JPS62134643A - 2成分型ジアゾ複写材料 - Google Patents

2成分型ジアゾ複写材料

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JPS62134643A
JPS62134643A JP27572385A JP27572385A JPS62134643A JP S62134643 A JPS62134643 A JP S62134643A JP 27572385 A JP27572385 A JP 27572385A JP 27572385 A JP27572385 A JP 27572385A JP S62134643 A JPS62134643 A JP S62134643A
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JP
Japan
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diazo
coupling component
naphthylamide
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hydroxy
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JP27572385A
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Toshio Oka
敏夫 岡
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Daicel Corp
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Daicel Chemical Industries Ltd
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/52Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
    • G03C1/58Coupling substances therefor

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用 この発明は、ジアゾ複写材料に関するものである。より
詳細には、この発明はカップリング成分として特定の化
合物を用いることによって、未現酸及び現像処理済みフ
ィルムの熱・湿度及び光に対する安定性に優れ、経時に
よる画康劣化の少ない2成分型ジアゾ複写材料に関する
ものである。
(ロ)従来の技術 従来、黄色のジアゾ複写を得るためのカップリング成分
として、フェノール誘導体、レゾルシン誘導体、■−ナ
フトール、アセト酢酸アニリド等が知られている。特に
アセト酢酸アニリドは耐光堅牢性に優れ、現像速度が速
い為に広く用いられているが、未現象フィルムの経時安
定性に問題がある。一方1−ナフトールを用いた吊金、
現像速度は速いが、カップリング成分自体が昇華性のた
め、未現像フィルムの安定性及び耐光堅牢性に問題があ
り、その改良が望まれていた。
(ハ〕発明が解法しようとする問題点 この発明はこの様な欠点を改良するためになされたもの
で、その目的はジアゾ化合物と特定のカップリンク成分
との組合せにより、経時に於ける濃度の低下を防止し、
高画廉品質を与えるジアゾ複写材料を提供することにあ
る。
上記目的を達成する為に、ジアゾ複写材料に使用される
素材についても、詳細な検討を行なうことでこの発明に
至つ友。
(ニ)問題点を解決するための手段 この発明によれば、支持体上にジアゾ化合物並びにカッ
プリング成分を、主取分として含む感光層を有する2成
分型ジアゾ復写材料において、カップリング成分が一般
式(I): (I) (式中Rは炭素数4〜20のアルキル基)で表わされる
化合物の少なくとも1棟類を含むことを特徴とする2成
分型ジアゾ複写材料が提供される。
この発明で用いるカップリング成分としては、前記一般
式(I)で示されるものが使用される。
この81類のカップリング成分は、14重類または複数
でやや赤味の黄色発色性を示し、更に現はフィルムの画
腫部の耐光堅牢性に曖れ、未現はフィルムの熱及び温度
に対する安定性にも優れている。
一般式CI)で示嘔れるカップリング成分の具体例とし
ては、n−ブチル−1−ヒドロヤシ−2−ナフチルアミ
ド、tert−ブチ/L/−1−ヒドロキシー2−ナフ
ナルアミド、ヘキシル−1−ヒドロキシ−2−ナフチル
アミド、オクチ/’7−1−ヒドロキシ−2−ナフチル
アミド、ドデシル−1−ヒドロキシ−2−ナフチルアミ
ド、ヘキサデシル−1−ヒドロキシ−2−ナフチルアミ
ド、エイコサシル−1−ヒドロキシ−2−ナフチルアミ
ド等が挙げられる。
この発明で用いられるジアゾ化合物は、特に制約されず
、従来よf)2成分型ジアゾ複写材料に便用されている
ものがそのまま使用できる。例えばジアゾ化合物として
は、4−ジメチルアミノベンゼンジアゾニウム、4−ジ
エチルアミノベンゼンジアゾニウム、4−ジイソプロピ
ルアミノベンゼンジアゾニウム、4−ジベンジルアミノ
ベンゼンジアゾニウム、4−メチルベンジルアミノジア
ゾニウム、4−ジメチルアミノ−3−クロルベンゼンジ
アゾニウム、4−モルホリノ−2,5−ジェトキシベン
ゼンジアゾニウム、4−モルホリノ−2,5−ジイソプ
ロポキシベンセンジアゾニウム、4−モルホリノ−2,
5−ジブトキシベンゼンジアゾニウム、4−ピロリシノ
ー3−メトキシベンゼンジアゾニウム、4−モルホリノ
ベンゼンジアゾニウム、4−アニリノベンゼンジアゾニ
ウム、4−トルイルメルカプト−2,5−ジェトキシベ
ンゼンジアゾニウムなどのジアゾ化合物の強酸塩(例え
ば硫酸、4フツ化ホウ素、6フツ化リン酸など〕や、ま
たはこれらのジアゾ化合物と金属ハロゲン化物の複塩(
例えば塩化亜鉛、塩化錫、塩化カドミウムなど)が挙げ
られるが、勿論これらに限定されるものではない。
この発明に用いられる支持体は、一般に用いられるもの
で、例えばボリエヌテルフイルム、ポリエチVンフイル
ム、ホリプロピレンフイルム、ポリカーボネイトフィル
ム、アセテートフィルム及び紙などが挙げられる。
この発明では、以上の素材の他に、通常のジアゾ複写材
に添加される各種材料、例えばブレカップリング防止剤
としてスルホサリチ/l’酸、パラトルエンスルホン酸
、硫酸、塩酸、クエン酸などの各種のプロトン酸や塩化
亜鉛、硫酸カドミウム、塩化カドミウム、3フツ化ホウ
素などのルイス酸が1吏用できる。また酸化防止剤とし
て、チオ尿素、尿素、アリールチオ尿素などが使用でき
る。さらに溶解剤として、カフェイン、テオフィリンな
ど、分散MJとしてサポニンなどが使用でさる。バイン
ダー樹脂として殿粉、ガゼイン、ポリ酢C俊ビニル、ポ
リアクリル酸ま九はポリアクリ/L/f′vlソーダ、
セルロース誘導体1どのポリマーが1吏月できる。また
必要に応じ、スチレン系、嘔(じビニリデン系などのア
ンダーコートを残すことができる。
この発明のジアゾ四写材料を作成するには、上記成分を
水またはメチルエチルケトンなどの適当な溶剤に溶解も
しくは分数し、しかる後にポリエステル・酢酸セルロー
スフィルムや紙などの適当な支持体上に、この欲ヲ塗布
し乾燥する。この際、カップリング成分とジアゾ成分の
モル比は、1:0.1〜lOが望ましく、好ましくは1
 : 0.5〜3でちる。
このようにして作成されたフィルム上に、アゾ染料画像
を発色させるには、一般のジアゾ複写材料と同様に、蛍
光灯や紫外線水銀灯を用いて画像を焼付け、その後アン
モニアガスまたはアルカリ現咬液を用いてアゾ染料画家
を形成させる。
(ホ)作 用 本伯明の2成分型ジアゾ僕写材料は前記構成であるため
、経時安定性、耐光堅牢性が改善される。
(へ)実施例 以下本発明を実施例により詳細に説明する。
実施例1 下記組成にて感光液を調整する。
メチルエチルケトン      40.0yメチルセロ
ソルブ       40・Oy酢酸セルロース   
      15.0!7シリカ微扮末       
    1.Oyスルホサリチル酸        1
.5y4−モルホリノ−2,5−ジブトキシベンゼンジ
アゾニウム・BF4       1.01i’ter
t−プHレー1−ヒドロキン ー2−ナフチルアミド        1.5y上記感
光液を、10%モノクロル飾酸水酸水であらかじめ表面
処理したポリエステルフィルム(厚味50μ)に塗布−
乾燥し、厚味を5μとする0 実施例2 下記組成にて感光液を調整する。
メチルエチルケトン      40.0yメチルセロ
ソルブ       40.0y酢酸セルロース   
      15.0yシリカ微粉末        
   1.0yスルホサリチル酸        1.
5y4−モルホリノ−2,5−ジブトキシベンゼンジア
ゾニウム・BF4       1.Oyドデシル−1
−ヒドロキシ −2−ナフチルアミド        1.5y上記1
8光液を、10%モノクロル酢酸水溶欧で必らかじめ表
面処理したポリエステルフィルム(厚味50μ)に塗イ
σ・乾燥し、厚味を5μとする0 実施例3 下記組成にて感光τ伏をy4斃する。
メチルエチルケトン      40.0yメチ1Lt
−aロソルブ        40.0y酢酸セルロー
ス         15.0yシリカ微粉末    
      1.0yスルホサリチルff      
   1.5y4−モルホリノ−2,5−ジブトキシベ
ンゼンジアゾニウム*BF4      1.Oyエイ
コVfi/−1−ヒドロキシ −2−ナフチルアミド         1.57上記
感光液を、10%モノクロル酢酸水溶液であらかじめ表
面処理したポリエステルフィルム(厚味50It)に塗
′s拳乾燦し、厚味を5μとする0 比較例1 下記組成にて感光液を調整する。
メチルエチルケトン      40.Oyメチルセロ
ソルブ       40.0y酢酸セルロース   
      15.0yγリカ微粉末        
   1.0yスルホサリチ/%/酸        
1.5y4−モルホリノ−2,5〜ジブトキシベンゼン
ジアゾニウム・BF4      1.0yl−ナフト
−fi/1.5y 上記感光液を、10%モノクロル酊酸水溶欲であらかじ
め表面処理したポリエステルフィルム(厚味50μ)に
塗布11乾燥し、厚1床を5μとする0 比較例2 下記組成にて感光液を調整する。
メチルエチルケトン      40.0yメチルセロ
ソルブ       40.0y飴酸セルロース   
      15.0yシリカ微粉末        
  1.0yスルホサリチ)L/酸        1
・5y4−モルホリノ−2,5−ジブトキシベンゼンジ
アゾニウム・BF4      1.0yアセトアセト
アニリド      1.5y上記感光液を、10%モ
ノクロル酢酸水溶液であらかじめ表面処理したポリエス
テルフィルム(厚味50μ)に塗布・乾燥し、厚味t5
μとする0 以上のように作成した試験フィルム実施例1〜3及び比
較例1.2について、下記の試験を行なつ九。試験方法
並びにその結果を以下に示す。
1、耐熱・耐湿度試験 各試験片を60℃・相対湿度90%にて72時間加熱放
置し、その後水銀灯により画家を焼付け、アンモニア現
燥機(ダイセル化学工業株式会社アクロス自動現喉@A
P −26D )で完全に発色させ、透:A@度を測定
する(マクベス透過濃度計TD−904、ブルーフイル
ター使用)。
濃度測定結果 以上より明らかなように、比較例1ではカツプラーの昇
華による退色が、ま友比較例2では、プレカップリング
による非画閣部の製置上昇が生じてい、Sのに対し、実
施例ではほとんど鶴度の変化が無く、この発明の目的が
遠戚されているのが分るC 2、退色試験 各試験片を水銀灯により画家を焼付け、アンモニア現像
機(ダイセル化学工業株式会社アクロス自動現像機AP
−26D)で完全に発色させ、透過濃度を測定する(マ
クベス透過濃度計TD−904、プルーフイルター使用
)。その後快晴の日を選び、7日間日光曝露試験を行な
った○濃度測定結果 以上よシ明らかなように、比較例1では形成されるアゾ
染料の分子量が小さい為、染料の!fiによる退色が生
じている。
実施例1〜3は、比較例2とほぼ同様に良好な結果を示
しており、この発明の目的である1−ナフトールの欠点
の改良が、達成されているのが分る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、支持体上にジアゾ化合物とカツプリング成分を主成
    分として含む感光層からなる2成分型ジアゾ複写材料に
    おいて、カツプリング成分が一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼ ( I ) (式中Rは炭素数4〜20のアルキル基) で表わされる化合物の少なくとも1種類を含むことを特
    徴とする2成分型ジアゾ複写材料。 2、カツプリング成分がt−ブチル−1−ヒドロキシ−
    2−ナフチルアミド、ドデシル−1−ヒドロキシ−2−
    ナフチルアミドまたはエイコシル−1−ヒドロキシ−2
    −ナフチルアミドである特許請求の範囲第1項による複
    写材料。 8、カツプリング成分とジアゾ成分のモル比が1:0.
    1〜10である特許請求の範囲第1項による複写材料。
JP27572385A 1985-12-06 1985-12-06 2成分型ジアゾ複写材料 Granted JPS62134643A (ja)

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JPH0545016B2 JPH0545016B2 (ja) 1993-07-08

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