JPS62104821A - フルオロアルキル置換スチレン共重合体 - Google Patents
フルオロアルキル置換スチレン共重合体Info
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- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title claims abstract description 68
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 57
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 23
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 11
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 21
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 abstract description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 abstract description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 7
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 239000005871 repellent Substances 0.000 abstract description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 abstract description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 60
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 49
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 42
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 39
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 31
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 23
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 22
- -1 anti-reflective Substances 0.000 description 17
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 16
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 14
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 12
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 11
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 7
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- ZRZHXNCATOYMJH-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-ethenylbenzene Chemical compound ClCC1=CC=C(C=C)C=C1 ZRZHXNCATOYMJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 6
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- LVJZCPNIJXVIAT-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2,3,4,5,6-pentafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(C=C)C(F)=C1F LVJZCPNIJXVIAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 5
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 5
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 5
- HMDQPBSDHHTRNI-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-3-ethenylbenzene Chemical compound ClCC1=CC=CC(C=C)=C1 HMDQPBSDHHTRNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N hexafluorobenzene Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F ZQBFAOFFOQMSGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 4
- VTPQLJUADNBKRM-UHFFFAOYSA-N 1-(bromomethyl)-4-ethenylbenzene Chemical compound BrCC1=CC=C(C=C)C=C1 VTPQLJUADNBKRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 1-butanol Substances CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethanol Chemical compound CC(O)C1=CC=CC=C1 WAPNOHKVXSQRPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 4'-hydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N monofluorobenzene Chemical compound FC1=CC=CC=C1 PYLWMHQQBFSUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 3
- 125000005004 perfluoroethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 3
- GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N (trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1 GETTZEONDQJALK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UDSWRXKMHZVDEL-UHFFFAOYSA-N 1-(2-chloroethyl)-4-ethenylbenzene Chemical compound ClCCC1=CC=C(C=C)C=C1 UDSWRXKMHZVDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOC=C XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZMAWJRXKGLWGS-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n-[4-(4-methoxyphenyl)-1,3-thiazol-2-yl]-n-(3-methoxypropyl)acetamide Chemical compound S1C(N(C(=O)CCl)CCCOC)=NC(C=2C=CC(OC)=CC=2)=C1 KZMAWJRXKGLWGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910016455 AlBN Inorganic materials 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101001059930 Drosophila melanogaster Transcription factor kayak, isoforms A/B/F Proteins 0.000 description 2
- 101001059931 Drosophila melanogaster Transcription factor kayak, isoforms D/sro Proteins 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 2
- MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N but-1-enylbenzene Chemical compound CCC=CC1=CC=CC=C1 MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 2
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 2
- 125000005009 perfluoropropyl group Chemical group FC(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 2
- YDRYQBCOLJPFFX-REOHCLBHSA-N (2r)-2-amino-3-(1,1,2,2-tetrafluoroethylsulfanyl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CSC(F)(F)C(F)F YDRYQBCOLJPFFX-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- QVQUMFLLXDVPJN-UHFFFAOYSA-N (4-fluorophenyl) prop-2-enoate Chemical compound FC1=CC=C(OC(=O)C=C)C=C1 QVQUMFLLXDVPJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEUJSGDXBNTQMY-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-trifluoroethanol Chemical compound OC(F)C(F)F DEUJSGDXBNTQMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUHKVLIZXLBQSR-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-3-(1,2,2-trichloroethenyl)benzene Chemical compound ClC(Cl)=C(Cl)C1=CC=CC(Cl)=C1Cl AUHKVLIZXLBQSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUVDDAYYRMNCRF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,2,3,3,3-pentafluoropropoxymethyl)-3-prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC(COCC(F)(F)C(F)(F)F)=C1 UUVDDAYYRMNCRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJFFBJLXEPEUKY-UHFFFAOYSA-N 1-(2-bromoethyl)-3-ethenylbenzene Chemical compound BrCCC1=CC=CC(C=C)=C1 FJFFBJLXEPEUKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIWGJFPJRAEKMK-UHFFFAOYSA-N 1-(2H-benzotriazol-5-yl)-3-methyl-8-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carbonyl]-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione Chemical compound CN1C(=O)N(c2ccc3n[nH]nc3c2)C2(CCN(CC2)C(=O)c2cnc(NCc3cccc(OC(F)(F)F)c3)nc2)C1=O YIWGJFPJRAEKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTBQZBPZGVORFH-UHFFFAOYSA-N 1-(3-chloropropyl)-4-ethenylbenzene Chemical compound ClCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 NTBQZBPZGVORFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMSZCUFHPKUFSI-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(CCl)C=C1 ZMSZCUFHPKUFSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005968 1-Decanol Substances 0.000 description 1
- YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyhexane Chemical compound CCCCCCOC=C YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxypropane Chemical compound CCCOC=C OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBTOQUODZUJVKM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-(2,2,2-trifluoroethoxymethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)COCC1=CC=CC(C=C)=C1 XBTOQUODZUJVKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXZBODIIBNVFSX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-(2,2,2-trifluoroethoxy)benzene Chemical compound FC(F)(F)COC1=CC=C(C=C)C=C1 FXZBODIIBNVFSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFZYYXVIZOVAFO-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-(iodomethyl)benzene Chemical compound ICC1=CC=C(C=C)C=C1 KFZYYXVIZOVAFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=C(C=C)C=C1 WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOGSDFLJZPNWHY-UHFFFAOYSA-N 2,2-difluoroethanol Chemical compound OCC(F)F VOGSDFLJZPNWHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCC(O)COC(=O)C=C OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCJAYIGMMRQRAO-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[(2-hydroxyphenyl)methylideneamino]butyliminomethyl]phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=NCCCCN=CC1=CC=CC=C1O CCJAYIGMMRQRAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOMBUJAFGMOIGS-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-1-phenylethanone Chemical compound FCC(=O)C1=CC=CC=C1 YOMBUJAFGMOIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPMHUDBOKDBBLG-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,4-pentafluorobutan-1-ol Chemical compound OCCC(F)(F)C(F)(F)F JPMHUDBOKDBBLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKRFUGHXKNNIJO-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluorobutan-1-ol Chemical compound OCCCC(F)(F)F VKRFUGHXKNNIJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 4-Vinylaniline Chemical compound NC1=CC=C(C=C)C=C1 LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XESZUVZBAMCAEJ-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylcatechol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(O)=C1 XESZUVZBAMCAEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZRZZBDCXXCAFA-UHFFFAOYSA-N FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCOC1=CC=C(C=C)C=C1 Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCOC1=CC=C(C=C)C=C1 QZRZZBDCXXCAFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000837837 Homo sapiens Transcription factor EC Proteins 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100028503 Transcription factor EC Human genes 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-O butylazanium Chemical compound CCCC[NH3+] HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M hydron;tetrabutylazanium;sulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- BSCJIBOZTKGXQP-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCO BSCJIBOZTKGXQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMHDGRAROYGJLT-UHFFFAOYSA-N n-(4-methoxyphenyl)prop-2-enamide Chemical compound COC1=CC=C(NC(=O)C=C)C=C1 YMHDGRAROYGJLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005804 perfluoroheptyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005008 perfluoropentyl group Chemical group FC(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPNPIHIZVLFAFP-UHFFFAOYSA-N phosphorus tribromide Chemical compound BrP(Br)Br IPNPIHIZVLFAFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920005553 polystyrene-acrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920000131 polyvinylidene Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZXUCBXRTRRIBSO-UHFFFAOYSA-L tetrabutylazanium;sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC ZXUCBXRTRRIBSO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000003652 trifluoroethoxy group Chemical group FC(CO*)(F)F 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はガラス等の表面をその光透過性を損うことなく
1B水、撥油性処理、反射防止処理もしくは耐薬品処理
できるコーティング材料の素材として有用な新規なフル
オロアルキル置換スチレン共重合体に関する。
1B水、撥油性処理、反射防止処理もしくは耐薬品処理
できるコーティング材料の素材として有用な新規なフル
オロアルキル置換スチレン共重合体に関する。
本発明のフルオロアルキル置換スチレン共重合体は文献
未載の新規化合物である。該重合体はガラス等の表面を
その光透過性を損うことなく損水、撥油性処理、反射防
止処理もしくは耐薬品処理できるコーティング材料とし
て用いることができる。
未載の新規化合物である。該重合体はガラス等の表面を
その光透過性を損うことなく損水、撥油性処理、反射防
止処理もしくは耐薬品処理できるコーティング材料とし
て用いることができる。
従来、含フツ素重合体は、炭化水素系重合体に比較して
耐食性及び耐薬品性に優れ、さらにto水、to油性を
有するため、これらの特性を利用した防汚材料、非粘着
材料への応用がなされている。
耐食性及び耐薬品性に優れ、さらにto水、to油性を
有するため、これらの特性を利用した防汚材料、非粘着
材料への応用がなされている。
しかしながらポリテトラフルオロエチレンやボリフフ化
ビニリデンのように主鎖にフッ素原子が導入されている
重合体は通常の有m溶媒には不溶であるため、例えばガ
ラスや金属などの基材上にコーティングする際には加熱
溶融した後に圧着する操作が必要となり、複雑な形状を
有する基材上にはコーティングすることができない、ま
た、含フツ素アクリル酸エステルあるいは含フツ素アク
リル酸エステルの重合体は、酢酸エチル等の存m溶媒に
可溶で、この重合体溶液をコーティングすることにより
繊維の18水処理、防汚処理や光ファイバーのコーティ
ング材料などに利用されているが、これらの重合体は加
水分解性を有するエステル結合が存在するため、長期間
にわたる使用に際しては1B水性や光透過性などの特性
能低下が避けられない。
ビニリデンのように主鎖にフッ素原子が導入されている
重合体は通常の有m溶媒には不溶であるため、例えばガ
ラスや金属などの基材上にコーティングする際には加熱
溶融した後に圧着する操作が必要となり、複雑な形状を
有する基材上にはコーティングすることができない、ま
た、含フツ素アクリル酸エステルあるいは含フツ素アク
リル酸エステルの重合体は、酢酸エチル等の存m溶媒に
可溶で、この重合体溶液をコーティングすることにより
繊維の18水処理、防汚処理や光ファイバーのコーティ
ング材料などに利用されているが、これらの重合体は加
水分解性を有するエステル結合が存在するため、長期間
にわたる使用に際しては1B水性や光透過性などの特性
能低下が避けられない。
1 本発明者は上記の問題点を解
決するためat研究した結果、本発明のフルオロアルキ
ル置換スチレン共重合体が高いIn水性、撥油性及び光
透過性と共に優れたコーテイング性及び安定性を有する
ことを見出し、本発明を完成するに至った。
決するためat研究した結果、本発明のフルオロアルキ
ル置換スチレン共重合体が高いIn水性、撥油性及び光
透過性と共に優れたコーテイング性及び安定性を有する
ことを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明のフルオロアルキル置換スチレン共重合体は、一
般式 】 (式中、R1は水素原子または低級アルキル基を表わL
7、R1は水素原子または低級ポリフルオロアルキル基
を表わし、R1はポリフルオロアルキY1〜Y4は各々
水素原子又はハロゲン原子を表わす、但し、R4、R4
は各々低級アルキル基であり、nは0またはlの整数で
ある。)で示される繰返し単位と一般式 〔式中、Rは水素原子または低級アルキル基を表わし、
Zは無置換もしくは低級アルキル基、低級ハロアルキル
基、低級アルキルオキシ基もしくはハロゲン原子で置換
されているフェニル基、水素原子、低級アルキル基、ア
ルキルオキシ基、シ水素原子、炭素数1から15のアル
キル基、フェニル基またはシクロアルキル基を示し、R
9は水素原子または低級アルキル基を表わす、)を表わ
す。〕で示される繰返し華位とから構成される。
般式 】 (式中、R1は水素原子または低級アルキル基を表わL
7、R1は水素原子または低級ポリフルオロアルキル基
を表わし、R1はポリフルオロアルキY1〜Y4は各々
水素原子又はハロゲン原子を表わす、但し、R4、R4
は各々低級アルキル基であり、nは0またはlの整数で
ある。)で示される繰返し単位と一般式 〔式中、Rは水素原子または低級アルキル基を表わし、
Zは無置換もしくは低級アルキル基、低級ハロアルキル
基、低級アルキルオキシ基もしくはハロゲン原子で置換
されているフェニル基、水素原子、低級アルキル基、ア
ルキルオキシ基、シ水素原子、炭素数1から15のアル
キル基、フェニル基またはシクロアルキル基を示し、R
9は水素原子または低級アルキル基を表わす、)を表わ
す。〕で示される繰返し華位とから構成される。
R2で示される低級ポリフルオロアルキル基としては、
ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2から4
個のフッ素原子で置換されたエチル基、ペルフルオロエ
チル基、2から6個のフッ素原子で置換されたプロピル
基、ペルフルオロプロピル基、2から8個のフッ原子で
置換されたブチル基、ペルフルオロブチル基などを挙げ
ることができる。特にペルフルオロメチル基、ペルフル
オロエチル基が好適な反応性、撥水、撥油性を与える意
味で好ましい、R3で示されるポリフルオロアルキル基
としてはアルキル鎖中にエーテル結合を存してもよく、
ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフ
ルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオ
ロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロ
ヘプチル基、ペルフルオロオクチル基、ペルフルオロノ
ニル基、ベルフルオロデンル基、ジフルオロメチル基、
2から4個のフッ素原子で置換されたエチル基、2から
6個のフッ素原子で置換されたプロピル基、2から8個
のフッ素原子で置換されたブチル基、3−オキサ−2−
トリフルオロメチル−2゜4.4.5.5,6,6.6
−オクタフルオロヘキシル基などを例示することができ
る。特にペルフルオロアルキル基あるいは2.2,3.
3.4゜4.5,5.5−ノナフルオロペンチル基等の
アルキル末端が完全にフッ素化されたアルキル基が高い
撥水、撥油性を発現する点で好ましい。
ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、2から4
個のフッ素原子で置換されたエチル基、ペルフルオロエ
チル基、2から6個のフッ素原子で置換されたプロピル
基、ペルフルオロプロピル基、2から8個のフッ原子で
置換されたブチル基、ペルフルオロブチル基などを挙げ
ることができる。特にペルフルオロメチル基、ペルフル
オロエチル基が好適な反応性、撥水、撥油性を与える意
味で好ましい、R3で示されるポリフルオロアルキル基
としてはアルキル鎖中にエーテル結合を存してもよく、
ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフ
ルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオ
ロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロ
ヘプチル基、ペルフルオロオクチル基、ペルフルオロノ
ニル基、ベルフルオロデンル基、ジフルオロメチル基、
2から4個のフッ素原子で置換されたエチル基、2から
6個のフッ素原子で置換されたプロピル基、2から8個
のフッ素原子で置換されたブチル基、3−オキサ−2−
トリフルオロメチル−2゜4.4.5.5,6,6.6
−オクタフルオロヘキシル基などを例示することができ
る。特にペルフルオロアルキル基あるいは2.2,3.
3.4゜4.5,5.5−ノナフルオロペンチル基等の
アルキル末端が完全にフッ素化されたアルキル基が高い
撥水、撥油性を発現する点で好ましい。
R7、R1がアルキル基又はシクロアルキル基の場合、
そのアルキル基又はシクロアルキル基は水酸基、アルコ
キシ基、エポキシ基、シアノ基、カルボニル基、ハロゲ
ン原子等で置換されていてもよい。またR1、R1)が
フェニル基の場合は、そのフェニル基上にアルキル基、
アルコキシ基、ハロゲン原子、エポキシアルキル基、シ
アノ基、カルボニル基、ジアルキルアミノ基等の置換基
を有するものであってもよい。
そのアルキル基又はシクロアルキル基は水酸基、アルコ
キシ基、エポキシ基、シアノ基、カルボニル基、ハロゲ
ン原子等で置換されていてもよい。またR1、R1)が
フェニル基の場合は、そのフェニル基上にアルキル基、
アルコキシ基、ハロゲン原子、エポキシアルキル基、シ
アノ基、カルボニル基、ジアルキルアミノ基等の置換基
を有するものであってもよい。
本発明のフルオロアルキル置換スチレン共重合体は、−
限式 (式中、R1,R2、R3、X、Y’SY”、Yl、Y
4及びnは前記と同一、)で表わされる単量体と−m式 [6 (式中、R6及びZは前記と同一である。)で表わされ
る単量体の一種もしくは複数種とを混合し、通常のラジ
カル重合法により共重合することにより容易に製造する
ことができる。重合反応に用いる方法としてはバルク重
合、溶液重合、乳化重合などの公知の方法を用いること
ができる。ラジカル重合反応は、単に、熱、紫外線の照
射またはラジカル開始剤の添加により速やかに開始され
る0反応に好適に用いられるラジカル開始剤としては、
ジラウロイルペルオキシド、ヘンヅイルペルオキシドな
どの有機過酸化物あるいはα、α′−アゾビスイソブチ
ロニトリルのようなアブ化合物などを例示することがで
きる0重合反応に一1?−利用できる有機溶媒は、生成
する重合体が可溶であることが高分子量体を得る上で好
ましく、例えばベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、
テトラヒドロフラン、四塩化炭素、クロロホルム、メチ
ルエチルケトン、フルオロベンゼン、ヘキサフルオロベ
ンゼン、ペンゾトリフルオリド 1.4−一ビス(トリ
フルオロメチル)ベンゼン、N、 N−ジメチルホル
ムアミド等を用いることができるが、これらに限定され
るものではない。反応は通常40℃から100℃の範囲
で行う。
限式 (式中、R1,R2、R3、X、Y’SY”、Yl、Y
4及びnは前記と同一、)で表わされる単量体と−m式 [6 (式中、R6及びZは前記と同一である。)で表わされ
る単量体の一種もしくは複数種とを混合し、通常のラジ
カル重合法により共重合することにより容易に製造する
ことができる。重合反応に用いる方法としてはバルク重
合、溶液重合、乳化重合などの公知の方法を用いること
ができる。ラジカル重合反応は、単に、熱、紫外線の照
射またはラジカル開始剤の添加により速やかに開始され
る0反応に好適に用いられるラジカル開始剤としては、
ジラウロイルペルオキシド、ヘンヅイルペルオキシドな
どの有機過酸化物あるいはα、α′−アゾビスイソブチ
ロニトリルのようなアブ化合物などを例示することがで
きる0重合反応に一1?−利用できる有機溶媒は、生成
する重合体が可溶であることが高分子量体を得る上で好
ましく、例えばベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、
テトラヒドロフラン、四塩化炭素、クロロホルム、メチ
ルエチルケトン、フルオロベンゼン、ヘキサフルオロベ
ンゼン、ペンゾトリフルオリド 1.4−一ビス(トリ
フルオロメチル)ベンゼン、N、 N−ジメチルホル
ムアミド等を用いることができるが、これらに限定され
るものではない。反応は通常40℃から100℃の範囲
で行う。
−M式([[1)で示されるフルオロアルキル置換スチ
レンMm体は、例えばクロロメチルスチレン、クロロス
チレン、フルオロアセトフェノン、ヒドロキシアセトフ
ェノン、ペンタフルオロスチレン等より容易に製造しう
る化合物である(参考側参照)。
レンMm体は、例えばクロロメチルスチレン、クロロス
チレン、フルオロアセトフェノン、ヒドロキシアセトフ
ェノン、ペンタフルオロスチレン等より容易に製造しう
る化合物である(参考側参照)。
また−最式(rV)で示される共重合することのできる
741体としては、スチレン、p−メチルスチレン、p
−クロロスチレン、p−クロロメチルスチレン、ペンタ
フルオロスチレン、p−アミノスチレンなどのスチレン
誘導体、エチレン、プロピレン、ブチレンなどのアルケ
ン類、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル
、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、オ
クチルビニルエーテルなどのビニルエーテル類、メチル
アクリレート、エチルアクリレート、2−ヒドロキシエ
チルアクリレート、ブチルアクリレート、2.3−ジヒ
ドロキシプロピルアクリレート、ポリフルオロアルキル
アクリレート、p−フルオロフェニルアクリレート、m
−)リフルオロメチルフェニルアクリレートなどのアク
リル酸エステル類、メチルメタクリレート、エチルメタ
クリレート、プロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ
エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ブ
チルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、
ベンジルメタクリレート、ペルフルオロアルキルメタク
リレートなどのメタクリル酸エステル類、アクリロニト
リル、アクリルアミド、p−メトキシアクリルアニリド
、N−ヒドロキシメチルアクリルアミド、N−(1,1
−ジメチル−3−オキソブチル)アクリルアミド、メタ
クリルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド
、アクロレイン、アクリル酸、メタクリル酸などを用い
ることができる。また、該共重合体中に含有される一般
式(1)で示される繰返し単位は少くとも1モル%以上
であり、好適な1a水、t8ン由性及び光i3適性を得
る上で5モル%以上であること力(望ましい。
741体としては、スチレン、p−メチルスチレン、p
−クロロスチレン、p−クロロメチルスチレン、ペンタ
フルオロスチレン、p−アミノスチレンなどのスチレン
誘導体、エチレン、プロピレン、ブチレンなどのアルケ
ン類、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル
、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、オ
クチルビニルエーテルなどのビニルエーテル類、メチル
アクリレート、エチルアクリレート、2−ヒドロキシエ
チルアクリレート、ブチルアクリレート、2.3−ジヒ
ドロキシプロピルアクリレート、ポリフルオロアルキル
アクリレート、p−フルオロフェニルアクリレート、m
−)リフルオロメチルフェニルアクリレートなどのアク
リル酸エステル類、メチルメタクリレート、エチルメタ
クリレート、プロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ
エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ブ
チルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、
ベンジルメタクリレート、ペルフルオロアルキルメタク
リレートなどのメタクリル酸エステル類、アクリロニト
リル、アクリルアミド、p−メトキシアクリルアニリド
、N−ヒドロキシメチルアクリルアミド、N−(1,1
−ジメチル−3−オキソブチル)アクリルアミド、メタ
クリルアミド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド
、アクロレイン、アクリル酸、メタクリル酸などを用い
ることができる。また、該共重合体中に含有される一般
式(1)で示される繰返し単位は少くとも1モル%以上
であり、好適な1a水、t8ン由性及び光i3適性を得
る上で5モル%以上であること力(望ましい。
また、本発明のフルオロアルキル
共重合体のうち、Xは一〇−で表わされるものt1
署
(式中、YSはハロゲン原子を表わし、R1、Yl、Y
t. v !、Y4及びnは前記と同一である.、)
で表わされる単量体と一般式(rV)で表わされる単量
体の1種もしくは複数種の共重合反応で得られる重合体
に、−4rJp噌番一般式 (R”およびR3は前記と同一.)で示される含フツ素
アルコールを塩基の存在下反応させることにより得るこ
とができる.反応は溶媒中で行うことが望ましく、用い
ることのできる溶媒としては、テトラヒドロフラン、l
,4−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン等を例示す
ることができる.また反応に用いる塩基としては、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウム、
カリウム、リチウムなどのアルカリ金属及びジアザビシ
クロ(3.4.0)ノネン−5(DBN)、1.5−ジ
アザビシクロCS.4。
t. v !、Y4及びnは前記と同一である.、)
で表わされる単量体と一般式(rV)で表わされる単量
体の1種もしくは複数種の共重合反応で得られる重合体
に、−4rJp噌番一般式 (R”およびR3は前記と同一.)で示される含フツ素
アルコールを塩基の存在下反応させることにより得るこ
とができる.反応は溶媒中で行うことが望ましく、用い
ることのできる溶媒としては、テトラヒドロフラン、l
,4−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン等を例示す
ることができる.また反応に用いる塩基としては、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水
素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウム、
カリウム、リチウムなどのアルカリ金属及びジアザビシ
クロ(3.4.0)ノネン−5(DBN)、1.5−ジ
アザビシクロCS.4。
O〕ラウンセン−5−(DBIJ)等のアミンtj!例
示することができる.また、硫酸水素テトラn−ブチル
アンモニウムなどの相間移動触媒を用いて、有機相と水
相の2相系において反応することも可能である。
示することができる.また、硫酸水素テトラn−ブチル
アンモニウムなどの相間移動触媒を用いて、有機相と水
相の2相系において反応することも可能である。
また、含フツ素アルコールとしては、2.2。
2−トリフルオロエタノール、2,2.3.3゜3−ペ
ンタフルオロ−1−プロパツール、2.2゜3.3.4
.4.4−ヘプタフルオロ−1−ブタノール、2. 2
. 3. 3. 4. 4. 5. 5. 6゜6.7
,7,8.8.8−ペンタデカフルオロ−1−オクタツ
ール、2,2.2−トリフルオロ−1−(トリフルオロ
メチル)エタノール、2.2−ジフルオロエタノール、
2,2.3.3,4゜4−ヘキサフルオロ−1−ブタノ
ール、2.2゜3.3−テトラフルオロ−1−プロパツ
ール、2゜2.3.3.4.4,5.5−オクタフルオ
ロ−1−ペンタノール、3.3,4,4.4−ペンタフ
ルオロ−1−ブタノール、4,4.4−トリフルオロ−
1−ブタノール、1.l、1,3.3゜3−ヘキサフル
オロ−2−プロパツール、4. 4゜5.5,6.6,
7.7.8.8,9.9,10゜10、10−ヘプタデ
カフルオロ−1−デカノール、1.1.1.6.6.7
.7.7−オクタフルオロ−2−ヘプタツール、3−オ
キサ−2−トリフルオロメチル−2,4,4,5,5,
6,6,6=オクタフルオロヘキサノールなどを例示す
ることができる。
ンタフルオロ−1−プロパツール、2.2゜3.3.4
.4.4−ヘプタフルオロ−1−ブタノール、2. 2
. 3. 3. 4. 4. 5. 5. 6゜6.7
,7,8.8.8−ペンタデカフルオロ−1−オクタツ
ール、2,2.2−トリフルオロ−1−(トリフルオロ
メチル)エタノール、2.2−ジフルオロエタノール、
2,2.3.3,4゜4−ヘキサフルオロ−1−ブタノ
ール、2.2゜3.3−テトラフルオロ−1−プロパツ
ール、2゜2.3.3.4.4,5.5−オクタフルオ
ロ−1−ペンタノール、3.3,4,4.4−ペンタフ
ルオロ−1−ブタノール、4,4.4−トリフルオロ−
1−ブタノール、1.l、1,3.3゜3−ヘキサフル
オロ−2−プロパツール、4. 4゜5.5,6.6,
7.7.8.8,9.9,10゜10、10−ヘプタデ
カフルオロ−1−デカノール、1.1.1.6.6.7
.7.7−オクタフルオロ−2−ヘプタツール、3−オ
キサ−2−トリフルオロメチル−2,4,4,5,5,
6,6,6=オクタフルオロヘキサノールなどを例示す
ることができる。
また、反応溶媒及び2相系反応の際の有機相としては、
ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、シ
クロヘキJJン等を挙げることができる。
ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、シ
クロヘキJJン等を挙げることができる。
反応温度はθ℃〜150℃、好ましくはlO℃〜100
℃の範囲である。
℃の範囲である。
原料重合体である一般式(V)で示される繰返し単位を
有する重合体は、ハロアルキル基、ハロゲン原子でWW
Aされたスチレン誘導体を琲独重合するかもしくは、該
スチレン誘導体と前記一般式(IV)で示されるat体
の一種もしくは複数種とを混合し、通常のラジカル重合
法により共重合することにより容易に合成することがで
きる0重合反応に用いる方法としてはバルク重合、fi
j液重合、乳化重合などの公知の方法を用いることがで
きる。
有する重合体は、ハロアルキル基、ハロゲン原子でWW
Aされたスチレン誘導体を琲独重合するかもしくは、該
スチレン誘導体と前記一般式(IV)で示されるat体
の一種もしくは複数種とを混合し、通常のラジカル重合
法により共重合することにより容易に合成することがで
きる0重合反応に用いる方法としてはバルク重合、fi
j液重合、乳化重合などの公知の方法を用いることがで
きる。
ラジカル重合反応は単に熱、紫外線の照射またはラジカ
ル開始剤の添加により速かに開始される。
ル開始剤の添加により速かに開始される。
反応に好適に用いられるラジカル開始剤としては、ジラ
ウロイルペルオキシド、ペンゾイルペルオキンドなどの
有機過酸化物あるいはα、α′−アゾビスイソブチルニ
トリルのようなアゾ化合物などを例示することができる
6重合反応に利用できる有81溶媒は、生成する重合体
が可溶であることが高分子量体を得る上で好ましく、例
えばベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、テトラヒド
ロフラン、四塩化炭素、クロロホルム、メチルエチルケ
トン、フルオロベンゼン、ヘキサフルオロベンゼン、N
。
ウロイルペルオキシド、ペンゾイルペルオキンドなどの
有機過酸化物あるいはα、α′−アゾビスイソブチルニ
トリルのようなアゾ化合物などを例示することができる
6重合反応に利用できる有81溶媒は、生成する重合体
が可溶であることが高分子量体を得る上で好ましく、例
えばベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、テトラヒド
ロフラン、四塩化炭素、クロロホルム、メチルエチルケ
トン、フルオロベンゼン、ヘキサフルオロベンゼン、N
。
N−ジメチルホルムアミド等を用いることができるがこ
れらに限定されるものではない。
れらに限定されるものではない。
反応は通常40℃〜100℃の範囲で行なう。
ハロアルキル基、ハロゲン原子で置換されたスチレン誘
導体としては、p−クロロメチルスチレン、4−クロロ
メチル−2−フルオロスチレン、p−(2−クロロエチ
ル)スチレン、m−クロロメチルスチレン、p−ブロモ
メチルスチレン、p−クロロメチル−α−メチルスチレ
ン、m−(2−ブロモエチル)スチレン、p−(3−ク
ロロプロピル)スチレン、m−クロロメチル−α−エチ
ルスチレン、p−ヨードメチルスチレン、ペンタフルオ
ロスチレン、ペンタクロロスチレン等ヲ挙げることがで
きる。
導体としては、p−クロロメチルスチレン、4−クロロ
メチル−2−フルオロスチレン、p−(2−クロロエチ
ル)スチレン、m−クロロメチルスチレン、p−ブロモ
メチルスチレン、p−クロロメチル−α−メチルスチレ
ン、m−(2−ブロモエチル)スチレン、p−(3−ク
ロロプロピル)スチレン、m−クロロメチル−α−エチ
ルスチレン、p−ヨードメチルスチレン、ペンタフルオ
ロスチレン、ペンタクロロスチレン等ヲ挙げることがで
きる。
また、該重合体中に含存される一般式(V)で示される
繰返し単位は少なくとも1モル%以上であり、好適な撥
水、tQ油性及び光透過性を得る上で5モル%以上であ
ることが望ましい。さらに本発明の製造方法により得ら
れるフルオロアルキル置換スチレン共重合体の分子量は
1000以上であり、コーティング材料として該共重合
体を用いる上で分子量が10000以上であることが望
ましい。
繰返し単位は少なくとも1モル%以上であり、好適な撥
水、tQ油性及び光透過性を得る上で5モル%以上であ
ることが望ましい。さらに本発明の製造方法により得ら
れるフルオロアルキル置換スチレン共重合体の分子量は
1000以上であり、コーティング材料として該共重合
体を用いる上で分子量が10000以上であることが望
ましい。
以下参考例、実施例、試験例、比較例により本発明を具
体的に説明する。
体的に説明する。
参考例1
2,2.2−トリフルオロエタノール9g及び6M酸水
素テトラn−ブチルアンモニウム(TBAS)20.3
7g及びトルエン300m1を三ソロフラスコに仕込み
アルゴン気流下で攪拌した0次に5Qwt%の水酸化ナ
トリウム水溶液17.5mlを入れ15分間攪拌した後
、p−クロロメチルスチレン9.15gを加え、室温に
て一晩攪拌した0反応混合物に希塩酸を加え中和し、次
に有機層を分液ロートに取り充分に水洗・した。その後
、無水硫酸マグネシウムにより乾燥し、減圧下トルエン
を留去した。残留物をn−ヘキサンを溶出液としてシリ
カゲルカラムに通し精製し、n−ヘキサンを留去すにこ
とにより収15.8g収率27%でp−(2,2,2−
)リフルオロエチルオキシメチル)スチレン(p−TF
ES)を得た。
素テトラn−ブチルアンモニウム(TBAS)20.3
7g及びトルエン300m1を三ソロフラスコに仕込み
アルゴン気流下で攪拌した0次に5Qwt%の水酸化ナ
トリウム水溶液17.5mlを入れ15分間攪拌した後
、p−クロロメチルスチレン9.15gを加え、室温に
て一晩攪拌した0反応混合物に希塩酸を加え中和し、次
に有機層を分液ロートに取り充分に水洗・した。その後
、無水硫酸マグネシウムにより乾燥し、減圧下トルエン
を留去した。残留物をn−ヘキサンを溶出液としてシリ
カゲルカラムに通し精製し、n−ヘキサンを留去すにこ
とにより収15.8g収率27%でp−(2,2,2−
)リフルオロエチルオキシメチル)スチレン(p−TF
ES)を得た。
元素分析4M (%);
実測値:C:61.5.H:5.2
計算値:c:el、t、H:5.I
IR(3−’);2B00〜3000,1610゜15
10 (芳香環)、1630 (CH,−CH)、12
10.1)50 (C−F)。
10 (芳香環)、1630 (CH,−CH)、12
10.1)50 (C−F)。
1)00〜1)80 (−0−)。
NMR(ppm); 3.6〜4.0 (2H)。
4゜6 (2)()、5.1〜5.8
(2H)、6.5〜6.8 (1)() 。
参 考 例 2〜9(フルオロアルキル置換スチン誘導
体の合成結果) 含フツ素アルコール及びハロアルキルスチレン及び溶媒
の種類を替えた以外は参考例1と同様の方法によりフル
オロアルキル置換スチレン誘導体を合成した。
体の合成結果) 含フツ素アルコール及びハロアルキルスチレン及び溶媒
の種類を替えた以外は参考例1と同様の方法によりフル
オロアルキル置換スチレン誘導体を合成した。
結果を表1に示す。
参考例1O
ヘキサメチルホスホルアミド
ml中に50%水素化ナトリウム(油性)2.6gを加
え、アルゴン気流下に攪拌した.これを10℃以下に冷
却し2,2.21−リフルオロエタノール10.0gを
加え30分攪拌した.次にp−フルオロアセトフェニン
6、06mlを加え、10℃以下2.5時間、さらに室
温にて15時間攪拌を読龜 けた、反応混合物を水中に投じ、有機Wをエーテルで抽
出した.これを硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下でエ
ーテルを留去する.ffl生成物をクロロホルム/酢酸
エチル(1 0/1)混合液を溶出液としたノリ力ゲル
カラムにより精製した.溶出液を減圧留去し、収1ft
8.54g、収率77、6%にてp − (2. 2
. 2−)リフルオロエトキシ)アセトフェノン(p
−TFEA)を得た。
え、アルゴン気流下に攪拌した.これを10℃以下に冷
却し2,2.21−リフルオロエタノール10.0gを
加え30分攪拌した.次にp−フルオロアセトフェニン
6、06mlを加え、10℃以下2.5時間、さらに室
温にて15時間攪拌を読龜 けた、反応混合物を水中に投じ、有機Wをエーテルで抽
出した.これを硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下でエ
ーテルを留去する.ffl生成物をクロロホルム/酢酸
エチル(1 0/1)混合液を溶出液としたノリ力ゲル
カラムにより精製した.溶出液を減圧留去し、収1ft
8.54g、収率77、6%にてp − (2. 2
. 2−)リフルオロエトキシ)アセトフェノン(p
−TFEA)を得た。
元素分析値(%);
理論値:C:55,1, H:4.2
実測値:C:55.1,H:4.I
IR (cs−’);3000〜2800,1610。
(芳香環)、1690 (C−0)、1280。
1240 (CF.)。
NMR (ppm); 2.56 (3H)、4.19
〜4、63 (2H)、6.80〜7.07 (2H
)。
〜4、63 (2H)、6.80〜7.07 (2H
)。
7、75〜8.06 (2H)。
参考例1)
含フツ素アルコールを2.2,3.3.4.4。
4−へブタフルオロ−1−ブタノールに替えた以外は参
考例1Oと同様の方法によりり− (2.2。
考例1Oと同様の方法によりり− (2.2。
3、3.4.4.4−ヘプタフルオロブトキシ)アセト
フェノン(p−HFBA)を収率50%で得た。
フェノン(p−HFBA)を収率50%で得た。
元素分析4a (%);
理論値:C:45.3.Hl.9
実測値:C:45.2.H:2.7
NMR (ppm); 2.53 (3H)、4.33
〜4、72 (2H)、6.83〜7.1) (2H
)。
〜4、72 (2H)、6.83〜7.1) (2H
)。
7、8〜8.07 (2H)。
参考例12
含フツ素アルコールを3.3,4.4.5.5。
6、6.6−ノナフルオロ−1−ヘキサノールに替えた
以外は参考例10と同様の方法によりp−(3,3.4
.4.5.5,6,6.6−ノナフルオロへキサオキシ
)アセトフェノン<p−NFHA)を収率57%で得た
。
以外は参考例10と同様の方法によりp−(3,3.4
.4.5.5,6,6.6−ノナフルオロへキサオキシ
)アセトフェノン<p−NFHA)を収率57%で得た
。
元素分析値(%);
理論値:C:44.Q,Hl.9
実測値:C二4 3.7, H : 2.7NMR
(ppm); 2.52 (3H)、2.3 〜3、0
(2 H) 、 4.1〜4.4 (2H)、6.
7〜7、0 (2H)、7.9〜8.1 (2H) 。
(ppm); 2.52 (3H)、2.3 〜3、0
(2 H) 、 4.1〜4.4 (2H)、6.
7〜7、0 (2H)、7.9〜8.1 (2H) 。
参考例13
50%水素化ナトリウム(油性)1.26gにHMPA
30mlに溶解したp−ヒドロキシアセトフェノン4.
76gをアルゴン気流下にて滴下した、これを20分攪
拌した後、トリフルオロメタンスルホン酸2.2.3.
3,4.4.4−ヘプタフルオロフ゛チル(TFHB)
12.8gを7容解した。HMPAIOmlを滴下した
。これを140℃にて20時間攪拌し、反応混合液を氷
水中に注ぎエーテルで有機Wを抽出した。減圧下でエー
テルを留去した後、粗生成物をクロロホルム/酢酸エチ
ル(20/l)混合液を溶出液としたシリカゲルカラム
により精製し、収18.0g、収率71.8%でp−H
FPAを得た。
30mlに溶解したp−ヒドロキシアセトフェノン4.
76gをアルゴン気流下にて滴下した、これを20分攪
拌した後、トリフルオロメタンスルホン酸2.2.3.
3,4.4.4−ヘプタフルオロフ゛チル(TFHB)
12.8gを7容解した。HMPAIOmlを滴下した
。これを140℃にて20時間攪拌し、反応混合液を氷
水中に注ぎエーテルで有機Wを抽出した。減圧下でエー
テルを留去した後、粗生成物をクロロホルム/酢酸エチ
ル(20/l)混合液を溶出液としたシリカゲルカラム
により精製し、収18.0g、収率71.8%でp−H
FPAを得た。
元素分析値(%);
理論1)円(:(:: 45.3. H: 2.
9実測値:C: 45.5.H: 2.8IR(am−
’);3000〜2800.1610゜(芳香環>、1
690 (C=○)、1280〜1)60(C−F)
。
9実測値:C: 45.5.H: 2.8IR(am−
’);3000〜2800.1610゜(芳香環>、1
690 (C=○)、1280〜1)60(C−F)
。
NMR(ppm); 2.54 (3H)、4.33〜
4.71 <2H)、6.78〜7.09 (2H
)。
4.71 <2H)、6.78〜7.09 (2H
)。
7.78〜8.04 (2H)。
参考例14
TFHBをトリフルオロメタンスルホン酸2゜2.3.
3.4.4.5.5,6,6,7.7゜8.8.8−ペ
ンタデカフルオロオクチルに替えた以外は参考例13と
同様の方法でp−(2,23,3,4,4,5,5,6
,6,7,7,8゜8.8−ペンタデカフルオロオクチ
ルオキシ)アセトフェノン(p−PFOA)を収率94
%で得た。
3.4.4.5.5,6,6,7.7゜8.8.8−ペ
ンタデカフルオロオクチルに替えた以外は参考例13と
同様の方法でp−(2,23,3,4,4,5,5,6
,6,7,7,8゜8.8−ペンタデカフルオロオクチ
ルオキシ)アセトフェノン(p−PFOA)を収率94
%で得た。
元素分析値(%):
理論イ直:C: 37.1. H: 1.8実測
値:C:37.2.H:2.O NMR(ppm); 2.52 (3H)、4.33〜
4.73 (2H)、6.9〜7.1 (2H)。
値:C:37.2.H:2.O NMR(ppm); 2.52 (3H)、4.33〜
4.73 (2H)、6.9〜7.1 (2H)。
7.87〜8.1 (2H)。
参考例15
0Cfl。CF5
参考例10で得たp−TFEA8.54 gを溶解した
エーテル40m1をリチウムアルミニウムハイドライド
0.52gを含むエーテル40m1中にアルゴン気流下
にて滴下した。室温にて1時間攪拌した後、5.8ml
の水を加え、さらに3Nの基部 酸78m1を加えた。有1征をエーテルにて抽出し、減
圧下にてエーテルを留去、粗生成物をクロロホルム/酢
酸エチル(10/1)混合液を溶出液としてシリカゲル
カラムにて精製し、収ff18.0g、収率92%でp
−(2,2,2−)リフルオロエトキシ)フェニルメ
チルカルビノール(p−TFEC)を得た。
エーテル40m1をリチウムアルミニウムハイドライド
0.52gを含むエーテル40m1中にアルゴン気流下
にて滴下した。室温にて1時間攪拌した後、5.8ml
の水を加え、さらに3Nの基部 酸78m1を加えた。有1征をエーテルにて抽出し、減
圧下にてエーテルを留去、粗生成物をクロロホルム/酢
酸エチル(10/1)混合液を溶出液としてシリカゲル
カラムにて精製し、収ff18.0g、収率92%でp
−(2,2,2−)リフルオロエトキシ)フェニルメ
チルカルビノール(p−TFEC)を得た。
元素分析値(%);
理論(!: C: 54.5. H: 5.0実測値
:C:54.8、H:5.2 IR(am−’) ;3700〜3100 (OH
)。
:C:54.8、H:5.2 IR(am−’) ;3700〜3100 (OH
)。
1610.1510. (芳香環)、1070(C−
0)、 1280. 1240 (CF3)。
0)、 1280. 1240 (CF3)。
NMR(ppm); 1.42〜1.49 (3t(
)。
)。
1.93 (IH,OH)、4.12〜4.46(2
H)、 4.67〜4.97 (LH)、 6.
77〜6.99 (2H)、7.17〜7.41
(2H)。
H)、 4.67〜4.97 (LH)、 6.
77〜6.99 (2H)、7.17〜7.41
(2H)。
参考例16
p’ −T F HAを参考例1)および参考例13で
得たp−HFBAに替えた以外は参考例15と同様の方
法でp−(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオ
ロブトキシ)フェニルメチルカルビノール(p−HFB
C)を収率75%得た。
得たp−HFBAに替えた以外は参考例15と同様の方
法でp−(2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオ
ロブトキシ)フェニルメチルカルビノール(p−HFB
C)を収率75%得た。
IR(ca+−’);3700〜3100 (OH)。
1620.1520. (芳香l)、1300〜1)
60 (C−F)。
60 (C−F)。
NMR(ppm); 1.27〜1.53 (3H
)。
)。
2.37 (I H)、 4.17〜4.6 (2
H) 。
H) 。
4.6〜4.92 (I H)、 6.7〜6.9
7(2H)、 7.1〜7.37 (28)。
7(2H)、 7.1〜7.37 (28)。
参考例17
p−TFEAを参考例14で得たp−PFOAに替えた
以外は参考例15と同様の方法でp−(2,2,3,3
,4,4,5,5,6,6,7゜7.8,8.8−ペン
タデカフルオロオクチルオキシ)フェニルメチルカルビ
ノール<p−PFOC)を収率72%で得た。
以外は参考例15と同様の方法でp−(2,2,3,3
,4,4,5,5,6,6,7゜7.8,8.8−ペン
タデカフルオロオクチルオキシ)フェニルメチルカルビ
ノール<p−PFOC)を収率72%で得た。
NMR(ppm); 1.37〜1.57 (3H)
。
。
1.92 (I H)、4.23〜4.63 (2H)
。
。
4.63〜4.98 (I H)、6.8〜7.05(
2)1)、7.2〜7゜47 (2H) 。
2)1)、7.2〜7゜47 (2H) 。
参考例18
り−TFEAを参考例12で得たp−NFHAに替えた
以外は参考例15と同様の方法でp−(3,3,4,4
,5,5゜6.6.6−ノナフルオロへキシルオキシ)
フェニルメチルカルビノ−ルNMR (ppm); 1
.30−1.55 (3H)。
以外は参考例15と同様の方法でp−(3,3,4,4
,5,5゜6.6.6−ノナフルオロへキシルオキシ)
フェニルメチルカルビノ−ルNMR (ppm); 1
.30−1.55 (3H)。
2、20 (IH) 、 2.2〜2.9 (2H)
、 3.8〜4.2(2旧, 4.52〜4.85 (
I H) 。
、 3.8〜4.2(2旧, 4.52〜4.85 (
I H) 。
6、75〜7.0(2旧, 7.13〜7.41(28
)。
)。
参考例19
トリブロモホスフィン5、7gに48%臭化水素水を1
滴加え、アルゴン気流下にてこれに参考例14で得たp
−TFEC 1 1 gを滴下し、10℃にて1時間撹
拌した.次に室温にて15時間攪拌を続けた後反応混合
物に氷水20mlを加え、を機相をエーテルで抽出した
.エーテルを減圧留去した後、これにキノリン12.4
ml及び少量のp−tert−ブチルカテコールを加え
、120℃2mmHgにて蒸留した.蒸¥1物に希塩酸
を加え亀 後、有d柾をエーテルで抽出した.Iエーテルを減圧留
去し、粗生成物をn−へキサン/エーテル(2/l)f
i合物を溶出液としてシリカゲルカラムにより精製し、
収fit3.68g,収率52%でp− (2.2.2
−トリフルオロエトキシ)スチレン(TFES)を得た
。
滴加え、アルゴン気流下にてこれに参考例14で得たp
−TFEC 1 1 gを滴下し、10℃にて1時間撹
拌した.次に室温にて15時間攪拌を続けた後反応混合
物に氷水20mlを加え、を機相をエーテルで抽出した
.エーテルを減圧留去した後、これにキノリン12.4
ml及び少量のp−tert−ブチルカテコールを加え
、120℃2mmHgにて蒸留した.蒸¥1物に希塩酸
を加え亀 後、有d柾をエーテルで抽出した.Iエーテルを減圧留
去し、粗生成物をn−へキサン/エーテル(2/l)f
i合物を溶出液としてシリカゲルカラムにより精製し、
収fit3.68g,収率52%でp− (2.2.2
−トリフルオロエトキシ)スチレン(TFES)を得た
。
元素分析値(%);
理論値:C:59.4.H:4.5
実測値:C:59.l,H:4,4
IR(ロー’)i3000〜2800,1610。
(芳香環) 、 1 6 1 5 (CH.−CH)
。
。
1280、1240 (CF.)。
NMR (ppm); 4.12 〜4.47 (2H
)。
)。
5、03〜5.73 <2H)、6.43〜6,77(
IH)、6.77〜7.00 (2H)、7.17〜7
.45 (2H)。
IH)、6.77〜7.00 (2H)、7.17〜7
.45 (2H)。
参考例20
p−TFECを参考例16で得たp−HFBCに替えた
以外は参考例19と同様の方法によりp− (2.2.
3,3,4,4.4−ヘブタフルオロブトキシ)スチレ
ン(HF B S)を収率36%で得た。
以外は参考例19と同様の方法によりp− (2.2.
3,3,4,4.4−ヘブタフルオロブトキシ)スチレ
ン(HF B S)を収率36%で得た。
元素分析値(%):
理論値:C:47.7.H:3.0
実測値:C:47,1. H:3.t
NMR(ppm); 4.2〜4.6 (2H)。
5.03〜5.27 (IH)、5.47〜5.75(
iH)、6.47〜6.8 (2H)、6.8〜6.9
8 (2H)、7.1〜7.47 (2H)。
iH)、6.47〜6.8 (2H)、6.8〜6.9
8 (2H)、7.1〜7.47 (2H)。
参考例21
p−TFECを参考例17で得たp−PFOCに替えた
以外は参考例19と同様の方法によりp−(2,2,3
,3,4,4,5,5,6,6゜7.7,8,8.8−
ペンクデ力フルオロオクチルオキシ)スチレン(PFO
3)を収率26%で得た。
以外は参考例19と同様の方法によりp−(2,2,3
,3,4,4,5,5,6,6゜7.7,8,8.8−
ペンクデ力フルオロオクチルオキシ)スチレン(PFO
3)を収率26%で得た。
元素分析値(%);
理論値:C:38.3.H:1.8
実測値:C: 38.2.H:1.9
NMR(ppm); 4.23〜4.65 (2H)。
5.03〜5.29 (LH)、5.45〜5.77(
I H)、6.45〜6.77 (LH)、6.77〜
7.03 (2H)、7.23〜7.47 (2H)
。
I H)、6.45〜6.77 (LH)、6.77〜
7.03 (2H)、7.23〜7.47 (2H)
。
参考例22
p−TFECを参考例18で得たp−NFHCに替えた
以外は参考例19と同様の方法によりp−(3,3,4
,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシルオキ
シ)スチレン(NFH3)を収率30%で得た。
以外は参考例19と同様の方法によりp−(3,3,4
,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシルオキ
シ)スチレン(NFH3)を収率30%で得た。
元素分析値(%);
理!禽(直 :C:45.9. Hl、0実測値:C
:45.7.H:2゜9 NMR(p pm) ; 2.2−3.0 (2
H)。
:45.7.H:2゜9 NMR(p pm) ; 2.2−3.0 (2
H)。
4.0〜4.3 (2H)、 4.95〜5.2
(l H) 。
(l H) 。
5.4〜5.7 (I H)、 6.4〜6.7
(l H) 。
(l H) 。
6.7〜6.9 (2H)、 7.2〜7.45
(2H)。
(2H)。
参考例23
テトラヒドロフラン(THF)80ml中に60%水素
化ナトリウム(油性)0.78gを力iえアルゴン気流
下に撹拌した。これに2.2.3゜3.4.4.4−ヘ
プタデカフルオロ−1−ブタノール7.8gを加え、室
温にて15分間攪拌した。
化ナトリウム(油性)0.78gを力iえアルゴン気流
下に撹拌した。これに2.2.3゜3.4.4.4−ヘ
プタデカフルオロ−1−ブタノール7.8gを加え、室
温にて15分間攪拌した。
次にペンタフルオロスチレン2.91gを加え室温にて
l晩反応した後、反応混合物を大量に水中に侮 投した。有機事エーテルにて抽出し、これに希塩酸及び
水で十分に洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。エー
テルを減圧留去した後、減圧下にて蒸留することにより
収13.79g、収率67.5%で4− (2,2,3
,3,4,4,4−へブタフルオロブトキシ)−2,3
,5,6−チトラフルオロスチレン(I(F B S
> ヲ得り。
l晩反応した後、反応混合物を大量に水中に侮 投した。有機事エーテルにて抽出し、これに希塩酸及び
水で十分に洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。エー
テルを減圧留去した後、減圧下にて蒸留することにより
収13.79g、収率67.5%で4− (2,2,3
,3,4,4,4−へブタフルオロブトキシ)−2,3
,5,6−チトラフルオロスチレン(I(F B S
> ヲ得り。
沸点;91−93℃/6.5mmHg。
NMR(ppm); 4.46〜4.83(2H)、5
.57〜6.2 (2H)。
.57〜6.2 (2H)。
6.47〜6.87 (l H)。
質量分析;374 (M’ )、205 (M’ −C
FffiCFICF、)、 191 (M’ −C
F zc F tCF tc F x)−参考例24〜
26 含フツ素アルコールの種類を替えた以外は参考例23と
同様の方法を用いてフルオロアルキル置換スチレン誘導
体を得た。なお、参考例24および参考例25の化合物
はシリカゲルカラムにより精製を行なった。
FffiCFICF、)、 191 (M’ −C
F zc F tCF tc F x)−参考例24〜
26 含フツ素アルコールの種類を替えた以外は参考例23と
同様の方法を用いてフルオロアルキル置換スチレン誘導
体を得た。なお、参考例24および参考例25の化合物
はシリカゲルカラムにより精製を行なった。
結果を表2に示す。
実施例1
(4^心代
p−TFESとスチレン(SL)とのモル比が20/8
0になるように参考例1で得られたp−TFES 32
4■及び5t625■をガラス製重合アンプルに仕込み
これに溶媒としてTHF6.5ブチルニトリル(A I
BN> 6.21)1rを加え道楽により脱気後高
真空下に封管した。これを60℃にて21時間振りまぜ
ることにより共重合反応を行なった9反応混合物を大量
のメタノール中に注ぎ重合体を沈殿させ収量188■、
収率19.8%で重合体を得た0元素分析の結果共重合
体中のp−’rFESモル組成は22.8%であり分子
量は2.7×104であった。またガラス転移温度(T
g)は83℃であることがDSC71)!l定によりわ
かった。
0になるように参考例1で得られたp−TFES 32
4■及び5t625■をガラス製重合アンプルに仕込み
これに溶媒としてTHF6.5ブチルニトリル(A I
BN> 6.21)1rを加え道楽により脱気後高
真空下に封管した。これを60℃にて21時間振りまぜ
ることにより共重合反応を行なった9反応混合物を大量
のメタノール中に注ぎ重合体を沈殿させ収量188■、
収率19.8%で重合体を得た0元素分析の結果共重合
体中のp−’rFESモル組成は22.8%であり分子
量は2.7×104であった。またガラス転移温度(T
g)は83℃であることがDSC71)!l定によりわ
かった。
実施例2〜13
フルオロアルキル置換スチレン誘導体とスチレンとの共
重合反応を実施例1と同様の方法を用いて行った。結果
を表3に示す。
重合反応を実施例1と同様の方法を用いて行った。結果
を表3に示す。
実施例14
参考例6で得たm−(2,2,2−トリフルオロエチル
オキシメチル)スチレン(m−TFES)とメチルメタ
クリレート(MMA)のモル比が10/90になるよう
にm−TFE5247g及びMMA238■をガラス製
重合アンプルに仕込みこれに溶媒としてベンゼン3.7
ml、重合開始剤としてAlBN3.2■を加え常法に
より脱気後、高真空下に封管した。これを60℃にて1
2時間振りまぜることにより共重合反応を行った0反応
混合物を大量のエタノール中に注ぎ重合体を沈殿させ、
収1)21■、収率24,9%で重合体を得た0元素分
析の結果、共重合体中のm −T F E Sのモル組
成は6.8%であり分子量は3.6X10’であった。
オキシメチル)スチレン(m−TFES)とメチルメタ
クリレート(MMA)のモル比が10/90になるよう
にm−TFE5247g及びMMA238■をガラス製
重合アンプルに仕込みこれに溶媒としてベンゼン3.7
ml、重合開始剤としてAlBN3.2■を加え常法に
より脱気後、高真空下に封管した。これを60℃にて1
2時間振りまぜることにより共重合反応を行った0反応
混合物を大量のエタノール中に注ぎ重合体を沈殿させ、
収1)21■、収率24,9%で重合体を得た0元素分
析の結果、共重合体中のm −T F E Sのモル組
成は6.8%であり分子量は3.6X10’であった。
実施例15
参考例5で得たp−(1,1,1,3,3,3−ヘキサ
フルオロイソプロピルオキシメチル)スチレン(p−H
FPS)とブチルアクリレート(B A)のモル比がp
−HFPS/BA=30/70になるようにp−HFP
S204aw及びBA215■をガラス製重合アンプル
に仕込み溶媒としてTHF4.Oml、重合開始剤とし
てAlBN2.8■を加え常法により脱気後、高真空下
に封管した。これを60℃にて4時間振りまぜることに
より共重合反応を行なった6反応混合物を大量のメタノ
ール中に注ぎ重合体を沈殿させ、収量97■、収率23
.2%で重合体を得た0元素分析の結果、p−HFPS
のモル組成は27.1%であり、分子量は4.3X 1
0’であった。
フルオロイソプロピルオキシメチル)スチレン(p−H
FPS)とブチルアクリレート(B A)のモル比がp
−HFPS/BA=30/70になるようにp−HFP
S204aw及びBA215■をガラス製重合アンプル
に仕込み溶媒としてTHF4.Oml、重合開始剤とし
てAlBN2.8■を加え常法により脱気後、高真空下
に封管した。これを60℃にて4時間振りまぜることに
より共重合反応を行なった6反応混合物を大量のメタノ
ール中に注ぎ重合体を沈殿させ、収量97■、収率23
.2%で重合体を得た0元素分析の結果、p−HFPS
のモル組成は27.1%であり、分子量は4.3X 1
0’であった。
実施例16
参考例7で得たm−(2,2,3,3,3−ペンタフル
オロプロピルオキシメチル)−α−メチルスチレン(m
−PPPMS)とアクリロニトリル(AN)の仕込みモ
ル比がm −P P P M S /AN=30/70
になるようにm−PPPMS84■及びAN37■をガ
ラス製重合アンプルに仕込み1容媒としてN、N−ジメ
チルホルム了ミド1m l、重合開始剤としてAIBN
o、13+qrを加え常法により脱気後、高真空下に封
管した。これを60℃にて、10時間振りまぜることに
より共重合反応を行なった6反応混合物を大量のメタノ
ール中に注ぎ重合体を沈殿させ、収ff141■、収率
33.9%で重合体を得た0元素分析の結果、共重合体
中のm −P F P M Sモル組成は、2367%
であり、分子量は7.7X10’であった。
オロプロピルオキシメチル)−α−メチルスチレン(m
−PPPMS)とアクリロニトリル(AN)の仕込みモ
ル比がm −P P P M S /AN=30/70
になるようにm−PPPMS84■及びAN37■をガ
ラス製重合アンプルに仕込み1容媒としてN、N−ジメ
チルホルム了ミド1m l、重合開始剤としてAIBN
o、13+qrを加え常法により脱気後、高真空下に封
管した。これを60℃にて、10時間振りまぜることに
より共重合反応を行なった6反応混合物を大量のメタノ
ール中に注ぎ重合体を沈殿させ、収ff141■、収率
33.9%で重合体を得た0元素分析の結果、共重合体
中のm −P F P M Sモル組成は、2367%
であり、分子量は7.7X10’であった。
実施例17
参考例19で得たTFESおよびスチレン(St)の仕
込みモル組成比TFES/S t −0,8/ 0.2
になるように各々1.05gおよび0.14gを重合用
アンプルに仕込み、これにAIBN5.34qrおよび
THF5.3mlを加え、常法に従い脱気後、高真空下
に封管した。これを60℃にて22時間振りまぜること
により共重合反応を行ない、反応混合物を大量のメタノ
ール中に投じ、重合体を沈殿させた。これを濾別し真空
乾燥することにより収量62■、収率5.2%でTFE
S−3を共重合体を得た0元素分析値より共重合体中の
TFESモル分率は0.80であった。
込みモル組成比TFES/S t −0,8/ 0.2
になるように各々1.05gおよび0.14gを重合用
アンプルに仕込み、これにAIBN5.34qrおよび
THF5.3mlを加え、常法に従い脱気後、高真空下
に封管した。これを60℃にて22時間振りまぜること
により共重合反応を行ない、反応混合物を大量のメタノ
ール中に投じ、重合体を沈殿させた。これを濾別し真空
乾燥することにより収量62■、収率5.2%でTFE
S−3を共重合体を得た0元素分析値より共重合体中の
TFESモル分率は0.80であった。
元素分析値(%);C;63.2.H;5.OIR(a
m−’) ; 1600 (芳香環)、1280゜1
240 (CF、)。
m−’) ; 1600 (芳香環)、1280゜1
240 (CF、)。
分子1;5.1xlO’ (ポリスチレン換算)実施
例18〜25 参考例19〜22で得たフルオロアルキル置換スチレン
誘導体及びStとの仕込みモル組成比を種々に変化させ
て共重合体を合成した。結果を表4に示す。
例18〜25 参考例19〜22で得たフルオロアルキル置換スチレン
誘導体及びStとの仕込みモル組成比を種々に変化させ
て共重合体を合成した。結果を表4に示す。
実施例26
参考例23で得られたHFB5とスチレン(St)(7
)−T−ル比がHFB5/S t=0.7010.30
となるように各#HFB51.05g、S tO,13
gをガラス製重合用アンプルに仕込み、さらにAIBN
3.29<およびTHF2.8mlを加え常法に従い脱
気後、高真空下に封管した。これを60℃にて23時間
振り混ぜることにより共重合反応を行なった0反応終了
後、混合物を大量のメタノール中に投じることにより重
合体を沈澱させた。これを濾別し、十分にメタノールで
洗浄後真空乾燥することにより収量0.78g、収率6
6.8%にてHFB5−3t共重合体を得た。共重合体
の)(FB3モル分率は元素分析値より0.72であっ
た。また分子量は3.2X10’ (ポリスチレン換算
)であった。
)−T−ル比がHFB5/S t=0.7010.30
となるように各#HFB51.05g、S tO,13
gをガラス製重合用アンプルに仕込み、さらにAIBN
3.29<およびTHF2.8mlを加え常法に従い脱
気後、高真空下に封管した。これを60℃にて23時間
振り混ぜることにより共重合反応を行なった0反応終了
後、混合物を大量のメタノール中に投じることにより重
合体を沈澱させた。これを濾別し、十分にメタノールで
洗浄後真空乾燥することにより収量0.78g、収率6
6.8%にてHFB5−3t共重合体を得た。共重合体
の)(FB3モル分率は元素分析値より0.72であっ
た。また分子量は3.2X10’ (ポリスチレン換算
)であった。
元素分析値(%’):C: 43.8.H: 2.2I
R(am−’);3000〜2800.1650゜15
10 (ベンゼン環)、1300〜1)00(C−F
)。
R(am−’);3000〜2800.1650゜15
10 (ベンゼン環)、1300〜1)00(C−F
)。
実施例27〜32
フルオロアルキル置換スチレン誘導体の種類及びスチレ
ンとの仕込みモル組成を種々に変化させ、実施例26と
同様の方法でフルオロアルキル置換スチレン誘導体−ス
チレン共重合体を得た。
ンとの仕込みモル組成を種々に変化させ、実施例26と
同様の方法でフルオロアルキル置換スチレン誘導体−ス
チレン共重合体を得た。
結果を表5に示す。
実施例33
参考例23で得たHFB5とアクリロニトリル(AN)
を仕込みモル組成比がHFB5/AN=0.5010.
50となるように各々HFB50.75g、ANo、1
0 gを重合用アンプルに仕込み、さらにAIBN3.
29+og及びTHF3.2mlを加えた。これを常法
に従い脱気後高真空下にて封管した。これを60℃にて
33.5時間振り混ぜることにより共重合反応を行なっ
た0反応終了後、反応混合物を大量のメタノール中に投
じることにより重合物を沈澱させた。これを濾別し、十
分にメタノールで洗浄後真空乾燥することにより収量1
9■、収率2.2%にてHFBS−AN共重合体を得た
。共重合体中のHFB5モル分率は元素分析より0.8
7%であった。
を仕込みモル組成比がHFB5/AN=0.5010.
50となるように各々HFB50.75g、ANo、1
0 gを重合用アンプルに仕込み、さらにAIBN3.
29+og及びTHF3.2mlを加えた。これを常法
に従い脱気後高真空下にて封管した。これを60℃にて
33.5時間振り混ぜることにより共重合反応を行なっ
た0反応終了後、反応混合物を大量のメタノール中に投
じることにより重合物を沈澱させた。これを濾別し、十
分にメタノールで洗浄後真空乾燥することにより収量1
9■、収率2.2%にてHFBS−AN共重合体を得た
。共重合体中のHFB5モル分率は元素分析より0.8
7%であった。
元素分析値(%) ; C: 39.13. H:
1.49゜N:0.59゜ IR(am−’);3000〜2800.1650゜1
510 (ベンゼン環)、2200 (CミN)130
0〜l 100 (C−F)。
1.49゜N:0.59゜ IR(am−’);3000〜2800.1650゜1
510 (ベンゼン環)、2200 (CミN)130
0〜l 100 (C−F)。
実施例34
H3
参考例23で得たHFB5とメチルメタクリレ−)(M
MA>を仕込みモル組成比がHFB5モル分率−0,5
010,50となるように各々HFB50.75 g、
MMAO,20gを重合用アンプルに仕込み、さらにA
IBN3.29■及びTHF3.0mlを加えた。これ
を常法に従い脱気後高真空下にて封管した。これを60
℃にて33.5時間振り混ぜることにより共重合反応を
行なった6反応終了後、反応混合物を大量のメタノール
中に投じることにより重合物を沈澱させた。これを濾別
し、十分にメタノールで洗浄後、真空乾燥することによ
り収量39■、収率4.1%にてHFBS−MMA共重
合体を得た。共重合体中のHFB5モル分率は元素分析
より0.61であった。
MA>を仕込みモル組成比がHFB5モル分率−0,5
010,50となるように各々HFB50.75 g、
MMAO,20gを重合用アンプルに仕込み、さらにA
IBN3.29■及びTHF3.0mlを加えた。これ
を常法に従い脱気後高真空下にて封管した。これを60
℃にて33.5時間振り混ぜることにより共重合反応を
行なった6反応終了後、反応混合物を大量のメタノール
中に投じることにより重合物を沈澱させた。これを濾別
し、十分にメタノールで洗浄後、真空乾燥することによ
り収量39■、収率4.1%にてHFBS−MMA共重
合体を得た。共重合体中のHFB5モル分率は元素分析
より0.61であった。
元素分析値(%’);C:41.8.H:2.5゜IR
((Jl−’);3000〜2800.1650゜15
10 (ベンゼン環)、1740 (C−0)13
00〜1)00 (C−F)。
((Jl−’);3000〜2800.1650゜15
10 (ベンゼン環)、1740 (C−0)13
00〜1)00 (C−F)。
参考例27
p−クロロメチルスチレン(p−CMS) 、スチレン
(St)をモル比が5015 o、及び全単量体濃度が
3mol/#になるように、それぞれ27.5gS 1
8.5gをガラス製重合アンプルに仕込み、また希釈剤
としてトルエン74m1及び重合開始剤としてAIBN
O,16gをさらに該アンプル内に入れ、常法に従
い十分に脱気後高真空下(10−’mmHg以下)に封
管した。これを60℃にて20時間振りまぜ重合反応を
行なった0反応混合物を大量のへキサン中に投じ重合体
を沈澱させた。これを濾別後、トルエンに溶解し再びヘ
キサン中に沈澱し、p −CM S −S L共重合体
を精製した。収量10.8g(収率23,5%)。
(St)をモル比が5015 o、及び全単量体濃度が
3mol/#になるように、それぞれ27.5gS 1
8.5gをガラス製重合アンプルに仕込み、また希釈剤
としてトルエン74m1及び重合開始剤としてAIBN
O,16gをさらに該アンプル内に入れ、常法に従
い十分に脱気後高真空下(10−’mmHg以下)に封
管した。これを60℃にて20時間振りまぜ重合反応を
行なった0反応混合物を大量のへキサン中に投じ重合体
を沈澱させた。これを濾別後、トルエンに溶解し再びヘ
キサン中に沈澱し、p −CM S −S L共重合体
を精製した。収量10.8g(収率23,5%)。
元素分析値C%)は、C: 77.8. H: 6.9
゜C1:15.4でありCI含量から求めた重合体のモ
ル組成比はp−CMS/5t=57.8/42.2であ
った。またGPCにて測定したポリスチレン換算の重量
平均分子1(My)はMw=1.49X105であった
。
゜C1:15.4でありCI含量から求めた重合体のモ
ル組成比はp−CMS/5t=57.8/42.2であ
った。またGPCにて測定したポリスチレン換算の重量
平均分子1(My)はMw=1.49X105であった
。
IR(es−’); 2B50〜2950 (CH,)
。
。
1600 (ベンゼン環)、1250.750(CH,
CI)。
CI)。
実施例35
2.2.2−)リフルオロエタノール2.7gをベンゼ
ン20m1に溶解し、これに30%水酸化ナトリウム水
溶液3ml及び臭化テトラn−ブチルアンモニウム2.
4gを加え攪拌した。この溶液に参考例27で得たp−
CMS−St共重合体0.5gを加え、光遮断下、室温
にて3日間攪拌を続けた8反応混合物を水で洗浄後、多
量のメタノール中に投じることにより重合体を沈澱させ
た。
ン20m1に溶解し、これに30%水酸化ナトリウム水
溶液3ml及び臭化テトラn−ブチルアンモニウム2.
4gを加え攪拌した。この溶液に参考例27で得たp−
CMS−St共重合体0.5gを加え、光遮断下、室温
にて3日間攪拌を続けた8反応混合物を水で洗浄後、多
量のメタノール中に投じることにより重合体を沈澱させ
た。
これを濾別、乾燥してフルオロアルキル置換スチレン共
重合体を得た。収量0゜39g(収率77.6%)0元
素分析値より求めたトリフルオロエトキシ基導入率は9
9%であった。
重合体を得た。収量0゜39g(収率77.6%)0元
素分析値より求めたトリフルオロエトキシ基導入率は9
9%であった。
元素分析値(%):C: 69.2.H: 5.6CI
0.2 IR(ell−’) ;2B50〜2950 (CH
t)。
0.2 IR(ell−’) ;2B50〜2950 (CH
t)。
1600 (ベンゼン環)、1)50〜1200(CF
よCFx’)。
よCFx’)。
MW: 1.68XIG’。
ガラス転移点(Tg):56℃(DSCにて測定)
一一二ぜ−一一一
実施例36
2,2.2−トリフルオロエタノールを2.2゜3.3
,4,4.4−ヘプタフルオロブチルアルコールに替え
た以外は実施例35と同様の方法でフルオロアルキル置
換スチレン共重合体を得た。
,4,4.4−ヘプタフルオロブチルアルコールに替え
た以外は実施例35と同様の方法でフルオロアルキル置
換スチレン共重合体を得た。
NMRより求めたヘプタフルオロブトキシ基の導入率は
95%であった。
95%であった。
元素分析値(%);C:59.1.H:4.5CI:1
.2 IR((Jl−’);2850〜2950 (CHz)
。
.2 IR((Jl−’);2850〜2950 (CHz)
。
160Q (ベンゼン環)、1)50〜1200−(C
FICFり 。
FICFり 。
Mw : 2.23 X I O’。
Tg:49℃(DSCにて測定)
実施例37
反応時間を1日にした以外は実施例36と同様の方法で
フルオロアルキル置換スチレン共重合体を得た。
フルオロアルキル置換スチレン共重合体を得た。
NMRより求めたヘプタフルオロブトキシ基の導入率は
43.7%であった。
43.7%であった。
元素分析値(%):C: 67.2.H: 5.4C1
:1.2 [R(am−’);2850〜2950(CH,)。
:1.2 [R(am−’);2850〜2950(CH,)。
1600 (ベンゼン環)、1)50〜1200 (C
FICFり 。
FICFり 。
1250.750 (C)IよC1)。
My : 1.71 X 10’。
参考例28
m−クロロメチルスチレン(m−CMS)、p−メチル
スチレン(p −MS t)のモル比が50750、及
び全単量体濃度が’l m o4 / Ilになるよう
にそれぞれ7.6g、5.9gをガラス製重合アンプル
に仕込み、また希釈剤としてベンゼン37m1及び重合
開始剤としてA+BN0.034gを該アンプル内に入
れ、常法に従い十分に脱気後高真空下に封管した。これ
を60℃にて10時間振りまぜ重合反応を行なった6反
応混合物を大量のジエチルエーテル中に投じ重合体を沈
澱させた。
スチレン(p −MS t)のモル比が50750、及
び全単量体濃度が’l m o4 / Ilになるよう
にそれぞれ7.6g、5.9gをガラス製重合アンプル
に仕込み、また希釈剤としてベンゼン37m1及び重合
開始剤としてA+BN0.034gを該アンプル内に入
れ、常法に従い十分に脱気後高真空下に封管した。これ
を60℃にて10時間振りまぜ重合反応を行なった6反
応混合物を大量のジエチルエーテル中に投じ重合体を沈
澱させた。
これを濾別、乾燥することにより収量3.9g (収率
28.9%)でm−CMS−p−MS を共重合体を得
た。
28.9%)でm−CMS−p−MS を共重合体を得
た。
元素分析値(%)は Cニア7.6.H:6.1C1:
15.5でありCI含量から求めた重合体のモアL4成
比はm−CMS/p−MS t=61.0/39.0で
あった。またMwは8.30 X 10’であった・ IR(Cm−’);2850〜2950 (CHり。
15.5でありCI含量から求めた重合体のモアL4成
比はm−CMS/p−MS t=61.0/39.0で
あった。またMwは8.30 X 10’であった・ IR(Cm−’);2850〜2950 (CHり。
1600 (ベンゼン環)、1250〜750(CH,
CI)。
CI)。
実施例38
2.2.3,3.3−ペンタフルオロプロパツール4.
1gをトルエン15m1に溶解し、これに30%水酸化
カリウム水溶液2.7ml及び硫酸テトラn−プチルア
ンモムウム2.1gを加え攪拌した。この溶液に参考例
28で得られたm−CMSp−Mst共重合体0.4g
を溶解したベンゼン10m1を加え、60℃にて1日攪
拌を続けた。
1gをトルエン15m1に溶解し、これに30%水酸化
カリウム水溶液2.7ml及び硫酸テトラn−プチルア
ンモムウム2.1gを加え攪拌した。この溶液に参考例
28で得られたm−CMSp−Mst共重合体0.4g
を溶解したベンゼン10m1を加え、60℃にて1日攪
拌を続けた。
反応混合物を十分に水洗した後、ジエチルエーテル中に
沈澱させた。これを濾別、乾燥してフルオロアルキル置
換スチレン共重合体を得た。NMRより求め゛たペンタ
フルオロプロピル基の導入率は100%であった。
沈澱させた。これを濾別、乾燥してフルオロアルキル置
換スチレン共重合体を得た。NMRより求め゛たペンタ
フルオロプロピル基の導入率は100%であった。
元素分析値(%)、C:33.9.H: 4.9C1:
O TR(3−’);2850〜2950 (CHI)。
O TR(3−’);2850〜2950 (CHI)。
1600 (ベンゼン環)、1)50〜1200 (
CFtCF*)。
CFtCF*)。
MW: 1.12XI O’、Tg : 51℃実
施例39 2.2.3.3.3−ペンタフルオロプロパツールを1
.1.1.3,3.3−へキサフルオロ−2−プロパツ
ールに替えた以外は実施例38と同様の方法でフルオロ
アルキル置換スチレン共重合体を得た。
施例39 2.2.3.3.3−ペンタフルオロプロパツールを1
.1.1.3,3.3−へキサフルオロ−2−プロパツ
ールに替えた以外は実施例38と同様の方法でフルオロ
アルキル置換スチレン共重合体を得た。
NMRより求めたヘキサフルオロ−2−プロピルオキシ
基の導入率は53.1%であった。
基の導入率は53.1%であった。
元素分析値(%);C:54.4.H:5.1ct:s
、2 IR(3−’);2850〜295’0 (ctt、)
。
、2 IR(3−’);2850〜295’0 (ctt、)
。
1600 (ベンゼン環)、1)50〜1250.75
0 (CHICI)、。
0 (CHICI)、。
Mw: 9.73X10’、Tg : 81’C参考例
29 p−ブロモメチルスチレン(p−BMS) 、n−オク
チルビニルエーテル(OVE) をモル比が70/30
、及び全量体濃度が3 m o l / 1になるよう
にそれぞれ20.7g及び7.7gをガラス製重合アン
プルに仕込み、さらにトルエン22m1及びAIBNo
、04gを加え高真空下にて封管した。これを60℃に
て7時間振りまぜ反応を行なった1反応混合物をジエチ
ルエーテル中に投じ重合体を沈澱させた。これを濾別、
乾燥することにより収量4.35g(収率15.3%)
でp−BMS−OVE共重合体を得た0元素分析値(%
)はC:59.8.H:6.5.Br:27.8であり
、Br含量から求めた重合体のモル組成比はp−8MS
10VE=65.3/34.772’1o−sた。
29 p−ブロモメチルスチレン(p−BMS) 、n−オク
チルビニルエーテル(OVE) をモル比が70/30
、及び全量体濃度が3 m o l / 1になるよう
にそれぞれ20.7g及び7.7gをガラス製重合アン
プルに仕込み、さらにトルエン22m1及びAIBNo
、04gを加え高真空下にて封管した。これを60℃に
て7時間振りまぜ反応を行なった1反応混合物をジエチ
ルエーテル中に投じ重合体を沈澱させた。これを濾別、
乾燥することにより収量4.35g(収率15.3%)
でp−BMS−OVE共重合体を得た0元素分析値(%
)はC:59.8.H:6.5.Br:27.8であり
、Br含量から求めた重合体のモル組成比はp−8MS
10VE=65.3/34.772’1o−sた。
またMw= 7.21 X 10’であった。
IR(cs−’); 2850〜3000(CHICH
,) 、 1600 (ベンゼン環)。
,) 、 1600 (ベンゼン環)。
1 200 (CHtB r)。
実施例40
2、2.3.3.4.4.5.5.6.6.7゜7.8
.8.8−ペンタフルオロデカフルオロ−1−オクタツ
ール8.0gをトルエン29m1に溶解し、これに30
%水酸化ナトリウム水溶液3ml及びよう化テトラ−n
−ブチルアンモニウム3.0gを加え攪拌した。この溶
液に参考例29で得た。
.8.8−ペンタフルオロデカフルオロ−1−オクタツ
ール8.0gをトルエン29m1に溶解し、これに30
%水酸化ナトリウム水溶液3ml及びよう化テトラ−n
−ブチルアンモニウム3.0gを加え攪拌した。この溶
液に参考例29で得た。
p−BMS−OVE共重合体0.3gを加え80℃にて
1日攪拌を続けた0反応混合物を水洗した後、ジエチル
エーテル中に投じ重合体を沈澱させた。
1日攪拌を続けた0反応混合物を水洗した後、ジエチル
エーテル中に投じ重合体を沈澱させた。
これを濾別、乾燥することによりフルオロアルキル置換
スチレン共重合体を得た。NMRより求めたペンタデカ
フルオロオクチルオキシ基の導入率:
は99%であった。
スチレン共重合体を得た。NMRより求めたペンタデカ
フルオロオクチルオキシ基の導入率:
は99%であった。
元素分析値(%) ;C14,2,H:3.4Br:O
IR(ell−’) ; 2850〜2950(CH
zCHs) 、 1600 (ベンゼン環)。
zCHs) 、 1600 (ベンゼン環)。
1)50〜1200 (CHxB’r)。
Mw : 1.24X 10’、Tg ニー20℃参
考例30 p−(2−クロロエチル)スチレン<p−CES)、p
−エチルスチレン(ESt)をモル比が70/30及び
全単量体濃度が2 m o l / j!になるように
それぞれ10.0g、3.2gをガラス製重合アンプル
に仕込み、さらにトルエン36.8m l及びAIBN
o、04gを加え真空下にて封管した。
考例30 p−(2−クロロエチル)スチレン<p−CES)、p
−エチルスチレン(ESt)をモル比が70/30及び
全単量体濃度が2 m o l / j!になるように
それぞれ10.0g、3.2gをガラス製重合アンプル
に仕込み、さらにトルエン36.8m l及びAIBN
o、04gを加え真空下にて封管した。
これを60℃にて5時間振りまぜ重合反応を行なった0
反応混合物をn−ヘキサン/ジエチルエーテル(3:
1)混合液に投じ重合体を沈澱させた。
反応混合物をn−ヘキサン/ジエチルエーテル(3:
1)混合液に投じ重合体を沈澱させた。
これを濾別、乾燥することにより収量4.1)8(収率
31.1%)T:p CES−ES L共重合体を得た
。元素分析値(%)はCニア3.8.H:8.7.
CI : 9.8テあった。CI含itカら求めたff
i合体−Eル&u成比はp−CB5/ESt=64.1
/35.9であった。またMw= 1.21 X 10
Sであった。
31.1%)T:p CES−ES L共重合体を得た
。元素分析値(%)はCニア3.8.H:8.7.
CI : 9.8テあった。CI含itカら求めたff
i合体−Eル&u成比はp−CB5/ESt=64.1
/35.9であった。またMw= 1.21 X 10
Sであった。
IR(C1)−’); 2800〜3000(CHtC
)(z) 、1600 Cべ7ゼン環)。
)(z) 、1600 Cべ7ゼン環)。
) 200 (CH2B r)、
参考例41
2、2.3.3.4.4.5.5.6.6.7゜7.8
.8.8−へブタデカフルオロ−1〜オクタツール7.
1gを充分に脱水したTHF18mlに溶解し、これに
ナトリウム0.4gを加えた。気体が発生し、ナトリウ
ムが完全に溶解するまでゆっくりと撹拌した。この溶液
に参考例3oで得られた/p−CES ESt共重合
体3.5gをTHFlomlに溶解した溶液を加え、室
温にて2日間攪拌を続けた0反応混合物を大量の水中に
投じ得られた沈澱を濾別再びTHFに溶解した。
.8.8−へブタデカフルオロ−1〜オクタツール7.
1gを充分に脱水したTHF18mlに溶解し、これに
ナトリウム0.4gを加えた。気体が発生し、ナトリウ
ムが完全に溶解するまでゆっくりと撹拌した。この溶液
に参考例3oで得られた/p−CES ESt共重合
体3.5gをTHFlomlに溶解した溶液を加え、室
温にて2日間攪拌を続けた0反応混合物を大量の水中に
投じ得られた沈澱を濾別再びTHFに溶解した。
これをメタノール中に投じ重合体を精製した。
NMRより求めたペンタデカフルオロオクチルオキシ基
の導入率は100%であった。
の導入率は100%であった。
元素分析値(%);C: 43.6.H: 3.5C1
:O IR(am−’); 2B50〜2900(CHxCH
t) 、 1605 (ベンゼン環)。
:O IR(am−’); 2B50〜2900(CHxCH
t) 、 1605 (ベンゼン環)。
1)50〜1200(CF宜CFa)。
Mw:1.31X10’、Tg:4℃
実施例42
THF15mlに60%水素化ナトリウム(油性)18
3呵および2.2.3,3.3−ペンタフルオロ−1−
プロパツール1.35gを溶解し、アルゴン気流下で2
0分間1Iil拌した。これにペンタフルオロスチレン
−スチレン共重合体(ペンタフルオロスチレンモル分率
0.463)994■を含むTHF30mlを加え2日
間室温で攪拌した。
3呵および2.2.3,3.3−ペンタフルオロ−1−
プロパツール1.35gを溶解し、アルゴン気流下で2
0分間1Iil拌した。これにペンタフルオロスチレン
−スチレン共重合体(ペンタフルオロスチレンモル分率
0.463)994■を含むTHF30mlを加え2日
間室温で攪拌した。
反応混合物を大量のメタノール中に投じ重合体を沈澱さ
せた。これをd8別し、真空乾燥することにより、収量
604■で4− (2,2,3,3,3−ペンタフルオ
ロオキシ)−2,3,5,6−チトラフルオロスチレン
ースチレン共重合体を得た。
せた。これをd8別し、真空乾燥することにより、収量
604■で4− (2,2,3,3,3−ペンタフルオ
ロオキシ)−2,3,5,6−チトラフルオロスチレン
ースチレン共重合体を得た。
元素分析値(%)
理論値:C;54.7.Hi2.9
実測値:C;54.7.H;2.9
実施例43
CH20CH2(CF2)60F5
参考例4で得た!フルオロアルキル置換スチレン曽ら
誘導体(DFOS)とN−メチロ−N−アクリルアミド
の仕込みモル組成比が0.95 : 0.05になるよ
うに各々1.96gおよび0.02gを重合用アンプル
に仕込み、これにBPOIG■とフロン1)3(5ml
)及びエタノール(1ml)を加え、常法に従い脱気後
、高真空下に封管した。これを60℃にて20時間振り
混ぜることにより共重合反応を行ない、反応混合物を大
量のメタノール中に投じ、重合体を沈澱させた。これを
濾別し真空乾燥することにより収率58%で共重合体を
Φ 得た0元素分析値により共重合WoFOSモル分率は0
.96であった。
の仕込みモル組成比が0.95 : 0.05になるよ
うに各々1.96gおよび0.02gを重合用アンプル
に仕込み、これにBPOIG■とフロン1)3(5ml
)及びエタノール(1ml)を加え、常法に従い脱気後
、高真空下に封管した。これを60℃にて20時間振り
混ぜることにより共重合反応を行ない、反応混合物を大
量のメタノール中に投じ、重合体を沈澱させた。これを
濾別し真空乾燥することにより収率58%で共重合体を
Φ 得た0元素分析値により共重合WoFOSモル分率は0
.96であった。
元素分析値(%) :
C;39.63 H;2.21 N;0.1)1R
(cs−’):1730 (C=O)、1240゜12
10、 (CFs)、1)50 (−0〜)。
(cs−’):1730 (C=O)、1240゜12
10、 (CFs)、1)50 (−0〜)。
分子量? 3.2X 10’ (ポリスチレン換算)実
施例44 参考例4で得たスチレン誘導体(DFOS)となるよう
に各々1.96gおよび0.034gを重合用アンプル
に取り、重合開始剤として、BP010■及び溶媒とし
て、フロン1)3(5ml)とエタノール(l m l
)を加え常法に従し1脱気後、高真空下(10−’m
mHg以下)で封管した。これを60℃にて20時間振
り混ぜ重合反応を行なった0反応混合物を大量のメタノ
ール中に投じることにより、共重合体を沈澱させこれを
濾別後真空乾燥した。収!820喀 収率41%元素分
析値(%): 0.96であることが確認された。
施例44 参考例4で得たスチレン誘導体(DFOS)となるよう
に各々1.96gおよび0.034gを重合用アンプル
に取り、重合開始剤として、BP010■及び溶媒とし
て、フロン1)3(5ml)とエタノール(l m l
)を加え常法に従し1脱気後、高真空下(10−’m
mHg以下)で封管した。これを60℃にて20時間振
り混ぜ重合反応を行なった0反応混合物を大量のメタノ
ール中に投じることにより、共重合体を沈澱させこれを
濾別後真空乾燥した。収!820喀 収率41%元素分
析値(%): 0.96であることが確認された。
分子it: 2.8X 10’ (ポリスチレン換算)
試 験 例 1 (撥水、撥油性の評価)実3191)
〜16で得られたフルオロアルキル置換スチレン共重合
体のQ、5wt%THF溶液を調製し、この溶液をガラ
ス板上に流延した。40℃にて24時間保ちTHFを留
去した後、2日間真空乾燥した。得られたガラス板表面
の水及びn−オクタン接触角をコンタクトアングルゴニ
オメータ−(協和科学部)にて測定した。結果を表6に
示す、なお、比較のために、ポリスチレン及びポリジメ
チルシロキサンの表面の液滴接触角を測定した結果につ
いて、それぞれ比較例1及び比較例2として表6に示す
。
試 験 例 1 (撥水、撥油性の評価)実3191)
〜16で得られたフルオロアルキル置換スチレン共重合
体のQ、5wt%THF溶液を調製し、この溶液をガラ
ス板上に流延した。40℃にて24時間保ちTHFを留
去した後、2日間真空乾燥した。得られたガラス板表面
の水及びn−オクタン接触角をコンタクトアングルゴニ
オメータ−(協和科学部)にて測定した。結果を表6に
示す、なお、比較のために、ポリスチレン及びポリジメ
チルシロキサンの表面の液滴接触角を測定した結果につ
いて、それぞれ比較例1及び比較例2として表6に示す
。
表6 表面の液滴接触角測定結果
水 n−オクタン
実施例1 93 13#3
96 34 #4 96 33 w6 97 37 〃8 98 44 〃 10 1)0 53# 13
124 57〃 16 109
49比較例1 90 <t。
96 34 #4 96 33 w6 97 37 〃8 98 44 〃 10 1)0 53# 13
124 57〃 16 109
49比較例1 90 <t。
−2101<10
試 験 例 2(in水、撥油性の評価)実施例17〜
25で得られたフルオロアルキル置換スチレンとスチレ
ンとの共重合体表面の純水およびn−オクタン接触角を
試験例1と同様の方法により測定した。結果を表7に示
す。
25で得られたフルオロアルキル置換スチレンとスチレ
ンとの共重合体表面の純水およびn−オクタン接触角を
試験例1と同様の方法により測定した。結果を表7に示
す。
表 7 表面の液滴接触角測定結果
水 n−オクタン
実施例+7 109 44〃 18
107 40〃 19 103
31〃 20 100 20〃
21 1)3 45〃 22 1
)0 40〃 23 104
’33〃 24 106 40〃 2
5 1)4 42試 験 例 3(fa
水、ta油性の評価)実施例26〜32で得られたフル
オロアルキル置換スチレン共重合体表面の液滴接触角を
試験例1と同様の方法により測定した。
107 40〃 19 103
31〃 20 100 20〃
21 1)3 45〃 22 1
)0 40〃 23 104
’33〃 24 106 40〃 2
5 1)4 42試 験 例 3(fa
水、ta油性の評価)実施例26〜32で得られたフル
オロアルキル置換スチレン共重合体表面の液滴接触角を
試験例1と同様の方法により測定した。
結果を表8に示す。
試 験 例 4(in水、揚油性の評価)実施例35〜
41で得られたフルオロアルキル1
置換X+′7共1合体(7) 0.5w t %T
HF ’filK’ft1 1)製
し、この溶液をガラス板上に流延した。40℃にて24
時間保ちTHFを留去した後、2日間真空乾燥した。得
られたガラス板表面の水及びヨウ化メチレンの接触角を
コンタクトアングルゴニオメータ−(協和科学型)にて
測定した。結果を表9に示す、なお、比較のために、ポ
リスチレン及びポリメチルメタクリレートの表面の液滴
接触角を測定した結果についてそれぞれ比較例3及び比
較例4として表9に示す。
41で得られたフルオロアルキル1
置換X+′7共1合体(7) 0.5w t %T
HF ’filK’ft1 1)製
し、この溶液をガラス板上に流延した。40℃にて24
時間保ちTHFを留去した後、2日間真空乾燥した。得
られたガラス板表面の水及びヨウ化メチレンの接触角を
コンタクトアングルゴニオメータ−(協和科学型)にて
測定した。結果を表9に示す、なお、比較のために、ポ
リスチレン及びポリメチルメタクリレートの表面の液滴
接触角を測定した結果についてそれぞれ比較例3及び比
較例4として表9に示す。
表 9 表面の液滴接触角測定結果
水 ヨウ化メチレン
実施例35 93 47# 36
105 67 〃 37 100 51 〃 39 105 68 # 40 130 83 〃 41 128 79 ポリスチレン 比較例4 75 20ポリメチル メタクリレート 試 験 例 5(光透過性の評価) (i)実施例1.12.13及び15で得たフルオロア
ルキル置換スチレン共重合体の0,5wt%T HF溶
液を石英板上に流延し表面に共重合体をコーティングし
た。この石英板の光透過率を分光計(島津製作所性UV
240)にて測定した。結果を表1図に示す、実施例1
2で得た共重合体のものについては第2図にも示す。
105 67 〃 37 100 51 〃 39 105 68 # 40 130 83 〃 41 128 79 ポリスチレン 比較例4 75 20ポリメチル メタクリレート 試 験 例 5(光透過性の評価) (i)実施例1.12.13及び15で得たフルオロア
ルキル置換スチレン共重合体の0,5wt%T HF溶
液を石英板上に流延し表面に共重合体をコーティングし
た。この石英板の光透過率を分光計(島津製作所性UV
240)にて測定した。結果を表1図に示す、実施例1
2で得た共重合体のものについては第2図にも示す。
(ii)また、実施例12で得た共重合体を上記(+)
と同様にコーティングした石英板をl Qwt%水酸化
ナトリウム水溶液中に60℃、7日間浸漬することによ
りアルカ処理した際の光透過性を第2図に示す。
と同様にコーティングした石英板をl Qwt%水酸化
ナトリウム水溶液中に60℃、7日間浸漬することによ
りアルカ処理した際の光透過性を第2図に示す。
(iii)さらに比較例5として従来ガラスコーティン
グ剤として公知の3.3.4.4,5.5.6゜6、
7. 7. 8. 8. 9. 9. to、 10.
10−ヘプタデカフルオロデシルアクリレートを76モ
ル%含有するスチレン共重合体(Hd FDA−3t)
をQ、5wt%THF溶液から上記(i)と同様の方法
にて、表面に、コーティングした石英板の光透過性及び
該重合体を上記(ii)と同様にアルカリ処理した際の
光透過性を第2図に示す、但し、光透過性の測定のさい
には、参照側に重合体をコーティングしない、上記と同
一形状の石英板を用いた。
グ剤として公知の3.3.4.4,5.5.6゜6、
7. 7. 8. 8. 9. 9. to、 10.
10−ヘプタデカフルオロデシルアクリレートを76モ
ル%含有するスチレン共重合体(Hd FDA−3t)
をQ、5wt%THF溶液から上記(i)と同様の方法
にて、表面に、コーティングした石英板の光透過性及び
該重合体を上記(ii)と同様にアルカリ処理した際の
光透過性を第2図に示す、但し、光透過性の測定のさい
には、参照側に重合体をコーティングしない、上記と同
一形状の石英板を用いた。
本発明のフルオロアルキル置換スチレン共重合体は、高
い撥水、t8油性を有し、かつ光透過性が極めて大きい
、また有機溶媒に可溶であるため、ガラス表面等に該重
合体溶液を塗布することにより容易に薄膜コーティング
することができ、防汚処理及び反射防止処理が可能であ
る。
い撥水、t8油性を有し、かつ光透過性が極めて大きい
、また有機溶媒に可溶であるため、ガラス表面等に該重
合体溶液を塗布することにより容易に薄膜コーティング
することができ、防汚処理及び反射防止処理が可能であ
る。
さらに既知の含フツ素アクリル酸エステル、あるいは含
フツ素メタクリル酸エステルに比較して化学的に安定で
あるため例えば表面を該共重合体によりコーティングし
たガラス表面を長時間アルカリ溶液に接触させた場合で
さえもガラス表面が浸食されることなく防汚性及び光透
過性を維持することができる。
フツ素メタクリル酸エステルに比較して化学的に安定で
あるため例えば表面を該共重合体によりコーティングし
たガラス表面を長時間アルカリ溶液に接触させた場合で
さえもガラス表面が浸食されることなく防汚性及び光透
過性を維持することができる。
第1図は実施例1.12.13及び15で得たフルオロ
アルキル置換スチレン共重合体の光透過性を示す。 第2図は実施例12で得たフルオロアルキル置換スチレ
ン共重合体、並びに該共重合体をアルカリ処理したもの
及びHdFDA−3t共重合体並びに該共重合体をアル
カリ処理したものの光透過性を示す。 但し、各重合体はいずれも石英板にコーティングしたも
のである。 ■、・・・実施例1で得た共重合体 2、・・・実施例12で得た共重合体 3、・・・実施例13で得た共重合体 4、・・・実施例15で得た共重合体 5、・・・実施例12で得た共重合体をアルカリ処理し
たもの 6、・・・Hd FDA−3を共重合体7、・・・Hd
FDA−3t共重合体をアルカリ処理したもの
アルキル置換スチレン共重合体の光透過性を示す。 第2図は実施例12で得たフルオロアルキル置換スチレ
ン共重合体、並びに該共重合体をアルカリ処理したもの
及びHdFDA−3t共重合体並びに該共重合体をアル
カリ処理したものの光透過性を示す。 但し、各重合体はいずれも石英板にコーティングしたも
のである。 ■、・・・実施例1で得た共重合体 2、・・・実施例12で得た共重合体 3、・・・実施例13で得た共重合体 4、・・・実施例15で得た共重合体 5、・・・実施例12で得た共重合体をアルカリ処理し
たもの 6、・・・Hd FDA−3を共重合体7、・・・Hd
FDA−3t共重合体をアルカリ処理したもの
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は水素原子または低級アルキル基を表わ
し、R^2は水素原子または低級ポリフルオロアルキル
基を表わし、R^3はポリフルオロアルキル基を表わし
、Xは−O−又は▲数式、化学式、表等があります▼を
表わし、Y^1〜Y^4は各々水素原子又はハロゲン原
子を表わす。但し、R^4、R^5は各々低級アルキル
基であり、nは0または1である。)で示される繰返し
単位と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^6は水素原子または低級アルキル基を表わ
し、Zは無置換もしくは低級アルキル基、低級ハロアル
キル基、低級アルキルオキシ基もしくはハロゲン原子で
置換されているフェニル基、水素原子、低級アルキル基
、アルキルオキシ基、シアノ基、−COOR^7で示さ
れる基または▲数式、化学式、表等があります▼で示さ
れる基(但し、 R^7、R^8は水素原子、炭素数1から15のアルキ
ル基、フェニル基またはシクロアルキル基を示し、R^
9は水素原子または 低級アルキル基を表わす。)を表わす。)で示される繰
返し単位とからなる分子量1000以上のフルオロアル
キル置換スチレン共重合体。 - (2)一般式( I )で示される繰返し単位を少なくと
も1モル%以上含有する特許請求の範囲第(1)項記載
のフルオロアルキル置換スチレン共重合体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60-144517 | 1985-07-03 | ||
| JP14451785 | 1985-07-03 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62104821A true JPS62104821A (ja) | 1987-05-15 |
| JPH0713114B2 JPH0713114B2 (ja) | 1995-02-15 |
Family
ID=15364182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14830386A Expired - Lifetime JPH0713114B2 (ja) | 1985-07-03 | 1986-06-26 | フルオロアルキル置換スチレン共重合体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0713114B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000042084A1 (en) * | 1999-01-12 | 2000-07-20 | Jotun A/S | Block copolymers with perfluorinated side-chain blocks and the preparation thereof |
| JP2017074777A (ja) * | 2015-10-16 | 2017-04-20 | 株式会社野田スクリーン | 複合材料、含フッ素スチレン系共重合体及びコーティング剤 |
| JP2021102723A (ja) * | 2019-12-25 | 2021-07-15 | 日立ジョンソンコントロールズ空調株式会社 | コーティング液、コート膜、コート膜を有する基材、及びコート膜を有する空気調和機 |
-
1986
- 1986-06-26 JP JP14830386A patent/JPH0713114B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000042084A1 (en) * | 1999-01-12 | 2000-07-20 | Jotun A/S | Block copolymers with perfluorinated side-chain blocks and the preparation thereof |
| JP2017074777A (ja) * | 2015-10-16 | 2017-04-20 | 株式会社野田スクリーン | 複合材料、含フッ素スチレン系共重合体及びコーティング剤 |
| JP2021102723A (ja) * | 2019-12-25 | 2021-07-15 | 日立ジョンソンコントロールズ空調株式会社 | コーティング液、コート膜、コート膜を有する基材、及びコート膜を有する空気調和機 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0713114B2 (ja) | 1995-02-15 |
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