JPS62104009A - 絶縁被膜付き磁性合金薄帯の製造方法 - Google Patents
絶縁被膜付き磁性合金薄帯の製造方法Info
- Publication number
- JPS62104009A JPS62104009A JP24272985A JP24272985A JPS62104009A JP S62104009 A JPS62104009 A JP S62104009A JP 24272985 A JP24272985 A JP 24272985A JP 24272985 A JP24272985 A JP 24272985A JP S62104009 A JPS62104009 A JP S62104009A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic alloy
- film
- coating
- magnetic
- iron loss
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
磁性材料を電力、電子機器に用いる場合、磁気特性に優
れるのは勿論、表面の電気絶縁性が良好であることも重
要である。
れるのは勿論、表面の電気絶縁性が良好であることも重
要である。
この発明は、上記した如き電力、電子機器などの用途に
供して好適な通常１００μｍ以下の厚さの磁性合金薄帯
に関し、とくにその表面に被成すべき絶縁被膜の有利な
改善を図ったものである。
供して好適な通常１００μｍ以下の厚さの磁性合金薄帯
に関し、とくにその表面に被成すべき絶縁被膜の有利な
改善を図ったものである。
（従来の技術）
近年、とくに電子機器においては、軽量化および小型化
に対する要請が強いことから、磁性材料の動作磁束密度
の向上ならびに動作周波数の上昇について盛んに研究が
進められている。
に対する要請が強いことから、磁性材料の動作磁束密度
の向上ならびに動作周波数の上昇について盛んに研究が
進められている。
ところでこれらの用途に用いられる材料には、基本的に
はエネルギー損失が小さいことが要求され、従来主に、
フェライト材料が使用されてきた。
はエネルギー損失が小さいことが要求され、従来主に、
フェライト材料が使用されてきた。
しかしながらフェライト材料は、電気抵抗は高いけれど
も、飽和磁束密度が極めて低いために、高い動作周波数
でのエネルギー損失は少ないものの、動作磁束密度を高
くとることはできなかった。
も、飽和磁束密度が極めて低いために、高い動作周波数
でのエネルギー損失は少ないものの、動作磁束密度を高
くとることはできなかった。
そのため磁心を作製した場合に、得られる磁心はかなり
大型のものとならざるを得す、その軽量、小型化は難し
かった。
大型のものとならざるを得す、その軽量、小型化は難し
かった。
この点合金磁性材料は、飽和磁束密度が高いので動作磁
束密度を高くとることができ、磁心等の軽量、小型化の
面では有効ではあるが、電気抵抗が小さいために損失の
増大を招く不利があった。
束密度を高くとることができ、磁心等の軽量、小型化の
面では有効ではあるが、電気抵抗が小さいために損失の
増大を招く不利があった。
一般に、磁性材料の鉄損Ｗは、次式で表わされる。
ここでＷｈ＝ ヒステリシス損、Ｄ＝試料の密度、Ｂｍ
＝動作磁束密度、ｔ＝試料の厚さ、ρ＝試料の電気抵抗
、Ｃ＝定数、ｆ＝周波数である。
＝動作磁束密度、ｔ＝試料の厚さ、ρ＝試料の電気抵抗
、Ｃ＝定数、ｆ＝周波数である。
上掲式より明らかなように、動作磁束密度と周波数とを
高いレベルに維持したまま鉄損の低減を図るには、素材
の電気抵抗を増大させることおよび／または板厚を薄く
することが大切である。
高いレベルに維持したまま鉄損の低減を図るには、素材
の電気抵抗を増大させることおよび／または板厚を薄く
することが大切である。
ところで素材の電気抵抗は素材の成分組成から自と決ま
るものであるため、これによって鉄損の低減を図ること
はできない。この点板厚は薄くすれば良いわけであから
、鉄損低減に期待がもてるわけであるが、従来、板厚を
薄くすることは、圧延法が限られるなど極めて難しく、
またコスト高となる不利もあった。
るものであるため、これによって鉄損の低減を図ること
はできない。この点板厚は薄くすれば良いわけであから
、鉄損低減に期待がもてるわけであるが、従来、板厚を
薄くすることは、圧延法が限られるなど極めて難しく、
またコスト高となる不利もあった。
ところが最近、たとえば特開昭５５−４１９５１号公報
に開示されているように、溶融合金から直接薄板を作成
する方法いわゆる急冷薄帯化法が開発され、板厚数μｍ
程度の薄帯が容易かつ安価に製造できるようになった。
に開示されているように、溶融合金から直接薄板を作成
する方法いわゆる急冷薄帯化法が開発され、板厚数μｍ
程度の薄帯が容易かつ安価に製造できるようになった。
従ってかような急冷法によって得られた磁性合金薄帯を
鉄心材料として用いることができれば、鉄損の増大を招
く不利なしに、軽量、小型化が実現できるはずである。
鉄心材料として用いることができれば、鉄損の増大を招
く不利なしに、軽量、小型化が実現できるはずである。
しかしながら実際に、かかる薄帯をトロイド状に巻いた
り、打抜いて積層して、磁気ディバイスとして用いた場
合、板同志が接触して厚肉の材料を用いた場合と同一に
なってしまい、薄帯化した効果を活かすことができなか
った。
り、打抜いて積層して、磁気ディバイスとして用いた場
合、板同志が接触して厚肉の材料を用いた場合と同一に
なってしまい、薄帯化した効果を活かすことができなか
った。
（発明が解決しようとする問題点）
上記の不利を回避するためには、薄帯の表面に絶縁被膜
を被覆することが肝要であるが、従来の絶縁コーティン
グ処理によって得られる被膜の厚みは数μｍあるため、
極薄薄帯たとえば板厚数μｍの薄帯に適用した場合には
、素材とほぼ等しい厚みになってしまうため、占積率の
著しい低下を招き、また密着性に劣るところにも問題を
残していた。
を被覆することが肝要であるが、従来の絶縁コーティン
グ処理によって得られる被膜の厚みは数μｍあるため、
極薄薄帯たとえば板厚数μｍの薄帯に適用した場合には
、素材とほぼ等しい厚みになってしまうため、占積率の
著しい低下を招き、また密着性に劣るところにも問題を
残していた。
この発明は、上記の問題を有利に解決するもので、急冷
法によって得られた磁性合金薄帯の表面に、新規な手段
によって極薄絶縁被膜を形成させることにより、高い飽
和磁束密度を持ち、しかも高動作周波数における透磁率
および鉄損特性にも優れた絶縁被膜付き磁性合金薄帯の
有利な製造方法を提案することを目的とする。
法によって得られた磁性合金薄帯の表面に、新規な手段
によって極薄絶縁被膜を形成させることにより、高い飽
和磁束密度を持ち、しかも高動作周波数における透磁率
および鉄損特性にも優れた絶縁被膜付き磁性合金薄帯の
有利な製造方法を提案することを目的とする。
すなわちこの発明は、磁性合金薄帯の表面に、Ｔｉ、
Ｎｂ、 Ｓｉ、 Ｖ、 Ｃｒ、 Ａｌ、 Ｂ、 Ｎｉ、
Ｃｏ、 Ｍｏ、 Ｚｎ。
Ｎｂ、 Ｓｉ、 Ｖ、 Ｃｒ、 Ａｌ、 Ｂ、 Ｎｉ、
Ｃｏ、 Ｍｏ、 Ｚｎ。
Ｍｎ、 Ｔａの窒化物および炭化物ならびにＡｊｉ！、
Ｓｉ。
Ｓｉ。
Ｚｎ、 Ｔｉ、 Ｚｒ、 Ｍｇの酸化物のうち少なくと
も１種よりなる無機物の極薄被膜を、真空蒸着、イオン
ブレーティング等の蒸着法によって被成し、ときにはさ
らにその上に重ねてクロム酸塩系、りん酸塩系または有
機樹脂系のコーティング被膜を形成させることから成る
絶縁被膜付き磁性合金薄帯の製造方法である。
も１種よりなる無機物の極薄被膜を、真空蒸着、イオン
ブレーティング等の蒸着法によって被成し、ときにはさ
らにその上に重ねてクロム酸塩系、りん酸塩系または有
機樹脂系のコーティング被膜を形成させることから成る
絶縁被膜付き磁性合金薄帯の製造方法である。
この発明において、素材である磁性合金薄帯としては、
急冷法によって得られた厚み数μｍ〜１００ ｐｍ程度
のＦｅ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ｃｏ系、５ｉ−Ｆｅ系、Ａｌ−
Ｆｅ系および５ｉ−Ａ １２−Ｆｅ系薄帯がとりわけ有
利に適合するが、その他上記の成分系を基本成分とし、
さらに種々の特性向上のために種々の元素を添加した磁
性合金薄帯も含むものとする。
急冷法によって得られた厚み数μｍ〜１００ ｐｍ程度
のＦｅ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ｃｏ系、５ｉ−Ｆｅ系、Ａｌ−
Ｆｅ系および５ｉ−Ａ １２−Ｆｅ系薄帯がとりわけ有
利に適合するが、その他上記の成分系を基本成分とし、
さらに種々の特性向上のために種々の元素を添加した磁
性合金薄帯も含むものとする。
たとえばＦｅ−Ｎｉ系では、？９Ｎｉ−１５，５Ｆｅ−
５，０Ｍｏ−０、５Ｍｎや７８．５Ｎｉ−２１，５Ｐｅ
。
５，０Ｍｏ−０、５Ｍｎや７８．５Ｎｉ−２１，５Ｐｅ
。
Ｆｅ−Ｃｏ系では、５０Ｆｅ−５０Ｃｏや２Ｖ−４９Ｆ
ｅ−４９Ｃｏ 。
ｅ−４９Ｃｏ 。
５ｉ−Ｐｅ系では、６．５Ｓｉ−Ｆｅ。
へｊｉ！−Ｆｅ系では、１６Ａｊ７−Ｆｅ 。
Ｓ ｉ−Ａ Ｉ！−Ｆｅ系では、９．６Ｓｉ−５，４Ａ
β−８５Ｆｅなどが代表組成である。
β−８５Ｆｅなどが代表組成である。
次に極薄被膜の被成手段としては、蒸着法、就中、真空
蒸着法およびイオンブレーティング法が有利に適合する
。ここにイオンブレーティング法では、１Ｏ−２Ｔｏｒ
ｒ程度の減圧不活性ガス雰囲気中で、薄帯を陰極とする
グロー放電を生じさせ、蒸発物質はこのグロー放電の中
を通過する際にイオン化、加速されて磁性合金薄帯表面
で成長するわけであるが、同時にイオン化した不活性ガ
ス粒子によって薄帯表面へのスパッタリングが行われる
ので、密着性の優れた被膜を、電子ビーム加熱によって
極めて高速度に形成させることができる。なお真空蒸着
法によってもイオンブレーティング法とほぼ同等の効果
が得られる。
蒸着法およびイオンブレーティング法が有利に適合する
。ここにイオンブレーティング法では、１Ｏ−２Ｔｏｒ
ｒ程度の減圧不活性ガス雰囲気中で、薄帯を陰極とする
グロー放電を生じさせ、蒸発物質はこのグロー放電の中
を通過する際にイオン化、加速されて磁性合金薄帯表面
で成長するわけであるが、同時にイオン化した不活性ガ
ス粒子によって薄帯表面へのスパッタリングが行われる
ので、密着性の優れた被膜を、電子ビーム加熱によって
極めて高速度に形成させることができる。なお真空蒸着
法によってもイオンブレーティング法とほぼ同等の効果
が得られる。
さて上記の被覆手段によって、極薄被膜を磁性合金薄帯
表面に被成するわけであるが、かかる極薄被膜としては
、Ｔｉ、 Ｎｂ、 Ｓｉ、 Ｖ、 Ｃｒ、 ＡＩ、 Ｂ
。
表面に被成するわけであるが、かかる極薄被膜としては
、Ｔｉ、 Ｎｂ、 Ｓｉ、 Ｖ、 Ｃｒ、 ＡＩ、 Ｂ
。
Ｎｉ、 Ｃｏ、 Ｍｏ、 Ｚｎ、 Ｍｎ、 Ｔａの窒化
物および炭化物ならびにＡＩ、 Ｓｉ、 ２ｎ、 Ｔｉ
、 Ｚｒ、 Ｍｇの酸化物などが、それぞれ均等であり
、従ってこの発明では、上記の各窒化物、炭化物および
酸化物のうち少なくとも１種よりなる無機物被膜を被成
するものとした。
物および炭化物ならびにＡＩ、 Ｓｉ、 ２ｎ、 Ｔｉ
、 Ｚｒ、 Ｍｇの酸化物などが、それぞれ均等であり
、従ってこの発明では、上記の各窒化物、炭化物および
酸化物のうち少なくとも１種よりなる無機物被膜を被成
するものとした。
ここに得られる無機物被膜の膜厚が、０．０１μｍに満
たないとコアに組立てた場合に層間抵抗を確保すること
ができず、一方３．０μｍを超えると占積率の点で好ま
しくないので、被膜厚は０．０１〜３．０μｍ程度とす
るのが望ましい。
たないとコアに組立てた場合に層間抵抗を確保すること
ができず、一方３．０μｍを超えると占積率の点で好ま
しくないので、被膜厚は０．０１〜３．０μｍ程度とす
るのが望ましい。
さらにこの発明では、絶縁性の一層の向上のために、無
機物極薄被膜上に重ねてクロム酸塩系、りん酸塩系また
は有機樹脂系の絶縁コーティング被膜を被成することが
できる。
機物極薄被膜上に重ねてクロム酸塩系、りん酸塩系また
は有機樹脂系の絶縁コーティング被膜を被成することが
できる。
かかる絶縁被膜を無機物極薄被膜上に被成した場合は、
絶縁性が向上するのみならず、無機物極薄被膜の密着性
も向上するため、薄帯を巻回す場合に被膜のはく離半径
を小さくでき、従って小径コア作製時において被膜はく
離が生じるおそれを有利に回避できる。ただしかかる絶
縁被膜を被成した場合は、幾分占積率の低下が見られる
ので、コーティング厚には十分注意を払うことが肝要で
あり、おおよそ０．旧〜３．０μｍ厚程度とするのが好
ましい。
絶縁性が向上するのみならず、無機物極薄被膜の密着性
も向上するため、薄帯を巻回す場合に被膜のはく離半径
を小さくでき、従って小径コア作製時において被膜はく
離が生じるおそれを有利に回避できる。ただしかかる絶
縁被膜を被成した場合は、幾分占積率の低下が見られる
ので、コーティング厚には十分注意を払うことが肝要で
あり、おおよそ０．旧〜３．０μｍ厚程度とするのが好
ましい。
（実施例）
実施例 １
双ロール法によって作成した幅：１０ｍｍ、厚み二８μ
ｍの７８．５Ｎｉ−２１，５Ｆｅ合金薄帯の表面に、イ
ーＡ−ンプレーティングによって０．５μｍ厚のＴｉＮ
極薄被膜を被成した。
ｍの７８．５Ｎｉ−２１，５Ｆｅ合金薄帯の表面に、イ
ーＡ−ンプレーティングによって０．５μｍ厚のＴｉＮ
極薄被膜を被成した。
かくして得られた極薄被膜付き磁性合金薄帯をトロイド
状コア（内径５０ｍｍ） に組立てたときの占積率は７
４．２％、また磁束密度０．２７において１００ Ｋ）
Ｉｚで動作させたときの鉄損Ｗ０・２／１００１は１２
０Ｗ／ ｋｇであった。
状コア（内径５０ｍｍ） に組立てたときの占積率は７
４．２％、また磁束密度０．２７において１００ Ｋ）
Ｉｚで動作させたときの鉄損Ｗ０・２／１００１は１２
０Ｗ／ ｋｇであった。
これに対し、極薄被膜を備えない薄帯の場合は、鉄損が
あまりに大きく （２００Ｗ／ｋｇ以上になっていたも
のと推定される）、発熱してしまって鉄損を測定するこ
とが不可能であった。
あまりに大きく （２００Ｗ／ｋｇ以上になっていたも
のと推定される）、発熱してしまって鉄損を測定するこ
とが不可能であった。
また同一材料の表面に直接、ロールコータ−法によって
クロム酸塩系の絶縁被膜を厚み２１μｍに被成した薄帯
は、被膜の密着性が悪く、内径１０ｍｒｎ以下のコアに
巻回した場合に、被膜のはく離が生じた。
クロム酸塩系の絶縁被膜を厚み２１μｍに被成した薄帯
は、被膜の密着性が悪く、内径１０ｍｒｎ以下のコアに
巻回した場合に、被膜のはく離が生じた。
実施例 ２
双ロール法によって作成した幅：１０ｍｍ、厚み；１０
μｍの５ｉ−Ａ ｌ−Ｆｅ系センダスト合金薄帯の表面
に、イオンブレーティングによって０．２μｍ厚の８１
０２極薄被膜を被成した。
μｍの５ｉ−Ａ ｌ−Ｆｅ系センダスト合金薄帯の表面
に、イオンブレーティングによって０．２μｍ厚の８１
０２極薄被膜を被成した。
かくして得られた極薄被膜付き磁性合金薄帯を内径５０
ｍｍのトロイド状コアに組立てたきとの占積率は７８．
７％、また磁束密度０．５Ｔにおいて１０００Ｈｚで動
作させたときの鉄損Ｗ０・５／１゜。。は２．ＩＷ／ｋ
ｇであった。
ｍｍのトロイド状コアに組立てたきとの占積率は７８．
７％、また磁束密度０．５Ｔにおいて１０００Ｈｚで動
作させたときの鉄損Ｗ０・５／１゜。。は２．ＩＷ／ｋ
ｇであった。
さらに５ｉ０２極薄被膜の上に重ねて、クロム酸塩系の
絶縁被膜を被成し、合計膜厚０．８μｍとしだ薄帯を、
トロイドコアに組立てたときの占積率は７２．１％、
ｔりＷ”’／＋ｏｏｏハ２．ＯＷ／ｋｇテアツタ。
絶縁被膜を被成し、合計膜厚０．８μｍとしだ薄帯を、
トロイドコアに組立てたときの占積率は７２．１％、
ｔりＷ”’／＋ｏｏｏハ２．ＯＷ／ｋｇテアツタ。
これに対し被膜無しのセンダスト合金薄帯をそのまま使
用した場合は、ＷＯ−５／、、ｏｏは４．８’？Ｉ／ｋ
ｇと極めて大きかった。
用した場合は、ＷＯ−５／、、ｏｏは４．８’？Ｉ／ｋ
ｇと極めて大きかった。
実施例 ３
双ロール法によって得られた幅：１０ｍｍ、 Ｗｉｔみ
６μｍの５． ＯＭｏ−０，５μｍ−１５，５Ｆｅ−４
９Ｎ ｉ合金薄帯ノ表面に、イオンブレーティングまた
は真空蒸着法によって次表１に示す種々の無機物被膜を
被成した。
６μｍの５． ＯＭｏ−０，５μｍ−１５，５Ｆｅ−４
９Ｎ ｉ合金薄帯ノ表面に、イオンブレーティングまた
は真空蒸着法によって次表１に示す種々の無機物被膜を
被成した。
かくして得られた各絶縁被膜付き合金薄帯の占積率およ
び鉄損値について調べた結果を、表１に示す。なお同表
には比較のため、被覆処理を施さない場合ちよびクロム
酸塩系の絶縁被膜を直接被成した場合についての調査結
果も、併せて示した。
び鉄損値について調べた結果を、表１に示す。なお同表
には比較のため、被覆処理を施さない場合ちよびクロム
酸塩系の絶縁被膜を直接被成した場合についての調査結
果も、併せて示した。
表１に示した成績から明らかなように、この発明に従っ
て合金薄帯表面に無機物極薄被膜を被成させた場合は、
占積率、鉄損とも良好であった。
て合金薄帯表面に無機物極薄被膜を被成させた場合は、
占積率、鉄損とも良好であった。
これに対し絶縁被膜を被成しない裸のままの薄帯では、
鉄損値が大きすぎて測定不可能であった。
鉄損値が大きすぎて測定不可能であった。
またロールコータによってクロム酸塩系の絶縁被膜を直
接被成させた場合には、密着性が悪く、コア作成時に被
膜のはく離が生じた。
接被成させた場合には、密着性が悪く、コア作成時に被
膜のはく離が生じた。
（発明の効果）
かくしてこの発明によれば、薄肉の磁性合金薄帯につき
、その表面に、占積率をほとんど低下させることなしに
電気絶縁性に富む無機物の極薄被膜を被成することがで
きるので、高い動作磁束密度だけでなく、高動作周波数
においても優れた透磁率ならびに鉄損特性を得ることが
でき、ひいては電力、電子機器の軽量、小型化に大きく
貢献する。
、その表面に、占積率をほとんど低下させることなしに
電気絶縁性に富む無機物の極薄被膜を被成することがで
きるので、高い動作磁束密度だけでなく、高動作周波数
においても優れた透磁率ならびに鉄損特性を得ることが
でき、ひいては電力、電子機器の軽量、小型化に大きく
貢献する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、磁性合金薄帯の表面に、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ａｌ、Ｂ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｔａの
窒化物および炭化物ならびにＡｌ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、
Ｚｒ、Ｍｇの酸化物のうち少なくとも１種よりなる無機
物の極薄被膜を、蒸着法によって被成することを特徴と
する絶縁被膜付き磁性合金薄帯の製造方法。 ２、磁性合金薄帯の表面に、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ａｌ、Ｂ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｔａの
窒化物および炭化物ならびにＡｌ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、
Ｚｒ、Ｍｇの酸化物のうち少なくとも１種よりなる無機
物の極薄被膜を、蒸着法によって被成したのち、さらに
クロム酸塩系、りん酸塩系または有機樹脂系のコーティ
ング被膜を形成させることを特徴とする絶縁被膜付き磁
性合金薄帯の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24272985A JPS62104009A (ja) | 1985-10-31 | 1985-10-31 | 絶縁被膜付き磁性合金薄帯の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24272985A JPS62104009A (ja) | 1985-10-31 | 1985-10-31 | 絶縁被膜付き磁性合金薄帯の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62104009A true JPS62104009A (ja) | 1987-05-14 |
Family
ID=17093376
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24272985A Pending JPS62104009A (ja) | 1985-10-31 | 1985-10-31 | 絶縁被膜付き磁性合金薄帯の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62104009A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6465253A (en) * | 1987-05-29 | 1989-03-10 | Orient Watch Co Ltd | Surface coated molded material and its production |
| JPH0244678A (ja) * | 1988-08-03 | 1990-02-14 | Nippon Steel Corp | 遠赤外線放射ヒーター材料 |
| CN117344269A (zh) * | 2022-06-27 | 2024-01-05 | 核工业西南物理研究院 | 一种铁基非晶、纳米晶带材表面绝缘涂层制备方法 |
| US11955261B2 (en) | 2021-08-25 | 2024-04-09 | Tdk Corporation | Magnetic alloy ribbon, laminate, and magnetic core |
-
1985
- 1985-10-31 JP JP24272985A patent/JPS62104009A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6465253A (en) * | 1987-05-29 | 1989-03-10 | Orient Watch Co Ltd | Surface coated molded material and its production |
| JPH0244678A (ja) * | 1988-08-03 | 1990-02-14 | Nippon Steel Corp | 遠赤外線放射ヒーター材料 |
| US11955261B2 (en) | 2021-08-25 | 2024-04-09 | Tdk Corporation | Magnetic alloy ribbon, laminate, and magnetic core |
| CN117344269A (zh) * | 2022-06-27 | 2024-01-05 | 核工业西南物理研究院 | 一种铁基非晶、纳米晶带材表面绝缘涂层制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0695812B1 (en) | Nanocrystalline alloy with insulating coating, magnetic core made thereof, and process for forming insulating coating on a nanocrystalline alloy | |
| US5069731A (en) | Low-frequency transformer | |
| JP3233313B2 (ja) | パルス減衰特性に優れたナノ結晶合金の製造方法 | |
| JPS63302504A (ja) | 磁心およびその製造方法 | |
| WO2006104148A1 (ja) | 磁心ならびにそれを用いた応用品 | |
| US5302469A (en) | Soft magnetic thin film | |
| JPH04350908A (ja) | 薄形インダクタ／トランス | |
| JPS61145722A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP3500062B2 (ja) | 極薄酸化層を有するＦｅ基非晶質合金薄帯 | |
| JPS6370503A (ja) | 磁性合金粉末とそれを用いた磁心 | |
| JP3388247B2 (ja) | 巻磁心およびその製造方法 | |
| GB2167087A (en) | Amorphous magnetic alloys | |
| JP2719978B2 (ja) | 高周波磁心用非晶質合金 | |
| JP3233289B2 (ja) | 超微結晶合金薄帯及び粉末並びにこれを用いた磁心 | |
| JPS62124704A (ja) | 磁気特性および層間絶縁性に優れた巻コアおよびその製造方法 | |
| JPH0645128A (ja) | 直流重畳特性に優れた超微結晶合金からなる磁心およびその製法並びにこれを用いたチョークコイル、トランス | |
| JP3638291B2 (ja) | 低損失磁心 | |
| JP2918254B2 (ja) | 磁心の製造方法 | |
| JPS5822357A (ja) | ｛１００｝＜０１１＞集合組織を有する高珪素鋼薄帯とその製造方法 | |
| JPH0151043B2 (ja) | ||
| JPH0927413A (ja) | チョークコイル用磁心およびその製造方法 | |
| JPH0574635A (ja) | モールド磁心 | |
| JPH06120020A (ja) | 複合材料とその製造方法 | |
| JP2024093911A (ja) | 軟磁性金属粉末、圧粉磁心および電子部品 | |
| JPS6110212A (ja) | 非晶質合金薄帯の特性改善方法 |