JPS6212982A - 磁気デイスク装置 - Google Patents
磁気デイスク装置Info
- Publication number
- JPS6212982A JPS6212982A JP15019385A JP15019385A JPS6212982A JP S6212982 A JPS6212982 A JP S6212982A JP 15019385 A JP15019385 A JP 15019385A JP 15019385 A JP15019385 A JP 15019385A JP S6212982 A JPS6212982 A JP S6212982A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- lubricant
- head
- disk
- magnetic
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は計算機等のファイルメモリーとして用いられて
いる磁気ディスク装置に関する。
いる磁気ディスク装置に関する。
磁気ディスクの高記録密度化への推移とともに。
磁気ヘッドと磁気ディスク間のスペーシングは益益低減
化することが要請されている。このような磁気ヘッドの
低浮上状態では、装置内で発生する塵埃が、ヘッド・デ
ィスク間に侵入し、塵埃が介在した状態で磁性膜が摩擦
摩耗され、情報の再生が不可能になることがある。この
ため磁気ディスク装置内部は外部環境から隔離された清
浄な状態にあるのが望ましい。しかしながら、磁気ディ
スク装置はクリーンルーム内で組立てても、大気中ある
いは部品等から塵埃が侵入し清浄な状態にするのは困難
である。
化することが要請されている。このような磁気ヘッドの
低浮上状態では、装置内で発生する塵埃が、ヘッド・デ
ィスク間に侵入し、塵埃が介在した状態で磁性膜が摩擦
摩耗され、情報の再生が不可能になることがある。この
ため磁気ディスク装置内部は外部環境から隔離された清
浄な状態にあるのが望ましい。しかしながら、磁気ディ
スク装置はクリーンルーム内で組立てても、大気中ある
いは部品等から塵埃が侵入し清浄な状態にするのは困難
である。
また、塵埃の侵入をでき得る限り防ぐため装置を完全な
密閉状態にした場合、装置内の温度が上がり過ぎるとい
う問題があり、一般に外部の冷気をフィルターを通して
清浄な状態で取り込むことができるのが望ましいとされ
ている。しかしこのような形態の装置の場合、装置内の
気流により磁気ディスク表面の潤滑剤が揮発し装置外に
排出され、磁気ディスクの摩擦耐力を低下するという問
題が発生する（例えば、米国特許３，７７８，３０８
） 。
密閉状態にした場合、装置内の温度が上がり過ぎるとい
う問題があり、一般に外部の冷気をフィルターを通して
清浄な状態で取り込むことができるのが望ましいとされ
ている。しかしこのような形態の装置の場合、装置内の
気流により磁気ディスク表面の潤滑剤が揮発し装置外に
排出され、磁気ディスクの摩擦耐力を低下するという問
題が発生する（例えば、米国特許３，７７８，３０８
） 。
磁気ディスクの高密度化には、かかる２つの課題。
装置内の浮遊塵埃の除去、磁気ディスク表面の潤滑剤の
揮発防止が重要である。
揮発防止が重要である。
本発明の目的は、磁気ディスク装置を改良し。
ヘッドディスクアッセンブリー内部の浮遊塵埃発生が少
なく、又、磁気ディスク表面に塗布された潤滑剤の揮発
の少ない磁気ディスク装置を提供することにある。
なく、又、磁気ディスク表面に塗布された潤滑剤の揮発
の少ない磁気ディスク装置を提供することにある。
ることを特徴とする。
もともとへラドディスクアッセンブリーの部品に付着し
た塵埃あるいは装置組立時にヘッドディスクアッセンブ
リー内部に付着した塵埃等は、ディスクの回転とともに
舞い上がりディスク表面に付着したり、磁気ディスクと
磁気ヘッドの間に侵入し、磁気ディスクの摩擦損傷の原
因となる。本発明の装置は、ヘッドディスクアッセンブ
リー組立時に、磁気ディスクと磁気ヘッドを除く内面に
液体潤滑剤をスプレー法等により塗布することにより、
塵埃をヘッドディスクアッセンブリーの内面に付着させ
、浮遊塵埃の発生を極力防止したものである。また、こ
のように塗布された潤滑剤は、部分的に装置内部に揮発
し潤滑剤分子の飽和に近い雰囲気ができる。このため、
ディスク表面に塗布された潤滑剤の揮発が抑制され、長
時間度数耐力の維持ができるようになった。
た塵埃あるいは装置組立時にヘッドディスクアッセンブ
リー内部に付着した塵埃等は、ディスクの回転とともに
舞い上がりディスク表面に付着したり、磁気ディスクと
磁気ヘッドの間に侵入し、磁気ディスクの摩擦損傷の原
因となる。本発明の装置は、ヘッドディスクアッセンブ
リー組立時に、磁気ディスクと磁気ヘッドを除く内面に
液体潤滑剤をスプレー法等により塗布することにより、
塵埃をヘッドディスクアッセンブリーの内面に付着させ
、浮遊塵埃の発生を極力防止したものである。また、こ
のように塗布された潤滑剤は、部分的に装置内部に揮発
し潤滑剤分子の飽和に近い雰囲気ができる。このため、
ディスク表面に塗布された潤滑剤の揮発が抑制され、長
時間度数耐力の維持ができるようになった。
なお、磁気ディスクにも潤滑剤が塗布されているが、磁
気ディスク上の潤滑剤の厚みは、所望の厚みにコントロ
ールする必要があり、あらかじめ公知の方法で所望の厚
みに塗布してからヘッドディスクアッセンブリー組立時
に組込むことが好ましい。
気ディスク上の潤滑剤の厚みは、所望の厚みにコントロ
ールする必要があり、あらかじめ公知の方法で所望の厚
みに塗布してからヘッドディスクアッセンブリー組立時
に組込むことが好ましい。
磁気ヘッドを除くヘッドディスクアッセンブリー内面は
、すべて潤滑剤が塗布されていることが好ましいが、一
部に塗布されていない部分があってもさしつかえない。
、すべて潤滑剤が塗布されていることが好ましいが、一
部に塗布されていない部分があってもさしつかえない。
以下実施例を用いて本発明の詳細な説明する６一般に、
磁気ディスク装置のへラドディスクアッセンブリーは、
第１図（平面図）、第２図（側面図）に示すような形態
である。ヘッドディスクアッセンブリーは、各部品をト
リクロロエチレン等に磁気ヘッド、磁気ディスクを順次
取り付け、最後にシュラウドで覆ってヘッドディスクア
ッセンブリーが完成する。
磁気ディスク装置のへラドディスクアッセンブリーは、
第１図（平面図）、第２図（側面図）に示すような形態
である。ヘッドディスクアッセンブリーは、各部品をト
リクロロエチレン等に磁気ヘッド、磁気ディスクを順次
取り付け、最後にシュラウドで覆ってヘッドディスクア
ッセンブリーが完成する。
本実施例では、液体潤滑剤（パーフルオロポリエーテル
；平均分子ｆ４，５００）を約２０ＯＡ！１３１布した
コーティングディスクとへラドディスクアッセンブリー
２０台分の部品を準備し、同一のクリーニング工程を通
した後、シュラウドを除く部分を組立だ、その後１０台
は、磁気ディスクおよび磁気ヘッドの部分を清浄なカバ
ーで覆いヘッドディスクアッセンブリー内面に、磁気デ
ィスク表面に塗布した液体潤滑剤と同じ潤滑剤を塗布し
た。また、シュラウド内側にも潤滑剤を塗布した後組立
てた。なお、塗布膜厚は約１μｍである。これに対して
、残りの１０台は液体潤滑剤をヘッドディスクアッセン
ブリー内に塗布せずそのまま組立てた。
；平均分子ｆ４，５００）を約２０ＯＡ！１３１布した
コーティングディスクとへラドディスクアッセンブリー
２０台分の部品を準備し、同一のクリーニング工程を通
した後、シュラウドを除く部分を組立だ、その後１０台
は、磁気ディスクおよび磁気ヘッドの部分を清浄なカバ
ーで覆いヘッドディスクアッセンブリー内面に、磁気デ
ィスク表面に塗布した液体潤滑剤と同じ潤滑剤を塗布し
た。また、シュラウド内側にも潤滑剤を塗布した後組立
てた。なお、塗布膜厚は約１μｍである。これに対して
、残りの１０台は液体潤滑剤をヘッドディスクアッセン
ブリー内に塗布せずそのまま組立てた。
上記ディスク装置のヘッドディスクアッセンブリー内の
塵埃発生量と磁気ディスク表面の潤滑剤の揮発性を調べ
た。塵埃発生量は、磁気ディスクの回転開始後３０秒後
に発生する０、２ μｍ径以上の浮遊Ｗ４埃数をダスト
カウンターにより８１す定して評価した。また、潤滑剤
の揮発性は、初期状態と６ケ月稼動後の潤滑膜を、フー
リエ変換型赤外分光法により測定し、その比で評価した
。結果を表１の示す。
塵埃発生量と磁気ディスク表面の潤滑剤の揮発性を調べ
た。塵埃発生量は、磁気ディスクの回転開始後３０秒後
に発生する０、２ μｍ径以上の浮遊Ｗ４埃数をダスト
カウンターにより８１す定して評価した。また、潤滑剤
の揮発性は、初期状態と６ケ月稼動後の潤滑膜を、フー
リエ変換型赤外分光法により測定し、その比で評価した
。結果を表１の示す。
表１
〔発明の効果〕
以上の実施例から明らかな通り、本発明の磁気ディスク
装置は、従来の装置に比べて発塵量が少なく、また潤滑
剤の揮発も著しく少ない。潤滑剤をヘッドディスクアッ
センブリーの内面に塗布した磁気ディスク装置が有効な
ことは明らかである。
装置は、従来の装置に比べて発塵量が少なく、また潤滑
剤の揮発も著しく少ない。潤滑剤をヘッドディスクアッ
センブリーの内面に塗布した磁気ディスク装置が有効な
ことは明らかである。
なお、上記実施例の潤滑剤のばかシリコンオイル等の液
体潤滑剤および潤滑剤塗布址に対しても同様の効果が得
られた。
体潤滑剤および潤滑剤塗布址に対しても同様の効果が得
られた。
第１図は、固定ディスク装置のヘッド・ディスクアッセ
ンブリーの平面図、第２図は、固定ディスク装置のヘッ
ド・ディスクアッセンブリーの側面図である。 １・・・磁気ディスク、２・・・磁気ヘッド、３・・・
シュラウド、４・・・ベース、５・・・ヘッドキャリッ
ジ、６・・・ヘッドアクセス機構、７・・・フィルタ、
８・・・スピン擦１ 邑 １２記
ンブリーの平面図、第２図は、固定ディスク装置のヘッ
ド・ディスクアッセンブリーの側面図である。 １・・・磁気ディスク、２・・・磁気ヘッド、３・・・
シュラウド、４・・・ベース、５・・・ヘッドキャリッ
ジ、６・・・ヘッドアクセス機構、７・・・フィルタ、
８・・・スピン擦１ 邑 １２記
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ヘッドディスクアッセンブリーの内側表面に液体潤
滑剤が塗布されていることを特徴とする磁気ディスク装
置。 ２、特許請求の範囲第１項記載の磁気ディスク装置に於
いて、液体潤滑剤が磁気ディスク表面に塗布されたもの
と同種の潤滑剤であることを特徴とする磁気ディスク装
置。 ３、特許請求の範囲第１項又は第２項記載の磁気ディス
ク装置に於いて、液体潤滑剤がパーフルオロポリエーテ
ルがあることを特徴とする磁気ディスク装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15019385A JPS6212982A (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | 磁気デイスク装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15019385A JPS6212982A (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | 磁気デイスク装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6212982A true JPS6212982A (ja) | 1987-01-21 |
Family
ID=15491549
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15019385A Pending JPS6212982A (ja) | 1985-07-10 | 1985-07-10 | 磁気デイスク装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6212982A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63206952A (ja) * | 1987-02-24 | 1988-08-26 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク装置 |
| JPH02130789A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-05-18 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 磁気データ記録装置及び方法 |
| US5743007A (en) * | 1995-01-17 | 1998-04-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of mounting electronics component |
| US6940686B2 (en) * | 1999-12-09 | 2005-09-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording and reproducing device |
-
1985
- 1985-07-10 JP JP15019385A patent/JPS6212982A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63206952A (ja) * | 1987-02-24 | 1988-08-26 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク装置 |
| JPH02130789A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-05-18 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 磁気データ記録装置及び方法 |
| US5743007A (en) * | 1995-01-17 | 1998-04-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of mounting electronics component |
| US6940686B2 (en) * | 1999-12-09 | 2005-09-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording and reproducing device |
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