JPS6210045B2 - - Google Patents

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JPS6210045B2
JPS6210045B2 JP54131557A JP13155779A JPS6210045B2 JP S6210045 B2 JPS6210045 B2 JP S6210045B2 JP 54131557 A JP54131557 A JP 54131557A JP 13155779 A JP13155779 A JP 13155779A JP S6210045 B2 JPS6210045 B2 JP S6210045B2
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JP
Japan
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electrode fingers
response
width
electrode
zero
Prior art date
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Expired
Application number
JP54131557A
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English (en)
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JPS5656028A (en
Inventor
Michio Kadota
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication of JPS5656028A publication Critical patent/JPS5656028A/ja
Publication of JPS6210045B2 publication Critical patent/JPS6210045B2/ja
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    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
    • H03H9/02—Details
    • H03H9/02535—Details of surface acoustic wave devices
    • H03H9/02818—Means for compensation or elimination of undesirable effects
    • H03H9/02881—Means for compensation or elimination of undesirable effects of diffraction of wave beam
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H3/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
    • H03H3/007—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
    • H03H3/08—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of resonators or networks using surface acoustic waves
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic elements; Electromechanical resonators
    • H03H9/02—Details
    • H03H9/125—Driving means, e.g. electrodes, coils
    • H03H9/145—Driving means, e.g. electrodes, coils for networks using surface acoustic waves
    • H03H9/14517—Means for weighting
    • H03H9/1452—Means for weighting by finger overlap length, apodisation

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はインターデイジタル電極を用いた弾性
表面波フイルタに関する。
一般に、アポダイズドされたインターデイジタ
ル電極は、所望周波数特性をフーリエ逆変換して
インパルス応答を求め、このインパルス応答の時
間に対応させて電極ピツチを規定し、応答の大き
さに対応させて隣接する異電位の電極指間の交さ
幅を規定して構成されており、これを交さ幅重み
付けという。実際のインパルス応答では各応答を
結ぶ一組の包絡線が交わる場合が多々あり、この
場合にはその交点付近において応答の大きさが非
常に小さくなり、対応する電極指間の交さ幅も非
常に小さくなる。このような交さ幅の小さい対の
電極指は、その指間で励振される表面波が拡散し
易く、したがつて回折損が大きくなり、また電極
指をフオトエツチング処理などで製造する際、そ
の製造上の寸法バラツキにより大きな影響を受
け、得られる周波数特性が所望周波数特性から大
きくずれる。
また、リフレクシヨン法などにより電極パター
ンを設計した場合には、一組の包絡線が交わる付
近だけでなく、それ以外の領域においても応答の
小さいものが生じ、この場合にも上述と同様の間
題が起こる。
そこで、本発明は上述した従来の欠点をことご
とく除去したもので、回折損を小さく、かつ製造
バラツキの影響を極力押さえて、得られる周波数
特性と所望周波数特性の誤差を小さくした弾性表
面波フイルタを提供することを目的とする。
すなわち本発明は、インパルス応答における最
大応答に比して6%以下の大きさを有する応答に
対応する、隣接する異電位の電極指間の交さ幅を
零としたインターデイジタル電極を備えるもので
ある。
以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ詳述
する。
既に知られているように、帯域通過フイルタの
インパルス応答は、所望周波数特性をフーリエ逆
変換して得られるもので、例えば第1図に示すよ
うになる。このインパルス応答は、複数箇所で応
答が極小値を示して、一組の包絡線1,2が3,
4,5,6,7,8で交さする。例えば、フーリ
エ逆変換された重み付け関係がsin x/xで、帯域
幅 がWのフイルタでは、インパルス応答の時間軸上
で1/W、2/W、3/W、……の位置に応答の極小値
すなわち交さ点をもつ。このようなインパルス応
答に対応させてインターデイジタル電極が構成さ
れる。
インターデイジタル電極は一対のくし歯電極が
相互に差し込まれて構成されたもので、そのくし
歯電極は多数の電極指を有している。各電極指は
電極ピツチ(異電位の隣接する電極指の中心間距
離)をインパルス応答の時間間隔に比例的に対応
させて配列されている。そして、異電位の隣接す
る電極指間の交さ幅は、インパルス応答の最大応
答(第1図では記号9で示す応答)の6%以下の
大きさを有する微小応答を除いて、各応答の大き
さに比例的に対応させて設定されている。包絡線
1,2の交さ点3,4,5,6,7,8付近に存
在する6%以下の大きさを有する微小応答に対応
する電極指間は、交さしないように電極指が設け
られている。一例を第2図に示す。同図は第1図
のインパルス応答の交さ点3付近を示したもので
ある。同図において、破線で囲まれた部分は最大
応答に比し6%を越える大きさの応答に対応させ
て各電極指が形成されている。そして、本来ほぼ
零振源となるべき振源を含み、最大応答に比して
6%以下の大きさを有する、複数の振源が零振源
とされている。具体的には、電極指10と11、
電極指11と12、電極指12と13、電極指1
3と14、電極指14と15、電極指15と16
間は6%以下の大きさの応答に対応するもので、
それぞれ交さしないように対向する電極指が離間
して設けられている。この結果、交さ幅を零とし
た電極指の両側に位置する電極指10,16は必
然的に同電位となり、この間の領域では表面波が
励振されることはない。第3図は第1図のインパ
ルス応答に対応させたインターデイジタル電極の
指先端を結ぶ包絡線のみを示すもので、17,1
8,19,20,21,22が交さ幅零の部分で
ある。本実施例で、最大応答の6%以下の応答に
対応する交さ幅のみ零にしているのは、6%以下
のものでは表面波回折が大きく、かつ寸法誤差の
影響を大きく受け易く、また6%を越えたものを
零にすると周波数特性を大きく狂わす恐れがある
からである。
本実施例によれば、交さ幅の小さい励振源がな
くなるので、それによつて生ずる大きな回折損が
発生しなくなる。また、フオトエツチングなどで
電極指を形成する際、指寸法にバラツキが生じ易
く、特に従来では交さ幅の小さいものに相対的に
大きな影響を与えていたが、本実施例によれば、
そのような影響はない。したがつて、回折損、製
造バラツキの影響を極力押さえることができ、設
計時の所望周波数特性と得られる実際の周波数特
性を近付けることができる。
上記実施例はシングル型電極指のものを示して
いるが、本発明によればスプリツト型電極指につ
いても同様に適用できるものである。また、リフ
レクシヨン手法などによりインターデイジタル電
極を形成する場合には、インパルス応答の包絡線
が交さする部分以外にも、最大応答に比し6%以
下の大きさをもつ応答が生ずることがあるが、こ
れらの応答についても上記と同様に交さ幅を零に
構成するようにするとよい。さらに、上記実施例
では6%以下の大きさの応答に対応するものはす
べて交さ幅を零としているが、場合によつては、
部分的に零にするだけでもよい。さらにまた、音
速の均一化を図るため、上記実施例においてダミ
ー電極を追加してもよいことはもちろんである。
本発明は、以上説明したような構成からなるの
で、回折損が小さくなり、製造バラツキによる影
響が大幅に小さくなつて、所望周波数特性に近い
特性が得られるという、実用上大きな効果を有す
る。
【図面の簡単な説明】
図は本発明による弾性表面波フイルタを説明す
るためのもので、第1図はインパルス応答図、第
2図はインターデイジタル電極の要部パターンを
示す図、第3図はインターデイジタル電極の包絡
線を示す図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 所望周波数特性に基づくインパルス応答に対
    応させて、隣接する異電位の電極指の交さ幅を選
    定するようにした交さ幅重み付けインターデイジ
    タル電極を備える弾性表面波フイルタにおいて、
    前記インパルス応答における最大応答に比して6
    %以下の大きさを有する応答に対応する、複数の
    電極指の交さ幅を零とし、かつこの交さ幅を零と
    した電極指の両側に位置する電極指を同電位とし
    たことを特徴とする弾性表面波フイルタ。
JP13155779A 1979-10-11 1979-10-11 Elastic surface wave filter Granted JPS5656028A (en)

Priority Applications (1)

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JP13155779A JPS5656028A (en) 1979-10-11 1979-10-11 Elastic surface wave filter

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JP13155779A JPS5656028A (en) 1979-10-11 1979-10-11 Elastic surface wave filter

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Publication Number Publication Date
JPS5656028A JPS5656028A (en) 1981-05-16
JPS6210045B2 true JPS6210045B2 (ja) 1987-03-04

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ID=15060843

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JP13155779A Granted JPS5656028A (en) 1979-10-11 1979-10-11 Elastic surface wave filter

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0536177U (ja) * 1991-10-18 1993-05-18 フジ精機株式会社 電磁弁

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5528678A (en) * 1978-08-22 1980-02-29 Nec Corp Reed screen shape electrode

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JPS5656028A (en) 1981-05-16

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