JPH0475900B2 - - Google Patents

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JPH0475900B2
JPH0475900B2 JP13270286A JP13270286A JPH0475900B2 JP H0475900 B2 JPH0475900 B2 JP H0475900B2 JP 13270286 A JP13270286 A JP 13270286A JP 13270286 A JP13270286 A JP 13270286A JP H0475900 B2 JPH0475900 B2 JP H0475900B2
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JP
Japan
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group
fluorostyrene
reaction
polymerization
examples
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JP13270286A
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English (en)
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JPS62289539A (ja
Inventor
Kyohide Matsui
Kazuhiko Ishihara
Riiko Kogure
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sagami Chemical Research Institute
Original Assignee
Sagami Chemical Research Institute
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Publication date
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Priority to JP13270286A priority Critical patent/JPS62289539A/ja
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Publication of JPH0475900B2 publication Critical patent/JPH0475900B2/ja
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  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明はガラス表面をその光透過性を損うこと
なく撥水、撥油性処理をしうるコーテイング材料
の原料として有用な新規なフルオロスチレン誘導
体に関する。 本発明のフルオロスチレン誘導体は文献未載の
新規化合物である。該誘導体より得られる重合体
はガラス表面をその光透過性を損うことなく、撥
水、撥油性処理、反射防止処理または耐薬品処理
できるコーテイング材料として用いることができ
る。 〔従来の技術〕 含フツ素重合体は、炭化水素系重合体に比較し
て耐食性及び耐薬品性に優れ、さらに撥水、撥油
性を有するため、これらの特性を利用した防汚材
料、非粘着材料への応用がなされている。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながら、ポリテトラフルオロエチレンや
ポリフツ化ビニリデンのように主鎖にフツ素原子
が導入されている重合体は通常の有機溶媒には不
溶であるため、例えばガラスや金属などの基材上
にコーテイングする際には加熱溶融した後に圧着
する操作が必要となり、複雑な形状を有する基材
上にはコーテイングすることができない。また、
含フツ素アクリル酸エステルあるいは含フツ素メ
タクリル酸エステルの重合体は、酢酸エチル等の
有機溶媒に可溶で、この重合体溶液をコーテイン
グすることにより繊維の撥水処理、防汚処理や光
フアイバーのコーテイング材料などに利用されて
いるが、これらの重合体は加水分解性を有するエ
ステル結合が存在するため、長期間にわたる使用
に際しては撥水性や光透過性などの性能低下が避
けられない。 本発明者等は上記の問題点を解決するため鋭意
研究した結果、本発明のフルオロスチレン誘導体
から得られる重合体が高い撥水性、撥油性及び透
過性と共に優れたコーテイング性及び安定性を有
することを見出し、本発明を完成するに至つた。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明のフルオロスチレン誘導体は、一般式 (式中、R1は水素原子または低級アルキル基を
表わし、R2は水素原子または低級ポリフルオロ
アルキル基を表わし、R3はポリフルオロアルキ
ル基を表わす。)で示される。 R2で示される低級ポリフルオロアルキル基と
しては、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチ
ル基、2から4個のフツ素原子で置換されたエチ
ル基、ペルフルオロエチル基、2から6個のフツ
素原子で置換されたプロピル基、ペルフルオロプ
ロピル基、2から8個のフツ素原子で置換された
ブチル基、ペルフルオロブチル基などを挙げるこ
とができる。特にペルフルオロメチル基、ペルフ
ルオロエチル基が好適な反応性、撥水、撥油性を
与える意味で好ましい。R2で示されるポリフル
オロアルキル基としてはアルキル鎖中にエーテル
結合を有してもよく、ペルフルオロメチル基、ペ
ルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、
ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル
基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプ
チル基、ペルフルオロオクチル基、ペルフルオロ
ノニル基、ペルフルオロデシル基、ジフルオロメ
チル基、2から4個のフツ素原子で置換されたエ
チル基、2から6個のフツ素原子で置換されたプ
ロピル基、2から8個のフツ素原子で置換された
ブチル基、3−オキサ−2−トリフルオロメチル
−2,4,4,5,5,6,6,6−オクタフル
オロヘキシル基などを例示することができる。特
にペルフルオロアルキル基あるいは2,2,3,
3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル
基等のアルキル未端部が完全にフツ素化されたア
ルキル基が高い撥水、撥油性を発現する点で好ま
しい。 本発明のフルオロスチレン誘導体はペンタフル
オロスチレンと含フツ素アルコールとを塩基存在
下に反応させることにより収率良く合成すること
ができる。塩基としては特に水素化ナトリウム、
水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物、ナト
リウム、カリウム、リチウムなどのアルカリ金属
及びジアザビシクロ〔3.4.0〕ノネン−5(DBN)、
1,5−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセン−
5(DBU)等のアミン類を例示することができ
る。 用いる含フツ素アルコールとしては、2,2,
2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3,
3−ペンタンフルオロ−1−プロパノール、2,
2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロ−1−
ブタノール、2,2,3,3,4,4,5,5,
6,6,7,7,8,8,8−ペンタデカフルオ
ロ−1−オクタノール、2,2,2−トリフルオ
ロ−1−(トリフルオロメチル)エタノール、2,
2−ジフルオロエタノール、2,2,3,3,
4,4−ヘキサフルオロ−1−ブタノール、2,
2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノー
ル、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフ
ルオロ−1−ペンタノール、3,3,4,4,4
−ペンタフルオロ−1−ブタノール、4,4,4
−トリフルオロ−1−ブタノール、1,1,1,
3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノー
ル、4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,
9,9,10,10,10−ヘプタデカフルオロ−1−
デカノール、1,1,1,6,6,7,7,7−
オクタフルオロ−2−ヘプタノール、3−オキサ
−2−トリフルオロメチル−2,4,4,5,
5,6,6,6−オクタフルオロヘキサノールな
どを例示することができる。また反応溶媒として
はテトラヒドロフラン、ヘキサメチルホスホルア
ミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリ
ドン等を例示することができる。 反応温度は0℃〜150℃、好ましくは10℃〜80
℃の範囲であるが、原料及び生成物の熱重合反応
を防止する上で50℃以下で行うことが望ましい。 本発明のフルオロスチレン誘導体は、通常のラ
ジカル重合法により容易に高分子量の重合体とす
ることが可能であり、この際反応はバルク重合、
溶液重合、乳化重合など公知の方法を用いること
ができる。ラジカル重合反応は単に熱、紫外線の
照射またはラジカル開始剤の添加により速かに開
始される。反応に好適に用いられるラジカル開始
剤としてはジラウロイルペルオキシド、ベンゾイ
ルペルオキシドなどの有機過酸化合物あるいは
α,α′−アゾビスイソブチロニトリルのようなア
ゾ化合物などを例示することができる。重合反応
に利用できる有機溶媒として生成する重合体が可
溶である溶媒を選択することが高分子量体を得る
上で好ましく、例えばテトラヒドロフラン、フル
オロベンゼン、ヘキサフオロベンゼン、1,4−
ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン等を用いる
ことができるが、これらに限定されるものではな
い。反応は通常40℃から100℃の範囲で行う。 さらに本発明のフルオロスチレン誘導体と他の
一種類または数種類の単量体とを混合し、ラジカ
ル重合することにより共重合体を得ることができ
る。共重合することのできる単量体としてはスチ
レン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレ
ン、ペンタフオロスチレン、p−アミノスチレン
などのスチレン誘導体、メチルアクリレート、エ
チルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、ブチルアクリレート、ポリフルオロアル
キルアクリレートなどのアクリル酸エステル類、
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルメタクリレート、2−ヒドロキシエチル
メタクリレート、ブチルメタクリレート、シクロ
ヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレー
ト、ポリフルオロアルキルメタクリレートなどの
メタクリル酸エステル類、アクリロニトリル、ア
クリルアミド、メタクリルアミド、アクロレイ
ン、アクリル酸、メタクリル酸などを用いること
ができる。重合反応は溶媒中で行うのが好まし
く、溶媒としては単量体及び重合開始剤を均一に
溶解するものであれば制限なく用いることができ
る。特に、テトラヒドロフラン、1,4−ビス
(トリフルオロメチル)ベンゼンがラジカル連鎖
移動による停止反応を引き起こし難し、高分子量
体を得られる点で好ましく用いることができる。 実施例、参考例、試験例、比較例によつて本発
明をさらに具体的に説明する。 実施例 1 テトラヒドロフラン(THF)80ml中に60%水
素化ナトリウム(油性)0.78gを加えアルゴン気
流下に撹拌した。これに2,2,3,3,4,
4,4−ヘプタデカフルオロ−1−ブタノール
7.8gを加え、室温にて15分撹拌した。次にペン
タフルオロスチレン2.91gを加え室温にて1晩反
応した後、反応混合物を大量の水中に投じた。有
機相をエーテルにて抽出し、これを希塩酸及び水
で十分に洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。
エーテルを減圧留去した後、減圧下にて蒸留する
ことにより収量3.79g、収率67.5%で4−(2,
2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブトキ
シ)−2,3,5,6−テトラフルオロスチレン
(HFBS)を得た。 沸点;91〜93℃/6.5mmHg. NMR(ppm);4.46〜4.83(−OCH2−)、5.57〜6.2
(=CH2)、6.47〜6.87(−CH=). 質量分析;374(M+)、205(M+−CF2CF2CF3)、
191(M+−CH2CF2CF2CF3). 実施例 2〜4 含フツ素アルコールの種類を替えた以外は実施
例1と同様の方法を用いてフルオロスチレン誘導
体を得た。なお、実施例2および実施例3の化合
物はシリカゲルカラムにより精製を行なつた。
【表】 参考例 1 実施例1で得られたHFBS1.13gを重合用アン
プルに仕込み重合開始剤としてα,α′−アゾビス
イソブチロニトリル(AIBN)2.47mg及び溶媒と
してTHF1.9mlを加えた。これを常法により脱気
後高真空下(10-5mmHg以下)にて封管し、これ
を60℃にて25時間振り混ぜることにより重合反応
を行つた。反応混合物を大量のメタノール中に投
じることにより重合体を沈殿させた。これを濾別
し、十分にメタノールで洗浄後、真空乾燥するこ
とにより収量0.69g、収率61.4%でHFBS単独重
合体を得た。 元素分析値(%); 理論値:C:38.5、H:1.4 実測値:C:38.5、H:1.3 分子量;9.7×104(ポリスチレン換算) ガラス転移点(℃);46. IR(cm-1);3000〜2800、1510(ベンゼン環)、
1300−1100(C−F). 参考例 2〜4 フルオロスチレン誘導体及び用いる溶媒の種類
を替えた以外は参考例1と同様の方法を用いてフ
ルオロスチレン単独重合体を得た。 結果を表2に示す。
【表】 参考例 5 実施例1で得られたHFBSとスチレン(St)の
モル比がHFBS/St=0.70/0.30となるように
各々HFBS1.05g、St0.13gをガラス製重合用ア
ンプルに仕込み、さらにAIBN3.29mgおよび
THF2.8mlを加え常法に従い脱気後、高真空下に
封管した。これを60℃にて23時間振り混ぜること
により共重合反応を行なつた。反応終了後、混合
物を大量のメタノール中に投じることにより重合
物を沈殿させた。これを濾別し、十分にメタノー
ルで洗浄後真空乾燥することにより収量0.78g、
収率66.8%にてHFBS−St共重合体を得た。共重
合体のHFSBモル分率は元素分析値より0.72であ
つた。また分子量は3.2×104(ポリスチレン換算)
であつた。 元素分析値(%);C:43.8、H:2.2 IR(cm-1);3000〜2800、1650、1510(ベンゼン
環)、1300〜1100(C−F). 参考例 6〜11 フルオロスチレン誘導体の種類及びスチレンと
の仕込みモル組成を種々に変化させ、参考例5と
同様の方法でフルオロスチレン−スチレン共重合
体を得た。結果を表3に示す。
【表】 例3

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、R1は水素原子または低級アルキル基を
    表わし、R2は水素原子または低級ポリフルオロ
    アルキル基を表わし、R3はポリフルオロアルキ
    ル基を表わす。)で示されるフルオロスチレン誘
    導体。
JP13270286A 1986-06-10 1986-06-10 フルオロスチレン誘導体 Granted JPS62289539A (ja)

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JP13270286A JPS62289539A (ja) 1986-06-10 1986-06-10 フルオロスチレン誘導体

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JP13270286A JPS62289539A (ja) 1986-06-10 1986-06-10 フルオロスチレン誘導体

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JPS62289539A JPS62289539A (ja) 1987-12-16
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US6369279B1 (en) * 1999-09-08 2002-04-09 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Styrene derivatives

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