JPS62127480A - ハンダ ストリツパ−の再生、並びにスズの回収方法 - Google Patents
ハンダ ストリツパ−の再生、並びにスズの回収方法Info
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- JPS62127480A JPS62127480A JP21425486A JP21425486A JPS62127480A JP S62127480 A JPS62127480 A JP S62127480A JP 21425486 A JP21425486 A JP 21425486A JP 21425486 A JP21425486 A JP 21425486A JP S62127480 A JPS62127480 A JP S62127480A
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- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 title claims description 26
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 21
- 238000011084 recovery Methods 0.000 title claims description 3
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 title claims 3
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 title claims 3
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 19
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-O azanium;hydrofluoride Chemical compound [NH4+].F LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 15
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000003868 ammonium compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 claims description 10
- ALHBQZRUBQFZQV-UHFFFAOYSA-N tin;tetrahydrate Chemical compound O.O.O.O.[Sn] ALHBQZRUBQFZQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 8
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 6
- MIMUSZHMZBJBPO-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-8-nitroquinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC(OC)=CC([N+]([O-])=O)=C21 MIMUSZHMZBJBPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 5
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 claims description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 3
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910017665 NH4HF2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000611421 Elia Species 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- -1 ammonium halide Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 150000002432 hydroperoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- RGCLLPNLLBQHPF-HJWRWDBZSA-N phosphamidon Chemical compound CCN(CC)C(=O)C(\Cl)=C(/C)OP(=O)(OC)OC RGCLLPNLLBQHPF-HJWRWDBZSA-N 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000012925 reference material Substances 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- CVNKFOIOZXAFBO-UHFFFAOYSA-J tin(4+);tetrahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Sn+4] CVNKFOIOZXAFBO-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
フッ化水素アンモニウム過酸素ハンダ ストリッパーの
再生方法、並びに、これからの金属回収方法。
再生方法、並びに、これからの金属回収方法。
本発明の背景
銅のような基体からハンダをストリップするのに種々の
酸性組成物が使用されてきた。多くの組成物は銅基体に
悪影響を及ぼす。このために、銅基体を更に処理して、
更にメッキするのに適切な基体を提供することが必要で
ある。この問題を克服する手段は、米国特許の第3.8
41.905号明細書、第3.926,699号明細書
、及び第4.297,257号明lII四に記載しであ
るような、フッ化水素アンモニウム及び過酸化水素から
成るストリッピング組成物を使用することであり、これ
らの特許明細書を本明細書では、すべて併せて参考資料
とする。
酸性組成物が使用されてきた。多くの組成物は銅基体に
悪影響を及ぼす。このために、銅基体を更に処理して、
更にメッキするのに適切な基体を提供することが必要で
ある。この問題を克服する手段は、米国特許の第3.8
41.905号明細書、第3.926,699号明細書
、及び第4.297,257号明lII四に記載しであ
るような、フッ化水素アンモニウム及び過酸化水素から
成るストリッピング組成物を使用することであり、これ
らの特許明細書を本明細書では、すべて併せて参考資料
とする。
これらの特許明m書では一般にフッ化水素またはこれの
塩と組み合わせて、過酸化水素、過酸化第三ブチル及び
過ホウ酸アンモニウムのような過酸素化合物を包含する
ストリッピング組成物を発表している。
塩と組み合わせて、過酸化水素、過酸化第三ブチル及び
過ホウ酸アンモニウムのような過酸素化合物を包含する
ストリッピング組成物を発表している。
これらのストリッピング組成物は、結局効力がなくなり
、かつ廃物処理が困難である。このような効力のなくな
った酸性フッ化物過酸素ストリッパーと関連する廃物処
理問題を解決するのは有利なことである。更に、効力の
なくなったストリッパーから価値のある金属を回収し、
かつ、これの種々の成分を最も効果的に処理する、満足
のいく方法を見い出すことは非常に好ましいことである
。
、かつ廃物処理が困難である。このような効力のなくな
った酸性フッ化物過酸素ストリッパーと関連する廃物処
理問題を解決するのは有利なことである。更に、効力の
なくなったストリッパーから価値のある金属を回収し、
かつ、これの種々の成分を最も効果的に処理する、満足
のいく方法を見い出すことは非常に好ましいことである
。
本発明の要約
本発明では、十分な量のアンモニア ガスまたは水酸化
アンモニウムを添加して、消耗したストリッピング溶液
を中和し、スズのような溶解している金属を分離するこ
とができることによって、消耗したフッ化水素アンモニ
ウム過W!素ストリッピング溶液を再生することができ
るという希望の実現を前提としている。
アンモニウムを添加して、消耗したストリッピング溶液
を中和し、スズのような溶解している金属を分離するこ
とができることによって、消耗したフッ化水素アンモニ
ウム過W!素ストリッピング溶液を再生することができ
るという希望の実現を前提としている。
これの特徴の一つでは、アンモニアまたは水酸化アンモ
ニウムで中和し、pHを約7にして、銅を消耗したハン
ダ溶液から取り除くことができ、かつ次に溶液を陽イオ
ン交換樹脂で処理して銅を回収することができる。
ニウムで中和し、pHを約7にして、銅を消耗したハン
ダ溶液から取り除くことができ、かつ次に溶液を陽イオ
ン交換樹脂で処理して銅を回収することができる。
本発明では更に、中和及び濾過によって水酸化スズを消
耗した溶液から回収することができるという希望の実現
を前提としている。次に、フッ化水素酸を添加して、フ
ッ化水素アンモニウムを再生することができる。そして
また過酸化水素を添加して、ストリッピング組成物を、
それの所望の濃度水準まで戻すことができる。
耗した溶液から回収することができるという希望の実現
を前提としている。次に、フッ化水素酸を添加して、フ
ッ化水素アンモニウムを再生することができる。そして
また過酸化水素を添加して、ストリッピング組成物を、
それの所望の濃度水準まで戻すことができる。
このように本発明によって、消耗したストリッピング溶
液を、非常に経済的に再生し、かつ同時にスズ及び銅の
ような金属を回収することができる。本発明よりも前に
遭遇した廃物処理問題はなくなるかまたは最小限度にな
る。
液を、非常に経済的に再生し、かつ同時にスズ及び銅の
ような金属を回収することができる。本発明よりも前に
遭遇した廃物処理問題はなくなるかまたは最小限度にな
る。
本発明の詳細な説明
本発明では、フッ化水素アンモウニム/過酸素ストリッ
ピング組成物から溶解している金属を再生し、かつ回収
する方法を提供する。これらの組成物はフッ化水素化物
酸性フッ化物組成物、及び酸素供給源として過酸素化合
物を包含する二成分系から成る。適切な酸素供給源には
、過酸化水素のような過酸化物、第三ブチルヒドロペル
オキシドのようなヒドロペルオキシド、及び過ホウ酸ナ
トリウムまたはアンモニウムのような過ホウMinを包
含する。好ましい酸素供給源は過酸化水素である。フッ
化水素アンモニウムはこれらのストリッパーで使用する
好ましい塩であるが、反応性組成物を使用して、この塩
、例えばアンモニウムハロゲン化物とフッ化水素酸との
混合物を生成することができる。
ピング組成物から溶解している金属を再生し、かつ回収
する方法を提供する。これらの組成物はフッ化水素化物
酸性フッ化物組成物、及び酸素供給源として過酸素化合
物を包含する二成分系から成る。適切な酸素供給源には
、過酸化水素のような過酸化物、第三ブチルヒドロペル
オキシドのようなヒドロペルオキシド、及び過ホウ酸ナ
トリウムまたはアンモニウムのような過ホウMinを包
含する。好ましい酸素供給源は過酸化水素である。フッ
化水素アンモニウムはこれらのストリッパーで使用する
好ましい塩であるが、反応性組成物を使用して、この塩
、例えばアンモニウムハロゲン化物とフッ化水素酸との
混合物を生成することができる。
フッ化水素アンモニウム過M素ストリッピング組成物は
ジキソン(D 1XOn)の米国特許第3.841.9
05号明lI書、ジキソンの米国特許第3゜926.6
99号明細書、及びエリアス(E 1ias)の米国特
許第4.297.257号明細書に発表しである。これ
らの特許明細塵の発表を、本明細害では併せて参考資料
とする。一般に、これらの調製品はフッ化水素アンモニ
ウム約5重量%から50重恐%まで、過酸素化合物、好
ましくは過酸化水素的0.5重1%から約35重量%ま
でを含有し、残部は水及び(または)他の安定剤、金属
錯化剤及びトリクロロ酢酸のようなストリッピング剤で
ある。これらのストリッピング溶液は、例えば、エリア
スの米国特許第4.297.257号明1IIに発表し
であるような印刷回路板の製造に使用する。ストリッピ
ング溶液は、ハンダ網目構造の遮へいのある板を、酸性
フッ化物過酸素ストリッピング溶液中に、室温で約0.
5分から約3分までの間浸漬して使用する。次に基体を
取り出し、かつ水道水で洗浄する。この操作中に、スト
リッピング溶液は、スズがハンダから溶出するために効
力がなくなる。また、フッ化水素アンモウニム過酸素ス
トリッピング溶液は、銅にほとんど作用しないように設
計してはあるが、消耗したハンダ溶液には溶解した銅が
多少ある。
ジキソン(D 1XOn)の米国特許第3.841.9
05号明lI書、ジキソンの米国特許第3゜926.6
99号明細書、及びエリアス(E 1ias)の米国特
許第4.297.257号明細書に発表しである。これ
らの特許明細塵の発表を、本明細害では併せて参考資料
とする。一般に、これらの調製品はフッ化水素アンモニ
ウム約5重量%から50重恐%まで、過酸素化合物、好
ましくは過酸化水素的0.5重1%から約35重量%ま
でを含有し、残部は水及び(または)他の安定剤、金属
錯化剤及びトリクロロ酢酸のようなストリッピング剤で
ある。これらのストリッピング溶液は、例えば、エリア
スの米国特許第4.297.257号明1IIに発表し
であるような印刷回路板の製造に使用する。ストリッピ
ング溶液は、ハンダ網目構造の遮へいのある板を、酸性
フッ化物過酸素ストリッピング溶液中に、室温で約0.
5分から約3分までの間浸漬して使用する。次に基体を
取り出し、かつ水道水で洗浄する。この操作中に、スト
リッピング溶液は、スズがハンダから溶出するために効
力がなくなる。また、フッ化水素アンモウニム過酸素ス
トリッピング溶液は、銅にほとんど作用しないように設
計してはあるが、消耗したハンダ溶液には溶解した銅が
多少ある。
本発明によって、消耗したハンダ溶液からのスズの回収
は、塩基性アンモニウム化合物、好ましくは無水アンモ
ニア ガス、または水酸化アンモニウムの水溶液のどち
らかを添加し、スズを水酸化第二スズとして沈殿させる
ことによる。これを更に下記の実施例で説明する。
は、塩基性アンモニウム化合物、好ましくは無水アンモ
ニア ガス、または水酸化アンモニウムの水溶液のどち
らかを添加し、スズを水酸化第二スズとして沈殿させる
ことによる。これを更に下記の実施例で説明する。
実施例 1
消耗したフッ化水素アンモニウム/過酸化水素ハンダ
ストリッピング溶液25011に、無水アンモニア ガ
ス122gを添加する。これでスズを水酸化第二スズと
して沈殿させる。次に、沈殿させた水酸化第二スズを、
ワットマン(W hatman)第11号li1紙で濾
過して取り除く。
ストリッピング溶液25011に、無水アンモニア ガ
ス122gを添加する。これでスズを水酸化第二スズと
して沈殿させる。次に、沈殿させた水酸化第二スズを、
ワットマン(W hatman)第11号li1紙で濾
過して取り除く。
最初の溶液には溶解しているスズが17.5!l?あ本
発明では、また酸性フッ化物過酸素ハンダストリッパー
を再生する完全な方法をも提供する。
発明では、また酸性フッ化物過酸素ハンダストリッパー
を再生する完全な方法をも提供する。
本発明の方法によって、消耗したハンダ ストリッパー
をアンモニア ガスまた水酸化アンモニウムで中和して
、pH7にする。溶解している銅は、ダウエラキス([
)owex) 5owのような強陽イオン樹脂、または
アンモニウム形をしているセレツキス(Chelex
) 100のようなキレート樹脂のどちらかでイオン交
換して取り除く。銅を取り除いた模に、水酸化アンモニ
ウムまたはアンモニアを更に追加して、スズを水酸化第
二スズとして沈殿させる。銅も、スズを水酸化第二スズ
として沈殿させた侵に、イオン交換またはキレート樹脂
で取り除くことができる。水酸化第二スズを濾過して取
り除き、かつ高濃度のフッ化水素酸を添加して、溶液を
フッ化水素アンモニウムに添加させる。
をアンモニア ガスまた水酸化アンモニウムで中和して
、pH7にする。溶解している銅は、ダウエラキス([
)owex) 5owのような強陽イオン樹脂、または
アンモニウム形をしているセレツキス(Chelex
) 100のようなキレート樹脂のどちらかでイオン交
換して取り除く。銅を取り除いた模に、水酸化アンモニ
ウムまたはアンモニアを更に追加して、スズを水酸化第
二スズとして沈殿させる。銅も、スズを水酸化第二スズ
として沈殿させた侵に、イオン交換またはキレート樹脂
で取り除くことができる。水酸化第二スズを濾過して取
り除き、かつ高濃度のフッ化水素酸を添加して、溶液を
フッ化水素アンモニウムに添加させる。
追加のフッ化水素アンモニウム及び高濃度の過酸化水素
を添加して、溶液をそれの最初の、あるいは所望の濃度
にする。この過程を下記の実施例で更に説明する。
を添加して、溶液をそれの最初の、あるいは所望の濃度
にする。この過程を下記の実施例で更に説明する。
実施例 2
銅及びスズを含有するNH4HF2/H2o2溶液30
0i1を高濃度の水酸化アンモニウム40011で処理
した。銅をダウエラキス50W−xsa1脂てイオン交
換して取り除き、かつ次に沈殿しているスズを濾過して
取り除いた。この溶液の一部100Il11に、48%
のフッ化水素酸231111を添加した。フッ化水素ア
ンモニウム及び50%H202を添加して、下記の組成
の溶液を得た、 NH4HF2 308g/f、 50%H2O216,2容量/容量%。
0i1を高濃度の水酸化アンモニウム40011で処理
した。銅をダウエラキス50W−xsa1脂てイオン交
換して取り除き、かつ次に沈殿しているスズを濾過して
取り除いた。この溶液の一部100Il11に、48%
のフッ化水素酸231111を添加した。フッ化水素ア
ンモニウム及び50%H202を添加して、下記の組成
の溶液を得た、 NH4HF2 308g/f、 50%H2O216,2容量/容量%。
そこで、この溶液をハンダをストリップするのに使用す
る準備が整った。
る準備が整った。
本発明の方法によって、消耗した酸性フッ化物/過酸素
ハンダ ストリッパーを処理して、溶存するスズを回収
することができ、かつ更に処理して消耗したストリッパ
ーを再生し、電気回路板をストリップするコストを下げ
ることができる。コストはスズの回収で更に下がる。環
境廃棄物問題も克服される。
ハンダ ストリッパーを処理して、溶存するスズを回収
することができ、かつ更に処理して消耗したストリッパ
ーを再生し、電気回路板をストリップするコストを下げ
ることができる。コストはスズの回収で更に下がる。環
境廃棄物問題も克服される。
木用Illで発表した本発明は、本発明の理念及び本質
的な特徴から逸脱することなく、発表した以外の特定の
方法で実施することができることは言うまでもない。更
に、当業界の熟達者にとっては、上記で検討した特定の
実施態様に対して、種棒の変更を行うことができること
は明白であろう。
的な特徴から逸脱することなく、発表した以外の特定の
方法で実施することができることは言うまでもない。更
に、当業界の熟達者にとっては、上記で検討した特定の
実施態様に対して、種棒の変更を行うことができること
は明白であろう。
それ故、特定の実施態様は、すべての点で、制限として
ではなく、実例と見なすべきである。前記の詳細な説明
からこのような逸脱はすべて、詳細な説明で開示し、か
つ前記特許請求の範囲で明示した、本発明の範囲中にあ
るものと見なす。
ではなく、実例と見なすべきである。前記の詳細な説明
からこのような逸脱はすべて、詳細な説明で開示し、か
つ前記特許請求の範囲で明示した、本発明の範囲中にあ
るものと見なす。
Claims (15)
- (1)溶解している金属を含有する、消耗した酸性フッ
化水素アンモニウム/過酸素ハンダ ストリッパーの再
生において、 該ハンダ ストリッパーに、ある量の塩基性アンモニウ
ム化合物を添加して、該ストリッパーを中和し、 該金属を、該中和したストリッパーから分離し、かつ 酸性フッ化物を添加して、該ストリッパー中でフッ化水
素アンモニウムを再生する、 ことを包含する方法。 - (2)再生させたフッ化水素アンモニウムに過酸化水素
を添加することを包含する第(1)項に記載の方法。 - (3)酸性フッ化物を、フッ化水素及びこれの塩から成
る群から選定する第(2)項に記載の方法。 - (4)塩基アンモニウム化合物を、水酸化アンモニウム
及び無水アンモニアガスから成る群から選定する第(1
)項に記載の方法。 - (5)溶解している金属はスズであり、かつ塩基性アン
モニウム化合物は、水酸化第二スズを消耗したハンダ溶
液から沈殿させるのに有効な量を添加する第(1)項に
記載の方法。 - (6)塩基性アンモニウム化合物を、アンモニウム及び
水酸化アンモニウムから成る群から選定する第(5)項
に記載の方法。 - (7)溶液は溶解している銅を含有し、かつ方法はアン
モニウム化合物を該溶液に添加し、該溶液のpHを下げ
て少なくとも約7にし、かつ得られる溶液からイオン交
換で銅を取り除く第(6)項に記載の方法。 - (8)更に、沈殿させた水酸化第二スズを溶液から濾過
することを包含する第(5)項に記載の方法。 - (9)酸化フッ化物はフッ化水素酸である第(8)項に
記載の方法。 - (10)過酸素化合物は過酸化水素であり、かつ方法は
更に、有効量の過酸化水素を再生させたフッ化水素アン
モニウムに添加することを包含する第(9)に記載の方
法。 - (11)消耗したスズ含有酸性フッ化物/過酸素ストリ
ッパー溶液からのスズの回収において、ある量の塩基性
アンモニウム化合物を添加してスズを該溶液から水酸化
第二スズとして沈殿させ、かつ該沈殿させた水酸化第二
スズを、該消耗したハンダ ストリッパーから分離する
ことを包含する方法。 - (12)消耗したハンダ ストリッパーはフッ化水素ア
ンモニウム/過酸化水素ハンダ ストリッパーである第
(11)項に記載の方法。 - (13)塩基性アンモニウム化合物を、アンモニウム
ガス及び水酸化アンモニウムから成る群から選定する第
(12)項に記載の方法。 - (14)消耗したハンダ ストリッパーは更に銅を含有
し、かつ方法は更に該銅をイオン交換で、該消耗したハ
ンダ ストリッパーから取り除くことを包含する第(1
3)項に記載の方法。 - (15)溶触しているスズ及び銅を含有する、消耗した
酸性フッ化水素アンモニウム/過酸化水素ハンダ スト
リッパーの再生において、 アンモニア ガス及び水酸化アンモニウムから成る群か
ら選定するアンモニウム化合物は、該消耗したハンダ
ストリッパーのpHを下げて約7にするのに有効な量を
添加することによつて、該消耗したハンダ ストリッパ
ーを中和し、 該溶解してしている銅を陽イオン交換によつて、該中和
ストリッパーから取り除き、 該中和ストリッパーに、該アンモニウム化合物を更に添
加して、スズを該ハンダ ストリッパーから沈殿させ、 該スズ沈殿を分離し、かつ 有効量のフッ化水素酸、過酸化水素、及びフッ化水素ア
ンモニウムを添加して、有効なフッ化水素アンモニウム
/過酸化水素ハンダ ストリッパー溶液を生成すること
によつて該中和ストリッパーを再生する ことを包含する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US77622485A | 1985-09-16 | 1985-09-16 | |
| US776224 | 1985-09-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62127480A true JPS62127480A (ja) | 1987-06-09 |
Family
ID=25106810
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21425486A Pending JPS62127480A (ja) | 1985-09-16 | 1986-09-12 | ハンダ ストリツパ−の再生、並びにスズの回収方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62127480A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04120172U (ja) * | 1991-04-02 | 1992-10-27 | オムロン株式会社 | 硬貨投入口構造 |
| CN114232030A (zh) * | 2021-12-23 | 2022-03-25 | 广东鑫菱环境科技有限公司 | 一种pcb甲基磺酸退锡废液循环再生方法及其应用 |
-
1986
- 1986-09-12 JP JP21425486A patent/JPS62127480A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04120172U (ja) * | 1991-04-02 | 1992-10-27 | オムロン株式会社 | 硬貨投入口構造 |
| CN114232030A (zh) * | 2021-12-23 | 2022-03-25 | 广东鑫菱环境科技有限公司 | 一种pcb甲基磺酸退锡废液循环再生方法及其应用 |
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