ではジ
アゾ組成物はそれ自体で共に結合すると共に又ペースの
生地および上部の親油性樹脂層とも結合する。
かくして、さらされた板を水で現像する堝合水はさらさ
れない領域内の上層の親油層を透過し、その下にあるさ
らされないジアゾ組成物を溶解し、両層を板から除去し
てペースの生地をあられにする。さらされた映像両域に
おいてはジアゾ組ε物はもはや水溶性ではなく、従って
上部の親油性層もジアゾ組成物の層もいずれも除去され
ない。映像化領域は親油性であシ且つインキ受容性であ
る、一方非映像領域即ちペースの生地はその性質として
親水性であるので平版印刷用板が得られるのである。
本発明において、単層板の場合、水不溶性水透過性、親
油性樹脂は水溶性ジアゾ組成物と緊密に混合される。ジ
アゾ組成物はさらされた領域においては水不溶性とカる
一方さらされない領域においては水溶性のままである。
更に又さらされた領域においてはジアゾ組成物はそれ自
体結合すると共に又ペースの生地とそのまわシの親油性
樹脂とも結合する。
このようにして、さらされた板を水で現像すると、水は
親油性樹脂を透過し、水溶性のさらされていないジアゾ
樹脂を溶解して、両者を板から除去することを可能とし
その結果ペース生地をあられすことKなる。さらされた
映像化領域においてはジアゾ組成物はもはや水溶性では
なく、握って親油性樹脂及びジアゾ組成物のいずれも除
去されることがない。映像化領域は親油性であシ且つイ
ンキ受容性である一方非映像化領域即ちペース生地はそ
の性質が親水性であるので平版印刷用板が得られるので
ある。
次に実施例を挙げるが、これらの実施例は本発F!At
−説明するためのものであって、ことさらこれを限定す
るためのものでは々い。特I/cことわらなり限り、す
べての部および百分率は重量による。
実施例1 コンデンサーおよび磁気攪拌機を備えた500罰の丸底
フラスコに、20.0.の工2キシ樹脂((シェルオイ
ルから「エポン−103)J(BPON−103)]の
商品名で販売されてhる))、 l 2.0、のフェノ
ール、3.0gのヘキサデシルトリメチルアンモニウム
ブロマイド(触媒として添加〕、および250suのメ
チルエチルケトンを詰めた。
フラスコを加熱し、得られた攪拌された溶液を24時間
還流した。反応生成物を冷却するに任せ、次いで濃縮し
た。反応生成物の構造はNMRによシ次の通9であるこ
とが確認された。
エ ロ エ ロ 冥施例2 コンデンサーと磁気攪拌機とを具えた250dの丸底フ
ラスコに、10.0.のニーキシ樹脂〔シェルオイル社
からBPON−103)の商品名で販売されているbi
t−natの4−)■ムフェノール、 2.0 、のヘ
キサデシルトリメチルアンモニウムブロマイド(触媒と
して添加]および1251のメチルエチルケトンをつめ
た。フラスコヲ加熱し、得られた攪拌下の溶液を24時
間還流するに任せた。反応生成物を冷却するに任せ、次
いで濃縮した。反応生成物の構造が次の通りであること
一             − 実施例3 コンデンサーと磁気攪拌機とを具備した250dの丸底
7ラスコに、10.0.のエポキシ樹脂(−ル、2.0
.のヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロマイド(
触媒として添加〕および125dのメチルエチルケトン
を詰めた。フラスコを加熱し、得られた攪拌下の溶液を
24時間還流するに任せた。反応生成物を放置して冷却
し、ついで濃縮した。反応生成物の構造はNMRによっ
て次実施例4 20、のジアゾ樹脂(フェアマウント・ケミカル社から
「ジアゾ樹脂154.L型」の商品名で販売されている
)t500−の水に溶解することによってジアゾ組成物
の溶液を製造した。ウェスターン リソコーター ロー
ル塗布機を使用してアンカー/リトーケムーK o (
Anchor/Lithkem−Ko)製造の3枚のL
KK珪素化アルミニウム平版印刷用板に上記のりアゾ組
成物塗料を塗装した。全く同じ塗装法によシ実施例1の
生成物をメチルインブチルケトン250m1に溶解して
得られた溶液を乾燥した板のそれぞれに再塗装した。
実施例5 実施例工の生成物を実施例2および3の生成物で置換え
た点を除き実施例4の方法によって更に別の平版印刷用
板ei造した。
実施例6 実施例4および5によって得られた感光性板を、エヌユ
ーアーク ニス1000プレイトメイカ−(NuArc
 N100OPlatemakhr )中、 55.8
8crn(22インチ)の距離で1,000 W水銀灯
に接触することなく、25単位の暴露にセットしてさら
した。
さらした板を水道水で5秒間現像し、次いでウェスター
ンA、G、B、仕上機で処理した。得られた板はインキ
を容易に牟容して、澄明表良好な性質のコツピーを印刷
した。
実施例7 20、のジアゾ樹脂(フェアマウント・ケミカル社から
“ジアゾ樹脂1.4、L型”の商品名で販売されている
)および実施p1の反応生成物の202を500ゴのジ
メチルスルホキシドに溶解して溶液を製造した。この塗
料をウェスターンリドコーター ロール コーターを使
用して1.アンカー/リトーケムーKo製造のLKK珪
素化アルミ+=ウム平版印刷用板に塗装した1、乾燥さ
れた板の水銀灯への暴妬は実施例6におけると全く同一
+件によった。さらされた板を水道水でlO秒見 受容し、これを以て印1刷したコツピーは澄明でその性
質は良好であった。

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)O−エポキシアルキル化テトラキズ(ヒドロキシ
    フェニル)エタン樹脂と置換又は非置換フェノールとの
    反応生成物を抱含する組成物。
  2. (2)反応化合物が次の一般式で表わされる化合物より
    なる組の一員である特許請求の範囲第(1)項記載の組
    成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここにRは▲数式、化学式、表等があります▼であり、 XはH、ハロゲン、1〜8個の炭素原子を有するアルコ
    キシ、1〜14個の炭素原子を有するアルキル、6〜1
    4個の炭素原子を有するアリールおよび6〜14個の炭
    素原子を有するアラルキルである。
  3. (3)親水性の表面を先ず最初に水溶性で平版印刷に好
    適な、感光性の負に働く芳香族ジアゾ組成物の層を以て
    塗装し、次いでO−エポキシアルキル化テトラキズ(ヒ
    ドロキシフェニル)エタン樹脂と置換又は非置換フェノ
    ールの反応生成物で水透過性、水不溶性、親油性である
    層で上塗りされた生地を抱含する負に働く、水現像性の
    二層平版印刷用板。
  4. (4)反応生成物が次の一般式で表わされる組の一員で
    ある特許請求の範囲第(3)項記載の印刷用板。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここにRは▲数式、化学式、表等があります▼であり、 そしてXはH、ハロゲン、1〜8個の炭素原子を有する
    アルコキシ、1〜14個の炭素原子を有するアルキル、
    6〜14個の炭素原子を有するアリール、および6〜1
    4個の炭素原子を有するアラルキルである。
  5. (5)親水性の表面を有する生地に、水溶性の平版印刷
    に好適な感光性で負に働く芳香族ジアゾ組成物を先ず塗
    装し、次いでこの層にO−エポキシアルキル化テトラキ
    ズ(ヒドロキシフェニル)エタン樹脂と置換又は非置換
    フェノールの反応生成物であり且つ水透過性、水不溶性
    、親油性である第2層を塗装してなる負に働く平版印刷
    用板の製法。
  6. (6)反応生成物が次の一般式で表わされる組の一員で
    ある特許請求の範囲第1項記載の製法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここにRは▲数式、化学式、表等があります▼であり、 XはH、ハロゲン、1〜8個の炭素原子を有するアルコ
    キシ、1〜14個の炭素原子を有するアルキル、6〜1
    4個の炭素原子を有するアリール、および6〜14個の
    炭素原子を有するアラルキルである。
  7. (7)親水性表面を有する生地の装置に、水溶性、平版
    印刷に好適な、感光性で負に働く芳香族ジアゾ組成物お
    よび、水透過性、水不溶性、親油性である、O−エポキ
    シアルキル化テトラキズ(ヒドロキシフェニル)エタン
    樹脂と置換又は非置換フェノールとの反応生成物の溶液
    状の混合層を塗装してなる負に働く水現像性の単一層の
    平版印刷用板。
  8. (8)反応生成物が次の一般式で表わされる組の一員で
    ある特許請求の範囲の第7項記載の印刷用板。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここにRは▲数式、化学式、表等があります▼であり、 そしてXはH、ハロゲン、1〜8個の炭素原子を有する
    アルコキシ、1〜14個の炭素原子を有するアルキル、
    6〜14個の炭素原子を有するアリール、および6〜1
    4個の炭素原子を有するアラルキルである。
  9. (9)親水性表面を有する生地に、水溶性で平版印刷に
    好適な、感光性で、負に働く芳香族ジアゾ組成物と、O
    −エポキシアルキル化テトラキズ(ヒドロキシフェニル
    )エタン樹脂と置換又は非置換フェノールとの水透過性
    、水不溶性で親油性の反応生成物との溶液状の混合物の
    層を塗装することよりなる負に働く単層の平版印刷用板
    の製法。
  10. (10)反応生成物が次の一般式で表わされる組の一員
    である特許請求の範囲第(9)項記載の方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここにRは▲数式、化学式、表等があります▼であり、 そしてXはH、ハロゲン、1〜8個の炭素原子を有する
    アルコキシ、1〜14個の炭素原子を有するアルキル、
    6〜14個の炭素原子を有するアリール、および6〜1
    4個の炭素原子を有するアラルキルである。
  11. (11)親水性の表面を有する生地を、水溶性の、平版
    印刷に好適な、感光性で負に働く芳香族ジアゾ組成物の
    層で先ず塗装し、該組成物の層をO−エポキシアルキル
    化テトラキズ(ヒドロキシフェニル)エタン樹脂と置換
    又は非置換フェノールの水透過性、水不溶性、親水性反
    応生成物の層で上塗りし、この被覆物を映像化するため
    に紫外線にさらし、そのあとでさらされていない層を水
    で除去することによつてこの板を現像することからなる
    平版印刷用板の製造方法。
  12. (12)反応生成物が次の一般式を有する組の一員であ
    る特許請求の範囲第1項記載の方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここにRは▲数式、化学式、表等があります▼であり、 そしてXはHをハロゲン、1〜8個の炭素原子を有する
    アルコキシ、1〜14個の炭素原子を有するアルキル、
    6〜14個の炭素原子を有するアリール、および6〜1
    4個の炭素原子を有するアラルキルである。
  13. (13)(イ)水溶性で平版印刷に好適な芳香族ジアゾ
    組成物、および (ロ)O−エポキシアルキル化テトラキズ(ヒドロキシ
    フェニル)エタンと置換又は非置換フェノールとの水透
    過性、水不溶性反応生成物からなる輻射線に感性があり
    、負に働く組成物。
  14. (14)反応生成物が次の一般式を有する組の一員であ
    る特許請求の範囲第(13)項記載の組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここにRは▲数式、化学式、表等があります▼であり、 そしてXはH、ハロゲン、1〜8個の炭素原子を有する
    アルコキシ、1〜14個の炭素原子を有するアルキル、
    6〜14個の炭素原子を有するアリール、および6〜1
    4個の炭素原子を有するアラルキルである。
  15. (15)輻射線に感じ易い組成物をその少くとも一つの
    表面に塗装して有する生地を抱含する輻射線に感じ易い
    負に働く要素。
  16. (16)映像化するためにさらされ、次いで水で現像さ
    れた平版印刷に好適な支持材料を生地が含んでいる特許
    請求の範囲(15)記載の要素を抱含する平版印刷用板
JP60169649A 1984-07-31 1985-07-31 水現像性の二層または単層の負に働く平版印刷用板 Pending JPS6193446A (ja)

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5160783A (en) * 1989-12-19 1992-11-03 Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd. Epoxy resin-impregnated glass cloth sheet having adhesive layer
WO2007046262A1 (ja) * 2005-10-18 2007-04-26 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、感光性樹脂組成物およびその硬化物

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2806016A (en) * 1954-11-01 1957-09-10 Shell Dev Polyglycidyl ethers of tetraphenols
BE620097A (ja) * 1958-11-26
NL256864A (ja) * 1959-10-16
BE629055A (ja) * 1961-10-13
US3350353A (en) * 1965-03-25 1967-10-31 Celanese Coatings Co Epoxide resin process
US3376139A (en) * 1966-02-01 1968-04-02 Gilano Michael Nicholas Photosensitive prepolymer composition and method
US3477990A (en) * 1967-12-07 1969-11-11 Shell Oil Co Process for reacting a phenol with an epoxy compound and resulting products
US3679419A (en) * 1969-05-20 1972-07-25 Azoplate Corp Light-sensitive diazo condensate containing reproduction material
US3948855A (en) * 1971-09-16 1976-04-06 The Dow Chemical Company Process for reacting a phenol with a vicinal epoxy compound in the presence of phosphorus or carbon containing acid, ester or acid ester
JPS5539825B2 (ja) * 1972-05-12 1980-10-14
US4093465A (en) * 1973-08-14 1978-06-06 Polychrome Corporation Photosensitive diazo condensate compositions
US4308185A (en) * 1976-05-11 1981-12-29 Scm Corporation Graft polymer compositions of terminated epoxy resin, processes for making and using same, and substrates coated therewith
JPS5344202A (en) * 1976-10-01 1978-04-20 Fuji Photo Film Co Ltd Developer composition and developing method
US4104072A (en) * 1977-05-19 1978-08-01 Polychrome Corporation Water developable lithographic printing plate having dual photosensitive layering
JPS5525093A (en) * 1978-08-10 1980-02-22 Polychrome Corp Storageestable lithography print plate
US4447512A (en) * 1982-01-25 1984-05-08 Polychrome Corporation Method for making a negative working lithographic printing plate
US4483758A (en) * 1982-01-25 1984-11-20 Polychrome Corporation Method for making a negative working lithographic printing plate
AU1112683A (en) * 1983-02-04 1984-08-09 Polychrome Corp. Lithographic printing plate
US4600679A (en) * 1984-05-25 1986-07-15 W. R. Grace & Co. Water-developable, negative-working, diazo lithographic printing plate with oleophilic ester overlayer

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