JPS6194411A - 帯域可変弾性表面波フイルタ - Google Patents
帯域可変弾性表面波フイルタInfo
- Publication number
- JPS6194411A JPS6194411A JP59215952A JP21595284A JPS6194411A JP S6194411 A JPS6194411 A JP S6194411A JP 59215952 A JP59215952 A JP 59215952A JP 21595284 A JP21595284 A JP 21595284A JP S6194411 A JPS6194411 A JP S6194411A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- comb
- electrodes
- surface acoustic
- electrode
- wave filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 5
- 239000011295 pitch Substances 0.000 claims description 4
- 238000003780 insertion Methods 0.000 abstract description 4
- 230000037431 insertion Effects 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/64—Filters using surface acoustic waves
- H03H9/6403—Programmable filters
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/125—Driving means, e.g. electrodes, coils
- H03H9/145—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks using surface acoustic waves
- H03H9/14544—Transducers of particular shape or position
- H03H9/14564—Shifted fingers transducers
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/125—Driving means, e.g. electrodes, coils
- H03H9/145—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks using surface acoustic waves
- H03H9/14544—Transducers of particular shape or position
- H03H9/14564—Shifted fingers transducers
- H03H9/14567—Stepped-fan shaped transducers
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
- H03H9/30—Time-delay networks
- H03H9/42—Time-delay networks using surface acoustic waves
- H03H9/423—Time-delay networks using surface acoustic waves with adjustable delay time
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
- H03H9/70—Multiple-port networks for connecting several sources or loads, working on different frequencies or frequency bands, to a common load or source
- H03H9/72—Networks using surface acoustic waves
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H2240/00—Indexing scheme relating to filter banks
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
- H03H9/02614—Treatment of substrates, e.g. curved, spherical, cylindrical substrates ensuring closed round-about circuits for the acoustical waves
- H03H9/02629—Treatment of substrates, e.g. curved, spherical, cylindrical substrates ensuring closed round-about circuits for the acoustical waves of the edges
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/125—Driving means, e.g. electrodes, coils
- H03H9/145—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks using surface acoustic waves
- H03H9/14544—Transducers of particular shape or position
- H03H9/14547—Fan shaped; Tilted; Shifted; Slanted; Tapered; Arched; Stepped finger transducers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、午導体基板と、その上に投げられた圧電体薄
膜と、その表面の両端近傍に設けられた少くとも1対の
入出力用の櫛形電極とを含み、帯域の異なる複数個の弾
性表面波(以下本明細書においては、SAWと略記する
。)フィルタから成る帯域可変SAWフィルタに関する
。
膜と、その表面の両端近傍に設けられた少くとも1対の
入出力用の櫛形電極とを含み、帯域の異なる複数個の弾
性表面波(以下本明細書においては、SAWと略記する
。)フィルタから成る帯域可変SAWフィルタに関する
。
SAWフィルタは、テレビ受像機のIFフィルタや各種
通信機器のフィルタとして広(応用−されているが、通
常は帯域固定のフィルタとして使われている。
通信機器のフィルタとして広(応用−されているが、通
常は帯域固定のフィルタとして使われている。
第7囚は一般的なSAWフィルタの形状ン示す斜視図で
、図中1は圧電基板、2は入力用の櫛形型、極、3は出
力用の櫛形電極を表わす。
、図中1は圧電基板、2は入力用の櫛形型、極、3は出
力用の櫛形電極を表わす。
このよりなSAWフィルタの帯域は櫛形電極の形状や対
数によって決まるので、SAWフィルタの固有の定数と
なり、可変圧することはできない。
数によって決まるので、SAWフィルタの固有の定数と
なり、可変圧することはできない。
しかし5周波数帯域χ時間的に変化させる方式の通信機
や、多チャンネルを有する各種の通信機では、帯域の可
変なフィルタが強く望まれている。
や、多チャンネルを有する各種の通信機では、帯域の可
変なフィルタが強く望まれている。
第8図(a)は代表的な帯域可変のSAWフィルタの上
面図で、図中第7□□□と共通する引用番号は第7図に
おけるものと同じ部分を表わし、4はスイッチング回路
、5は入力端子、6は出力端子である。第81iW(a
n示すSAWフィルタは1枚の基板1の上Kn数のSA
Wフィルタを構成し、かつ各フィルタの帯域ン互いに隣
接するように設定し、外部回路4のスイッチングによっ
て帯域を選択するようにしたものである。第8図1bl
は、スイッチング回路4の中でスイッチの接点が第81
9(a)のA。
面図で、図中第7□□□と共通する引用番号は第7図に
おけるものと同じ部分を表わし、4はスイッチング回路
、5は入力端子、6は出力端子である。第81iW(a
n示すSAWフィルタは1枚の基板1の上Kn数のSA
Wフィルタを構成し、かつ各フィルタの帯域ン互いに隣
接するように設定し、外部回路4のスイッチングによっ
て帯域を選択するようにしたものである。第8図1bl
は、スイッチング回路4の中でスイッチの接点が第81
9(a)のA。
B、C,DおよびEのいずれかにあるときの周波数と出
力の間の関係χ示すダイアグラムである。
力の間の関係χ示すダイアグラムである。
このような従来方式では、スイッチングのための外部回
路4が不可欠であり、製造原価と省空間の面で問題があ
り、またオン−オフ制御であるから1通過帯域の形状の
自由度が小さいという欠点もある。
路4が不可欠であり、製造原価と省空間の面で問題があ
り、またオン−オフ制御であるから1通過帯域の形状の
自由度が小さいという欠点もある。
本発明の目的は、第8図に示すようなスイッチング回路
を必訣としない、大きな自由度χ有する帯域可変のSA
Wフィルタを提供することである。
を必訣としない、大きな自由度χ有する帯域可変のSA
Wフィルタを提供することである。
上記目的χ達成するために冒頭に述べた種類の本発明に
よる帯域可変SAWフィルタは、SAWフィルタの人出
刃用の櫛形電極の間に設けられた金1!4を極と、該金
属電極の各々と上記半導体基板の間にバイアス電圧ン印
加する手段と、該バイアス1圧χ印加する手段を制御す
る手段とを含むことを敦旨とする。
よる帯域可変SAWフィルタは、SAWフィルタの人出
刃用の櫛形電極の間に設けられた金1!4を極と、該金
属電極の各々と上記半導体基板の間にバイアス電圧ン印
加する手段と、該バイアス1圧χ印加する手段を制御す
る手段とを含むことを敦旨とする。
金属電極を設置した部分はいわゆるモノリシックMI
S (金属l絶縁体/半導体)構造になっている。この
ような構造を伝播するSAWは、金属と半導体の間に印
加されるバイアス電圧によってその伝播損失χ大き(変
える。伝播損失とバイアス電圧の関係の一例ン、温度を
パラメータとして第9図に示す。図示のように%ある電
圧領域で伝播損失が急激に太き(なる。SAWが急激に
渡設する領域は千尋体表面(圧電体l牛尋体界面)が強
反転になるような電圧領域に対応する。第10図はC−
v%性(容量−電圧特性)(曲線b)と伝播損失(曲縁
a)の比較を示す。図示のように。
S (金属l絶縁体/半導体)構造になっている。この
ような構造を伝播するSAWは、金属と半導体の間に印
加されるバイアス電圧によってその伝播損失χ大き(変
える。伝播損失とバイアス電圧の関係の一例ン、温度を
パラメータとして第9図に示す。図示のように%ある電
圧領域で伝播損失が急激に太き(なる。SAWが急激に
渡設する領域は千尋体表面(圧電体l牛尋体界面)が強
反転になるような電圧領域に対応する。第10図はC−
v%性(容量−電圧特性)(曲線b)と伝播損失(曲縁
a)の比較を示す。図示のように。
伝播損失が急激に大きくなるのは、千尋体表面が強反転
になった時(破線の左側の領域)である。
になった時(破線の左側の領域)である。
したがって、金属電極に強反転領域の深いバイアス電圧
を印加すれば、その部分でSAWgオンすることができ
る。また、それほど深いバイアスを印加巳なければ、バ
イアス電圧に依存する可変アッテネータとしての機能が
あるので、各金属電極の各バイアス電圧全調節すること
により、自由度の大きい帯域特性を祷ることが可能であ
る。
を印加すれば、その部分でSAWgオンすることができ
る。また、それほど深いバイアスを印加巳なければ、バ
イアス電圧に依存する可変アッテネータとしての機能が
あるので、各金属電極の各バイアス電圧全調節すること
により、自由度の大きい帯域特性を祷ることが可能であ
る。
以下に、図面χ参照しながら、実施的ン用いて本発明を
一層詳細に説明するが、それらは例示に過ぎず、本発明
の伜を越えることなしKいろいろな変形や改良があり得
ることは勿論である。
一層詳細に説明するが、それらは例示に過ぎず、本発明
の伜を越えることなしKいろいろな変形や改良があり得
ることは勿論である。
第11i7は本発明の一実施の紡機による帯域可変SA
Wフィルタの斜視図で、因中第8図と共通する引用番号
は第8図におけるものと同じ部分ン表わす。半導体基板
7とその上に設けられた圧電薄膜8は圧電基板Ik影形
成る。半導体基板7の圧電薄膜8とは反対側には裏面電
極9が設けられており、その電極9は接地されている。
Wフィルタの斜視図で、因中第8図と共通する引用番号
は第8図におけるものと同じ部分ン表わす。半導体基板
7とその上に設けられた圧電薄膜8は圧電基板Ik影形
成る。半導体基板7の圧電薄膜8とは反対側には裏面電
極9が設けられており、その電極9は接地されている。
圧電基板10表面の一方の端には入力用の櫛形電極2が
設けられ、他方の端には出力用の櫛形電極3A、3B。
設けられ、他方の端には出力用の櫛形電極3A、3B。
3C,3Dが設けられており、それらは互に異なった帯
域のSAWにのみ感じるように形成されている。ω引用
の櫛形電極3A、3B、3C,3Dはいずれも出力端子
61C接続されている。入力用の櫛形電極2と出力用の
櫛形電極3A、3B、3C,3Dの中間には金属電極1
0A、IOB、IOC。
域のSAWにのみ感じるように形成されている。ω引用
の櫛形電極3A、3B、3C,3Dはいずれも出力端子
61C接続されている。入力用の櫛形電極2と出力用の
櫛形電極3A、3B、3C,3Dの中間には金属電極1
0A、IOB、IOC。
10 Dが設けられ、各フィルタごとに各々の金属電極
と裏面電極90間にバイアス電圧vA、vB。
と裏面電極90間にバイアス電圧vA、vB。
vo、VDが印加される。フィルタ全体の帯域は各バイ
アス電圧’!l’ II御することによって変化させら
れる。金属電極10A、IOB、IOC,IODへのパ
イアユ電圧VA、 vB、 Vo、 vDン変化さ
せると、フィルタの挿入損失が変わるので、各バイアス
電圧の組み合わせKよって全体の帯域を種々に設定する
ことができる。
アス電圧’!l’ II御することによって変化させら
れる。金属電極10A、IOB、IOC,IODへのパ
イアユ電圧VA、 vB、 Vo、 vDン変化さ
せると、フィルタの挿入損失が変わるので、各バイアス
電圧の組み合わせKよって全体の帯域を種々に設定する
ことができる。
第2図は1周波数の関数として帯域A、B、C。
Dにおける挿入損失のバイアス電圧による変化幅ン示す
。バイアス電圧は、任意の価tとることができ、出力を
例えば実線のようにすることができる。
。バイアス電圧は、任意の価tとることができ、出力を
例えば実線のようにすることができる。
第1図に示す装置においては、出力用の櫛形電極は分割
され、全体の出力はそれらの並列出力として取り出され
ているが、そのような構成以外に、第3図のような構成
!とることもできる。
され、全体の出力はそれらの並列出力として取り出され
ているが、そのような構成以外に、第3図のような構成
!とることもできる。
第3図に示す装置の圧電基板1の裏面には、前の実施例
におけると同様に、裏面電極が設けられ、接地されてお
り、金属電極10A、 10B、IOC,10Dおよび
10 E Kはバイアス電圧それぞれVA @ VB
@vo、VDおよびvXが印加されることも前の実施例
と同じである。第3図に示す装置が第1図に示す装置と
異なる点は、出力用の櫛形電極3が1個であり、SAW
の伝播方向に対して1角方向に電極ピッチが不連続的に
変化していることである。
におけると同様に、裏面電極が設けられ、接地されてお
り、金属電極10A、 10B、IOC,10Dおよび
10 E Kはバイアス電圧それぞれVA @ VB
@vo、VDおよびvXが印加されることも前の実施例
と同じである。第3図に示す装置が第1図に示す装置と
異なる点は、出力用の櫛形電極3が1個であり、SAW
の伝播方向に対して1角方向に電極ピッチが不連続的に
変化していることである。
それぞれの電極ピッチは帯域A、B、C,D、Eに対応
し、第3図に示す装置も第1図に示す装置と同様に動作
する。この形状の利点は、帯域tより細かくできること
と、出力を外部にとり出てボンディングの工程を減少で
きることである。
し、第3図に示す装置も第1図に示す装置と同様に動作
する。この形状の利点は、帯域tより細かくできること
と、出力を外部にとり出てボンディングの工程を減少で
きることである。
さらに、第4図に示すように、各金属電極ICI細か(
して密に韮べ、出力用の櫛形を極3の電極ピッチ’t−
8AWの伝播方向に対して直角方向に連続的に変化させ
れば、バイアス電圧の分布χ選択することによって通過
帯域を任意に変化させることも可能である。
して密に韮べ、出力用の櫛形を極3の電極ピッチ’t−
8AWの伝播方向に対して直角方向に連続的に変化させ
れば、バイアス電圧の分布χ選択することによって通過
帯域を任意に変化させることも可能である。
ここで、第1図、第3−および第4図に示す装置の千尋
体基板は、表面を酸化または窒化し、酸化層や窒化膜な
どの絶縁膜χ形成したものであっても良い。
体基板は、表面を酸化または窒化し、酸化層や窒化膜な
どの絶縁膜χ形成したものであっても良い。
さらに、金属電極の材質には櫛形電極と同一の材質を用
いることができ、またその製造にあたつては櫛形電極と
同じプロセス(写真蝕刻法)で、しかもそれらと同時に
製造することができる。
いることができ、またその製造にあたつては櫛形電極と
同じプロセス(写真蝕刻法)で、しかもそれらと同時に
製造することができる。
なお、第1図、第3図および第4図に示す装置の入力用
の櫛形電極は、すべてのフィルタに共通のものとして、
ただ1個だけで形成されているが、第5図に示すように
、同じ入力4性を持つ複数の櫛形電極2A、2B、2C
,2Dで形成されていても良い。
の櫛形電極は、すべてのフィルタに共通のものとして、
ただ1個だけで形成されているが、第5図に示すように
、同じ入力4性を持つ複数の櫛形電極2A、2B、2C
,2Dで形成されていても良い。
また第6図に示すように、aなる入力特性を持つ複数の
櫛形電極2A、2B、2C,2Dで形成されていても良
い。ただし、この場合には、各−極ごとに別々のマツチ
ング回路11A、IIB、IIC。
櫛形電極2A、2B、2C,2Dで形成されていても良
い。ただし、この場合には、各−極ごとに別々のマツチ
ング回路11A、IIB、IIC。
11Dz’用いてマツチングtとる必訣がある。
また金属電極10A、IOB、・・・は第1図および第
3図から第6図までに示すように、その1面がSAWの
進行方向に対し廁めになるように設定するのが望ましい
。そうすることによって、端面からのSAWの反射の影
響を軽減することができるからである。
3図から第6図までに示すように、その1面がSAWの
進行方向に対し廁めになるように設定するのが望ましい
。そうすることによって、端面からのSAWの反射の影
響を軽減することができるからである。
以上説明した通り、本発明によれば、従来の帯域可変の
SAWフィルタに較べて、出力を選択するためのスイッ
チング素子tフィルタに別個に設ける心安がないので、
省空間と低コスト化を図ることができる。本発明による
装置では、単にバイアス電圧tオンーオンするだけで、
スイッチングと同等の機能が実現できるので、回路的に
も簡単になるからである。またバイアス電圧tアナログ
的に制御するように丁れば、各帯域の挿入損失χアナロ
グ的に変化させることができるので、全体として自由度
の大きい帯域特性が得られる。
SAWフィルタに較べて、出力を選択するためのスイッ
チング素子tフィルタに別個に設ける心安がないので、
省空間と低コスト化を図ることができる。本発明による
装置では、単にバイアス電圧tオンーオンするだけで、
スイッチングと同等の機能が実現できるので、回路的に
も簡単になるからである。またバイアス電圧tアナログ
的に制御するように丁れば、各帯域の挿入損失χアナロ
グ的に変化させることができるので、全体として自由度
の大きい帯域特性が得られる。
本発明によるSAWフィルタは、SAWフィルタが用い
られている機器に丁ぺて応用可能であるが、CA T
V、通信衛星、中継器、トランシーバ等、特に周波数帯
域を時間的に変化させる方式の通信機や多チャンネルを
有する通信機において有用である。
られている機器に丁ぺて応用可能であるが、CA T
V、通信衛星、中継器、トランシーバ等、特に周波数帯
域を時間的に変化させる方式の通信機や多チャンネルを
有する通信機において有用である。
第1囚は本発明の一実施の態様による帯域可変SAWフ
ィルタの斜視図、第2図は出力と周波数の関係を示すダ
イアグラム、第3図は本発明の他の一つの実施の軸様に
よるSAWフィルタの上ffi囚、第4図、第5図およ
び第6図は本発明のさらに異なる三つの実施の嘘様によ
るSAWフィルタの一部上面図、第7図は従来の帯域固
定SAWフィルタの斜視図、第8図は従来の帯域可変S
AWフィルタの上面図および出力と/i!i1波数の関
係Y示すダイアグラム、第9図は温度tパラメータとし
て伝播損失とバイアス電圧の関係を示すグラフ、第1O
図は伝播損失および高周波容量とバイアス電圧の関係Y
示すグラフである。 1・・・圧電基板、2.2A、2B・・・入力用の櫛形
電極、3.3A、3B・・・出力用の櫛形電極、4・−
・スイッチング回路、5・・・入力端子、6−・・出力
端子、7・・・千尋体基板、8・−・圧電薄膜、9・・
・表面IIr極、10、 IOA、 IOB・・・金属
電極、11A、11B・−マツチング回路。 第1図 第2図 間ν欽 第3図 第4図 第5図
ィルタの斜視図、第2図は出力と周波数の関係を示すダ
イアグラム、第3図は本発明の他の一つの実施の軸様に
よるSAWフィルタの上ffi囚、第4図、第5図およ
び第6図は本発明のさらに異なる三つの実施の嘘様によ
るSAWフィルタの一部上面図、第7図は従来の帯域固
定SAWフィルタの斜視図、第8図は従来の帯域可変S
AWフィルタの上面図および出力と/i!i1波数の関
係Y示すダイアグラム、第9図は温度tパラメータとし
て伝播損失とバイアス電圧の関係を示すグラフ、第1O
図は伝播損失および高周波容量とバイアス電圧の関係Y
示すグラフである。 1・・・圧電基板、2.2A、2B・・・入力用の櫛形
電極、3.3A、3B・・・出力用の櫛形電極、4・−
・スイッチング回路、5・・・入力端子、6−・・出力
端子、7・・・千尋体基板、8・−・圧電薄膜、9・・
・表面IIr極、10、 IOA、 IOB・・・金属
電極、11A、11B・−マツチング回路。 第1図 第2図 間ν欽 第3図 第4図 第5図
Claims (3)
- (1)半導体基板と、その上に設けられた圧電体薄膜と
、その表面の両端近傍に設けられた少くとも1対の入出
力用の櫛形電極とを含み、帯域の異なる複数個の弾性表
面波フィルタから成る帯域可変弾性表面波フィルタにお
いて、さらに各弾性表面波フィルタの入出力用の櫛形電
極の間に設けられた金属電極と、該金属電極の各々と上
記半導体基板の間にバイアス電圧を印加する手段と、該
バイアス電圧を印加する手段を制御する手段とを含むこ
とを特徴とする帯域可変弾性表面波フィルタ。 - (2)単一の入力用の櫛形電極と複数の出力用の櫛形電
極とを含むことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の帯域可変弾性表面波フィルタ。 - (3)単一の入力用の櫛形電極と、単一であるが弾性表
面波伝播方向に対して直角方向に、複数の異なる帯域の
弾性表面波に感じるように互に異なるピッチを有する出
力用の櫛形電極とを含むことを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の帯域可変弾性表面波フィルタ。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59215952A JPS6194411A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | 帯域可変弾性表面波フイルタ |
| US06/785,938 US4697115A (en) | 1984-10-15 | 1985-10-09 | Surface acoustic wave device |
| NL8502807A NL8502807A (nl) | 1984-10-15 | 1985-10-14 | Akoestische oppervlakte-golfinrichting. |
| FR8515216A FR2571907B1 (fr) | 1984-10-15 | 1985-10-14 | Dispositif a onde acoustique de surface |
| DE19853536704 DE3536704C2 (de) | 1984-10-15 | 1985-10-15 | SAW-Bauelement |
| GB08525365A GB2167257B (en) | 1984-10-15 | 1985-10-15 | Surface acoustic wave device |
| US07/028,284 US4748364A (en) | 1984-10-15 | 1987-03-20 | Surface acoustic wave device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59215952A JPS6194411A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | 帯域可変弾性表面波フイルタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6194411A true JPS6194411A (ja) | 1986-05-13 |
| JPH0582768B2 JPH0582768B2 (ja) | 1993-11-22 |
Family
ID=16680965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59215952A Granted JPS6194411A (ja) | 1984-10-15 | 1984-10-15 | 帯域可変弾性表面波フイルタ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4697115A (ja) |
| JP (1) | JPS6194411A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6441310A (en) * | 1987-08-06 | 1989-02-13 | Mitsubishi Electric Corp | Surface acoustic wave device |
| JPH0217707A (ja) * | 1988-07-05 | 1990-01-22 | Clarion Co Ltd | 広帯域弾性表面波フィルタ |
| JP2010057163A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Northrop Grumman Space & Mission Systems Corp | 電圧制御調整可能周波数応答を持つマルチチャネル表面弾性波フィルタ素子 |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4798987A (en) * | 1986-08-25 | 1989-01-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Surface acoustic wave generator |
| US4764701A (en) * | 1986-12-30 | 1988-08-16 | Zenith Electronics Corporation | Multichannel surface acoustic wave encoder/decoder |
| DE3881071T2 (de) * | 1987-02-17 | 1993-10-07 | Electronic Decisions Inc | Komplementäre akustische Ladungstransportanordnung und Verfahren. |
| JPS63260313A (ja) * | 1987-04-17 | 1988-10-27 | Clarion Co Ltd | 弾性表面波コンボルバ |
| US4947073A (en) * | 1988-02-04 | 1990-08-07 | Trw Inc. | Saw channelized filters |
| GB2221588B (en) * | 1988-07-19 | 1992-05-27 | Clarion Co Ltd | Surface-acoustic-wave device |
| DE3881693D1 (de) * | 1988-09-14 | 1993-07-15 | Siemens Ag | Elektroakustisches bauelement aus piezokeramischem material und verfahren zum frequenz- bzw. laufzeitabgleich des bauelementes. |
| US4952833A (en) * | 1989-03-22 | 1990-08-28 | Westinghouse Electric Corp. | High density surface acoustic waveguide channelizer |
| US5196720A (en) * | 1989-05-15 | 1993-03-23 | Clarion Co., Ltd. | Narrow band interference signal removing device |
| FR2650932B1 (fr) * | 1989-08-10 | 1996-03-08 | Dassault Electronique | Transducteurs electrique/acoustique et acoustique/electrique pour dispositif a ondes de surface a diffraction reduite et dispositif a ondes de surface correspondant |
| JPH0777360B2 (ja) * | 1989-12-01 | 1995-08-16 | クラリオン株式会社 | バイアス制御装置及びバイアス制御装置におけるソーテイング回路 |
| JPH03177105A (ja) * | 1989-12-06 | 1991-08-01 | Clarion Co Ltd | コンボルバ制御装置 |
| US5111100A (en) * | 1990-01-12 | 1992-05-05 | Clarion Co., Ltd. | Surface acoustic wave device and method for fabricating same |
| US5153476A (en) * | 1991-03-11 | 1992-10-06 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Acoustic vibrator with variable sensitivity to external acceleration |
| JP2944287B2 (ja) * | 1991-12-27 | 1999-08-30 | 日本電気株式会社 | 弾性表面波フィルタ |
| EP0569007A2 (en) * | 1992-05-08 | 1993-11-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Surface acoustic wave device, and demodulating apparatus and communication system using the surface acoustic wave device |
| DE19738229A1 (de) * | 1997-09-02 | 1999-03-04 | Bilz Otto Werkzeug | Werkzeug oder Werkzeughalter |
| AU2001273465A1 (en) * | 2000-07-13 | 2002-01-30 | Rutgers, The State University | Integrated tunable surface acoustic wave technology and systems provided thereby |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50134744A (ja) * | 1974-04-15 | 1975-10-25 | ||
| JPS5528567A (en) * | 1978-08-18 | 1980-02-29 | Sanyo Electric Co Ltd | Mfm demodulator circuit |
| JPS56141607A (en) * | 1980-04-05 | 1981-11-05 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Variable frequency oscillator of elastic surface wave |
| JPS59215953A (ja) * | 1983-05-23 | 1984-12-05 | Toyota Motor Corp | デイ−ゼル機関の排気ガス再循環制御方法 |
| JPS59215951A (ja) * | 1983-05-24 | 1984-12-05 | Yanmar Diesel Engine Co Ltd | ガス機関の空燃比制御装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1047615A (en) * | 1974-12-25 | 1979-01-30 | Yasutoshi Komatsu | Surface acoustic wave filter |
| US4233573A (en) * | 1979-02-12 | 1980-11-11 | United Technologies Corporation | Carrier concentration controlled surface acoustic wave variable delay devices |
| JPS5773514A (en) * | 1980-10-25 | 1982-05-08 | Fujitsu Ltd | Surface acoustic wave filter |
| JPS57173416U (ja) * | 1981-04-28 | 1982-11-01 | ||
| JPS57204643A (en) * | 1981-06-11 | 1982-12-15 | Clarion Co Ltd | Receiver |
| US4401956A (en) * | 1981-09-14 | 1983-08-30 | Joshi Shrinivas G | Electronically variable time delay in piezoelectric media |
-
1984
- 1984-10-15 JP JP59215952A patent/JPS6194411A/ja active Granted
-
1985
- 1985-10-09 US US06/785,938 patent/US4697115A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50134744A (ja) * | 1974-04-15 | 1975-10-25 | ||
| JPS5528567A (en) * | 1978-08-18 | 1980-02-29 | Sanyo Electric Co Ltd | Mfm demodulator circuit |
| JPS56141607A (en) * | 1980-04-05 | 1981-11-05 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Variable frequency oscillator of elastic surface wave |
| JPS59215953A (ja) * | 1983-05-23 | 1984-12-05 | Toyota Motor Corp | デイ−ゼル機関の排気ガス再循環制御方法 |
| JPS59215951A (ja) * | 1983-05-24 | 1984-12-05 | Yanmar Diesel Engine Co Ltd | ガス機関の空燃比制御装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6441310A (en) * | 1987-08-06 | 1989-02-13 | Mitsubishi Electric Corp | Surface acoustic wave device |
| JPH0217707A (ja) * | 1988-07-05 | 1990-01-22 | Clarion Co Ltd | 広帯域弾性表面波フィルタ |
| JP2010057163A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Northrop Grumman Space & Mission Systems Corp | 電圧制御調整可能周波数応答を持つマルチチャネル表面弾性波フィルタ素子 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0582768B2 (ja) | 1993-11-22 |
| US4697115A (en) | 1987-09-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0582768B2 (ja) | ||
| US20210408999A1 (en) | Elastic wave device, splitter, and communication apparatus | |
| JPH07283682A (ja) | 弾性表面波共振子フィルタ | |
| US6504454B2 (en) | Longitudinally coupled surface acoustic wave filter | |
| JPS5834049B2 (ja) | 弾性表面波装置 | |
| US4748364A (en) | Surface acoustic wave device | |
| JPS5835404B2 (ja) | 弾性表面波パラメトリック装置 | |
| US4575696A (en) | Method for using interdigital surface wave transducer to generate unidirectionally propagating surface wave | |
| JP3292071B2 (ja) | 弾性表面波デバイス | |
| US5332983A (en) | Filterbank using surface acoustic wave technology | |
| US4308510A (en) | Surface acoustic wave filter | |
| JPH1117493A (ja) | 弾性表面波装置 | |
| GB2167257A (en) | Surface acoustic wave device | |
| JPH07122965A (ja) | 弾性表面波フィルタ | |
| JPH03297211A (ja) | 弾性表面波フィルタ | |
| KR0168963B1 (ko) | 탄성표면파 필터 | |
| JPH033408B2 (ja) | ||
| JPH053930B2 (ja) | ||
| JP3172101B2 (ja) | 弾性表面波コンボルバ | |
| JPS6194407A (ja) | 弾性表面波可変遅延線 | |
| JP2636482B2 (ja) | 弾性表面波フィルタ | |
| JPS621310A (ja) | 弾性表面波装置 | |
| JPS59122109A (ja) | エラステイツク・コンボルバ | |
| SU1034150A1 (ru) | Фазовращатель на поверхностной акустической волне | |
| JPS6194410A (ja) | 弾性表面波フイルタ |