JPS62126334A - Ｘ線顕微鏡 - Google Patents
Ｘ線顕微鏡Info
- Publication number
- JPS62126334A JPS62126334A JP60267671A JP26767185A JPS62126334A JP S62126334 A JPS62126334 A JP S62126334A JP 60267671 A JP60267671 A JP 60267671A JP 26767185 A JP26767185 A JP 26767185A JP S62126334 A JPS62126334 A JP S62126334A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rays
- ray
- specimen
- electron beam
- single wavelength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
- G01N23/2251—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
- G01N23/2252—Measuring emitted X-rays, e.g. electron probe microanalysis [EPMA]
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
Ｘ線を利用した顕微鏡において、
単一波長のＸ線を取り出して試料に集束し、その集束ス
ポットの走査は電子ビームの偏向にて行う構成にしたこ
とにより、 鮮明な試料の映像を得たものである。
ポットの走査は電子ビームの偏向にて行う構成にしたこ
とにより、 鮮明な試料の映像を得たものである。
本発明はＸ線顕微鏡、特に電子ビニムをターゲットに照
射し発生するＸ線を利用したＸ線顕微鏡の改良に関する
。
射し発生するＸ線を利用したＸ線顕微鏡の改良に関する
。
第２図は従来技術になる走査型Ｘ線顕微鏡の概略構成を
示す模式図である。
示す模式図である。
第２図において、−Ｘ線発生装置１は電子銃２と偏向器
３とターゲット４等を収容し一側にｘ′ＩＩｆＡビーム
出射用のピ出射−ル５を具えてなり、Ｘ線発生装置１の
側方にはピンホール５に対向して、Ｘ線検出器６が配設
されている。そして、電子銃２が発射する電子ビーム１
１をターゲット４に照射すると、ターゲット４はＸ線ビ
ーム１２を出射し、Ｘ線ビーム１２はビンボール４を透
過しＸ線検出器５の前方に置いた試料１３に投射する。
３とターゲット４等を収容し一側にｘ′ＩＩｆＡビーム
出射用のピ出射−ル５を具えてなり、Ｘ線発生装置１の
側方にはピンホール５に対向して、Ｘ線検出器６が配設
されている。そして、電子銃２が発射する電子ビーム１
１をターゲット４に照射すると、ターゲット４はＸ線ビ
ーム１２を出射し、Ｘ線ビーム１２はビンボール４を透
過しＸ線検出器５の前方に置いた試料１３に投射する。
試料１３の画像情報を検出した検出器５は、該情報のア
ナログ信号を送出し、Ａ／Ｄ変換器７は該アナログ信号
をデジタル信号に変換し、制御用計算機８に人ツノする
。すると、計算機８は試料の画像をディスプレイ９に写
出させると共に、Ｄ／Ａ変換器１０を介して偏向器３を
調整し、電子ビーム１２の偏向条件を所定に変更、即ら
Ｘ線ビーム１２を照射する検出位置の移動が行われるよ
うになる。
ナログ信号を送出し、Ａ／Ｄ変換器７は該アナログ信号
をデジタル信号に変換し、制御用計算機８に人ツノする
。すると、計算機８は試料の画像をディスプレイ９に写
出させると共に、Ｄ／Ａ変換器１０を介して偏向器３を
調整し、電子ビーム１２の偏向条件を所定に変更、即ら
Ｘ線ビーム１２を照射する検出位置の移動が行われるよ
うになる。
〔発明が解決しようとする問題点３
以上説明したように、従来のＸ線顕ｉ敦鏡のＸ線ビーム
１２は、ピンホール４を透過したのち、微小の広がり角
度で試料１３に照射するため、該広がりによって検出し
た像にボケの生じることが避けられず、分解能が低減さ
れるという欠点があった。
１２は、ピンホール４を透過したのち、微小の広がり角
度で試料１３に照射するため、該広がりによって検出し
た像にボケの生じることが避けられず、分解能が低減さ
れるという欠点があった。
本発明は上記問題点を除去することであり、電子ビーム
を照射しＸ線を発生させるターゲット（２５）、 該Ｘ線から単一波長のＸ線を取り出す波長フィルタ（２
７）、 単一波長の該Ｘ線を試料面に集束させるフレネルゾーン
プレート（２８）、 該電子ビームを偏向させる偏向器（２４）を具えてなる
こと、 さらには、 電子ビームを照射しＸ！！１５１を発生さ
せるターゲット（２５）、 該Ｘ線から単一波長のＸ線を取り出す波長フィルタ（２
７）、 単一波長の該Ｘ線を試料面に集束させるフレネルゾーン
プレート（２８）、 該電子ビームを偏向させる偏向器（２４）、単一波長の
該Ｘ線を照射し該試料を透過する透過エネルギを検出す
る検出器（２９）、単一波長の該Ｘ線を照射し該試料の
表面から外方向に放射する放射エネルギを検出する検出
器（３０）を具えてなることを特徴とするＸ線顕微鏡で
ある。
を照射しＸ線を発生させるターゲット（２５）、 該Ｘ線から単一波長のＸ線を取り出す波長フィルタ（２
７）、 単一波長の該Ｘ線を試料面に集束させるフレネルゾーン
プレート（２８）、 該電子ビームを偏向させる偏向器（２４）を具えてなる
こと、 さらには、 電子ビームを照射しＸ！！１５１を発生さ
せるターゲット（２５）、 該Ｘ線から単一波長のＸ線を取り出す波長フィルタ（２
７）、 単一波長の該Ｘ線を試料面に集束させるフレネルゾーン
プレート（２８）、 該電子ビームを偏向させる偏向器（２４）、単一波長の
該Ｘ線を照射し該試料を透過する透過エネルギを検出す
る検出器（２９）、単一波長の該Ｘ線を照射し該試料の
表面から外方向に放射する放射エネルギを検出する検出
器（３０）を具えてなることを特徴とするＸ線顕微鏡で
ある。
本発明は、偏向器により偏向可能な電子ビームをターゲ
ットに照射し発生したＸ線から、単一波長のＸ線を取り
出してその集束スポットを試料に投射し、さらには該試
料を透過するエネルギと該試料の表面から外方向に放射
するエネルギとを検出する検出器を具えたことにより、
分解能に優れた高品位の検出情報が得られる。
ットに照射し発生したＸ線から、単一波長のＸ線を取り
出してその集束スポットを試料に投射し、さらには該試
料を透過するエネルギと該試料の表面から外方向に放射
するエネルギとを検出する検出器を具えたことにより、
分解能に優れた高品位の検出情報が得られる。
以下に、図面を用いて本発明の実施例になるＸ線顕微鏡
を説明する。
を説明する。
第１図は本発明の一実施例になるＸ線顕微鏡の概略構成
を示す模式図である。
を示す模式図である。
第１図において、Ｘ！’ｊ１発生装置２１は電子銃２２
と集束レンズ２３と偏向器２４とターゲット２５等を収
容し一側にＸ線ビーム出射窓２６を具えてなり、Ｘ線発
生装置２１の側方にはＸ線ビーム出射窓２６に対向して
、波長フィルタ２７．フレネルゾーンプレート２８、Ｘ
線検出器２９が配設される。そして、電子銃２２が発射
する電子ビーム３７は、集束レンズ２３が集束し偏向器
２４に偏向されターゲット２５に照射すると、ターゲッ
ト２５はＸ線ビーム３９を出射し、波長フィルタ２７を
透過しフレネルゾーンプレート２８に集束された単一波
長のＸ線ビーム４０の集束スポットは、Ｘ線検出器２９
の前方に置いた試料３６に投射する。
と集束レンズ２３と偏向器２４とターゲット２５等を収
容し一側にＸ線ビーム出射窓２６を具えてなり、Ｘ線発
生装置２１の側方にはＸ線ビーム出射窓２６に対向して
、波長フィルタ２７．フレネルゾーンプレート２８、Ｘ
線検出器２９が配設される。そして、電子銃２２が発射
する電子ビーム３７は、集束レンズ２３が集束し偏向器
２４に偏向されターゲット２５に照射すると、ターゲッ
ト２５はＸ線ビーム３９を出射し、波長フィルタ２７を
透過しフレネルゾーンプレート２８に集束された単一波
長のＸ線ビーム４０の集束スポットは、Ｘ線検出器２９
の前方に置いた試料３６に投射する。
そこで、試料３６の画像情報を検出した検出器２９が送
出したアナログ信号をＡ／Ｄ変換器３１がデジタル信号
に変換し、制御用計算機３２に入力する。
出したアナログ信号をＡ／Ｄ変換器３１がデジタル信号
に変換し、制御用計算機３２に入力する。
すると、計算機３２は該人力信号に基づいて検出器２９
の検出画像をディスプレイ３３に写出すると共に、Ｄ／
Ａ変換器３４を介し偏向器２４の電子ビーム偏向条件を
所定に変更、即ちＸ線ビーム４０を照射する検出位置の
移動が行われるようになる。図中に一点鎖線で示す電子
ビーム４１とＸ線ビーム４２および単一波長のＸ線ビー
ム４３は、偏向器２４の前記変更による変化を示したも
のである。
の検出画像をディスプレイ３３に写出すると共に、Ｄ／
Ａ変換器３４を介し偏向器２４の電子ビーム偏向条件を
所定に変更、即ちＸ線ビーム４０を照射する検出位置の
移動が行われるようになる。図中に一点鎖線で示す電子
ビーム４１とＸ線ビーム４２および単一波長のＸ線ビー
ム４３は、偏向器２４の前記変更による変化を示したも
のである。
図中において、Ｘ線検出器３０は試料３６の表面から出
射するＸ線４０．４３のエネルギ４４、例えば前方散乱
Ｘ線、螢光Ｘ線または２次電子を検出するものであり、
検出器２９と３０はスイッチ３５を介して切り換え可能
にＡ／Ｄ変換器３１と接続することで、試料３Ｇの外部
構造と内部構造を同時に知ることができる。
射するＸ線４０．４３のエネルギ４４、例えば前方散乱
Ｘ線、螢光Ｘ線または２次電子を検出するものであり、
検出器２９と３０はスイッチ３５を介して切り換え可能
にＡ／Ｄ変換器３１と接続することで、試料３Ｇの外部
構造と内部構造を同時に知ることができる。
以上に説明した如く構成された本発明のＸ線顕微鏡は、
単一波長のＸ線ビームを集束しそのスポットを試料に投
射することで、分解能に優れた高品位の試料構造を検出
せしめると共に、試料の外部構造と内部構造の双方を同
時に検出できることにより、試料構成の解析を容易かつ
高精度化した効果がある。
単一波長のＸ線ビームを集束しそのスポットを試料に投
射することで、分解能に優れた高品位の試料構造を検出
せしめると共に、試料の外部構造と内部構造の双方を同
時に検出できることにより、試料構成の解析を容易かつ
高精度化した効果がある。
第１図は本発明の一実施例になるＸ線顕微鏡の概略構成
を示す模式図、 第２図は従来技術になる走査型Ｘ線顕微鏡の概略構成を
示す模式図、 である。 図中において、 ３．２４は偏向器、 ４．２５はターゲット、 ６．２９．３０は検出器、 １１．３７，３８．４１は電子ビーム、１２．３９．４
０，４２．４３はＸ線、２７は波長フィルタ、 ２日はフレネルゾーンプレート、 を示す。 ＼ご。 本発明の一灼ＵＩ・１６脣Ｘ、４肛１σ廊すＬ第７図
を示す模式図、 第２図は従来技術になる走査型Ｘ線顕微鏡の概略構成を
示す模式図、 である。 図中において、 ３．２４は偏向器、 ４．２５はターゲット、 ６．２９．３０は検出器、 １１．３７，３８．４１は電子ビーム、１２．３９．４
０，４２．４３はＸ線、２７は波長フィルタ、 ２日はフレネルゾーンプレート、 を示す。 ＼ご。 本発明の一灼ＵＩ・１６脣Ｘ、４肛１σ廊すＬ第７図
Claims (2)
- （１）電子ビームを照射しＸ線を発生させるターゲット
（２５）、 該Ｘ線から単一波長のＸ線を取り出す波長フィルタ（２
７）、 単一波長の該Ｘ線を試料面に集束させるフレネルゾーン
プレート（２８）、 該電子ビームを偏向させる偏向器（２４）を具えてなる
ことを特徴とするＸ線顕微鏡。 - （２）電子ビームを照射しＸ線を発生させるターゲット
（２５）、 該Ｘ線から単一波長のＸ線を取り出す波長フィルタ（２
７）、 単一波長の該Ｘ線を試料面に集束させるフレネルゾーン
プレート（２８）、 該電子ビームを偏向させる偏向器（２４）、単一波長の
該Ｘ線を照射し該試料を透過する透過エネルギを検出す
る検出器（２９）、 単一波長の該Ｘ線を照射し該試料の表面から外方向に放
射する放射エネルギを検出する検出器（３０）を具えて
なることを特徴とするＸ線顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60267671A JPS62126334A (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | Ｘ線顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60267671A JPS62126334A (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | Ｘ線顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62126334A true JPS62126334A (ja) | 1987-06-08 |
Family
ID=17447908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60267671A Pending JPS62126334A (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | Ｘ線顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62126334A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003518252A (ja) * | 1999-12-20 | 2003-06-03 | エフ イー アイ エレクトロン オプティクス ビー ヴィ | 軟ｘ線のｘ線源を有するｘ線顕微鏡 |
| JP2016223831A (ja) * | 2015-05-28 | 2016-12-28 | 株式会社ニコン | Ｘ線装置および構造物の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58151600A (ja) * | 1982-03-05 | 1983-09-08 | 日本電子株式会社 | Ｘ線顕微鏡 |
| JPS60233600A (ja) * | 1984-05-02 | 1985-11-20 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線レンズ |
-
1985
- 1985-11-28 JP JP60267671A patent/JPS62126334A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58151600A (ja) * | 1982-03-05 | 1983-09-08 | 日本電子株式会社 | Ｘ線顕微鏡 |
| JPS60233600A (ja) * | 1984-05-02 | 1985-11-20 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線レンズ |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003518252A (ja) * | 1999-12-20 | 2003-06-03 | エフ イー アイ エレクトロン オプティクス ビー ヴィ | 軟ｘ線のｘ線源を有するｘ線顕微鏡 |
| JP2016223831A (ja) * | 2015-05-28 | 2016-12-28 | 株式会社ニコン | Ｘ線装置および構造物の製造方法 |
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