JPH053068B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH053068B2 JPH053068B2 JP61140393A JP14039386A JPH053068B2 JP H053068 B2 JPH053068 B2 JP H053068B2 JP 61140393 A JP61140393 A JP 61140393A JP 14039386 A JP14039386 A JP 14039386A JP H053068 B2 JPH053068 B2 JP H053068B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- slider
- magnetic disk
- head
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B19/00—Driving, starting, stopping record carriers not specifically of filamentary or web form, or of supports therefor; Control thereof; Control of operating function ; Driving both disc and head
- G11B19/20—Driving; Starting; Stopping; Control thereof
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/50—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges
- G11B23/505—Reconditioning of record carriers; Cleaning of record carriers ; Carrying-off electrostatic charges of disk carriers
Landscapes
- Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
Ａ 産業上の利用分野
本発明は浮動ヘツド型磁気デイスク装置におい
て磁気ヘツドと磁気デイスクとの接触面の摩擦係
数を減じる方法に関する。
て磁気ヘツドと磁気デイスクとの接触面の摩擦係
数を減じる方法に関する。
Ｂ 従来技術
潤滑剤を付けた複数のデイスク及び関連する複
数の磁気ヘツドは通常包囲体内に収容されてい
て、ヘツド・デイスク組立体（HDA）と呼ばれ
る。HDAは空気を濾過しつつ循環させる機構を
有し、これによつて、ヘツド及びデイスクは、ほ
とんど、ちりやほこりの無い環境に維持される。
この様な磁気デイスク装置の詳細は、例えば、米
国特許第4034411号、第4190411号及び第4285018
号や、アイ・ビー・エム・テクニカル・デイスク
ロージヤ・ブレテイン（IBM Technical
Disclosure bulletin）のVol.21、No.６、1978年９
月号の第2514頁及びVol.22、No.６、1979年11月号
の第2474頁に記載されている。
数の磁気ヘツドは通常包囲体内に収容されてい
て、ヘツド・デイスク組立体（HDA）と呼ばれ
る。HDAは空気を濾過しつつ循環させる機構を
有し、これによつて、ヘツド及びデイスクは、ほ
とんど、ちりやほこりの無い環境に維持される。
この様な磁気デイスク装置の詳細は、例えば、米
国特許第4034411号、第4190411号及び第4285018
号や、アイ・ビー・エム・テクニカル・デイスク
ロージヤ・ブレテイン（IBM Technical
Disclosure bulletin）のVol.21、No.６、1978年９
月号の第2514頁及びVol.22、No.６、1979年11月号
の第2474頁に記載されている。
オンライン記憶に使用される剛性磁気デイスク
装置の場合、通常、デイツク・パツクは高速度で
回転させられる。磁気デイツク装置を用いるアプ
リケーシヨンに応じて、回転速度は2000乃至
6000rpmの範囲で選定される。この場合、14イン
チのデイスクの線速度は33乃至100ｍ／秒である。
回転速度が3600rpmのときの線速度は60ｍ／秒で
あり、カートリツジ・テープを用いる装置のテー
プ速度の100乃至500倍である。この様な高速度で
回転するデイスクにヘツドが接触するならば、両
者の損傷が起こる筈である。従つて、ヘツドとデ
イスクとの接触を回避することが必要である。但
し、デイスクが静止している間及び始動及び停止
時には、ヘツドがデイスクに接触するし、又、デ
イスクの定常回転中のデイスクとヘツドと間との
間隔は非常に狭いので、デイスクの表面には潤滑
剤が付けられている。ヘツドは変換素子をスライ
ダの後部に装着したものが普通であり、スライダ
はデイスクの回転中にデイスク表面との間に空気
ベアリングを生成して浮上する様になつている。
この様な磁気ヘツドの例は、米国特許第3823416
号、第3855625号、第4251841号に開示されてい
る。
装置の場合、通常、デイツク・パツクは高速度で
回転させられる。磁気デイツク装置を用いるアプ
リケーシヨンに応じて、回転速度は2000乃至
6000rpmの範囲で選定される。この場合、14イン
チのデイスクの線速度は33乃至100ｍ／秒である。
回転速度が3600rpmのときの線速度は60ｍ／秒で
あり、カートリツジ・テープを用いる装置のテー
プ速度の100乃至500倍である。この様な高速度で
回転するデイスクにヘツドが接触するならば、両
者の損傷が起こる筈である。従つて、ヘツドとデ
イスクとの接触を回避することが必要である。但
し、デイスクが静止している間及び始動及び停止
時には、ヘツドがデイスクに接触するし、又、デ
イスクの定常回転中のデイスクとヘツドと間との
間隔は非常に狭いので、デイスクの表面には潤滑
剤が付けられている。ヘツドは変換素子をスライ
ダの後部に装着したものが普通であり、スライダ
はデイスクの回転中にデイスク表面との間に空気
ベアリングを生成して浮上する様になつている。
この様な磁気ヘツドの例は、米国特許第3823416
号、第3855625号、第4251841号に開示されてい
る。
デイスクが停止しているとき、スライダはデイ
スク表面に接触している。デイスクが回転し始め
て、或る速度に達するまで、スライダはデイスク
表面に接触したままに留まる。スライダはデイス
ク表面から離れるときも、直ぐ安定な浮動状態に
なるのではなく、何回かデイスク表面に接触して
バウンドする。デイスクの回転が停止されるとき
にも、同様なことが起こる。潤滑剤は、始動及び
停止動作中のデイスクとヘツド（スライダ）との
間の摩擦を軽減する様に作用する。
スク表面に接触している。デイスクが回転し始め
て、或る速度に達するまで、スライダはデイスク
表面に接触したままに留まる。スライダはデイス
ク表面から離れるときも、直ぐ安定な浮動状態に
なるのではなく、何回かデイスク表面に接触して
バウンドする。デイスクの回転が停止されるとき
にも、同様なことが起こる。潤滑剤は、始動及び
停止動作中のデイスクとヘツド（スライダ）との
間の摩擦を軽減する様に作用する。
潤滑剤はデイスク表面上に一様な層を形成する
ようにデイスク表面に付着させられる。潤滑剤の
層は、部分的に集中してヘツドの浮動を妨げた
り、ゴミを過度に捕捉したり、あるいはスライダ
に大量に付着したりすることのない様に十分に薄
くなければならない。又、潤滑剤は、デイスク表
面に容易に付着可能であり且つ装置の寿命が尽き
るまでデイスク表面に留まることが必要である。
換言すれば、潤滑剤はデイスクにしみ込むか又は
化学的に付着する必要があり、且つ滴状になつた
り、飛び散つたりしないことが必要である。更
に、潤滑剤は粘性を変えたり、スライダをデイス
ク表面の静止位置に接触したりしてはならない。
スライダをデイスク表面に接着する力が非常に強
いと、ヘツド支持機構の破壊や永久的変形を引き
起こすことがある。この場合、スライダがデイス
クの磁性層を破壊して破片を生じることもある。
この様な破片が空気循環作用により他のデイスク
上へ運ばれて、そのデイスクに関連するヘツドに
衝突してそれを破壊することもありうる。
ようにデイスク表面に付着させられる。潤滑剤の
層は、部分的に集中してヘツドの浮動を妨げた
り、ゴミを過度に捕捉したり、あるいはスライダ
に大量に付着したりすることのない様に十分に薄
くなければならない。又、潤滑剤は、デイスク表
面に容易に付着可能であり且つ装置の寿命が尽き
るまでデイスク表面に留まることが必要である。
換言すれば、潤滑剤はデイスクにしみ込むか又は
化学的に付着する必要があり、且つ滴状になつた
り、飛び散つたりしないことが必要である。更
に、潤滑剤は粘性を変えたり、スライダをデイス
ク表面の静止位置に接触したりしてはならない。
スライダをデイスク表面に接着する力が非常に強
いと、ヘツド支持機構の破壊や永久的変形を引き
起こすことがある。この場合、スライダがデイス
クの磁性層を破壊して破片を生じることもある。
この様な破片が空気循環作用により他のデイスク
上へ運ばれて、そのデイスクに関連するヘツドに
衝突してそれを破壊することもありうる。
Ｃ 発明が解決しようとする問題点
前述の様なヘツドのスライダとデイスク表面と
の有害な相互作用が磁気デイスク装置を動作不能
にする主たる原因である。ヘツドやデイスク自体
の故障により磁気デイスク装置が動作不能になる
ことは少ない。スライダとデイスク表面との有害
な相互作用は、両者間の摩擦に基く過度の力の発
生によるものである。デイスク表面の潤滑は、摩
耗を軽減して装置の寿命を長くするのに役立つて
はいるが、全ての問題を解決しているわけではな
い。以前としてヘツト（スライダ）−デイスク・
インターフエースに関する問題がある。即ち、デ
イスクに対するスライダの粘着、始動及び停止動
作中のスライダとヘツドとの間の摩擦、潤滑剤の
消耗等の問題があり、ヘツドの破損や装置の寿命
の短縮につながる。これらの問題の原因の１つ
は、潤滑剤に対する湿気の影響である。
の有害な相互作用が磁気デイスク装置を動作不能
にする主たる原因である。ヘツドやデイスク自体
の故障により磁気デイスク装置が動作不能になる
ことは少ない。スライダとデイスク表面との有害
な相互作用は、両者間の摩擦に基く過度の力の発
生によるものである。デイスク表面の潤滑は、摩
耗を軽減して装置の寿命を長くするのに役立つて
はいるが、全ての問題を解決しているわけではな
い。以前としてヘツト（スライダ）−デイスク・
インターフエースに関する問題がある。即ち、デ
イスクに対するスライダの粘着、始動及び停止動
作中のスライダとヘツドとの間の摩擦、潤滑剤の
消耗等の問題があり、ヘツドの破損や装置の寿命
の短縮につながる。これらの問題の原因の１つ
は、潤滑剤に対する湿気の影響である。
潤滑剤に対する湿気の影響については、アイ・
イー・イー・イー・トランザクシヨン・オン・マ
グネテイツクス（IEEE Transactions on
Manetice）Vol.MAG−19、No.５、1983年９月号
の第1659乃至1961頁に掲載されたチン・シー・リ
ユウ（Chin C.Liu）及びピーター・ビー・ミイ
（Peter B.Mee）の「ウインチエスター・ヘツ
ド・デイスク・インターフエースにおける接着
（Stiction at The winchester Head−Disk
Interface）」と題する論文において考察されてい
る。これによると、接着が周囲の湿度に非常に影
響されることが実験的に確認されている。デイス
ク表面の状態、スライダのローデイング圧力、潤
滑剤の層の厚さ、潤滑剤と水分との相互作用等は
全て、接着現象の重要な要因であると考えられて
いる。水滴は潤滑剤の層の中に侵入し、横方向へ
進むことによつてデイスク表面から潤滑剤を分離
させることが知られた。乾燥するとき、薄い水の
膜の表面張力が２つの固体表面を引つ張つて、接
触部における変形を引き起こす。水の膜が薄くな
ればなるほど、接着力は大きくなる。結局、接着
力の大きさは、水の凝縮量、水が潤滑剤の層に侵
入する程度、及び接触部において水の分子によつ
て置き換えられる潤滑剤の量に依存している。接
着の程度がひどい場合には、固着状態になる。
イー・イー・イー・トランザクシヨン・オン・マ
グネテイツクス（IEEE Transactions on
Manetice）Vol.MAG−19、No.５、1983年９月号
の第1659乃至1961頁に掲載されたチン・シー・リ
ユウ（Chin C.Liu）及びピーター・ビー・ミイ
（Peter B.Mee）の「ウインチエスター・ヘツ
ド・デイスク・インターフエースにおける接着
（Stiction at The winchester Head−Disk
Interface）」と題する論文において考察されてい
る。これによると、接着が周囲の湿度に非常に影
響されることが実験的に確認されている。デイス
ク表面の状態、スライダのローデイング圧力、潤
滑剤の層の厚さ、潤滑剤と水分との相互作用等は
全て、接着現象の重要な要因であると考えられて
いる。水滴は潤滑剤の層の中に侵入し、横方向へ
進むことによつてデイスク表面から潤滑剤を分離
させることが知られた。乾燥するとき、薄い水の
膜の表面張力が２つの固体表面を引つ張つて、接
触部における変形を引き起こす。水の膜が薄くな
ればなるほど、接着力は大きくなる。結局、接着
力の大きさは、水の凝縮量、水が潤滑剤の層に侵
入する程度、及び接触部において水の分子によつ
て置き換えられる潤滑剤の量に依存している。接
着の程度がひどい場合には、固着状態になる。
Ｄ 問題点を解決するための手段
本発明は磁気デイスク装置のヘツド及びデイス
クについて接触面の摩擦係数を減じる所定の前処
理を行うことによつて前述の問題を解決する。そ
の前処理は、デイスク及びヘツドを乾性気体中に
維持しつつ、ヘツドのスライダを各トラツクに位
置づけ、スライダをデイスク表面に接触させたも
のに留める程度の速度で所定時間中デイスクを回
転させることである。
クについて接触面の摩擦係数を減じる所定の前処
理を行うことによつて前述の問題を解決する。そ
の前処理は、デイスク及びヘツドを乾性気体中に
維持しつつ、ヘツドのスライダを各トラツクに位
置づけ、スライダをデイスク表面に接触させたも
のに留める程度の速度で所定時間中デイスクを回
転させることである。
Ｅ 実施例
第１図及び第２図は時間の関数として２つの重
要なパラメータを同じスケールで示す図である。
２つのパラメータは、ヘツドのスライダがデイス
ク表面に接触している状態でデイスクが回転する
ときのスライダとデイスク表面との間の摩擦力及
び摩擦電流である。
要なパラメータを同じスケールで示す図である。
２つのパラメータは、ヘツドのスライダがデイス
ク表面に接触している状態でデイスクが回転する
ときのスライダとデイスク表面との間の摩擦力及
び摩擦電流である。
先ず、第１図は本発明に従つた前処理中のスラ
イダーデイスク間の摩擦力Fn及び摩擦電流Tnを
示している。前処理は、乾性窒素中で、デイスク
を200乃至400rpmの速度で回転させて、４分間デ
イスクとスライダとを接触状態に維持することに
よつて行われた。摩擦電流Tnは急激に増大し、
約３分後に飽和する。
イダーデイスク間の摩擦力Fn及び摩擦電流Tnを
示している。前処理は、乾性窒素中で、デイスク
を200乃至400rpmの速度で回転させて、４分間デ
イスクとスライダとを接触状態に維持することに
よつて行われた。摩擦電流Tnは急激に増大し、
約３分後に飽和する。
摩擦電流はヘツドとスライダとの相互作用を表
わす１つの尺度である。通常、デイスクを始動し
て回転速度が約800乃至1000rpmに達し、スライ
ダがデイスク表面から離れるとき、摩擦電流は減
少する。従つて、装置の定常状態において摩擦電
流が検出されるならば、短時間のうちにデイスク
の故障が発生するであろうことが予測できる。又
摩擦電流は潤滑剤にとつて有害であり、潤滑剤、
ひいてはHDAの寿命を短くするように作用する。
わす１つの尺度である。通常、デイスクを始動し
て回転速度が約800乃至1000rpmに達し、スライ
ダがデイスク表面から離れるとき、摩擦電流は減
少する。従つて、装置の定常状態において摩擦電
流が検出されるならば、短時間のうちにデイスク
の故障が発生するであろうことが予測できる。又
摩擦電流は潤滑剤にとつて有害であり、潤滑剤、
ひいてはHDAの寿命を短くするように作用する。
第２図は、第１図に関して述べた前処理を施し
たHDAを、その後、45％の相対湿度（RH）の
空気中で作動したときの摩擦電流Ｔ及び摩擦力Ｆ
を示している。第２図には、比較のために、前処
理を行わなかつたHDAを同じ空気中で作動した
ときの摩擦電流Ta及び摩擦力Faも示してある。
たHDAを、その後、45％の相対湿度（RH）の
空気中で作動したときの摩擦電流Ｔ及び摩擦力Ｆ
を示している。第２図には、比較のために、前処
理を行わなかつたHDAを同じ空気中で作動した
ときの摩擦電流Ta及び摩擦力Faも示してある。
第２図から分かる様に、前処理を施したHDA
の摩擦力Ｆは、前処理を施さなかつたHDAの摩
擦力Faの約30乃至50％である。又、前者の摩擦
電流Ｔは、後者の摩擦電流Taの約30％に過ぎな
い。
の摩擦力Ｆは、前処理を施さなかつたHDAの摩
擦力Faの約30乃至50％である。又、前者の摩擦
電流Ｔは、後者の摩擦電流Taの約30％に過ぎな
い。
種々の相対湿度（０乃至90％）の合成空気、ア
ルゴン、酸素を用いて行つた実験の結果、湿度が
摩擦電流及び摩擦力に最も影響を及ぼすパラメー
タであることが分かつた。
ルゴン、酸素を用いて行つた実験の結果、湿度が
摩擦電流及び摩擦力に最も影響を及ぼすパラメー
タであることが分かつた。
そして、デイスク及びヘツドを乾性気体中に維
持しつつ、スライダをデイスク表面に接触させた
ままに留める程度の速度で所定時間中デイスクを
回転させる前処理を行うことにより、その後、
HDAを通常の環境、即ち約45％RHの空気中で
作動するときの摩擦係数、ひいては摩擦力及び摩
擦電流の相当減少させうることが分つた。
持しつつ、スライダをデイスク表面に接触させた
ままに留める程度の速度で所定時間中デイスクを
回転させる前処理を行うことにより、その後、
HDAを通常の環境、即ち約45％RHの空気中で
作動するときの摩擦係数、ひいては摩擦力及び摩
擦電流の相当減少させうることが分つた。
スライダとデイスクとの接触状態における相対
移動を行うことなく、単にHDAを乾性気体中に
置くだけでは、前述の様な効果は得られないこと
が確認されている。又、前処理の後の動作におい
て引き続き乾性気体を用いることは、不適当であ
る。即ち、乾性気体中では、摩擦力が比較的であ
る。
移動を行うことなく、単にHDAを乾性気体中に
置くだけでは、前述の様な効果は得られないこと
が確認されている。又、前処理の後の動作におい
て引き続き乾性気体を用いることは、不適当であ
る。即ち、乾性気体中では、摩擦力が比較的であ
る。
本発明に従つた前処理の効果を確認するための
実験は、20乃至40％のTiC及び60乃至80％の
Al2O3を含むセラミツク混合物で造られたスライ
ダと、フエノール結合剤中にγ−Fe2O3等の磁性
粒子を含む記録層を有するデイスクとを用いて行
つた。磁気デイスク装置の寿命の約25％に相当す
る２時間以上の滑動テストの後も、摩擦力や摩擦
電流の増加は認められなかつた。
実験は、20乃至40％のTiC及び60乃至80％の
Al2O3を含むセラミツク混合物で造られたスライ
ダと、フエノール結合剤中にγ−Fe2O3等の磁性
粒子を含む記録層を有するデイスクとを用いて行
つた。磁気デイスク装置の寿命の約25％に相当す
る２時間以上の滑動テストの後も、摩擦力や摩擦
電流の増加は認められなかつた。
HDAの前処理について要約すると、先ず新た
に組立てられたHDAに１％RHより低い温度の
乾性気体を満たして、デイスクとスライダとを接
触滑動状態に留める程度の速度でデイスクを回転
させることによつて行われる。乾性気体としては
種々の気体を使用しうるが、窒素や空気が好まし
い。又、回転速度は200乃至400rpmが適当であ
る。このような前処理を全てのトラツクに施すた
めに、各トラツクに順次スライダを位置づけて所
定時間ずつ前述の操作を行う。所定時間は、１乃
至４分が適当である。前処理後、乾性気体を除去
し、代りに通常の約45％RHの空気をHDAに満
たすことにより、通常の使用に供する。
に組立てられたHDAに１％RHより低い温度の
乾性気体を満たして、デイスクとスライダとを接
触滑動状態に留める程度の速度でデイスクを回転
させることによつて行われる。乾性気体としては
種々の気体を使用しうるが、窒素や空気が好まし
い。又、回転速度は200乃至400rpmが適当であ
る。このような前処理を全てのトラツクに施すた
めに、各トラツクに順次スライダを位置づけて所
定時間ずつ前述の操作を行う。所定時間は、１乃
至４分が適当である。前処理後、乾性気体を除去
し、代りに通常の約45％RHの空気をHDAに満
たすことにより、通常の使用に供する。
本発明に従つた前処理には、前処理専用の特別
なヘツド及び通常の動作においても使用されるヘ
ツドのいずれを用いてもよい。但し、後者の方が
容易に実施可能である。
なヘツド及び通常の動作においても使用されるヘ
ツドのいずれを用いてもよい。但し、後者の方が
容易に実施可能である。
Ｆ 発明の効果
ヘツド（スライダ）とデイスクとの接着面にお
ける摩擦力や摩擦電流が低減されるので、ヘツド
がデイスクに接触することもなくなり、装置の寿
命がかなりのびる。
ける摩擦力や摩擦電流が低減されるので、ヘツド
がデイスクに接触することもなくなり、装置の寿
命がかなりのびる。
第１図は乾性窒素を用いた前処理中のスライダ
−デイスク間の摩擦力及び摩擦電流を示す図、第
２図は通常の空気中におけるスライダ−デイスク
間の摩擦力及び摩擦電流を示す図である。
−デイスク間の摩擦力及び摩擦電流を示す図、第
２図は通常の空気中におけるスライダ−デイスク
間の摩擦力及び摩擦電流を示す図である。
Claims (1)
- １ スライダ及び該スライダに装着された磁気変
換素子を有する磁気ヘツドと、表面に潤滑剤を付
けた磁気デイスクとを有し、前記磁気デイスクの
静止中と始動及び停止動作中に前記スライダが前
記磁気デイスクの表面に接触し、前記磁気デイス
クの定常回転中には、前記スライダが前記磁気デ
イスクの表面から浮いた状態になる型の磁気デイ
スク装置において、前記磁気デイスク及び前記磁
気ヘツドを乾性気体中に維持しつつ、前記磁気ヘ
ツドのスライダを前記磁気デイスクの複数のトラ
ツクのそれぞれに順次位置づけ、各トラツク毎
に、前記スライダを前記磁気デイスクの表面に接
触させたままに留める程度の回転速度で所定時間
中、前記磁気デイスクを回転させることにより、
前記磁気ヘツドと前記磁気デイスクとの接触面の
摩擦係数を減じる方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP19850109846 EP0211099B1 (en) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | Method for lowering the frictional coefficient of the magnetic head-disk interface in a lubricated magnetic disk system and disk storage system |
| EP85109846.7 | 1985-08-06 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6234392A JPS6234392A (ja) | 1987-02-14 |
| JPH053068B2 true JPH053068B2 (ja) | 1993-01-13 |
Family
ID=8193666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14039386A Granted JPS6234392A (ja) | 1985-08-06 | 1986-06-18 | 磁気ヘツドと磁気デイスクとの接触面の摩擦係数を減じる方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0211099B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6234392A (ja) |
| DE (1) | DE3568097D1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10468071B1 (en) * | 2018-06-01 | 2019-11-05 | Western Digital Technologies, Inc. | Magnetic storage device with heat-assisted magnetic storage head and associated method of manufacture |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54160216A (en) * | 1978-06-08 | 1979-12-18 | Fujitsu Ltd | Revolution control system |
| US4384311A (en) * | 1981-10-13 | 1983-05-17 | Dma Systems Corporation | Method for cleaning the disc surface and the head support structure in a magnetic disc drive |
| US4490766A (en) * | 1982-03-22 | 1984-12-25 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording disk cleaning using controlled actuator motion |
| JPS6043284A (ja) * | 1983-08-19 | 1985-03-07 | Nec Corp | 磁気デイスク装置 |
| JPS6066403A (ja) * | 1983-09-21 | 1985-04-16 | Hitachi Metals Ltd | 薄膜磁気ヘッド用セラミックス基板 |
-
1985
- 1985-08-06 EP EP19850109846 patent/EP0211099B1/en not_active Expired
- 1985-08-06 DE DE8585109846T patent/DE3568097D1/de not_active Expired
-
1986
- 1986-06-18 JP JP14039386A patent/JPS6234392A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0211099B1 (en) | 1989-02-01 |
| JPS6234392A (ja) | 1987-02-14 |
| DE3568097D1 (en) | 1989-03-09 |
| EP0211099A1 (en) | 1987-02-25 |
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