JPS62111490A - エキシマレ−ザ装置 - Google Patents
エキシマレ−ザ装置Info
- Publication number
- JPS62111490A JPS62111490A JP60251359A JP25135985A JPS62111490A JP S62111490 A JPS62111490 A JP S62111490A JP 60251359 A JP60251359 A JP 60251359A JP 25135985 A JP25135985 A JP 25135985A JP S62111490 A JPS62111490 A JP S62111490A
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- Japan
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- discharge
- excimer laser
- ionization
- main discharge
- parabolic reflector
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
- H01S3/09713—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited with auxiliary ionisation, e.g. double discharge excitation
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- Optics & Photonics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は希カスハライド放電励起を利用したエキシマレ
ーザ装置に関する。
ーザ装置に関する。
従来の技術
エキシマレーザは紫外線を放射するレー廿装置で、半導
体プロセス、化学工業、医療、エネルギー分野などへの
応用展開が期待されている。
体プロセス、化学工業、医療、エネルギー分野などへの
応用展開が期待されている。
エキシマレーザはレーザ上準位寿命が約１我５と短いこ
とと、クロー放電の安定期間が負性イオンの形成によっ
て安定化に寄与するハロケン分子の枯渇により高々１０
００．Ｓと短いために、立上り約１Ｏ−ｒＬｓ、パルス
巾数１０ＹＬＳの短パルス放電励起を必要占する。とこ
ろがこの様な短時間のうちには２次宙、子の発生やアバ
ランシェ雷、離など通常の正規クロー放電形成のために
要求される素現象が発生し得ないので、クロー放電を行
わせる為には紫外光（ＵＶ光）、コロナ、Ｘ線なとを用
いた予備電離が必要である。
とと、クロー放電の安定期間が負性イオンの形成によっ
て安定化に寄与するハロケン分子の枯渇により高々１０
００．Ｓと短いために、立上り約１Ｏ−ｒＬｓ、パルス
巾数１０ＹＬＳの短パルス放電励起を必要占する。とこ
ろがこの様な短時間のうちには２次宙、子の発生やアバ
ランシェ雷、離など通常の正規クロー放電形成のために
要求される素現象が発生し得ないので、クロー放電を行
わせる為には紫外光（ＵＶ光）、コロナ、Ｘ線なとを用
いた予備電離が必要である。
従来のＵＶ光子備電離法は、主放電電橙の片側にＬＩＶ
光子備電離用電極を配置し、主放電より一定時間前に予
備電離用放電を行わせる。この方法は２度の放電を行わ
せるので二重放電法と呼ばれる。予備電離用電極にも、
切れ目のある電極に沿って直列に沿面放電を行わせる直
列式とマルチビンを並列に配置した並列式のものとがあ
る。
光子備電離用電極を配置し、主放電より一定時間前に予
備電離用放電を行わせる。この方法は２度の放電を行わ
せるので二重放電法と呼ばれる。予備電離用電極にも、
切れ目のある電極に沿って直列に沿面放電を行わせる直
列式とマルチビンを並列に配置した並列式のものとがあ
る。
発明が解決しようとする問題点
予備電離方法においては、予備電離の量が少いと主放電
は不均一なアークになりやすいが、ある閾値を越えてい
れば安定なりロー放電が得られ、その閾値は約１０ 電
子／ｃｃとされている。しかし従来の方法では十分な予
備電離量が得られない。
は不均一なアークになりやすいが、ある閾値を越えてい
れば安定なりロー放電が得られ、その閾値は約１０ 電
子／ｃｃとされている。しかし従来の方法では十分な予
備電離量が得られない。
また、主放電は前記した様に数１０＊ｓ（！：云う極め
て短時間の内に行われるので放電中に電子のドリフトが
生ずる事は考えられない。したがって、予備電離による
電離電子の発生が主放電にとって最も望ましい所に行わ
れる事が必要である。ところが従来の方法ではせいぜい
予備電離電極の配置によってしか、この位置の適正化を
行うことは出来ず、十分な位置制御をすることができな
い。
て短時間の内に行われるので放電中に電子のドリフトが
生ずる事は考えられない。したがって、予備電離による
電離電子の発生が主放電にとって最も望ましい所に行わ
れる事が必要である。ところが従来の方法ではせいぜい
予備電離電極の配置によってしか、この位置の適正化を
行うことは出来ず、十分な位置制御をすることができな
い。
本発明は以上の点に鑑みてなされたもので、予備電離効
果を促進させて多量の電離電子を発生させ、レーザ゛出
力の増大を図ることを目的とするものである。
果を促進させて多量の電離電子を発生させ、レーザ゛出
力の増大を図ることを目的とするものである。
問題点を解決するための手段
本発明は予備放電により発生させたＵＶ光をパラボラ反
射鏡によりほぼ平行ビームにし、これを主放電領域内に
通過させ、そこに電離を発生させるようにしたエキシマ
レーザ装置である。
射鏡によりほぼ平行ビームにし、これを主放電領域内に
通過させ、そこに電離を発生させるようにしたエキシマ
レーザ装置である。
作 用
上記構成によれば、予備放電によって発生したＵＶ光の
大半が主放電領域内の電離に寄与し、小さい予備放電に
よっても安定なグロー放電を得ることができ、エキシマ
レーザ出力が増大する。
大半が主放電領域内の電離に寄与し、小さい予備放電に
よっても安定なグロー放電を得ることができ、エキシマ
レーザ出力が増大する。
実施例
以下本発明の実施例について、図面とともに詳細に説明
する。
する。
第１図は本発明によるエキシマレーザ装置の実施例を示
す斜視図、第２図はそのＡ−Ａ’ｉ断面図である。図に
おいて、主放電は主放電電極１及び２間で行われグロー
領域３を生ずる。一方予備電離は予備放電電極４及び５
間で発生し、ＵＶ光６を発生する。予備放電電極４，５
はレーザ管の長さ方向に数１０対設けられ、長さ方向の
各所においてＵＶ光６を発生させる。７及び８は電極４
及び５へのリードを兼ねた支持体である。予備電離６て
発生するＵＶ光６はその背後に設置したパラボラ反射鏡
９により平行ビーム１１にされ、主放電電極１，２間の
主放電領域であるグロー領域３を通過する。このとき、
グロー領域３に電離を発生させ多量の電離電子を発生さ
せることができる。
す斜視図、第２図はそのＡ−Ａ’ｉ断面図である。図に
おいて、主放電は主放電電極１及び２間で行われグロー
領域３を生ずる。一方予備電離は予備放電電極４及び５
間で発生し、ＵＶ光６を発生する。予備放電電極４，５
はレーザ管の長さ方向に数１０対設けられ、長さ方向の
各所においてＵＶ光６を発生させる。７及び８は電極４
及び５へのリードを兼ねた支持体である。予備電離６て
発生するＵＶ光６はその背後に設置したパラボラ反射鏡
９により平行ビーム１１にされ、主放電電極１，２間の
主放電領域であるグロー領域３を通過する。このとき、
グロー領域３に電離を発生させ多量の電離電子を発生さ
せることができる。
この結果安定なグロー放電を得ることができ、レーサ出
力を増大させることができる。パラボラ反射鏡９は支持
柱１０のまわりに回転しうる様にしておくとＵＶ光ビー
ム１１は主電極１及び２間の望ましい位置に来る様調整
することができる。実際にはレーザ出力が最大になる様
にこの回転量を実験的に調整してやればよい。１２は出
力結合鏡、１３は全反射鏡、１４は出力ビームである。
力を増大させることができる。パラボラ反射鏡９は支持
柱１０のまわりに回転しうる様にしておくとＵＶ光ビー
ム１１は主電極１及び２間の望ましい位置に来る様調整
することができる。実際にはレーザ出力が最大になる様
にこの回転量を実験的に調整してやればよい。１２は出
力結合鏡、１３は全反射鏡、１４は出力ビームである。
なお、実際のレーデでは真空容器、送風装置、冷却装置
等のその他の部品や装置が必要であるが、それらはエキ
シマレーザの分野では既知の技術であるし、本発明での
本質的な部分でないので図示を省略した。
等のその他の部品や装置が必要であるが、それらはエキ
シマレーザの分野では既知の技術であるし、本発明での
本質的な部分でないので図示を省略した。
上記構成において、主放電電極１，２間の全長域にわた
って主放電が行なわれる。一方、各予備電離電極４，５
間に発生したＵＶ光６はパラボラ反射鏡９によって平行
ビーム１１となって主放電電極１．２間の全長域にわた
る放電領域を通過する。この通過位置はパラボラ反射鏡
９を支持柱１゜のまわりに回転させることにより最大出
力が得られる適正位置を通過するよう調整することがで
きる。
って主放電が行なわれる。一方、各予備電離電極４，５
間に発生したＵＶ光６はパラボラ反射鏡９によって平行
ビーム１１となって主放電電極１．２間の全長域にわた
る放電領域を通過する。この通過位置はパラボラ反射鏡
９を支持柱１゜のまわりに回転させることにより最大出
力が得られる適正位置を通過するよう調整することがで
きる。
第３図は第１図に示した予備電離用放電電極４゜５およ
びパラボラ反射鏡９を主放電部をはさんで左右両側に対
称的に配置した実施例であり、予備電離の効果が一層大
きくなる。各部の構成および動作は第１図、第２図の場
合と本質的に同一であるので同一符号を付し説明を省略
する。
びパラボラ反射鏡９を主放電部をはさんで左右両側に対
称的に配置した実施例であり、予備電離の効果が一層大
きくなる。各部の構成および動作は第１図、第２図の場
合と本質的に同一であるので同一符号を付し説明を省略
する。
発明の効果
以上のように、本発明はエキシマレーザ装置の主放電極
間の適正位置に予備放電にょるＵＶ光をパラボラ反射鏡
によって平行ビームきして通過させるようにしたもので
、予備電離効果を促進させて安定なりロー放電を行なわ
せ、レーサ出力の増大化を図るとともに、予備電離用放
電電力の低減を実現することができる。
間の適正位置に予備放電にょるＵＶ光をパラボラ反射鏡
によって平行ビームきして通過させるようにしたもので
、予備電離効果を促進させて安定なりロー放電を行なわ
せ、レーサ出力の増大化を図るとともに、予備電離用放
電電力の低減を実現することができる。
第１図は本発明によるエキシマレーザ装置の実施例にお
ける要部斜視図、第２図は第１図の八−Ａ／祿断面図、
第３図は本発明によるエキシマレーザ装置の他の実施例
を示す要部断面側面図である。 １．２・・・主放電電極、３・・・主放電グロー領域、
４．５・・・予備電離用放電電極、６・・・ＵＶ光、９
・・・パラボラ反射鏡、１１・・・平行ビーム。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 はか１名第１
図 １４出ｈｃ’−ム 第２図 第３図
ける要部斜視図、第２図は第１図の八−Ａ／祿断面図、
第３図は本発明によるエキシマレーザ装置の他の実施例
を示す要部断面側面図である。 １．２・・・主放電電極、３・・・主放電グロー領域、
４．５・・・予備電離用放電電極、６・・・ＵＶ光、９
・・・パラボラ反射鏡、１１・・・平行ビーム。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 はか１名第１
図 １４出ｈｃ’−ム 第２図 第３図
Claims (3)
- （１）主放電電極と、その長さ方向に複数個配列された
予備放電電極を備え、予備放電によって発生した紫外光
をパラボラ反射鏡によって平行ビームとし、主放電電極
間を通過させることを特徴とするエキシマレーザ装置。 - （２）パラボラ反射鏡が主放電電極の長さ方向に平行な
軸に対して回転可能である特許請求の範囲第１項記載の
エキシマレーザ装置。 - （３）予備放電電極とパラボラ反射鏡が主放電電極の両
側に対称的に配置された特許請求の範囲第１項記載のエ
キシマレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60251359A JPS62111490A (ja) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | エキシマレ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60251359A JPS62111490A (ja) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | エキシマレ−ザ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62111490A true JPS62111490A (ja) | 1987-05-22 |
| JPH0573073B2 JPH0573073B2 (ja) | 1993-10-13 |
Family
ID=17221652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60251359A Granted JPS62111490A (ja) | 1985-11-08 | 1985-11-08 | エキシマレ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62111490A (ja) |
-
1985
- 1985-11-08 JP JP60251359A patent/JPS62111490A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0573073B2 (ja) | 1993-10-13 |
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