JPS62130202A - 含浸における洗浄方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （＃　？：Ｈの２１１　ｍ分野） 本発明は鋳物や焼結晶等のワークに発生する巣、ピンホ
ール等を有機含浸剤により封孔処理する含浸の洗浄方法
及び装置に関するものである。

（従来の技術） 鋳物や焼結晶等のワークに発生する巣やピンホール等の
封孔処理として鋳物等を有機含浸剤中に浸漬し、巣やピ
ンホール等に含浸剤を含浸させるシステムは特開昭５９
−２８５０３号等で知られている。かかる含浸システム
の省力化、生産性向１−を図るため含浸り程をワーク機
械前玉ラインの最終工程に含浸処理工程を導入し、ワー
クのラインタクトに合せて含浸処理を自動化することが
進められている。

（発明が解決しようとする問題点） ところで含浸処理後のワークは洗浄する必要があり、か
かる洗浄下程は製品機部、特に外観、加工精度等に影響
を与える重要な１程である。

以上の洗浄玉梓において、ワークに穿設されたタップ孔
やトリル孔等の盲孔に入り込んだ含浸液を取り除くこと
は困難で、従来は洗浄液の中でワークの入ったバスケッ
トを上下させ外面に付着した含浸剤を取り除いた一Ｆ作
業者がワークの孔毎にエアブロ−を行っていた。従って
作業が面倒且つ煩雑で作業性が悪く、生産効率の点で改
善が望まれる。

又洗浄の自動化装置としては、洗浄水中に強い流れを与
えるもの、シャワーによるものも試みられるが、何れも
狙った箇所に水流が当らなければ効果が少なく、ヌ多数
個を同時に処理する場合にはワーク同志の影の部分は含
浸液を取り除くことができない。

本発明は以Ｈの問題点を解決すべくなされたもので、そ
の目的とする処は、含浸処理後のワークのタップ孔や盲
孔等の狭く、凹部の激しい部分を確実に洗浄処理し、且
つこれを自動化して行い得、洗浄処理を含んで含浸処理
の生産効率を向上させた含浸における洗浄方法及び装置
を提供するにある。

（問題点を解決するための手段） 以にの問題点を解決するための手段は、含浸処理後余分
な含浸液を振り切ったワークを洗浄液を収納した洗浄槽
内にセットし、該ワークを回転させることによって該ワ
ークを洗浄液中に出没させ、該ワーク表面に穿設された
孔等の凹部に前記洗浄液の出入りを強制して付着した含
浸液を薄めて洗浄するようにした洗浄方法である。

又−１−記洗炸方法を具体的に行う装置として洗浄液を
収納し、内部にワークを支持する回転体を回転１］在に
設けたワークの洗浄を行う第１の洗浄槽と、該第１の洗
浄槽と回転方向が９０°異なる該洗浄槽と同構造の第２
洗浄槽と、前記第１、第２洗浄槽にワークを順次移送す
る移送Ａ置を備えた洗浄装置である。

（Ｌ記手段による作用） 」−記手段によれば、ワークを洗浄液中で回転させ、洗
す液に出没させるのでワーク表面に穿設された孔に洗ｎ
１液の出入を強制し、この作業の反復でタップ孔、盲孔
等に付着した含浸液を薄め、硬化機能を喪失させて洗浄
が行え、又多数同時処理の場合でも孔等が他のワークで
塞がれていない限り洗浄され、又部品形状にも左右され
ない、ｘ−シて洗浄槽を二つ備え、夫々でワークの回転
方向を８０°異ならせるので洗浄は萬遍なく行える。

（実施例） 次に本発明の好適する一実施例を添付図面を参照しつつ
詳述する。

第１図は含浸工程の説明図で側面図、第２図は回模式的
平面図、第３図は洗浄装置の縦断側面図でワーク投入前
の状態の図、第４図は同ワーク投入保持状態の図、第５
図Ａ−Ｈは洗浄作業を説明する図、第６図は含浸装置の
一例を示す図である。

第１図において（１０）は基枠で、基台（１１）上に敷
設された下枠（１２）、前後方向には間して門型に配設
された複数の柱（１３）・・・、柱（１３）・・・−ヒ
の左右に前後方向に延出された」１枠（１４）及びヒ枠
（１４）七にこれと平行するように設けたワーク移送用
レール（１５）等を備え、レール（１５）には移送装置
（２０）がロー→ｒつＩ）ルΔ書プ毬１ｈ白Ａ：　Ｌ＝
　＋ルｌ十ロ柄プし１ス移送装置（２０）はワークの把
持機構と位置決め機構を備え、これを第３図、第４図に
示し、昇降シリンダ（２２）のロッド（２３）下端にブ
ラケッ）　（２４）を固設し、ブラケット（２４）には
前後方向にガイドバー（２５）を備え、ガイドバー（２
５）に前後方向に対向させて一対の爪（２Ｂ）　、（２
ｅ）の基部（２８ａ）を摺動自在に嵌合し、この間にシ
リンダ（２７）を介設し、これの前後に延出しだロッド
（２Ｂ）、（２８）を爪（２Ｂ）　。

（２Ｂ）（Ｆ）基部（２８ａ）、（２８ａ）に連結する
。従ッテ移送装置（２０）をローラ（２１）でレール（
１５）に案内させて移動し、ワーク投入ステーションで
シリンダ（２２）を駆動してロッド（２３）を下動させ
、爪（２Ｅｌ）、（２Ｂ）をシリンダ（２７）の駆動で
相寄る方向に移動させ。

ワーク保持パレットを係止保持せしめ、ロッド（２３）
の上動でパレットを」；昇させ、次の工程に移動し、パ
レットを各作業位置にセットする。

第１図において左端はワークの投入ステーション（ａ）
を示し、ワーク（Ｗ）は例えば実施例ではアルミ合金で
鋳造せるシリンダブロックとし、前工程でタップ孔、盲
孔等の孔が機械加工で形成されており、ワーク（Ｗ）は
パレット（３０）で保持される。パレッ）　（３０）は
例えば第３図、第４図に示す如くで、基板（３１）、四
隅の枠杆（３２）、横杆（３３）等からなり、中央に吊
下杆（３４）を備え、吊下杆（３４）Ｌ端には係１Ｆ部
（３５）を備える。そしてワーク（Ｗ）は実施例では二
個支持し、これの各外側に設けた治具（３Ｅｉ）、（３
Ｂ）には上下方向に位置決め孔（３７）を備え、又基板
（３１）の下には前後方向に離間して係１１一孔（３９
）を備える係Ｗ片（３８）、（３８）が垂下突設されて
いる。既述の爪（２Ｂ）　、（２ｆｌ）で係ｌヒ部（３
５）を係１１−シてパレット（３０）を吊り−ヒげて移
送し１次工程で降下させて爪（２Ｂ）　、　（２Ｅｌ）
を解除してパレットをセットする。

投入ステーション（ａ）にワークを保持したパレ・ント
を投入し、移送装置（２０）でパレットを次の含浸ステ
ーション（ｂ）に送り込み、含浸装置（１）にパレット
ごとワークをセットする。

含浸装置　（１）は例えば第６図に示す如くで１本体を
なす含浸処理タンク（１０１）を隣設せる含浸液（＋０
２）を収納したタンク（１０３）に連通管（１００を介
して底から接続し、連通管（１０４）には電磁弁等で構
成された切換弁（１０５）が介設され、連通管（１０４
）の該ブｆ’　（１０５）の−Ｌ流側と下流側の部位に
はバイパス管（１０ｆｌ）が設けられ、鎖管（１０６）
には切換ｊｐ　（１０？）を、又該弁（１０７）の上流
には液もどし用ポンプ（１０Ｂ）を設ける。タンク（１
０１）は−上蓋（１０９）で開閉自在であり、上蓋（１
’０９）は管（＋１０）を介して真空ポンプ（＋１１）
に接続し、タンク（１０１）内を密閉状態で真空引きす
るようにし、管（１１０）にはフィルタ（１１２）　、
切換弁（１１３）を備える。そして別の管（１１４）　
、切換弁（１１５）　、（１１Ｂ）を介して大気とエア
源に選択的に連通させる。

ｌｚ蓋（１０９）を開いて既述のワークを保持したパレ
ッ）　（３０）を処理タンク（１０１）内に降下させて
セットし、上蓋（１０９）を閉じ、弁（１１５）、（１
Ｂ）を閉じ、弁（１１３）を開いて真空ポンプ（１１１
）を駆動し、タンク（１０１）内を真空引し、その後弁
（１１３）を閉じる０次に弁（１０５）を開いてタンク
（１０３）内の含浸液（１０２）を負圧によりタンク（
１０１）内に導入し、液のレベルはレベルスイッチ（１
１７）　、　（１１８）で検出し、弁（１０５）を閉じ
る。続いて弁（１１５）を開いて高圧のエアをタンク（
１０１）内に導入し、液を加圧してワークの巣やピンホ
ールに含浸液を含浸充填させる。このさい、先に機械加
工したタップ孔、盲孔、オイル通路等の凹部にも含浸液
は充填されることとなる。

充填抜弁（＋１５）を閉じ、弁（１１Ｂ）を開いてタン
ク（＋０１）内を大気と同圧とするとともに、弁（＋０
７）を開きポンプ（１０８）を駆動してタンク（＋０１
）内の液をバイパス通路（１０Ｂ）を介してタンク（１
０３）内にもどし、一方、１−蓋（１０９）を開いてパ
レッ）　（３０）を既述の移送装置で吊り一りげてワー
クをタンク（１０１）から取り出し１次の木切ステーシ
ョン（ｃ）に移送する。

水切ステーション（Ｃ）は前工程の含浸ステーション（
ｂ）の含浸装置（１）下流に隣接して設けられ、液切装
置（２）は前後の基枠（２０１）　、　（２ｏ　１）間
に回転自在に軸（２０２）で支持された」−面開放の液
切槽（２０３）を備え、含浸処理後のワークを保持した
パレット（３０）を槽（２０３）内の保持台（２０４）
上にセット固定し、保持台（２０４）は槽（２０３）の
底外に付設したモータ（２０５）　、チェンスプロケッ
Ｉ−機構（２０ｆｌ）　、減速機構（２０７）で支軸（
２０８）が回転駆動され、保持台（２０４））、にパレ
ット（３０）を介して保持されたワークは回転１２、ワ
ークに付着した余分な液を遠心力で分離する。

かかる液切後パレットを吊リドげ、移送装置（２０）で
次の第１洗浄ステーシヨン（ｄ）へ移送する。

洗ｎ−ステーション（ｄ）に設けられる洗炸装置（３）
は第３図、第４図に示す如くで１本体をなす槽（３０１
）は−１２面を開放し、該槽（３０１）内の高さ方向中
間部の対向する壁（３０２）　、　（３０２）には対向
する如く内方に突出する軸（３０３）　、（３０４）を
設け、該軸（３０３）　、　（３０４）を凹型の保持枠
（３０５）の前後の起片（３０５ａ）、（３０５ｂ）　
ｃＦ）ト部外側に結合し、保持枠（３０５）の底枠（３
０５ｃ）には二本の支社（３０Ｂ）　、（３０Ｂ）を起
設する。底枠（３０５ｃ）の側片（３０５ｄ）には前後
に央部（３０７）　、（３０７）を設け、一方、これの
側面に沿って摺動する係１（−杆（３０Ｂ’）を設け、
係１）―杆（３０８）はり札（３０９）で側片（３Ｑ５
ｄ）のピン（３１０）と係合して摺動を保障され、バネ
（３１１）で係ｌヒ方向、即ち第３図の左方に付勢され
、前後に係１Ｆビン部（３１２）　、（３１２）を備え
る。モして係止杆（３０Ｂ）は一端を壁に質通した津杆
（３１３）でリンク（３１４）を介してシリンダ（３１
５）のロッド（３１Ｂ）と連結される。以１−の保持枠
（３０５）を支持する一方の軸（３０３）は１Ｖ外面に
設けたモータ（３１７）で駆動されるように構成し、モ
ータ（３１７）と軸（３０３）間には減速機構が介設さ
れる。

第３図の如く槽（３０１）の軸（３０３）　、（３０４
）の中心部４洗浄液（３１８）を収納し、ステーション
（ｄ）に移送したワーク（Ｗ）をパレット（３０）ごと
爪（２Ｅｌ）　。

（２６）で係止部（３５）を把持して槽（３０１）内に
Ｌからセットする。パレット（３０）の孔（３７）、（
３？）に支社（３０Ｂ）、（３０Ｂ）を１−から嵌合さ
せ、係止片（３９）　。

（３９）を架部（３０７）、（３０７）に臨ませて底枠
（３０５Ｃ）上にパレット（３０）をａ　７１　Ｌ、次
にシリンダ（３１５）を駆動してリンク（３１４）　、
　ｉｌ！杆（３１３）により係Ｉト杆（３０８）を図中
左動せしめてビン部（３１２）、（３１２）を係１１−
片（３Ｂ）、（３８）の（ｆ＋＋ｌ一孔（３９）、（３
９）に係合させ、かかる作動はバネ（３１１）のノ（（
動により迅速になされる。

爾後風（２Ｂ）　、（２ｆｌ）を解除して把持装置をシ
リンダ（２２）で１−シ１させ、これを第４図で示し、
ワークを保持したパレット（３０）は槽（３０１）内の
保持枠（３０５）にロック保持されることとなる。

次にモータ（３７）を駆動し、軸（３０３）、（３０４
）を支、げ、ｉとして保持枠（３０５）　、従ってワー
ク（Ｗ）を洗浄液（３１８）中で回転させる。

第５図Ａ−Ｈはこれを示し、Ａはワーク（Ｗ）が液中に
浸漬し１回転のスタート状態を示し、ワーク（讐）のタ
ップ孔、前孔、オイル通路、ウォータージャケット用水
通路等の四Ｍ（ｉｌｌ、）〜（賀＠）内には含浸液が付
着しているが洗浄液も浸漬により侵入している。

かかるワーク（Ｗ）を洗浄液（３１８）中でモータ（３
１７）により保持枠（３０５）を介して第５図中時計方
向、即ち矢印で示す右方向に回転させる。第５図（Ｂ）
はワーク（Ｗ）が液（３１８）上に半分以ト露出した状
態で凹部（Ｗ　＋）内の含浸液は洗浄水とともに排出さ
れ同（Ｃ）はワーク（Ｗ）が液ヒで直横になり、前記第
５図（Ａ）から９０°回転した位置で凹部（Ｗｅ）　、
　（Ｗｇ）及び（Ｗｅ）の液が排出される。ワーク（讐
）は史に回転をつづけ第５図（Ｄ）の如き姿勢となり、
第５図（Ｅ）　＋７）如く既述（７）（Ａ）カら１８ｏ
°回転し、凹部（Ｗ２）、　（Ｗｔ）から液を排出する
０回転の継続でワーク（貿）は第５図（Ｆ）〜（Ｇ）の
如く洗浄液中に浸漬し、排水した凹部霞１）〜（ｗｅ）
には再度洗浄液が進入し、回転の継続で第５図（Ａ）か
ら（Ｈ）のＩ！Ｌ！動を行わせるとともに、逆転を交Ｗ
に行いこれにより凹部（Ｗθ〜（−６）内には洗浄液が
出入りし、凹部内に付着した含浸液を希釈し、最終的に
は凹部内の含浸液を除去し、洗節することとなる。

以［−の第１洗Ｍ、ステーション（ｄ）ではワーク（−
）を第１図中右方向に回転させ、既述の如く洗浄を行う
。

次にワーク（−）を移送装置（２０）で槽（３０１）か
ら取り出し１次工程の第２洗浄ステーシヨン（ｅ）に＋
ｆ（ｉ＋　ｎ　　ｒ　＋−ＭＪｈ＆ｆ、Ｊ−ｈ’％’Ｌ
／Ｊ）＋１．８　ｆ　ｔｔ＋　＋ｋｓ１１．　」＆　＋
ｖｔ（３）と全く同様の構造で、保持枠（４０５）の支
軸が第１図中左右方向に延び、モータ（４１７）が第１
図中右側にあり、保持枠（４０５）に保持されたワーク
（Ｗ）は第１図中紙面の表裏方向に回転することとなり
、ワークの前記とは９０°移送のズした凹部を洗浄する
こととなる。かくしてワーク（Ｗ）の凹部の全ては洗浄
されることとなる。

洗浄後隣接する１論の木切ステーション（ｆ）にワーク
（讐）を移送し、水切装置（５）は既述のステーション
（ｃ）と同様の構成で、液切槽（５０３）内の保持台（
５０４）にパレットに保持されたワークをセットし、モ
ータ（５０５）でワークを回転させ、洗浄液の液切りを
行う。

液切後次丁程の払出しステーション（ｇ）にワークを送
り、更に次工程、例えば乾燥ｆ程にワークを移送する。

以トのように含浸処理したワークを洗浄液中に浸漬して
回転させ、孔等の凹部を洗怜希釈し、含浸液を排出除去
せしめ、又回転が８０°異なる二槽で仝ＩＴ　１ｉｉｌ
の凹部の沙尚を行う。

（発明の効果） 以トで明らかな如く本発明によれば、含浸処理後の含浸
液が付着したワークを洗浄液内で回転させることによっ
てワークの表面に形成した孔、穴等の凹部内に洗浄液が
強制的に出入し、これにより凹部内の含浸液は希釈排出
除去され、手作業によることなく自動化で含浸液の除去
が行え、効率良く、確実にワークの洗浄が行える。

又含浸工程としては含浸、液切れ、洗浄、水切り、乾燥
の如く順次行えるので、ラインタクトに合せて含浸処理
を全自動化でき、生産性の向上が図れる。

更に、洗浄工程を二工程とし、ワーク８０°異なる方向
に回転させることによりワークの方向の異なる全ての凹
部を洗浄でき、洗浄が確実に行える。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の一実施例を示すもので、第１図は含浸工
程の説明図で側面図、第２図は同模式的平面図、第３図
は洗浄液装置の縦断側面図でワ−り投入前の状態の図、
第４図は同ワーク投入保持状態の図、第５図Ａ−Ｈは洗
浄作業を説明する図、第６図は含浸装置の一例を示す図
である。 尚図面中（Ｗ）はワーク、（１）は含浸装置、（２）。 （４）は水切槽、（３）、（４）は洗浄装置、（３０５
）。 （４０５）は回転体である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、含浸処理後余分な含浸液を振り切ったワークを洗浄
   液を収納した洗浄槽内にセットし、該ワークを回転させ
   ることによって該ワークを洗浄液中に出没させ、該ワー
   ク表面に穿設された孔等の凹部に前記洗浄液の出入りを
   強制して付着した含浸液を薄めて洗浄するようにしたこ
   とを特徴とする含浸における洗浄方法。 ２、洗浄液を収納し、内部にワークを支持する回転体を
   回転自在に設けたワークの洗浄を行う第１の洗浄槽と、
   該第１の洗浄槽と回転方向が９０°異なる該洗浄槽と同
   構造の第２洗浄槽と、前記第１、第２洗浄槽にワークを
   順次移送する移送装置を備えたことを特徴とする含浸に
   おける洗浄装置。